JP2019192788A - 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 - Google Patents
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Abstract
Description
110 制御計算機
111 ショットデータ生成部
112 補正量算出部
113 補正残差算出部
114 判定部
115 更新部
140 検出器
150 気圧センサ
250 検出器
Claims (5)
- 描画データから、ショット毎の位置及びビーム照射時間を含むショットデータを生成するショットデータ生成部と、
気圧に応じたビーム照射位置の補正量を算出するための計算式の係数を格納する記憶部と、
気圧を測定する気圧センサと、
前記気圧センサの測定値と、前記係数を用いた計算式とから、ビーム照射位置の補正量を算出する補正量算出部と、
前記ショットデータ及び前記補正量に基づいてビーム照射位置が調整された荷電粒子ビームを用いて基板にパターンを描画する描画部と、
前記基板が載置されたステージ上に設けられたマークを前記荷電粒子ビームで走査し、前記マークから反射された反射電子を検出する検出部と、
前記検出部による検出結果を用いて、前記荷電粒子ビームの照射位置の補正残差を算出する補正残差算出部と、
前記補正残差の変化と前記気圧の変化とに相関がある場合に、前記係数を更新する更新部と、
を備える荷電粒子ビーム描画装置。 - 前記補正残差の変化と前記気圧の変化との相関係数を算出し、相関係数の絶対値が所定値未満の場合、前記記憶部に格納されている前記係数の値を維持することを特徴とする請求項1に記載の荷電粒子ビーム描画装置。
- 描画データから、ショット毎の位置及びビーム照射時間を含むショットデータを生成するショットデータ生成部と、
気圧に応じたビーム照射位置の補正量を算出するための計算式を格納する記憶部と、
気圧を測定する気圧センサと、
前記気圧センサの測定値と、前記計算式とから、ビーム照射位置の補正量を算出する補正量算出部と、
前記ショットデータ及び前記補正量に基づいてビーム照射位置が調整された荷電粒子ビームを用いて基板にパターンを描画する描画部と、
を備え、
前記記憶部は、第1計算式及び第2計算式を格納し、
前記補正量計算部は、気圧上昇時に前記第1計算式から補正量を算出し、気圧下降時に前記第2計算式から補正量を算出することを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。 - 描画データから、ショット毎の位置及びビーム照射時間を含むショットデータを生成する工程と、
気圧センサで気圧を測定する工程と、
前記気圧の測定値と、所定の計算式とから、ビーム照射位置の補正量を算出する工程と、
前記ショットデータ及び前記補正量に基づいてビーム照射位置が調整された荷電粒子ビームを用いて基板にパターンを描画する工程と、
前記基板が載置されたステージ上に設けられたマークを前記荷電粒子ビームで走査し、前記マークから反射された反射電子を検出する工程と、
前記反射電子の検出結果を用いて、前記荷電粒子ビームの照射位置の補正残差を算出する工程と、
前記補正残差の変化と前記気圧の変化とに相関がある場合に、前記計算式の係数を更新する工程と、
を備える荷電粒子ビーム描画方法。 - 描画データから、ショット毎の位置及びビーム照射時間を含むショットデータを生成する工程と、
気圧センサで気圧を測定する工程と、
気圧上昇時に前記気圧の測定値及び所定の第1計算式とからビーム照射位置の補正量を算出し、気圧下降時に前記気圧の測定値及び所定の第2計算式とからビーム照射位置の補正量を算出する工程と、
前記ショットデータ及び前記補正量に基づいてビーム照射位置が調整された荷電粒子ビームを用いて基板にパターンを描画する工程と、
を備える荷電粒子ビーム描画方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2018084213A JP7070033B2 (ja) | 2018-04-25 | 2018-04-25 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
US16/380,244 US20190333734A1 (en) | 2018-04-25 | 2019-04-10 | Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
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JP2019192788A true JP2019192788A (ja) | 2019-10-31 |
JP2019192788A5 JP2019192788A5 (ja) | 2021-05-27 |
JP7070033B2 JP7070033B2 (ja) | 2022-05-18 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2018084213A Active JP7070033B2 (ja) | 2018-04-25 | 2018-04-25 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
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US (1) | US20190333734A1 (ja) |
JP (1) | JP7070033B2 (ja) |
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JP7070033B2 (ja) | 2022-05-18 |
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