KR20190124545A - Substrate grinding apparatus - Google Patents

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KR20190124545A
KR20190124545A KR1020180048644A KR20180048644A KR20190124545A KR 20190124545 A KR20190124545 A KR 20190124545A KR 1020180048644 A KR1020180048644 A KR 1020180048644A KR 20180048644 A KR20180048644 A KR 20180048644A KR 20190124545 A KR20190124545 A KR 20190124545A
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배기환
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Abstract

The present invention relates to a substrate polishing system, and more specifically, relates to a substrate polishing system capable of preventing polishing water or polishing powder from remaining or adhering to a substrate. The substrate polishing system according to the present invention comprises: a table on which the substrate is seated; a polishing wheel for polishing a predetermined portion of the substrate; a wheel housing surrounding the polishing wheel to prevent scattering of the polishing powder or polishing water generated during polishing of the substrate, and forming an opening unit in a processing area such that an edge of the substrate is in contact with the polishing wheel; and a water curtain nozzle provided above or below the opening unit to prevent the polishing powder from scattering.

Description

오염물질의 비산이 방지되는 기판 연마장치{SUBSTRATE GRINDING APPARATUS}Substrate Grinding Device to Prevent Pollutants from Scattering {SUBSTRATE GRINDING APPARATUS}

본 발명은 기판 연마장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 연마수나 연마 파우더가 기판에 잔류하거나 부착되는 것을 방지할 수 있는 기판 연마장치에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate polishing apparatus, and more particularly, to a substrate polishing apparatus capable of preventing the polishing water or the polishing powder from remaining or adhering to the substrate.

통상, LCD 또는 OLED 등 평판 디스플레이 패널이나, LCD 디스플레이에 구비되는 도광판(Light Guiding Plate) 등은 원판을 필요한 크기로 절단하여 사용된다.Generally, a flat panel display panel such as an LCD or an OLED, a light guiding plate or the like provided in an LCD display is used by cutting the original plate into a required size.

이하에서는 원판, 유리기판, 도광판 및 패널 등 가공대상을 모두 기판으로 칭하기로 한다. Hereinafter, the processing object such as the original plate, the glass substrate, the light guide plate and the panel will be referred to as the substrate.

이와 같이 절단된 기판의 모서리를 연마하는 과정이 필요한데, 도 1 및 도 2는 종래 기판 연마장치를 나타낸 것이다. A process of polishing the edges of the substrate thus cut is required, and FIGS. 1 and 2 illustrate a conventional substrate polishing apparatus.

도 1 및 도 2는 종래 멀티휠 타입 기판 연마장치이다. 도시된 바와 같이, 기판(S)의 상부와 하부 모서리를 동시에 연마할 수 있도록 상부휠(20a,20b)과 하부휠(30)이 중첩되지 않도록 엇갈리게 구비된다. 상기 상부휠(20a,20b)과 하부휠(30)을 회전시키는 스핀들이 구비된다. 1 and 2 is a conventional multi-wheel type substrate polishing apparatus. As shown, the upper wheels 20a and 20b and the lower wheel 30 are alternately provided so that the upper and lower edges of the substrate S can be polished at the same time. Spindles for rotating the upper wheels 20a and 20b and the lower wheel 30 are provided.

종래의 연마장치를 이용하여 기판(S)의 모서리를 연마할 때, 연마 파우더가 발생된다. 이렇게 발생된 연마 파우더는 기판의 표면에 부착되어 기판을 오염시킨다. When the edge of the substrate S is polished using a conventional polishing apparatus, abrasive powder is generated. The abrasive powder thus generated adheres to the surface of the substrate and contaminates the substrate.

또한 연마과정에서 분사하는 연마수가 기판에 잔류하여 기판을 얼룩지게 하는 등의 문제가 있다. In addition, there is a problem such that the polishing water sprayed during the polishing process remains on the substrate to stain the substrate.

따라서 종래에는 기판의 모서리를 연마한 후, 연마 파우더와 잔류한 연마수를 제거하기 위하여 세정 및 건조과정이 필요한 문제가 있다. Therefore, conventionally, after polishing the edges of the substrate, there is a problem that a cleaning and drying process is required to remove the abrasive powder and the remaining abrasive water.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 기판 연마 중 발생하는 연마 파우더수가 기판에 부착되는 것을 방지할 수 있는 기판 연마장치를 제공함에 있다. The present invention has been made to solve the above problems, an object of the present invention is to provide a substrate polishing apparatus that can prevent the number of polishing powder generated during substrate polishing adheres to the substrate.

본 발명의 다른 목적은 연마수가 기판에 잔류하는 것을 방지할 수 있는 기판 연마장치를 제공함에 있다. Another object of the present invention is to provide a substrate polishing apparatus capable of preventing the polishing water from remaining on the substrate.

위와 같은 과제를 해결하기 위하여 본 발명에 의한 기판 연마장치는 기판이 안착되는 테이블; 상기 기판의 소정 부위를 연마하는 연마휠; 상기 기판의 연마시 발생하는 연마 파우더 또는 연마수의 비산을 방지하도록상기 연마휠을 둘러싸고, 상기 연마휠에 상기 기판의 모서리가 접할 수 있도록 가공영역에 개구부가 형성되는 휠 하우징; 및 상기 연마 파우더가 비산되는 것을 방지하기 위하여 상기 개구부의 상부 또는 하부에 구비되는 워터커튼노즐(water curtain nozzle);을 포함한다. In order to solve the above problems, the substrate polishing apparatus according to the present invention includes a table on which the substrate is seated; A polishing wheel for polishing a predetermined portion of the substrate; A wheel housing surrounding the polishing wheel to prevent scattering of the polishing powder or polishing water generated during polishing of the substrate, and an opening formed in a processing area such that an edge of the substrate is in contact with the polishing wheel; And a water curtain nozzle provided at an upper portion or a lower portion of the opening to prevent the abrasive powder from scattering.

또한 상기 연마 파우더가 비산되는 것을 방지하기 위하여 상기 개구부의 상부 또는 하부에는 에어커튼노즐(air curtain nozzle)이 더 구비되는 것이 바람직하다. In addition, in order to prevent the abrasive powder from scattering, an upper or lower portion of the opening is preferably provided with an air curtain nozzle.

또한 상기 워터커튼노즐 또는 에어커튼노즐은 상기 휠 하우징의 개구부의 상부 또는 하부의 내측으로 물 또는 공기를 분사하는 것이 바람직하다. In addition, the water curtain nozzle or air curtain nozzle is preferably sprayed with water or air to the inside of the upper or lower portion of the opening of the wheel housing.

또한 연마가 완료된 상기 기판의 표면에 잔류하는 연마 파우더 또는 물방울을 제거하기 위하여 상기 기판이 진행하는 방향으로 상기 휠 하우징의 후측에는 에어나이프(air knife)가 더 구비되는 것이 바람직하다. In addition, it is preferable that an air knife is further provided on the rear side of the wheel housing in a direction in which the substrate proceeds in order to remove the abrasive powder or water droplets remaining on the surface of the substrate after polishing is completed.

또한 상기 휠 하우징의 내부를 배기하고 연마수를 배출하는 공압수단을 더 포함하는 것이 바람직하다. In addition, it is preferable to further include a pneumatic means for exhausting the interior of the wheel housing and discharge the abrasive water.

또한 상기 연마휠은 링형태의 상부휠과 하부휠을 포함하고, 상기 상부휠과 하부휠의 회전축이 수평하게 구비되는 것이 바람직하다. In addition, the polishing wheel includes a ring-shaped upper wheel and the lower wheel, it is preferable that the rotation axis of the upper wheel and the lower wheel is provided horizontally.

또한 상기 연마휠은 원통형태로 구비되며, 회전축이 수직하게 구비되는 것이 바람직하다. In addition, the polishing wheel is provided in a cylindrical shape, the rotation axis is preferably provided vertically.

또한 상기 하우징의 측벽 상부 또는 하부에는 상기 기판방향으로 물을 분사하는 워터커튼노즐이 형성되는 것이 바람직하다. In addition, it is preferable that a water curtain nozzle for spraying water toward the substrate is formed above or below the side wall of the housing.

또한 상기 하우징의 측벽 상부 또는 하부에는 상기 기판방향으로 공기를 분사하는 에어커튼노즐이 형성되는 것이 바람직하다. In addition, it is preferable that an air curtain nozzle for injecting air toward the substrate is formed above or below the side wall of the housing.

또한 상기 에어커튼노즐이 상기 워터커튼노즐보다 외측에 형성되는 것이 바람직하다. In addition, the air curtain nozzle is preferably formed outside the water curtain nozzle.

본 발명에 따르면, 기판 연마 중 발생하는 연마 파우더수가 기판에 부착되는 것을 방지할 수 있다. According to the present invention, the number of abrasive powders generated during substrate polishing can be prevented from adhering to the substrate.

또한 연마수가 기판에 잔류하는 것을 방지할 수 있다. It is also possible to prevent the polishing water from remaining on the substrate.

도 1 및 도 2는 일반적인 기판 연마장치를 나타낸 것이다.
도 3 내지 도 8은 본 발명에 의한 제1실시예를 나타낸 것이다.
도 9 및 도 10은 본 발명에 의한 제2실시예를 나타낸 것이다. 1 and 2 show a general substrate polishing apparatus.
3 to 8 show a first embodiment according to the present invention.
9 and 10 show a second embodiment according to the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 의한 실시예의 구성 및 작용을 구체적으로 설명한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail the configuration and operation of the embodiment according to the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명에 의한 제1실시예(100)는 기판이 안착되는 테이블(T)과, 상기 테이블(T)에 안착된 기판(S)의 상하 모서리를 연마하는 연마휠(110)과, 상기 기판의 연마시 발생하는 연마 파우더 또는 연마수의 비산을 방지하도록 상기 연마휠(110)을 둘러싸는 휠 하우징(120)을 포함한다. Referring to FIG. 3, a first embodiment 100 according to the present invention includes a polishing wheel 110 for polishing a table T on which a substrate is seated and upper and lower edges of the substrate S seated on the table T. And a wheel housing 120 surrounding the polishing wheel 110 to prevent scattering of the polishing powder or the polishing water generated when the substrate is polished.

상기 연마휠(110)은 도 1의 연마휠(20a,20b,30)과 유사하며, 상부휠과 하부휠이 중첩되지 않도록 복수개 구비되는 멀티휠로 구성된다. 또한 상기 상부휠과 하부휠을 회전시키는 스핀들이 구비되며, 상기 스핀들의 회전축은 수평하게 설치된다(도 1, 도 7 참조). The polishing wheel 110 is similar to the polishing wheels 20a, 20b, and 30 of FIG. 1, and includes a plurality of multiwheels provided so that the upper wheel and the lower wheel do not overlap. In addition, a spindle for rotating the upper wheel and the lower wheel is provided, the axis of rotation of the spindle is installed horizontally (see Fig. 1, 7).

도 4 및 도 5를 참조하면, 상기 연마휠(110)을 감싸는 휠 하우징(120)의 전면 및 양 측면에는 개구부(121)가 형성되어 있다. 상기 개구부(121)를 통해 상기 기판이 연마휠(110)에 접하여 연마되는 것이다. 4 and 5, openings 121 are formed in front and both side surfaces of the wheel housing 120 surrounding the polishing wheel 110. The substrate is polished in contact with the polishing wheel 110 through the opening 121.

상기 휠 하우징(120)에 형성된 개구부(121)의 상부와 하부에는 워터커튼노즐(130,130a,130b)이 구비되어 있다. Water curtain nozzles 130, 130a, and 130b are provided at upper and lower portions of the opening 121 formed in the wheel housing 120.

상기 워터커튼노즐(130)은 휠 하우징(120)에 부착되는 면에 물이 분사되는 분사홀(131)이 복수개 구비되어 있고, 상기 분사홀(131)은 상기 개구부(121)의 상부와 하부에 소정 거리 이격되어 슬릿(122)에 위치되도록 고정된다. 따라서 상기 워터커튼노즐(130,130a,130b)의 분사홀(131)을 통해 분사되는 물은 상기 슬릿(122)을 통해 기판의 상부와 하부를 향해 분사되어 워터커튼이 형성되는 것이다. 이로 인해 기판의 상부 모서리와 하부 모서리가 연마할 때 발생되는 연마 파우더가 비산되어 기판에 부착되는 것을 방지할 수 있다.The water curtain nozzle 130 is provided with a plurality of injection holes 131 for spraying water on the surface attached to the wheel housing 120, the injection hole 131 is on the upper and lower portions of the opening 121 It is fixed to be positioned in the slit 122 spaced apart a predetermined distance. Accordingly, water sprayed through the injection holes 131 of the water curtain nozzles 130, 130a and 130b is sprayed toward the upper and lower portions of the substrate through the slit 122 to form a water curtain. As a result, the polishing powder generated when the upper and lower edges of the substrate are polished can be prevented from scattering and being attached to the substrate.

본 실시예에서는 물이 분사되는 분사홀(130a)이 형성되는 워터커튼노즐(130)만 도시하였으나, 이와 달리 물이 분사되는 분사홀(131)의 상부 또는 하부에 공기가 분사되는 에어분사홀(미도시)을 형성할 수 있다. 이 경우, 워터커튼노즐(130)에서 물 뿐 아니라 공기도 분사함으로써 상기 휠 하우징(120)에 형성된 개구부(121)의 상부와 하부에 워터커튼과 에어커튼을 동시에 형성할 수 있다. In the present embodiment, only the water curtain nozzle 130 in which the water injection hole 130a is formed is shown, but in contrast, an air injection hole in which air is injected into the upper or lower portion of the injection hole 131 in which water is injected ( Not shown). In this case, by spraying not only water but also air from the water curtain nozzle 130, the water curtain and the air curtain may be simultaneously formed on the upper and lower portions of the opening 121 formed in the wheel housing 120.

또한 상기 휠 하우징(120)의 배출측(기판 진행방향에서 후측)에는 에어 나이프(160)가 구비된다. 이것은 연마수나 워터커튼의 물방울이 기판에 잔류하는 것을 고압공기를 분사하여 물방울을 제거하는 것이다.In addition, the air knife 160 is provided on the discharge side (back side in the substrate traveling direction) of the wheel housing 120. This is to remove the water droplets by spraying high pressure air on the water droplets of the polishing water or water curtain remaining on the substrate.

상기 에어 나이프(160)는 상기 기판의 상부에 하부에서 고압공기를 분사하도록 상기 개구부(121)를 기준으로 상부와 하부에 각각 구비된다. The air knife 160 is provided above and below the opening 121 to respectively inject high pressure air from above the substrate.

도 6 및 도 7을 참조하면, 본 발명에 의한 제1실시예(100)는 휠 하우징(120)의 양측벽, 즉, 전측벽과 후측벽(123)에는 각각 워터커튼노즐(140,150)이 구비된다. 6 and 7, in the first embodiment 100 according to the present invention, water curtain nozzles 140 and 150 are provided on both side walls of the wheel housing 120, that is, the front and rear walls 123, respectively. do.

상기 워터커튼노즐(140,150)에는 물이 기판방향으로 분사되는 분사홀(141,151)이 형성되어 있다. 본 실시예에서는 물이 공급되는 분사홀(141,151)이 1열로 형성되어 있으나, 이와 달리 에어가 공급되는 분사홀(미도시)과 함께 2열로 형성되는 것이 바람직하다. The water curtain nozzles 140 and 150 are formed with spray holes 141 and 151 through which water is sprayed toward the substrate. In the present embodiment, the injection holes 141 and 151 to which water is supplied are formed in one row. Alternatively, the injection holes 141 and 151 are formed in two rows together with the injection holes (not shown) supplied with air.

따라서 휠 하우징(120)의 전면과, 양측벽에 각각 워터커튼노즐(130,140,150)이 구비되어 3면에서 워터커튼 또는 에어커튼을 형성함으로써 연마 파우더가 비산되는 것을 효과적으로 방지할 수 있게 된다. Accordingly, the water curtain nozzles 130, 140, and 150 are provided on the front surface and the side walls of the wheel housing 120, respectively, to form water curtains or air curtains on three surfaces, thereby effectively preventing the abrasive powder from scattering.

도 8을 참조하면, 본 발명에 의한 제1실시예(100)는 상기 휠 하우징(120)의 내부를 배기하고 연마수를 배출하기 위하여 흡입압을 형성하는 공압수단(170)이 구비된다. Referring to FIG. 8, the first embodiment 100 according to the present invention is provided with pneumatic means 170 for exhausting the inside of the wheel housing 120 and forming a suction pressure for discharging the abrasive water.

상기 공압수단(170)에 의해 배출된 연마수는 드레인탱크(미도시)를 거쳐 배수로를 통해 배출하고, 연마 파우더는 흡입하는 공기와 함께 배출한다. The abrasive water discharged by the pneumatic means 170 is discharged through a drainage channel through a drain tank (not shown), and the abrasive powder is discharged together with the air to suck.

도 9 및 도 10은 본 발명에 의한 제2실시예(200)를 나타낸 것이다. 제1실시예는 멀티휠 타입이고, 제2실시예는 그루브휠 타입 연마장치이다. 9 and 10 show a second embodiment 200 according to the present invention. The first embodiment is a multiwheel type, and the second embodiment is a groove wheel type polishing apparatus.

도 9 및 도 10을 참조하면, 본 발명에 의한 제2실시예(200)는 기판(S)을 수평으로 안착시키는 테이블(T)과, 상기 기판(S)의 모서리를 연마하는 원통형의 연마휠(210)이 구비된다. 상기 연마휠(210)은 스핀들에 의해 수평방향으로 회전한다.9 and 10, a second embodiment 200 according to the present invention includes a table T for horizontally mounting a substrate S, and a cylindrical polishing wheel for polishing an edge of the substrate S. FIG. 210 is provided. The polishing wheel 210 is rotated in the horizontal direction by the spindle.

특히, 상기 연마휠(210)의 연마작업시 발생되는 연마 파우더가 비산되는 것을 방지하도록 연마휠(210)을 둘러싸는 휠 하우징(220)이 구비된다. In particular, a wheel housing 220 surrounding the polishing wheel 210 is provided to prevent the polishing powder generated during the polishing operation of the polishing wheel 210 from scattering.

상기 휠 하우징(220)은 일측에 개구부(221)가 형성되어 있어 상기 개구부(221)를 통해 기판이 연마휠(210)에 접할 수 있게 된다. The wheel housing 220 has an opening 221 formed at one side thereof so that the substrate may contact the polishing wheel 210 through the opening 221.

상기 휠 하우징(220)에 형성된 개구부(221)의 상부와 하부에는 각각 워터커튼노즐(223a,223b)과 에어커튼노즐(222a,222b)이 형성된다. Water curtain nozzles 223a and 223b and air curtain nozzles 222a and 222b are formed at upper and lower portions of the opening 221 formed in the wheel housing 220, respectively.

상기 워터커튼노즐(223a,223b)은 기판을 향해 물을 분사하여 워터커튼을 형성함으로써 기판 연마시 발생되는 연마 파우더가 비산되는 것을 방지하기 위함이다. The water curtain nozzles 223a and 223b spray water toward the substrate to form a water curtain to prevent scattering of the polishing powder generated during substrate polishing.

상기 에어커튼노즐(222a,222b)은 기판을 향해 공기를 분사하여 에어커튼을 형성함으로써 기판 연마시 발생되는 연마 파우더가 비산되는 것을 방지하기 위함이다. The air curtain nozzles 222a and 222b spray air toward the substrate to form an air curtain to prevent scattering of the polishing powder generated during substrate polishing.

한편, 휠 하우징(220)의 개구부(221)에는 내측으로 워터커튼노즐(223a,223b)이 형성되고, 상기 워터커튼노즐(223a,223b)의 바깥쪽에 에어커튼노즐(222a,222b)이 형성된다. Meanwhile, water curtain nozzles 223a and 223b are formed in the opening 221 of the wheel housing 220 and air curtain nozzles 222a and 222b are formed outside the water curtain nozzles 223a and 223b. .

또한 제2실시예에서도 휠 하우징(220)의 내부를 배기하고 연마수를 배출하는 공압수단이(230) 연결된다. In addition, in the second embodiment, the pneumatic means 230 for exhausting the inside of the wheel housing 220 and discharging the abrasive water is connected.

100: 제1실시예
110: 연마휠
120: 휠 하우징
130, 140, 150: 워터커튼노즐
160: 에어나이프
170: 진공펌프
200: 제2실시예
210: 연마휠
220: 휠 하우징
230: 진공펌프100: first embodiment
110: polishing wheel
120: wheel housing
130, 140, 150: water curtain nozzle
160: air knife
170: vacuum pump
200: second embodiment
210: polishing wheel
220: wheel housing
230: vacuum pump

Claims (3)

기판이 안착되는 테이블;
상기 기판의 소정 부위를 연마하는 연마휠;
상기 기판의 연마시 발생하는 연마 파우더 또는 연마수의 비산을 방지하도록상기 연마휠을 둘러싸고, 상기 연마휠에 상기 기판의 모서리가 접할 수 있도록 가공영역에 개구부가 형성되는 휠 하우징; 및
상기 연마 파우더가 비산되는 것을 방지하기 위하여 상기 개구부의 상부 또는 하부에 구비되는 워터커튼노즐(water curtain nozzle);을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 연마장치.
A table on which the substrate is seated;
A polishing wheel for polishing a predetermined portion of the substrate;
A wheel housing surrounding the polishing wheel to prevent scattering of the polishing powder or polishing water generated during polishing of the substrate, and an opening formed in a processing area such that an edge of the substrate is in contact with the polishing wheel; And
And a water curtain nozzle provided above or below the opening to prevent the polishing powder from scattering.
제1항에 있어서,
상기 연마 파우더가 비산되는 것을 방지하기 위하여 상기 개구부의 상부 또는 하부에는 에어커튼노즐(air curtain nozzle)이 더 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 연마장치.
The method of claim 1,
And an air curtain nozzle is further provided on an upper portion or a lower portion of the opening to prevent the abrasive powder from scattering.
제1항에 있어서,
연마가 완료된 상기 기판의 표면에 잔류하는 연마 파우더 또는 물방울을 제거하기 위하여 상기 기판이 진행하는 방향으로 상기 휠 하우징의 후측에는 에어나이프(air knife)가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 연마장치.






The method of claim 1,
And an air knife is further provided on the rear side of the wheel housing in a direction in which the substrate proceeds in order to remove the abrasive powder or water droplets remaining on the surface of the substrate after polishing is completed.






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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111687975B (en) * 2020-06-10 2021-01-05 南京史丹利装饰材料有限公司 Anticorrosion and mildew-proof treatment process for plate production and manufacturing
CN111941285A (en) * 2020-08-14 2020-11-17 蚌埠中光电科技有限公司 Glass limit grinds suction device of processing cooling water
CN112405354A (en) * 2020-11-09 2021-02-26 广东韶钢松山股份有限公司 Dust removing device of grinding machine
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4745746B2 (en) * 2005-07-22 2011-08-10 株式会社シライテック Polishing equipment
US7294045B1 (en) * 2005-12-21 2007-11-13 Corning Incorporated Apparatus and method for edge processing of a glass sheet
JP2008087135A (en) * 2006-10-04 2008-04-17 Nippon Electric Glass Co Ltd End surface grinding device of glass substrate and end surface grinding method
US20130130597A1 (en) * 2011-11-21 2013-05-23 James William Brown Glass treatment apparatus and methods of treating glass
JP6014443B2 (en) * 2012-09-27 2016-10-25 中村留精密工業株式会社 Plate edge grinding machine
CN204843733U (en) * 2015-05-18 2015-12-09 谢水玲 Grinding device is used to manual formula fitment
JP3210528U (en) * 2017-03-09 2017-05-25 株式会社シライテック Polishing equipment

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