JPS60200985A - シヤドウマスクの製造方法 - Google Patents
シヤドウマスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS60200985A JPS60200985A JP59056353A JP5635384A JPS60200985A JP S60200985 A JPS60200985 A JP S60200985A JP 59056353 A JP59056353 A JP 59056353A JP 5635384 A JP5635384 A JP 5635384A JP S60200985 A JPS60200985 A JP S60200985A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- etching
- mask
- shadow mask
- photosensitive film
- film
- Prior art date
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/06—Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
- H01J29/07—Shadow masks for colour television tubes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/02—Local etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/10—Etching compositions
- C23F1/14—Aqueous compositions
- C23F1/16—Acidic compositions
- C23F1/28—Acidic compositions for etching iron group metals
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/14—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
- H01J9/142—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はカラー受保管用シャドウマスクの製造方法に係
り、特にその素材が鉄−ニッケル合金の場合のエツチン
グ方法に関するものである。
り、特にその素材が鉄−ニッケル合金の場合のエツチン
グ方法に関するものである。
カラー受像管用シャドウマスクの素材には一般にリムド
鋼又はアルミキルド銅などの高純度の低炭素鋼板が用い
られているが、これは素材の供給能力、コスト、加工性
２強度などによシ総合的に決められたものである。しか
し乍らその最大の欠点は熱膨張係数が大きな（０〜１０
０℃、約１２Ｘ１０−’／’Ｏ）ことである。シャドウ
マスク型カラー受像管の場合、シャドウマスクの開孔と
それに対応する螢光体層との位置関係が許容範囲外に変
移するといわゆる色ずれを起し致６的な欠点になる。特
に熱膨張によるシャドウマスクの熱変形は、要求された
シャドウマスクの曲率が崩れてシャドウマスクの開孔と
螢光体層との相対的な位置関係を乱すことになり、この
シャドウマスクの熱変形を抑制する手段が釉々提案され
ている。その一つとして特公昭４２−２５４４６号公報
、特開昭５０−５８９７７号公報及び特開昭５０−６８
６５０号公報に示されているように、熱膨張係数の小さ
な鉄−ニッケル合金例えば３６Ｎｉ−Ｆｅ７ｙバ一合金
（０〜１００℃、約０〜２．０×１０’／’Ｏ）や４２
Ｎｉ−Ｆｅ合金（０〜１００°０．約５．０×１０−６
／’Ｑ ） を素材として使用するシャドウマスクが提
案されている。
鋼又はアルミキルド銅などの高純度の低炭素鋼板が用い
られているが、これは素材の供給能力、コスト、加工性
２強度などによシ総合的に決められたものである。しか
し乍らその最大の欠点は熱膨張係数が大きな（０〜１０
０℃、約１２Ｘ１０−’／’Ｏ）ことである。シャドウ
マスク型カラー受像管の場合、シャドウマスクの開孔と
それに対応する螢光体層との位置関係が許容範囲外に変
移するといわゆる色ずれを起し致６的な欠点になる。特
に熱膨張によるシャドウマスクの熱変形は、要求された
シャドウマスクの曲率が崩れてシャドウマスクの開孔と
螢光体層との相対的な位置関係を乱すことになり、この
シャドウマスクの熱変形を抑制する手段が釉々提案され
ている。その一つとして特公昭４２−２５４４６号公報
、特開昭５０−５８９７７号公報及び特開昭５０−６８
６５０号公報に示されているように、熱膨張係数の小さ
な鉄−ニッケル合金例えば３６Ｎｉ−Ｆｅ７ｙバ一合金
（０〜１００℃、約０〜２．０×１０’／’Ｏ）や４２
Ｎｉ−Ｆｅ合金（０〜１００°０．約５．０×１０−６
／’Ｑ ） を素材として使用するシャドウマスクが提
案されている。
ところで近年、キマパソコン用ディスプレー。
文字多ｌ放送、衛生放送、キャップテンシステムなどで
画像の見やすさやきめ細かさが要求され、これに伴って
シャドウマスクの開孔ピンチが細かく且つ電子銃からの
電子ビーム量もより多くなってきた。この結果螢光面へ
の電子ビームのランディング余裕度はより 、Ｊ−さく
なシ、シャドウマスクの熱変形による色ずれが激しくな
り、上記の如き低熱膨張材である鉄−ニッケル合金の使
用がｌ要な昧魅となってきた。しかし乍らアンバーの如
き鉄−ニッケル合金は従来の鉄を主成分とする低炭素銅
板に比較し加工性、成形性が措、く、鉄材を圧延する場
合よυも圧延ローラの加圧力を高くしなけれはならない
ため結晶組紙中に圧延組絨が残り易い。この結呆圧延方
向のエツチング速度が速くて＆厚方向のエツチング速度
が遅くなり、エツチングの進行方向にばらつきを生じる
ため第１図（ａ）及び第１因（ｂｌに示すように開孔周
縁が凸凹状の、いわゆるガサ孔を形成し易く孔形状が乱
れる。また圧延組紐を残さないように熱処理によって成
る大きさの結晶粒より成るようにした場合でも、エツチ
ング性は純鉄の場合と異なり結晶粒界からの溶解よシ結
晶面の溶解が支配的であυ、素材としてはエツチングさ
れ易い結晶面とエツチングされにくい結晶面とが混在し
ている。このため結果としてシャドウマスクの３１１孔
はガサ孔となり孔形状が乱れる。このようなガサ孔によ
る孔形状の乱れは、民生管のようにシャドウマスクの開
孔部の面積が大きな場合にはガサ孔部の孔全体に占める
割合が少ないためそれ程問題にはならないが、開孔寸法
及びピッチがより不さな高８Ｐｂ細度用になるに従いガ
サ孔部の孔全体に占める割合が増え、最終的にカラー受
像管のホワイトユニンオミテイー品位低下を招くことに
なる。
画像の見やすさやきめ細かさが要求され、これに伴って
シャドウマスクの開孔ピンチが細かく且つ電子銃からの
電子ビーム量もより多くなってきた。この結果螢光面へ
の電子ビームのランディング余裕度はより 、Ｊ−さく
なシ、シャドウマスクの熱変形による色ずれが激しくな
り、上記の如き低熱膨張材である鉄−ニッケル合金の使
用がｌ要な昧魅となってきた。しかし乍らアンバーの如
き鉄−ニッケル合金は従来の鉄を主成分とする低炭素銅
板に比較し加工性、成形性が措、く、鉄材を圧延する場
合よυも圧延ローラの加圧力を高くしなけれはならない
ため結晶組紙中に圧延組絨が残り易い。この結呆圧延方
向のエツチング速度が速くて＆厚方向のエツチング速度
が遅くなり、エツチングの進行方向にばらつきを生じる
ため第１図（ａ）及び第１因（ｂｌに示すように開孔周
縁が凸凹状の、いわゆるガサ孔を形成し易く孔形状が乱
れる。また圧延組紐を残さないように熱処理によって成
る大きさの結晶粒より成るようにした場合でも、エツチ
ング性は純鉄の場合と異なり結晶粒界からの溶解よシ結
晶面の溶解が支配的であυ、素材としてはエツチングさ
れ易い結晶面とエツチングされにくい結晶面とが混在し
ている。このため結果としてシャドウマスクの３１１孔
はガサ孔となり孔形状が乱れる。このようなガサ孔によ
る孔形状の乱れは、民生管のようにシャドウマスクの開
孔部の面積が大きな場合にはガサ孔部の孔全体に占める
割合が少ないためそれ程問題にはならないが、開孔寸法
及びピッチがより不さな高８Ｐｂ細度用になるに従いガ
サ孔部の孔全体に占める割合が増え、最終的にカラー受
像管のホワイトユニンオミテイー品位低下を招くことに
なる。
本発明は鉄−ニッケル合金材からなるシャドウマスクの
製造方法に関するもので、鉄−ニッケル合金材の結晶面
によるエツチング速度のばらつきを抑制し均一にエツチ
ングを進行させることにより、孔形状及びむら品位の優
れたシャドウマスクを製造する＋段を提供するものであ
る。
製造方法に関するもので、鉄−ニッケル合金材の結晶面
によるエツチング速度のばらつきを抑制し均一にエツチ
ングを進行させることにより、孔形状及びむら品位の優
れたシャドウマスクを製造する＋段を提供するものであ
る。
本発明は欽及びニッケルを主成分とする薄板状金＆板に
エツチングにより多数の開孔を穿設するにあたり、エツ
チング溶液として塩化第２鉄を用い、エツチング液の粘
度を１乃至５ＣｐＳ、エツチング液中の塩化第２鉄龜度
を３５乃至５０ ｗ／ｗ％としてエツチング界面の粘性
層及びエツチング速度を制御することによって目的とす
るυＩＪ孔を穿設するシャドウマスクの製造方法である
。
エツチングにより多数の開孔を穿設するにあたり、エツ
チング溶液として塩化第２鉄を用い、エツチング液の粘
度を１乃至５ＣｐＳ、エツチング液中の塩化第２鉄龜度
を３５乃至５０ ｗ／ｗ％としてエツチング界面の粘性
層及びエツチング速度を制御することによって目的とす
るυＩＪ孔を穿設するシャドウマスクの製造方法である
。
鉄−ニッケル合金からなるシャドウマスク用素材として
、アンバー合金材を用いた実施例に関し以下説明する。
、アンバー合金材を用いた実施例に関し以下説明する。
＠１表にアンバー合金とアルミキルド低旗素県の集材組
成を示す０ 第１表 シャドウマスク用素材の組成 （ｌ量％）上記
組成の３（３Ｎｉアンバ一合金を素材として用い、冷間
圧延時の圧延油及び防鈷油を取除くため脱脂洗浄を行う
。その後マスク材の両生面に牛乳カゼイン酸アルカリと
１クロム散アンモニウムとからなる感光液を塗布乾燥し
、約５μの膜厚の感光膜を形成する。次いで両生面の感
光膜に大小マスク孔のネガ伶を有するネカ原版を招・着
装置し、５ＫＷの超高圧水銀ランプを使用して約１ｍの
距ｈ１トから４０秒程露光することによシマスフ孔のに
低を得る。
成を示す０ 第１表 シャドウマスク用素材の組成 （ｌ量％）上記
組成の３（３Ｎｉアンバ一合金を素材として用い、冷間
圧延時の圧延油及び防鈷油を取除くため脱脂洗浄を行う
。その後マスク材の両生面に牛乳カゼイン酸アルカリと
１クロム散アンモニウムとからなる感光液を塗布乾燥し
、約５μの膜厚の感光膜を形成する。次いで両生面の感
光膜に大小マスク孔のネガ伶を有するネカ原版を招・着
装置し、５ＫＷの超高圧水銀ランプを使用して約１ｍの
距ｈ１トから４０秒程露光することによシマスフ孔のに
低を得る。
その後動４０゛Ｃの温純水にて現像を行い、乾燥・バー
ニングを経てマスク孔形成部の金属面が露出し他部は感
光膜厚でおおわれた状態のマスク材全得てエツチングに
供する。
ニングを経てマスク孔形成部の金属面が露出し他部は感
光膜厚でおおわれた状態のマスク材全得てエツチングに
供する。
エツチングは塩化第２欽溶液のスプレーにて行つたが、
エツチングにおりる反応の律速段階は腐食イオンつまり
Ｆｅ３＋のエツチングすべきマスク材表面への拡散適度
である。このエツチング液とマスク材とのエツチング界
面では、 Ｆｅ＋２Ｆｅ”＋→３１ｉ”ｅ２＋の反応に
より、Ｆｅ３＋が還元されてエツチング能力を七さない
Ｆｅ２＋となυ、全鉄イオン濃度がエツチング液中より
高くなる。この結果粘度が上昇し、いわゆる粘性層がエ
ツチング界面に形成される。
エツチングにおりる反応の律速段階は腐食イオンつまり
Ｆｅ３＋のエツチングすべきマスク材表面への拡散適度
である。このエツチング液とマスク材とのエツチング界
面では、 Ｆｅ＋２Ｆｅ”＋→３１ｉ”ｅ２＋の反応に
より、Ｆｅ３＋が還元されてエツチング能力を七さない
Ｆｅ２＋となυ、全鉄イオン濃度がエツチング液中より
高くなる。この結果粘度が上昇し、いわゆる粘性層がエ
ツチング界面に形成される。
粘性層の厚さが厚い場合も食イオンであるＦｅ３＋の移
動が抑制されエツチング速度が連く、逆に薄い場合エツ
チング速度が速い。一般に液温が高く且つ液比型が低い
とエツチング速度が速いともわれでいるのは、エツチン
グ界面における粘性層の厚さが薄く腐食イオンの移動が
活発になるだめである。アンバー合金は種々の結晶面を
不しており、（１００）曲が一発油性でエツチングされ
易く、次いで（１１０）面である。このような種々のエ
ツチング速度の異なる結晶面を七するアンバー材をエツ
チング液る場合、第２図（ａ）に示すように、マスク材
（１）のエツチング界面に形成される粘性層（２）の厚
さが薄いと活性な結晶面がエツチング終了時まで優先的
に溶解し、均一なエツチングの進行を行なうことが不可
能となる。しかし乍ら第２図（ｂ）に示すように、適当
な厚さの粘性層（２）でエツチング界面をおおった場合
、活性な結晶面であるエツチング凹部（３）が厚い粘性
層で、不活性な結晶面であるエツチング凸部（４）が薄
い粘性層でおおわれることになる。この結果不活性な結
晶面であるエツチング凸部が活性な結晶面より優先的に
エツチングされ、全体のエツチングの進行は均一になる
。このようにアンバー合金材に適したエツチングを施す
には粘性層の厚さをコントロールすることが必要で、粘
性層の厚さに大きな影響を与えるのはエツチング液の粘
度であることを究明した。そこで種々テストを行った結
果、エツチング液の粘度としては１乃キ５ｃｐｓ、エツ
チング溶液中の塩化第２鉄濃度としては３５乃至５０
ｗ／ｗ ％で管理すれば、ガサ孔でなく目的とする孔形
状及び寸法を有する開孔を穿設することができ高品位な
アンバー材マスクとすることが可能となった。エツチン
グ液の粘度に影響を与えるものは液温と濃度であるが、
量産効率を考えれは液温は４０°Ｃ以上が適当である。
動が抑制されエツチング速度が連く、逆に薄い場合エツ
チング速度が速い。一般に液温が高く且つ液比型が低い
とエツチング速度が速いともわれでいるのは、エツチン
グ界面における粘性層の厚さが薄く腐食イオンの移動が
活発になるだめである。アンバー合金は種々の結晶面を
不しており、（１００）曲が一発油性でエツチングされ
易く、次いで（１１０）面である。このような種々のエ
ツチング速度の異なる結晶面を七するアンバー材をエツ
チング液る場合、第２図（ａ）に示すように、マスク材
（１）のエツチング界面に形成される粘性層（２）の厚
さが薄いと活性な結晶面がエツチング終了時まで優先的
に溶解し、均一なエツチングの進行を行なうことが不可
能となる。しかし乍ら第２図（ｂ）に示すように、適当
な厚さの粘性層（２）でエツチング界面をおおった場合
、活性な結晶面であるエツチング凹部（３）が厚い粘性
層で、不活性な結晶面であるエツチング凸部（４）が薄
い粘性層でおおわれることになる。この結果不活性な結
晶面であるエツチング凸部が活性な結晶面より優先的に
エツチングされ、全体のエツチングの進行は均一になる
。このようにアンバー合金材に適したエツチングを施す
には粘性層の厚さをコントロールすることが必要で、粘
性層の厚さに大きな影響を与えるのはエツチング液の粘
度であることを究明した。そこで種々テストを行った結
果、エツチング液の粘度としては１乃キ５ｃｐｓ、エツ
チング溶液中の塩化第２鉄濃度としては３５乃至５０
ｗ／ｗ ％で管理すれば、ガサ孔でなく目的とする孔形
状及び寸法を有する開孔を穿設することができ高品位な
アンバー材マスクとすることが可能となった。エツチン
グ液の粘度に影響を与えるものは液温と濃度であるが、
量産効率を考えれは液温は４０°Ｃ以上が適当である。
粘度を上記範囲内でどの程度に設定するかはスプレーエ
ツチングの条件用」ち圧力、角度、流量等にも左右され
るため、最終的には個々のエツチング装置及び条件に合
ったものを実験にて選択する必要がある。粘度が］ Ｃ
ｐｓ以下では薄い粘性層しか形成されずエツチング速度
が速すぎるためガサ孔になり易く、５ ｃｐｓ以上では
エツチング速度が遅すぎ量産に適さなかった。又エツチ
ング溶液中の塩化第２鉄の温度が３５ ｗ／ｗ％以下で
はエツチング液の彼方が激しすぎ液組成を管理するのが
如；シ＜、逆に５０ ｗ／ｗ％以上では液温を上げても
エツチング速度が遅すぎ量産に過さなかった。上記の如
き条件内でエツチング大行ない目的とする孔形状・寸法
を有す開孔を穿設した後、水洗、感光膜除去、水洗、乾
燥の各工程を経てシャドウマスクを得た。
ツチングの条件用」ち圧力、角度、流量等にも左右され
るため、最終的には個々のエツチング装置及び条件に合
ったものを実験にて選択する必要がある。粘度が］ Ｃ
ｐｓ以下では薄い粘性層しか形成されずエツチング速度
が速すぎるためガサ孔になり易く、５ ｃｐｓ以上では
エツチング速度が遅すぎ量産に適さなかった。又エツチ
ング溶液中の塩化第２鉄の温度が３５ ｗ／ｗ％以下で
はエツチング液の彼方が激しすぎ液組成を管理するのが
如；シ＜、逆に５０ ｗ／ｗ％以上では液温を上げても
エツチング速度が遅すぎ量産に過さなかった。上記の如
き条件内でエツチング大行ない目的とする孔形状・寸法
を有す開孔を穿設した後、水洗、感光膜除去、水洗、乾
燥の各工程を経てシャドウマスクを得た。
以上の実施例ではシャドウマスク素材として３６Ｎｉ
アンバー合金を用いた例について説明したが本発明はこ
れに限るものでなく、４２Ｎｉ合金や３２Ｎｉ−５Ｃｏ
等のスーパーアンバーを含む鉄及びニッケルを主成分と
する合金であれば同様に適用し得ることは七うまでもな
い。
アンバー合金を用いた例について説明したが本発明はこ
れに限るものでなく、４２Ｎｉ合金や３２Ｎｉ−５Ｃｏ
等のスーパーアンバーを含む鉄及びニッケルを主成分と
する合金であれば同様に適用し得ることは七うまでもな
い。
以上のように本発明によれば、エツチングされるマスク
材表面とエツチング液とのエツチング界面に形成される
粘性層のノ享さをエツチング液粘度及び組成にて制御す
ることにより、マスク材の金属結晶面の溶解速度のはら
つきを抑制し均一なエツチングを行うことができる。こ
の結果目的とする孔形状及び寸法を有する開孔を穿設す
ることができ、高品位なシャドウマスクを不するホワイ
トユニフオミテイーの優れたカラー受悔管を提供するこ
とができる。
材表面とエツチング液とのエツチング界面に形成される
粘性層のノ享さをエツチング液粘度及び組成にて制御す
ることにより、マスク材の金属結晶面の溶解速度のはら
つきを抑制し均一なエツチングを行うことができる。こ
の結果目的とする孔形状及び寸法を有する開孔を穿設す
ることができ、高品位なシャドウマスクを不するホワイ
トユニフオミテイーの優れたカラー受悔管を提供するこ
とができる。
第１図はシャドウマスクの開孔の孔状悪を説明するため
の模式図、第２図ｆａ）及び第２図（ｂｌはシャドウマ
スクのエツチング界面の粘性層の状態を示す模式図であ
る。 第１ Ｌ ａ ） Ｌ ｃＬ） ｃ＆＋ 図 （ム）
の模式図、第２図ｆａ）及び第２図（ｂｌはシャドウマ
スクのエツチング界面の粘性層の状態を示す模式図であ
る。 第１ Ｌ ａ ） Ｌ ｃＬ） ｃ＆＋ 図 （ム）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）欽及δニッケルを主成分とする湖板状金楓板に感光
膜を形成し、露光、現像、バーニングを施した後エツチ
ングを行い多数の開孔を穿設するシャドウマスクの製造
方法において、前記エツチングは塩化第２鉄溶液にて行
ない、エツチング液粘度が１乃至５ｃｐｓ、エツチング
液塩化第２鉄濃度が３５乃至５０ Ｗ／Ｗ％であること
を％徴とするシャドウマスクのＨ’ｌｌｉ方法。 ２）前記エツチングはスプレー法で行ない、エツチング
液温か４０℃以上であることを特徴とする特許請求の範
囲第１項記載のシャドウマスクの製造方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59056353A JPS60200985A (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | シヤドウマスクの製造方法 |
| KR1019850001347A KR890002845B1 (ko) | 1984-03-26 | 1985-03-04 | 새도우 마스크의 제조방법 |
| DE8585103252T DE3570704D1 (en) | 1984-03-26 | 1985-03-20 | Method of manufacturing shadow mask |
| EP85103252A EP0158178B1 (en) | 1984-03-26 | 1985-03-20 | Method of manufacturing shadow mask |
| US06/714,551 US4585518A (en) | 1984-03-26 | 1985-03-21 | Method of manufacturing shadow mask |
| HK1094/90A HK109490A (en) | 1984-03-26 | 1990-12-27 | Method of manufacturing shadow mask |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59056353A JPS60200985A (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | シヤドウマスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60200985A true JPS60200985A (ja) | 1985-10-11 |
Family
ID=13024865
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59056353A Pending JPS60200985A (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | シヤドウマスクの製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4585518A (ja) |
| EP (1) | EP0158178B1 (ja) |
| JP (1) | JPS60200985A (ja) |
| KR (1) | KR890002845B1 (ja) |
| DE (1) | DE3570704D1 (ja) |
| HK (1) | HK109490A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019507829A (ja) * | 2016-02-16 | 2019-03-22 | エルジー イノテック カンパニー リミテッド | 金属板、蒸着用マスクおよびその製造方法 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3740381A1 (de) * | 1987-11-27 | 1989-06-08 | Siemens Ag | Aetzverfahren fuer nickel |
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