JP2019525992A - 保護フィルムを備えたフレキシブル基材を被覆する方法 - Google Patents

Abstract

本発明は、フレキシブル基材（４）を被覆する方法であって、第１の保護フィルム（６）を有する前記フレキシブル基材（４）を、プロセスローラ（３）を介して案内し、前記第１の保護フィルム（６）を前記フレキシブル基材（４）から除去してから、前記プロセスローラ（３）に対向して位置する被覆装置（２）の被覆ゾーンに前記フレキシブル基材（４）を到達させる方法に関する。この場合、前記フレキシブル基材（４）が前記プロセスローラ（３）の表面との機械的な接触を形成した後に、前記第１の保護フィルム（６）を前記フレキシブル基材（４）から除去し、前記フレキシブル基材（４）が前記被覆装置（２）の被覆ゾーンから出た後で、前記プロセスローラ（３）と前記フレキシブル基材（４）との間の前記機械的な接触が終了する前に、前記フレキシブル基材（４）の被覆面に、第２の保護フィルム（７）を被着する。

Description

本発明は、フレキシブル基材を被覆する方法に関し、この場合、フレキシブル基材は、被覆前に除去される保護フィルムを有している。

被覆中にフレキシブル基材がプロセスローラに部分的に巻き掛けられる、フレキシブル基材を被覆する様々な方法および装置が知られている。プロセスローラとは、以下、基材温度を被覆に有利な温度に調整するために、被覆プロセス中にフレキシブル基材を案内するようなローラを意味する。このようなプロセスローラは、多くの用途において冷却ローラとして形成されている。例えば独国特許出願公開第１０２００８０２８５４２号明細書（DE 10 2008 028 542 A1）から公知の方法では、スパッタリング用マグネトロンを用いてフレキシブル基材上に層を析出させる間、フレキシブル基材は冷却ローラにより案内される。

いくつかの用途では、析出される層の機能性を保証するために、被覆されるべきフレキシブル基材の表面の清浄度に関して高い要求が課されている。よって、フレキシブル基材の被覆されるべき表面に、被覆されるべき表面を汚染および損傷から保護する保護フィルムを設けることも知られており、この場合、保護フィルムは被覆装置において初めて、フレキシブル基材から除去される。

欧州特許出願公開第２２２８４６３号明細書（EP 2 228 463 A）から公知の方法では、フレキシブル基材は、第１の被覆装置における第１の被覆工程の後で、被覆面に保護フィルムが被着されてから巻き取られる。第２の被覆装置の巻取り室内で、保護フィルムは再び除去され、フレキシブル基材は、冷却ローラに部分的に巻き掛けられるまでに、複数の変向ローラを介して案内される。冷却ローラにおいて、フレキシブル基材は第２の被覆工程に供され、複数の変向ローラを介して案内された後に、最終的には再び巻き取られる。この場合に不都合な影響を及ぼすのは、第２の被覆工程に供される前のフレキシブル基材の被覆されるべき面が、複数の異なる変向ローラを介して冷却ローラに到達し得る点であり、このことは、基材の被覆されるべき表面もしくはその上に析出される層の汚染および／または損傷を招く恐れがある。

よって本発明の根底にある技術的な問題は、従来技術に基づく欠点を克服することができる、保護フィルムを備えたフレキシブル基材を被覆する方法を提供することにある。特に本発明に係る方法により、保護フィルムを一定の角度でフレキシブル基材から除去し、これにより、極めて良好で均質な層特性を備えた層を析出させることも可能であることが望ましい。

前記の技術的な問題の解決手段は、特許請求項１の特徴部に記載されている。本発明の別の有利な構成は、各従属請求項に記載されている。

本発明に係る方法では、第１の保護フィルムを有するフレキシブル基材を、被覆のために１つのプロセスローラを介して案内し、第１の保護フィルムをフレキシブル基材から除去した後に、プロセスローラに対向して位置する被覆装置の被覆ゾーンにフレキシブル基材を到達させる。被覆装置は、例えばスパッタリング用マグネトロンまたは蒸着装置として形成することができる。ただし本発明では、フレキシブル基材がプロセスローラ表面との機械的な接触を形成した後に初めて、第１の保護フィルムをフレキシブル基材から除去する。

さらに、フレキシブル基材が被覆装置の被覆ゾーンから出た後で、プロセスローラ表面とフレキシブル基材との間の機械的な接触が終了する前に、フレキシブル基材の被覆面に、第２の保護フィルムを被着する。

以下に本発明を実施例に基づいて、より詳しく説明する。

本発明に係る方法を実施するための装置を示す概略図である。

図１に概略的に示す装置を用いて、本発明に係る方法を実施することができる。この装置は作業室１を有しており、作業室１内には、スパッタリング用マグネトロンとして形成された被覆装置２と、被覆装置２に対向して位置するプロセスローラ３とが配置されており、この場合、プロセスローラ３は反時計回りに回転する。被覆装置２により、フレキシブル基材４の片面に層が析出されることが望ましい。本発明に係る方法では、フレキシブル基材４の被覆されるべき面には既に１つまたは複数の層が析出されていてもよい。

まず、フレキシブル基材４と第１の保護フィルム６とから成る複合体５が所定のローラから繰り出され、１つまたは複数の変向ローラを介して案内され、これにより、フレキシブル基材４がプロセスローラ３に部分的に巻き掛けられる。本発明では、フレキシブル基材４がプロセスローラ３との機械的な接触を形成した後に初めて、第１の保護フィルム６がフレキシブル基材４から除去される。

第１の保護フィルム６がフレキシブル基材４から除去された後に、フレキシブル基材４はプロセスローラ３に当て付けられた状態で、被覆装置２の被覆ゾーンを通って案内され、このときフレキシブル基材４に層が析出される。

フレキシブル基材４が被覆装置２の被覆ゾーンを横断した後でフレキシブル基材４とプロセスローラ３との間の機械的な接触がまだ終わらないうちに、第２の保護フィルム７が、フレキシブル基材４の被覆面に被着され、次いでフレキシブル基材４と第２の保護フィルム７とから成る複合体８が、所定のローラに巻き取られる。被覆されたフレキシブル基材４と第２の保護フィルム７との間に良好な付着を形成することができるようにするためには、被覆されたフレキシブル基材４と第２の保護フィルム７とから成る複合体８により、プロセスローラ３の横断面の、少なくとも１０°の角度セグメント１０のうちにおいて、プロセスローラ表面との機械的な接触が形成されるように、第２の保護フィルム７がフレキシブル基材４に被着されると有利である。

被覆プロセスの前にプロセスローラ３上のフレキシブル基材４から第１の保護フィルム６を除去し、被覆プロセスの後でフレキシブル基材４の被覆面に第２の保護フィルム７を被着することは、それぞれ析出される層の質に関する重要なステップである。保護フィルムが帯状のフレキシブル基材から、この帯状のフレキシブル基材の長さにわたって見て、フレキシブル基材と保護フィルムとの間の角度を変化させながら除去される場合、このことはフレキシブル基材の不均質な表面性質をもたらし、このことは、次いで析出される層の質にとって不都合な影響を及ぼす恐れがある。したがって、被覆の質に生じ得る誤差を小さく抑えるためには、フレキシブル基材４からの第１の保護フィルム６の除去を、一定の角度で実施することが有利である。このことは、フレキシブル基材４と第１の保護フィルム６との間の付着が、フレキシブル基材４の長さにわたり、異なって形成されている場合がある、という事情により困難である。この理由から、本発明に係る方法では、フレキシブル基材がプロセスローラとの機械的な接触を形成して初めて、第１の保護フィルム６をフレキシブル基材４から除去する。このようにして、所定の圧着圧力によりプロセスローラを介して案内されるフレキシブル基材４が、第１の保護フィルムの剥離の時点で、フレキシブル基材４の長さにわたって見て、常に一定の空間位置を有していることが保証されている。フレキシブル基材４からの除去過程において第１の保護フィルム６を位置固定するために、第１の保護フィルムは固定的に設置されたガイドローラ９を介して案内され、ガイドローラ９により、フレキシブル基材４から第１の保護フィルム６を除去するために加えられる力は常に一定である。

本発明では、ガイドローラ９はプロセスローラ３から０．５ｍｍ〜５ｍｍの寸法だけ間隔をあけて配置されており、ひいては基材４に圧力を加えることがなくなっている。さもなければ、基材表面の損傷を招く恐れがある。さらにこのガイドローラ９は、ローラ直径に関して、基材４から除去された保護フィルム６の自由振動寸法が、５ｍｍ〜５０ｍｍの長さを有するように寸法設定される。この場合、自由振動寸法は、保護フィルムが基材４から剥離される点から保護フィルム６が初めてガイドローラ９に接触する点までの間隔である。よって自由振動寸法は、本発明では５０ｍｍよりも大きく調整されることはない。なぜならば、これよりも大きな自由振動寸法は、剥離された保護フィルム６と基材４との間での放電を促進し、このこともやはり基材表面の損傷を招く恐れがあるからである。

ただし、フレキシブル基材からの除去直後の第１の保護フィルム６の移動軌道は、ガイドローラ９とプロセスローラ３との間の共通の接線には合致しない。むしろこの場合、第１の保護フィルム６とプロセスローラ３との間には、第１の保護フィルム６に作用する帯張力によりもたらされる角度が生じている。除去過程の間に第１の保護フィルム６に作用する帯張力が一定に保たれると、引き続いて析出される層の質にとって有利である。このことは、１つの実施形態において、ガイドローラ９が圧力測定ローラとして形成されることにより実現される。圧力測定ローラは周知である。ガイドローラ９が圧力測定ローラとして形成されていると、ガイドローラ９を介して案内される第１の保護フィルム６が加える圧力の実際値が検出される。ガイドローラ９に加えられる圧力は同時に、フレキシブル基材４から除去する際の第１の保護フィルムの帯張力を特徴付ける物理量でもある。圧力に関して検出された実際値は目標値と比較され、比較値に応じてガイドローラ９のトルクが調整される。このようにして、フレキシブル基材４から除去する間にガイドローラ９に作用する圧力と同時に、第１の保護フィルム６の帯張力および結果的に第１の保護フィルム６とプロセスローラ３との間の角度をも、一定に保つことができる。

本発明に係る方法では、フレキシブル基材の被覆面は、被覆工程の前、間および後に、例えば変向ローラ等の装置コンポーネントによる直接的な機械的な接触に晒されることが一切ない。よって本発明に係る方法では、装置コンポーネントとの直接的な機械的な接触による、基材の被覆されるべき表面または析出された層の損傷のリスクが排除されている。さらに、フレキシブル基材の被覆されるべき面が保護フィルムによりカバーされていない時間が、被覆工程自体に制限され、ひいては極めて短くなっている。これにより、フレキシブル基材の被覆されるべき表面およびその上に析出された層の汚染のリスクも大幅に低下される。よって本発明に係る方法により、極めて良好で均質な層特性を備える層を、それぞれ析出させることが可能である。

Claims (4)

1. フレキシブル基材（４）を被覆する方法であって、第１の保護フィルム（６）を有する前記フレキシブル基材（４）を、プロセスローラ（３）を介して案内し、前記第１の保護フィルム（６）を前記フレキシブル基材（４）から除去してから、前記プロセスローラ（３）に対向して位置する被覆装置（２）の被覆ゾーンに前記フレキシブル基材（４）を到達させる方法において、
   ａ）前記フレキシブル基材（４）が前記プロセスローラ（３）の表面との機械的な接触を形成した後に、前記第１の保護フィルム（６）を、ガイドローラ（９）を用いて前記フレキシブル基材（４）から除去し、
   ｂ）前記ガイドローラ（９）を、前記プロセスローラ（３）から０．５ｍｍ〜５ｍｍの寸法だけ間隔をあけて配置し、
   ｃ）前記基材（４）から除去された前記保護フィルム（６）の、前記プロセスローラ（３）と前記ガイドローラ（９）との間での自由振動寸法を、５ｍｍ〜５０ｍｍの長さで形成し、
   ｄ）前記フレキシブル基材（４）が前記被覆装置（２）の被覆ゾーンから出た後で、前記プロセスローラ（３）と前記フレキシブル基材（４）との間の前記機械的な接触が終了する前に、前記フレキシブル基材（４）の被覆面に、第２の保護フィルム（７）を被着することを特徴とする、方法。
2. 被覆された前記フレキシブル基材（４）と前記第２の保護フィルム（７）とから成る複合体（８）が、前記プロセスローラ（３）の少なくとも１０°の角度セグメント（１０）のうちにおいて前記プロセスローラ（３）の表面との機械的な接触を形成するように、前記第２の保護フィルム（７）を前記フレキシブル基材（４）の被覆面に被着する、請求項１記載の方法。
3. 前記ガイドローラ（９）に作用する圧力の実際値を検出し、目標値と比較し、比較結果に応じて前記ガイドローラ（９）のトルクを調整する、請求項１記載の方法。
4. 前記ガイドローラ（９）を、圧力測定ローラとして形成する、請求項３記載の方法。

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