JP2019507829A - 金属板、蒸着用マスクおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図5
Description
前記Aはオープンされたフォトレジスト層の幅であり、
前記Cはエッチングされた面孔の深さを意味することができる。
実施例1
圧延およびアニーリングされたインバー金属を準備した。圧延工程によって、再結晶集合組織を形成した。
このとき、インバー金属の外部層は、{220}結晶面の割合が外部層以外の内部層より大きいように形成した。
次いで、X線回折強度を測定した。
X線回折強度は、インバー金属の表面から1μm以下の厚さ範囲の外部層で測定し、インバー金属の表面から10μm深さの領域に位置した内部層で測定し、インバー金属の表面から15μm深さの領域に位置した内部層で測定した。
圧延およびアニーリングされたインバー金属を準備した。圧延工程によって、再結晶集合組織を形成した。
このとき、インバー金属の外部層は、{220}結晶面の割合が外部層以外の内部層より小さいように形成した。
次いで、X線回折強度を測定した。
実施例1と圧延条件を異なるようにしたことを除いては、インバー金属の厚さ、X線回折強度の測定条件が同一であった。
上記実施例1および比較例1による圧延されたインバー金属の一面上にそれぞれオープンされたフォトレジスト層を形成した。
実施例2
圧延されたインバー金属上に20nmの表面層を形成した後、エッチング工程を通じて面孔を形成した。
このとき、前記エッチング工程は、湿式エッチング工程にて45℃で行われ、エッチング液は、FeCl3を36重量%含んだ。
圧延されたインバー金属上に5nmの表面層を形成した後、エッチング工程を通じて面孔を形成した。
このとき、インバー金属の圧延条件、インバー金属の厚さおよびエッチング工程は、前記実施例2と同じ条件で行われた。
実施例3
圧延されたインバー金属上に表面層を形成した。
前記表面層は、一定の時間の間に熱処理して形成した。
次に、エッチング工程を通じて面孔を形成した。
圧延されたインバー金属上に表面層を形成した。
実施例3の表面層は、実施例4の表面層と熱処理温度および/または、熱処理時間が異なるように形成した。
次に、エッチング工程を通じて面孔を形成した。
実施例4の表面層の厚さは、実施例3の表面層の厚さより小さいことがある。
このとき、インバー金属の圧延条件、インバー金属の厚さおよびエッチング工程は、前記実施例3と同じ条件で行われた。
圧延されたインバー金属上に表面層を形成せず、エッチング工程を通じて面孔を形成した。
このとき、インバー金属の圧延条件、インバー金属の厚さおよびエッチング工程は、前記実施例3と同じ条件で行われた。
表2には、表示しなかったが、第2実施例で表面層の形成条件を変化させることにより、多様な範囲のエッチングファクター、エッチング速度を測定した。
このとき、表面層は、熱処理温度と熱処理時間を変化させるにより、エッチング特性が向上する表面層の最適な厚さは、10nmないし30nmであることを確認した。
一般に蒸着用マスクを製作するための金属板は、5nm程度の表面層を含んでいる。しかし、実施例は、金属板のエッチング特性を向上させるために、表面層を10nmないし30nm厚さで形成した。
また、水平方向の直径20μm、X垂直方向の直径20μmの面孔、水平方向の直径25μm、X垂直方向の直径25μmの面孔をそれぞれ形成するときの多様な範囲のエッチングファクター、エッチング速度を測定した。
このとき、蒸着用マスクのエッチングファクターは、2.0ないし2.9であり得る。例えば、第2実施例で、蒸着用マスクのエッチングファクターは、2.0ないし2.5であり得る。蒸着用マスクのエッチングファクターは、2.0ないし2.9であるとき、金属板の厚さ方向でのエッチング特性に優れ、微細なサイズの均一な貫通孔が形成されることを確認した。
Claims (10)
- 蒸着用マスクの製作に使用される金属板において、
前記金属板は、前記金属板の表面から1μm内部までの厚さ範囲で定義される外部層と、前記外部層以外の内部層と、を含み、
FeCl335ないし45重量%を含むエッチング液を用いて45℃で、前記金属板の表面からエッチングを行ったとき、
前記外部層のエッチング速度は、0.03μm/sec以下であり、
前記内部層のエッチング速度は、0.03ないし0.05μm/secである金属板。 - 前記内部層のエッチング速度は、前記金属板の表面から6μmないし8μm範囲で最大である、請求項1に記載の金属板。
- 前記金属板は、方位が互いに異なる二つ以上の結晶面を含み、
前記外部層の{220}結晶面比率は、前記内部層の{220}結晶面比率より高い、請求項1に記載の金属板。 - 前記外部層は、{220}結晶面、{200}結晶面および{111}結晶面を含み、
前記外部層の{220}結晶面の割合は50%ないし70%であることを含む、請求項3に記載の金属板。 - 前記外部層の{200}結晶面X線回折強度は、前記金属板の表面から10μmの内部で測定された内部層の{200}結晶面のX線回折強度より大きいものを含む、請求項1に記載の金属板。
- 前記金属板の表面から10μmの内部で測定された内部層の{220}結晶面の割合は、前記金属板の表面から10μmの内部で測定された内部層の{111}結晶面の割合より大きいものを含む、請求項3に記載の金属板。
- 前記外部層は、前記金属板の表面から10nmないし30nm厚さの表面層を含み、
前記表面層は、金属酸化物および金属水酸化物のうち少なくとも一つを含む、請求項1に記載の金属板。 - 前記金属板は、インバーを含み、
前記金属板の厚さは、10μmないし30μmである、請求項1に記載の金属板。 - 前記金属板は、平均サイズが30μm以下の結晶粒界を含む、請求項1に記載の金属板。
- ベース金属板の準備ステップと、
前記ベース金属板の圧延ステップと、
前記ベース金属板の第1面の上に第1表面層を形成し、前記ベース金属板の第2面の上に第2表面層を形成する表面層形成ステップと、
前記ベース金属板の第1面の上に第1フォトレジスト層を配置し、前記第2面の上に第2フォトレジスト層を配置するフォトレジスト層形成ステップと、
前記第1面の第1面孔と前記第2面の第2面孔が連通する貫通孔を形成するエッチングステップと、
を含み、
前記エッチングステップ以後に、下記の式1によって計算された前記第1面孔と前記第2面孔のうち少なくとも一つの面孔のエッチングファクターは、2.0以上である蒸着用マスクの製造方法。
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