JP2019188597A - Substrate polishing device preventing scattering and re-adhesion of contaminant - Google Patents

Substrate polishing device preventing scattering and re-adhesion of contaminant Download PDF

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Abstract

To provide a substrate polishing device which can prevent polishing powder generated during polishing of a substrate from adhering to the substrate and prevent polishing water from remaining on the substrate.SOLUTION: A substrate polishing device according to the invention includes: a table in which a substrate is fixedly installed; a polishing wheel 110 which polishes an upper edge and a lower edge of the substrate; a wheel housing 120 which encloses the polishing wheel and in which an opening is formed on a front surface so that the substrate contacts with the polishing wheel; pneumatic means which exhausts air from an interior of the wheel housing; and water curtain nozzles provided at an upper part or a lower part of the opening.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、基板研磨装置に関するものであり、より詳細には、研磨パウダーが基板に付着するのを防止することができる基板研磨装置に関する。   The present invention relates to a substrate polishing apparatus, and more particularly to a substrate polishing apparatus that can prevent polishing powder from adhering to a substrate.

通常、ＬＣＤ又はＯＬＥＤなどのフラットパネルディスプレイや、ＬＣＤディスプレイに備えられる導光板(Light Guiding Plate)などは、ディスクを必要なサイズにカットして使用される。   Usually, a flat panel display such as an LCD or an OLED, a light guiding plate provided in the LCD display, and the like are used by cutting a disk into a necessary size.

以下では、ディスク、ガラス基板、導光板及びパネルなどの加工対象物をすべて基板と称することにする。   Hereinafter, all processing objects such as a disk, a glass substrate, a light guide plate, and a panel are referred to as a substrate.

このようにカットされた基板のエッジを研磨する過程が必要であり、図1及び図2は、従来の基板研磨装置を示すものである。   A process of polishing the edge of the substrate thus cut is necessary, and FIGS. 1 and 2 show a conventional substrate polishing apparatus.

図１及び図２は、従来のマルチホイール型基板研磨装置である。図示されたように、互いに向き合うように配置される2つの上部ホイール２０a、２０b及び1つの下部ホイール３０が備えられるが、前記2つの上部ホイール２０a、２０bの間の空間に下部ホイール30の一部が重なるように配置されて基板Ｓの上部及び下部のエッジを同時に研磨することができる。   1 and 2 show a conventional multi-wheel substrate polishing apparatus. As shown in the drawing, two upper wheels 20a and 20b and one lower wheel 30 arranged to face each other are provided, and a part of the lower wheel 30 is provided in a space between the two upper wheels 20a and 20b. Are arranged so as to overlap each other, and the upper and lower edges of the substrate S can be polished simultaneously.

一方、基板Ｓのエッジを研磨するとき、研磨パウダーが発生する。このように発生された研磨パウダーは、基板の表面に付着して基板を汚染させる。また、研磨過程で噴射する研磨水が基板に残留して基板をまだらにする。   On the other hand, when polishing the edge of the substrate S, polishing powder is generated. The generated polishing powder adheres to the surface of the substrate and contaminates the substrate. Further, the polishing water sprayed in the polishing process remains on the substrate, leaving the substrate mottled.

したがって、従来は、基板のエッジを研磨した後、研磨パウダーと残留した研磨水を除去するために洗浄及び乾燥過程が必ず必要である。   Therefore, conventionally, after the edge of the substrate is polished, a cleaning and drying process is always required to remove the polishing powder and the remaining polishing water.

本発明は、基板の研磨中に発生する研磨パウダーが基板に付着するのを防止することができる基板研磨装置を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a substrate polishing apparatus that can prevent polishing powder generated during polishing of a substrate from adhering to the substrate.

本発明の他の目的は、研磨水が、基板に残留するのを防止することができる基板研磨装置を提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a substrate polishing apparatus capable of preventing polishing water from remaining on a substrate.

前記のような技術的課題を解決するために、本発明による基板研磨装置は、基板が定置されるテーブルと、基板の上部エッジ及び下部エッジを研磨する研磨ホイールと、前記研磨ホイールを囲んで、基板が前記研磨ホイールに接するように、前面に開口部が形成されるホイールハウジングと、前記ホイールハウジングの内部を排気する空圧手段と、前記開口部の上部又は下部に備えられるウォーターカーテンノズル（water curtain nozzle）と、を含む。   In order to solve the above technical problems, a substrate polishing apparatus according to the present invention includes a table on which a substrate is placed, a polishing wheel for polishing an upper edge and a lower edge of the substrate, and surrounding the polishing wheel. A wheel housing in which an opening is formed on the front surface so that the substrate contacts the polishing wheel, a pneumatic means for exhausting the inside of the wheel housing, and a water curtain nozzle (water) provided above or below the opening curtain nozzle).

なお、前記開口部の上部又は下部に備えられるエアカーテンノズル（air curtain nozzle）を含むことが好ましい。   In addition, it is preferable that the air curtain nozzle (air curtain nozzle) provided in the upper part or the lower part of the said opening part is included.

なお、前記ホイールハウジングの進入部側壁又は排出部側壁には、上部又は下部で、水を基板に向けて噴射するウォーターカーテンノズル又は空気を噴射するエアカーテンノズルのいずれか１つ以上が備えられることが好ましい。   In addition, at least one of a water curtain nozzle that injects water toward the substrate and an air curtain nozzle that injects air is provided on the entrance side wall or the discharge side wall of the wheel housing at the upper part or the lower part. Is preferred.

なお、前記ホイールハウジングの排出部側壁には、エアナイフ（air knife）がさらに具備されることが好ましい。   In addition, it is preferable that the discharge side wall of the wheel housing further includes an air knife.

本発明による他の基板研磨装置は、基板が定置されるテーブルと、基板の側面を研磨する研磨ホイールと、前記研磨ホイールを囲んで、基板が前記研磨ホイールに接するように、前面に開口部が形成されるホイールハウジングと、前記ホイールハウジングの内部を排気する空圧手段と、前記開口部の上部又は下部に備えられるウォーターカーテンノズル（water curtain nozzle）と、を含む。   Another substrate polishing apparatus according to the present invention includes a table on which a substrate is placed, a polishing wheel for polishing a side surface of the substrate, and an opening on the front surface surrounding the polishing wheel so that the substrate contacts the polishing wheel. A wheel housing formed; pneumatic means for exhausting the interior of the wheel housing; and a water curtain nozzle provided at an upper portion or a lower portion of the opening.

なお、前記開口部の上部又は下部に備えられるエアカーテンノズル（air curtain nozzle）を含むことが好ましい。   In addition, it is preferable that the air curtain nozzle (air curtain nozzle) provided in the upper part or the lower part of the said opening part is included.

なお、前記ウォーターカーテンノズル及びエアカーテンノズルは、前記ホイールハウジングの側壁の厚さに形成されることが好ましい。   The water curtain nozzle and the air curtain nozzle are preferably formed to have a thickness of the side wall of the wheel housing.

なお、前記エアカーテンノズルが、前記ウォーターカーテンノズルより外側に形成されることが好ましい。   In addition, it is preferable that the air curtain nozzle is formed outside the water curtain nozzle.

本発明によると、基板の研磨中に発生する研磨パウダーが基板に付着するのを防止することができる。   According to the present invention, it is possible to prevent the polishing powder generated during the polishing of the substrate from adhering to the substrate.

なお、研磨水が基板に残留するのを防止することができる。   Note that the polishing water can be prevented from remaining on the substrate.

従来の基板研磨装置を示したものである。1 shows a conventional substrate polishing apparatus. 従来の基板研磨装置を示したものである。1 shows a conventional substrate polishing apparatus. 本発明による第１実施例を示したものである。1 shows a first embodiment according to the present invention. 本発明による第１実施例を示したものである。1 shows a first embodiment according to the present invention. 本発明による第１実施例を示したものである。1 shows a first embodiment according to the present invention. 本発明による第１実施例を示したものである。1 shows a first embodiment according to the present invention. 本発明による第１実施例を示したものである。1 shows a first embodiment according to the present invention. 本発明による第１実施例を示したものである。1 shows a first embodiment according to the present invention. 本発明による第２実施例を示したものである。2 shows a second embodiment according to the present invention. 本発明による第２実施例を示したものである。2 shows a second embodiment according to the present invention. 本発明による第２実施例を示したものである。2 shows a second embodiment according to the present invention. 本発明による第２実施例を示したものである。2 shows a second embodiment according to the present invention. 本発明による第２実施例を示したものである。2 shows a second embodiment according to the present invention. 基板研磨後の状態を示したイメージである。It is the image which showed the state after board | substrate grinding | polishing.

以下、添付された図面を参照して、本発明による実施例の構成と作用を具体的に説明する。   Hereinafter, the configuration and operation of an embodiment according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

図３を参照すると、本発明による第１実施例１００は、基板が定置されるテーブルＴと、前記テーブルＴに定置された基板Ｓの上下のエッジを同時に研磨する研磨ホイール１１０と、ホイールハウジング１２０と、を含む。   Referring to FIG. 3, a first embodiment 100 according to the present invention includes a table T on which a substrate is placed, a polishing wheel 110 that simultaneously polishes upper and lower edges of the substrate S placed on the table T, and a wheel housing 120. And including.

前記ホイールハウジング１２０は、前記基板の研磨時に発生する研磨パウダー又は研磨水の飛散を防止するために、前記研磨ホイール１１０を囲む構成要素である。   The wheel housing 120 is a component surrounding the polishing wheel 110 in order to prevent scattering of polishing powder or polishing water generated during polishing of the substrate.

前記研磨ホイール１１０は、図１の研磨ホイール２０a、２０b、３０と類似したマルチホイール型である。つまり、互いに向き合いながら離隔して設置される2つの上部ホイールと、2つの上部ホイールの間の空間に一部が重なるように備えられる1つの下部ホイールと、を含む。   The grinding wheel 110 is a multi-wheel type similar to the grinding wheels 20a, 20b, 30 of FIG. In other words, it includes two upper wheels that are spaced from each other while facing each other, and one lower wheel that is provided so as to partially overlap the space between the two upper wheels.

なお、前記上部ホイール及び下部ホイールを回転させるスピンドルが具備され、前記スピンドルの回転軸は、水平に設置される(図１、図７参照)。   A spindle for rotating the upper wheel and the lower wheel is provided, and the rotation axis of the spindle is installed horizontally (see FIGS. 1 and 7).

図４及び図５を参照すると、前記研磨ホイール１１０を囲むホイールハウジング１２０の前面には、開口部１２１が形成されている。前記開口部１２１を通して前記基板がホイールハウジング１０の内部空間に進入して研磨ホイール１１０に接することができるのである。前記基板の上下のエッジが前記研磨ホイールにより研磨されるにつれて、基板が移動されるように、前記ホイールハウジングの両側面にも開口部(図７の「１２３a」を参照)が形成される。   4 and 5, an opening 121 is formed on the front surface of the wheel housing 120 surrounding the grinding wheel 110. The substrate can enter the inner space of the wheel housing 10 through the opening 121 and come into contact with the grinding wheel 110. As the upper and lower edges of the substrate are polished by the polishing wheel, openings (see “123a” in FIG. 7) are also formed on both side surfaces of the wheel housing so that the substrate is moved.

前記ホイールハウジング１２０の前面に形成された開口部１２１の上部及び下部には、ウォーターカーテンノズル１３０、１３０a、１３０bが備えられている。   Water curtain nozzles 130, 130 a and 130 b are provided at the upper and lower portions of the opening 121 formed on the front surface of the wheel housing 120.

前記ウォーターカーテンノズル１３０は、ホイールハウジング１２０に付着する面に水がカーテンの形で噴射されるように、複数の噴射ホール１３１が1列に形成されており、前記噴射ホール１３１は、前記開口部１２１の上部及び下部から所定距離だけ離隔させてスリット１２２に位置するように固定される。したがって、前記ウォーターのカーテンノズル１３０、１３０a、１３０b）の噴射ホール１３１を通して噴射される水は、前記スリット１２２を通して基板の上部及び下部に向けて噴射され、ウォーターカーテンが形成されるものである。このように噴射ホール１３１を通して噴射された水によって、基板の上部エッジ及び下部エッジが研磨されるときに発生する研磨パウダーが飛散されて基板に付着するのを防止することができる。また、噴射ホール１３１を通して噴射された水は、研磨時に発生する熱を冷却して、研磨を円滑にする研磨水としても作用する。   The water curtain nozzle 130 has a plurality of injection holes 131 formed in a row so that water is injected in the form of a curtain onto the surface adhering to the wheel housing 120. It is fixed so as to be positioned in the slit 122 while being separated from the upper and lower portions of the 121 by a predetermined distance. Accordingly, water sprayed through the spray holes 131 of the water curtain nozzles 130, 130a, and 130b is sprayed toward the upper and lower portions of the substrate through the slits 122 to form a water curtain. Thus, the water sprayed through the spray hole 131 can prevent the polishing powder generated when the upper edge and the lower edge of the substrate are polished from being scattered and adhering to the substrate. The water sprayed through the spray hole 131 also acts as polishing water that cools the heat generated during polishing and smoothes the polishing.

本実施例では、水が噴射される噴射ホール１３０aが形成されるウォーターカーテンノズル１３０のみを図示したが、これとは異なり、水が噴射される噴射ホール１３１の上部や下部に空気が噴射されるエア噴射ホール(図示せず)を形成することができる。具体的に、水が噴射される噴射ホール１３０aの上部や下部に、空気が噴射されるエア噴射ホールが1列に形成されるものである。   In the present embodiment, only the water curtain nozzle 130 in which the injection hole 130a in which water is injected is formed is illustrated, but unlike this, air is injected above and below the injection hole 131 from which water is injected. An air injection hole (not shown) can be formed. Specifically, air injection holes for injecting air are formed in one row above and below the injection holes 130a through which water is injected.

ウォーターカーテンノズル１３０から水だけでなく、空気もカーテンの形で噴射することにより、前記ホイールハウジング１２０に形成された開口部１２１の上部及び下部にウォーターカーテン及びエアカーテンを同時に形成することができ、研磨するときに発生する研磨パウダーが飛散されて基板に付着するのを確実に防止することができる。   By injecting not only water but also air from the water curtain nozzle 130 in the form of a curtain, a water curtain and an air curtain can be simultaneously formed at the upper and lower portions of the opening 121 formed in the wheel housing 120, It is possible to reliably prevent the polishing powder generated during polishing from being scattered and adhering to the substrate.

なお、前記ホイールハウジング１２０の排出側（基板進行方向から後側）には、エアナイフ１６０が備えられる。これは、研磨水やウォーターカーテンの水滴が基板に残留することから、高圧空気を噴射して水滴を除去するものである。   An air knife 160 is provided on the discharge side of the wheel housing 120 (the rear side from the substrate traveling direction). In this method, since water droplets of polishing water and water curtain remain on the substrate, high-pressure air is ejected to remove the water droplets.

前記エアナイフ１６０は、前記基板の上部及び下部から高圧空気を噴射するように、前記開口部１２１を基準に上部及び下部にそれぞれ備えられる。   The air knife 160 is provided at the upper and lower portions with respect to the opening 121 so as to inject high-pressure air from the upper and lower portions of the substrate.

図６及び図７を参照すると、本発明による第１実施例１００は、ホイールハウジング１２０の両側壁、つまり、進入部側壁及び排出部側壁１２３には、それぞれウォーターカーテンノズル１４０、１５０が具備される。   Referring to FIGS. 6 and 7, in the first embodiment 100 according to the present invention, water curtain nozzles 140 and 150 are provided on both side walls of the wheel housing 120, that is, the inlet side wall and the outlet side wall 123, respectively. .

前記ウォーターカーテンノズル１４０、１５０には、水が基板方向に噴射される噴射ホール１４１、１５１が形成されている。本実施例では、水が供給される噴射ホール１４１、１５１が1列に形成されているが、これとは異なり、エアが供給される噴射ホール１４２、１５２とともに2列に形成されるのがより好ましい。   The water curtain nozzles 140 and 150 are formed with injection holes 141 and 151 through which water is injected toward the substrate. In the present embodiment, the injection holes 141 and 151 to which water is supplied are formed in one row, but unlike this, the injection holes 142 and 152 to which air is supplied are formed in two rows. preferable.

したがって、ホイールハウジング１２０の前面と両側の壁にそれぞれウォーターカーテンノズル１３０、１４０、１５０が備えられ、３面でウォーターカーテン又はエアカーテンを形成することにより、研磨パウダーが飛散するのを効果的に防止することができるようになる。   Accordingly, the water curtain nozzles 130, 140, and 150 are provided on the front and both sides of the wheel housing 120, respectively, and the water curtain or air curtain is formed on three surfaces, thereby effectively preventing the abrasive powder from scattering. Will be able to.

図８を参照すると、本発明による第１実施例１００は、前記ホイールハウジング１２０の内部を排気して研磨水を排出するために吸入圧を形成する空圧手段１７０が備えられる。   Referring to FIG. 8, the first embodiment 100 according to the present invention includes a pneumatic unit 170 for generating a suction pressure for exhausting the inside of the wheel housing 120 and discharging polishing water.

前記空圧手段１７０は、前記ホイールハウジング１２０の内部の空気を吸入・排出して真空状態に形成し、このとき、前記空圧手段１７０によって排出された研磨水はドレインタンク(図示せず)を経て、排水路を通して排出し、研磨パウダーは吸入する空気とともに排出する。   The pneumatic means 170 sucks and discharges the air inside the wheel housing 120 to form a vacuum state. At this time, the polishing water discharged by the pneumatic means 170 passes through a drain tank (not shown). After that, it is discharged through the drainage channel, and the abrasive powder is discharged together with the air to be sucked.

図９及び図１０は、本発明による第２実施例２００を示したものである。第１実施例は、マルチホイール型であり、第２実施例は、グルーヴホイール型の研磨装置である。   9 and 10 show a second embodiment 200 according to the present invention. The first embodiment is a multi-wheel type, and the second embodiment is a groove wheel type polishing apparatus.

図９及び図１０を参照すると、本発明による第２実施例２００は、基板Ｓを水平に定置させるテーブルＴと、前記基板Ｓの側面を研磨する円筒形の研磨ホイール２１０とが備えられる。前記研磨ホイール２１０は、スピンドルによって水平方向に回転するので、研磨ホイール２１０の回転軸は、垂直になる。   Referring to FIGS. 9 and 10, the second embodiment 200 according to the present invention includes a table T on which the substrate S is horizontally placed and a cylindrical polishing wheel 210 that polishes the side surface of the substrate S. Since the grinding wheel 210 is rotated in the horizontal direction by the spindle, the rotation axis of the grinding wheel 210 is vertical.

特に、前記研磨ホイール２１０の研磨作業時に、発生される研磨パウダーが飛散するのを防止するように、研磨ホイール２１０を囲むホイールハウジング２２０が備えられる。   In particular, a wheel housing 220 is provided that surrounds the grinding wheel 210 so as to prevent the grinding powder generated during the grinding operation of the grinding wheel 210 from scattering.

図１１を参照すると、前記ホイールハウジング２２０は、全体的に研磨ホイール２１０と類似した円筒形に形成され、一側に開口部２２１が形成されており、前記開口部２２１を通して基板がホイールハウジング２２０の内部に進入して研磨ホイール２１０に接することができるようになる。   Referring to FIG. 11, the wheel housing 220 is generally formed in a cylindrical shape similar to the grinding wheel 210, and an opening 221 is formed on one side, and the substrate is formed through the opening 221. It becomes possible to enter the inside and come into contact with the grinding wheel 210.

図１２及び図１３を参照すると、前記ホイールハウジング２２０に形成された開口部２２１の上部と下部には、それぞれウォーターカーテンノズル２２３a、２２３b及びエアカーテンノズル２２２a、２２２bが形成される。つまり、前記ウォーターカーテンノズル２２３a、２２３b及びエアカーテンノズル２２２a、２２２bは、前記ホイールハウジング２２０の側壁の厚さの面に形成されるものである。また、水と空気の流路もまたホイールハウジング２２０の側壁の厚さの面に形成されるものである。   Referring to FIGS. 12 and 13, water curtain nozzles 223a and 223b and air curtain nozzles 222a and 222b are formed at the upper and lower portions of the opening 221 formed in the wheel housing 220, respectively. That is, the water curtain nozzles 223a and 223b and the air curtain nozzles 222a and 222b are formed on the surface of the side wall of the wheel housing 220. In addition, water and air flow paths are also formed on the thickness side of the side wall of the wheel housing 220.

前記ウォーターカーテンノズル２２３a、２２３bは、基板に向けて水を噴射してウォーターカーテンを形成することにより、基板の研磨時に研磨水を供給し、研磨時に発生される研磨パウダーが飛散するのを防止するためである。   The water curtain nozzles 223a and 223b form a water curtain by spraying water toward the substrate, thereby supplying polishing water during polishing of the substrate and preventing the polishing powder generated during polishing from scattering. Because.

前記エアカーテンノズル２２２a、２２２bは、基板に向けて空気を噴射してエアカーテンを形成することにより、基板の研磨時に発生される研磨パウダーが飛散するのを防止するためである。   The air curtain nozzles 222a and 222b are for spraying air toward the substrate to form an air curtain, thereby preventing polishing powder generated during polishing of the substrate from scattering.

一方、ホイールハウジング２２０の開口部２２１には、内側にウォーターカーテンノズル２２３a、２２３bが形成され、前記ウォーターカーテンノズル２２３a、２２３bの外側にエアカーテンノズル２２２a、２２２bが形成される。   Meanwhile, water curtain nozzles 223a and 223b are formed inside the opening 221 of the wheel housing 220, and air curtain nozzles 222a and 222b are formed outside the water curtain nozzles 223a and 223b.

なお、第２実施例でも、ホイールハウジング２２０の内部を排気して研磨水を排出する空圧手段２３０が連結され、前記ホイールハウジング２２０の内部の空気を吸入・排出して真空状態に形成し、このとき、前記空圧手段２３０によって排出された研磨水はドレインタンク（図示せず）を経て排水路を通して排出し、研磨パウダーは吸入する空気とともに排出する。   Also in the second embodiment, pneumatic means 230 for exhausting the inside of the wheel housing 220 and discharging the polishing water is connected, and the air inside the wheel housing 220 is sucked and discharged to form a vacuum state, At this time, the polishing water discharged by the pneumatic means 230 passes through a drain tank (not shown) and is discharged through a drainage channel, and the polishing powder is discharged together with the sucked air.

図１４は、基板研磨後のイメージを示したものであり、(a)は、第１実施例で空圧手段１７０とエアナイフ１６０を作動させていない状態で研磨したものである。これにより、理解できるように、基板の表面に研磨水が多量に分布されていることがわかる。   FIG. 14 shows an image after the substrate polishing. FIG. 14A shows the polishing performed in a state where the pneumatic unit 170 and the air knife 160 are not operated in the first embodiment. Thereby, it can be understood that a large amount of polishing water is distributed on the surface of the substrate.

(b)は、第１実施例で空圧手段１７０は作動させて、エアナイフ１６０は作動させていない状態で研磨したものである。この場合、(a)よりも、基板に残留する研磨水と再付着された研磨パウダーが著しく減少していることがわかる。具体的に、基板の端から５０mm以内の領域に間欠的に３mm以下の水滴が分布されていたことが確認される。また、研磨時のホイールハウジング内部で雲霧形態の水滴が肉眼で確認されなかった。   (b) shows polishing in the first embodiment with the pneumatic means 170 activated and the air knife 160 not activated. In this case, it can be seen that the polishing water remaining on the substrate and the re-adhered polishing powder are remarkably reduced as compared with (a). Specifically, it is confirmed that water droplets of 3 mm or less were intermittently distributed in a region within 50 mm from the edge of the substrate. In addition, cloud-shaped water droplets were not confirmed with the naked eye inside the wheel housing during polishing.

(c)は、第１実施例で空圧手段１７０とエアナイフ１６０を動作させた状態で研磨したものである。基板に残留する研磨水と再付着された研磨パウダーが肉眼で確認できない程度に改善されていたことが分かる。   (c) shows polishing in a state where the pneumatic means 170 and the air knife 160 are operated in the first embodiment. It can be seen that the polishing water remaining on the substrate and the re-adhered polishing powder were improved to such an extent that they cannot be confirmed with the naked eye.

これは空圧手段１７０により内部に存在する雲霧形態の水と、研磨時飛散する研磨パウダーを吸入して排出し、また基板排出時エアナイフ１６０によって空気を噴射した結果であると解釈される。   This is interpreted as a result of the air pressure means 170 sucking and discharging the cloud-shaped water present inside and the polishing powder scattered during polishing and ejecting air by the air knife 160 when discharging the substrate.

１００：第１実施例
１１０：研磨ホイール
１２０：ホイールハウジング
１３０、１４０、１５０：ウォーターカーテンノズル
１６０：エアナイフ
１７０：空圧手段
２００：第２実施例
２１０：研磨ホイール
２２０：ホイールハウジング
２３０：空圧手段

100: First embodiment 110: Polishing wheel 120: Wheel housing 130, 140, 150: Water curtain nozzle 160: Air knife 170: Pneumatic means 200: Second embodiment 210: Polishing wheel 220: Wheel housing 230: Pneumatic means

Claims (8)

基板が定置されるテーブルと、
基板の上部エッジと下部エッジを研磨する研磨ホイールと、
前記研磨ホイールを囲んで、基板が前記研磨ホイールに接するように、前面に開口部が形成されるホイールハウジングと、
前記ホイールハウジングの内部を排気する空圧手段と、
前記開口部の上部又は下部に備えられるウォーターカーテンノズルと、を含むことを特徴にする、基板研磨装置。 A table on which the substrate is placed;
A polishing wheel for polishing the upper and lower edges of the substrate;
A wheel housing that surrounds the polishing wheel and has an opening formed in a front surface so that a substrate contacts the polishing wheel;
Pneumatic means for exhausting the interior of the wheel housing;
A substrate polishing apparatus comprising: a water curtain nozzle provided above or below the opening. 前記開口部の上部又は下部に備えられるエアカーテンノズルと、を含むことを特徴にする、請求項１に記載の基板研磨装置。   The substrate polishing apparatus according to claim 1, further comprising an air curtain nozzle provided at an upper portion or a lower portion of the opening. 前記ホイールハウジングの進入部側壁又は排出部側壁には、上部又は下部から水を基板に向けて噴射するウォーターカーテンノズル又は空気を噴射するエアカーテンノズルのいずれか１つ以上が備えられることを特徴にする、請求項１に記載の基板研磨装置。   The entrance side wall or the discharge side wall of the wheel housing is provided with any one or more of a water curtain nozzle that injects water toward the substrate from an upper part or a lower part and an air curtain nozzle that injects air. The substrate polishing apparatus according to claim 1. 前記ホイールハウジングの排出部側壁には、エアナイフがさらに具備されることを特徴にする、請求項１に記載の基板研磨装置。   The substrate polishing apparatus of claim 1, further comprising an air knife on a side wall of the discharge part of the wheel housing. 基板が定置されるテーブルと、
基板の側面を研磨する研磨ホイールと、
前記研磨ホイールを囲んで、基板が前記研磨ホイールに接するように、前面に開口部が形成されるホイールハウジングと、
前記ホイールハウジングの内部を排気する空圧手段と、
前記開口部の上部又は下部に備えられるウォーターカーテンノズルと、を含むことを特徴にする、基板研磨装置。 A table on which the substrate is placed;
A polishing wheel for polishing the side of the substrate;
A wheel housing that surrounds the polishing wheel and has an opening formed in a front surface so that a substrate contacts the polishing wheel;
Pneumatic means for exhausting the interior of the wheel housing;
A substrate polishing apparatus comprising: a water curtain nozzle provided above or below the opening. 前記開口部の上部又は下部に備えられるエアカーテンノズルと、を含むことを特徴にする、請求項５に記載の基板研磨装置。   The substrate polishing apparatus according to claim 5, further comprising an air curtain nozzle provided at an upper portion or a lower portion of the opening. 前記ウォーターカーテンノズル及びエアカーテンノズルは、前記ホイールハウジングの側壁の厚さに形成されることを特徴にする、請求項６に記載の基板研磨装置。   The substrate polishing apparatus according to claim 6, wherein the water curtain nozzle and the air curtain nozzle are formed to have a thickness of a side wall of the wheel housing. 前記エアカーテンノズルが、前記ウォーターカーテンノズルより外側に形成されることを特徴にする、請求項７に記載の基板研磨装置。

The substrate polishing apparatus according to claim 7, wherein the air curtain nozzle is formed outside the water curtain nozzle.

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