JP2019508580A5 - - Google Patents
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Description
図２は、ニッケル層上に酸化モリブデンを堆積させた後の表面のＧＤＯＥＳ測定を示す。Ｘ軸は厚さ（ｎｍ）を示し、Ｙ軸は濃度（重量％）を示す。なお、炭素および硫黄の値は、実際には、提示されている値の１／１０である。ニッケル層の上に酸化モリブデン層がはっきりと見える。ニッケル層は２μｍ（すなわち２０００ｎｍ）であるのに対し、酸化モリブデン層は約６０ｎｍである。
図３は、図２の層をアニーリングした後の表面のＧＤＯＥＳ測定を示す。なお、炭素および硫黄の値は、実際には、提示されている値の１／１０である。ニッケル層の上の明らかに識別可能な酸化モリブデン層は消滅しており、ニッケルおよびモリブデンを含む拡散層が現われている。表面層には、依然としてある程度の酸素が存在するが、これは、表面であれば再酸化に関連するとともに、リン酸塩の存在に関連するが、金属モリブデンに還元された酸化モリブデンには関連しないと考えられる。
Claims (14)
- 耐食性金属基板を製造する方法であって、
（ｉ）鋼またはアルミニウム基板上にニッケルまたはニッケル系層を設けるか、あるいは、（ｉｉ）鋼またはアルミニウム基板上にニッケルまたはニッケル系層を設けた後、前記ニッケルまたはニッケル系層上にコバルト層を設け、それにより、めっき基板を形成し、
次いで、前記めっき基板上に、水溶液由来の酸化モリブデン層を電着し、ここで、前記めっき基板は、カソードとして機能し、前記水溶液は、モリブデン塩およびアルカリ金属リン酸塩を含み、前記水溶液のｐＨは、４．０〜６．５に調整されており、
前記酸化モリブデン層が設けられた前記めっき基板を、還元性雰囲気中でアニーリング工程に供し、それにより、還元アニーリング工程において、前記酸化モリブデン層中の酸化モリブデンを、少なくとも部分的に、モリブデン金属に還元するとともに、それと同時に、または、その後、前記アニーリング工程において、前記鋼またはアルミニウム基板上にニッケルまたはニッケル系層を設けた場合には、ニッケルおよびモリブデンを含む拡散層を、前記鋼またはアルミニウム基板上にニッケルまたはニッケル系層を設けた後、前記鋼またはアルミニウム基板上の前記ニッケルまたはニッケル系層上にコバルト層を設けた場合には、ニッケル、モリブデンおよびコバルトを含む拡散層を形成し、ここで、前記ニッケルは、前記ニッケルまたはニッケル系層に由来し、前記コバルトは、前記コバルト層に由来し、前記モリブデンは、前記酸化モリブデン層に由来する、前記方法。 - 前記モリブデン塩が、モリブデン酸アンモニウムである、請求項１に記載の方法。
- 前記リン酸塩が、リン酸二水素ナトリウムである、請求項１または２に記載の方法。
- 前記基板上に設けられた前記ニッケルまたはニッケル系層が、０．５〜５μｍの厚みを有し、かつ／または、前記拡散層が、１０〜２００ｎｍの厚みを有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
- ニッケルめっきされた前記鋼またはアルミニウム基板上に前記酸化モリブデン層を電着するための前記水溶液の温度が、４０℃〜７５℃であり、かつ、
ニッケルめっきされた前記鋼またはアルミニウム基板上に前記酸化モリブデン層を電着するためのめっき時間が、５〜３０秒であり、かつ、
ニッケルめっきされた前記鋼またはアルミニウム基板上に前記酸化モリブデン層を電着するための電流密度が、２〜２５Ａ／ｄｍ２である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。 - ニッケルめっきされた前記鋼またはアルミニウム基板上に前記酸化モリブデン層を電着するための前記水溶液が、
１０〜５０ｇ／Ｌの（ＮＨ４）６ＭＯ７Ｏ２４、および／または、
２０〜８０ｇ／ＬのＮａＨ２ＰＯ４
を含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。 - 前記水溶液が、５０〜７０℃の温度に維持され、かつ／または、
前記水溶液のｐＨが、４．５以上６以下である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。 - 堆積された前記酸化モリブデン層の厚みが、５０ｎｍ以下である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
- ニッケルめっきされた前記鋼またはアルミニウム基板上に前記酸化モリブデン層を電着するための電流密度が、１２．５Ａ／ｄｍ２以上２２．５Ａ／ｄｍ２以下である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
- 前記還元性雰囲気が、水素含有雰囲気である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
- 前記基板が、炭素鋼である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
- 前記基板が、フェライト系ステンレス鋼基板である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
- 前記ニッケルまたはニッケル系層に由来するニッケルと前記酸化モリブデン層に由来するモリブデンとを含む前記拡散層が、５〜１５重量％の元素としてのリン酸塩をさらに含む、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
- 請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法により製造された耐食性金属基板の、排気システムまたは排気システム用の部品または燃料ラインの製造のための使用であって、
前記耐食性金属基板の鋼またはアルミニウム基板上には、ニッケルおよびモリブデンを含む拡散層、または、ニッケル、モリブデンおよびコバルトを含む拡散層が設けられており、かつ、
前記拡散層が、１０〜２００ｎｍの厚みを有する、前記使用。
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