JP2019196279A - 無焼成シリカ固化体の製造方法 - Google Patents
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(2)(1)に記載の無焼成シリカ固化体の製造方法において、造粒圧縮工程の代わりに、造粒することなく圧縮する圧縮工程を含み、前記シリカ粒子原料に、微小シリカ粒子がアルカリ濃度3Mであるアルカリ性溶液に含まれる微小シリカ粒子原料を混合する混合工程をさらに含み、前記養生工程のとき、微小シリカ粒子が半固体半液体となることに起因する架橋を含むことを特徴とする無焼成シリカ固化体の製造方法である。
(3)前記シリカ粒子が形成する空隙に対して、微小シリカ粒子原料の割合が40vol%〜280vol%であることを特徴とする(2)に記載の無焼成シリカ固化体の製造方法である。
(4)前記造粒圧縮工程の前に、アルコールを混合するアルコール混合工程を、さらに備えることを特徴とする(1)に記載の無焼成シリカ固化体の製造方法である。
(5)前記圧縮工程の前に、アルコールを混合するアルコール混合工程を、さらに備えることを特徴とする(2)又は(3)に記載の無焼成シリカ固化体の製造方法である。
(6)前記養生工程の養生条件として養生温度が40℃〜80℃であり、養生時間が40時間以下であることを特徴とする(1)〜(5)に記載の無焼成シリカ固化体の製造方法である。
シリカ粒子としてガラスビーズ(SO−C1、ソーダ石灰ガラス、平均粒径約300μm、ユニチカ製)を用いた。シリカ粒子SO−C1 10gに、別に調製した3Mの水酸化カリウム溶液とエタノールを、水酸化カリウム溶液2.53gでエタノール0.625g、又は水酸化カリウム溶液2.10gでエタノール1.06gである溶媒を加えて混練した。混練した前者のものを造粒し、その3gを市販の金属製の金型(内径14mm)を用いて一軸圧縮し、乾燥して無焼成シリカ固化体を得た(参考例1)。混練した後者のもの3gも造粒し、一軸圧縮して、養生し(養生時間0、1、3、5、20hr)、乾燥して無焼成シリカ固化体を得た(参考例2、実施例1〜4)。参考例1、2及び実施例1〜4の製造条件は表1のようであり、それらの無焼成シリカ固化体大きさはφ13.9〜13.5mm×高さ11.3〜10.5mmであった。なお、参考例1においてエタノールを添加しなかったものは、造粒が困難であり上記のプロセスで固化体を作成することができなかった(比較例1)。
小さなボイドとはシリカ粒子の粒径250nmよりも小さい細孔(粒子の間隙を含む)であり、大きなボイドとはシリカ粒子の粒径より大きい細孔のことであった。これらのことから、養生時間によって小さい細孔の容積を制御することができることが分かった。すなわち、粒子同士のネック成長を制御できることが分かった。
微小シリカ粒子としてAEROSIL OX50(平均粒径約50nm、日本アエロジル社製)を用い、AEROSIL OX50 20gに3Mの水酸化カリウム 80gを加え、シェイキングバスを用いて混合して調製した。
表2のように、ガラスビーズ(シリカ粒子)と、別に調製した3Mの水酸化カリウム溶液に含まれた微小シリカ粒子原料を混合して、混合原料1〜5を調製した。そのときに空隙に占める微小シリカ粒子原料の比率も表2に示した。なお、実施例5(混合原料1)について、空隙に占める微小シリカ粒子原料の比率を、式(2)に基づいて計算すると50.5(=0.356/{(4.09/2.5)×0.301/(1−0.301)})であった。
2 :半固体半液体領域
2a:液体微小領域部分
2b:固体微小領域部分
3 :第二の固形体
Claims (6)
- シリカ粒子がアルカリ濃度1M〜5Mであるアルカリ性溶液に含まれるシリカ粒子原料を、造粒し一軸圧縮して第一の固形体とする造粒圧縮工程と、前記第一の固形体を養生することにより、前記シリカ粒子が架橋されて第二の固形体となる養生工程と、前記第二の固形体を乾燥する乾燥工程と、を備えることを特徴とする無焼成シリカ固化体の製造方法。
- 請求項1に記載の無焼成シリカ固化体の製造方法において、造粒圧縮工程の代わりに、造粒することなく圧縮する圧縮工程を含み、前記シリカ粒子原料に、微小シリカがアルカリ濃度3Mであるアルカリ性溶液に含まれる微小シリカ粒子原料を混合する混合工程をさらに含み、前記養生工程のとき、前記微小シリカ粒子が半固体半液体となることに起因する架橋を含むことを特徴とする無焼成シリカ固化体の製造方法。
- 前記シリカ粒子が形成する空隙に対して、微小シリカ粒子原料の割合が40vol%〜280vol%であることを特徴とする請求項2に記載の無焼成シリカ固化体の製造方法。
- 前記造粒圧縮工程の前に、アルコールを混合するアルコール混合工程を、さらに備えることを特徴とする請求項1に記載の無焼成シリカ固化体の製造方法。
- 前記圧縮工程の前に、アルコールを混合するアルコール混合工程を、さらに備えることを特徴とする請求項2又は3に記載の無焼成シリカ固化体の製造方法。
- 前記養生工程の養生条件として養生温度が40℃〜80℃であり、養生時間が40時間以下であることを特徴とする請求項1〜5に記載の無焼成シリカ固化体の製造方法。
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