JP2019171280A - 樹脂ガラス板及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
また、上記従来技術は、いずれも平面基板を対象としたもので、曲面形状を有する基板のメッシュマスクの適用と、耐擦傷性や耐熱性および耐候性の向上を目的としたメッシュマスク使用の最適な開口サイズや開口率やその効果についての開示はなされていない。
また、メッシュマスクの材質として、ポリウレタン繊維を含む樹脂製とすることにより伸縮性を付与し、曲面形状に追従することで、曲面樹脂ガラスの表面に均一な光化学改質を行うことを特徴とする。
樹脂ガラス板100は、樹脂基板1と、その上に形成されたプライマー層2と、その上を被覆したハードコート層3とから構成される。プライマー層2及びハードコート層3はそれぞれディップコーティング法により形成され、該ハードコート層3の表面側の一部に二酸化ケイ素からなる改質層(硬質薄膜)4が形成されている。図1Aは、樹脂ガラス板100の表面に波長172nmのエキシマランプ光5を直に照射するが、図1Bの樹脂ガラス板100は、正方形の金属製メッシュマスク6(図1C)により被覆した後に、波長172μmのエキシマランプ光5を照射する。これにより、図1Bの構成においては、エキシマランプ光5を縦横の行列に整列した多数の小領域からなるパターン状でハードコート層3に照射し、二酸化ケイ素からなる改質層4を形成する。メッシュマスク6は、レーザーを通さない縦横行列状の窓を構成する格子部7と、格子部7の窓にエキシマランプ光5を通す正方形状の透過部8が設けられている。
樹脂基板1は、樹脂であれば材質は問わないが、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ポリアリレート、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレート又はスチレン系重合体等の透明樹脂、あるいは各種オレフィン系樹脂の板が望ましい。
以降、本明細書において使用したエキシマランプは波長172nmのXe2エキシマランプである。
図9Bは、図7Aに対応しており、テーバー摩耗試験1000cycleにおけるΔヘイズ(ΔH1000)のメッシュマスクの開口率および照射エネルギーに対する依存性を示す。
以上の実験結果を基に、実施例について説明する。
図10に実施例1の構成を示す。厚さ3mmで平板状の透明ポリカーボネート基板10上にプライマー層11として熱硬化型のアクリル樹脂モメンティブSHP470−FT2050をディップコーティング法にて塗布した。塗布後に130℃30分の硬化を行い、次いで、ハードコート層12として熱硬化型シリコーン樹脂モメンティブAS4700Fをディップコーティング法にて塗布した。塗布後に120℃30分の硬化を行った。硬化後の各層の膜厚は、干渉式膜厚計によりプライマー層11が約3μm、ハードコート層12が約7μmと測定された。以上のプライマー層11およびハードコート層12を塗布した透明ポリカーボネート基板10を樹脂ガラス板101とした。次いで編み物のメッシュマスク13を、樹脂ガラス板101上のハードコート層12に接触して設置した。ここで使用する編み物のメッシュマスク13は、ポリウレタン繊維とナイロン繊維とを束ねて緯編(よこあみ)と呼ばれる方法で編み込んだもので伸縮性を有するものとした。1本当たりの繊維径は30μm程度(約10デニール)とした。メッシュマスク13を伸張して樹脂ガラス板101を被覆し、メッシュの格子部の幅を約60μm、開口長を700μm程度とした。編み物のメッシュマスク13の透過率は、86%である。
図12に実施例1における耐紫外線性試験の結果を示す。本試験は、1kWの高圧水銀灯の管面の直下50mmの位置に樹脂ガラス表面がくるように設置し、40時間連続で照射した後の、光学顕微鏡観察像を示したものである。エキシマランプの照射エネルギーは4500mJ/cm2とした。図12Aは実施例1の樹脂製メッシュマスクを使用した結果で、図12Bは比較のためにメッシュマスクを使用せずにエキシマランプを照射した場合である。樹脂製メッシュマスクを使用しない場合は、無数のクラックが生じているが、樹脂製メッシュマスクを使用することにより、クラックはほとんど生じていないことが明らかで、そのクラック抑制効果が非常に大きいことが示された。
図13に、実施例2の構成を示す。図13Aは本実施例における樹脂ガラス板の構成図であり、射出圧縮成形法により製作し、厚さ5mmの曲面形状を有する、大きさ1m×1.5mの透明ポリカーボネート基板20の凸状の表面全体に、実施例1と同様の光化学改質による二酸化ケイ素膜を形成するものである。
実施例1と同様の方法で、プライマー層21およびハードコート層22を形成し、これを樹脂ガラス板201とした。次いで、編み物のメッシュマスク23を伸張した状態でハードコート層22に接触して装着した。樹脂ガラス板201に装着する前のメッシュマスク23の格子線幅および開口長は実施例1と同一とした。図13Bに樹脂ガラス板とエキシマランプとの位置関係を示す。メッシュマスク23をハードコート層22に接触させる前に、樹脂ガラス板201に接触する側のメッシュマスク23の面にあらかじめ再剥離可能なスプレー式の粘着剤24を噴霧塗布し乾燥させた。これにより凸状の樹脂ガラス板201表面の曲率Rが比較的小さい場合でも樹脂製メッシュマスク23がずれることはなかった。この樹脂ガラス板201を搬送用アーム25に固定し、あらかじめ設定されたプログラムに従って可動させることにより、Xe2エキシマランプ26の管面から最短で5mm程度の距離を維持しながら樹脂ガラス板201の表面全体に照射した。Xe2エキシマランプ26は蛍光灯のような円筒状をなしており、曲面形状の樹脂ガラス板201に対して、最短距離d1を5mmとした場合には、その他の部位における距離d2は5mm以上となり、樹脂ガラス板201の曲率Rが小さいほど距離の開きが大きくなる。距離が近いほど、Xe2エキシマランプ26の光が減衰せずに樹脂ガラス板201表面に到達するため、照射エネルギーが大きくなり、逆に距離が大きいと照射エネルギーが小さく、この付近における搬送速度を低くしたとしても、部位や形状の違いによる照射エネルギーの分布が生じやすい。本実施例では、Xe2エキシマランプ26の管面に近い場合は、樹脂製メッシュマスク23の開口長を小さくした状態で樹脂ガラス板201表面に固定し、また、エキシマランプの管面より樹脂ガラス板201表面が離れている場所(距離d2)は、樹脂製メッシュマスク23の開口長を大きくして単位面積当たりの照射エネルギーを均一にすることができる。
以上、凸状の成形体表面の改質について説明したが、凹状の表面についても粘着剤24により、メッシュマスク23を成形体表面に固定することが可能である。
2 プライマー層
3 ハードコート層
4 改質層
5 エキシマランプ光
6 メッシュマスク
7 格子部
8 透過部
100 樹脂ガラス板
10 ポリカーボネート基板
11 プライマー層
12 ハードコート層
13 メッシュマスク
14 X−Y電動ステージ
15 Xe2エキシマランプ
16 窒素ガス
17 照射領域
18 照射領域
101 樹脂ガラス板
20 ポリカーボネート基板
21 プライマー層
22 ハードコート層
23 メッシュマスク
24 粘着剤
25 搬送用アーム
201 樹脂ガラス板
前記ハードコート層を湿式法によりシリコーンポリマーを用いて形成する工程と、
波長172nm以下のエキシマランプを光源とした紫外光源とハードコート層との間に編み物のメッシュマスクを引き伸ばして配置する工程と、
このハードコート層の表面に、前記紫外光源の真空紫外光線を照射して二酸化ケイ素膜に改質する工程とからなり、
上記メッシュマスクは、前記引き伸ばしたとき、ヘイズメータの測定値が80%以上100%未満の開口率であり、縦横1.4mm以下の開口とされていることを特徴とする。
前記ハードコート層を湿式法によりシリコーンポリマーを用いて形成する工程と、
波長172nm以下のエキシマランプを光源とした紫外光源とハードコート層との間に織物のメッシュマスクを設ける工程と、
このハードコート層の表面に、前記紫外光源の真空紫外光線を照射して二酸化ケイ素膜に改質する工程とからなり、上記メッシュマスクは開口長が50μm〜1.4mmで、かつ開口率が80%以上100%未満であることを特徴とする。
また、メッシュマスクの材質として、ポリウレタン繊維を含む樹脂製とすることにより伸縮性を付与し、曲面形状に追従することで、曲面樹脂ガラスの表面に均一な光化学改質を行うことを特徴とする。
隣合う前記二酸化ケイ素膜の領域の間は、当該隣合う両側の二酸化ケイ素膜の領域の端から始まり二酸化ケイ素からシリコーン樹脂に徐々に組成が変化する傾斜組成になっており、
かつ、前記各二酸化ケイ素膜の領域の縦横一辺が50μm〜1.4mmの範囲内であり、隣合う前記二酸化ケイ素膜の領域の間の幅は、前記二酸化ケイ素膜の領域の一辺が50μmのときに6μmであり、前記二酸化ケイ素膜の領域の一辺が1.4mmとのときに170μmとすることにより前記二酸化ケイ素膜の領域の割合が前記シリコーン樹脂層の表面の80%以上100%未満とされていることを特徴とする。
Claims (5)
- 樹脂基板をハードコート層により被覆した樹脂ガラス板の製造方法であって、
前記ハードコート層を湿式法によりシリコーンポリマーを用いて形成する工程と、
ハードコート層と上記紫外光源の間にメッシュマスクを設ける工程と、
このハードコート層の表面に、波長172nm以下のエキシマランプを光源とした真空紫外光線を照射して二酸化ケイ素膜に改質する工程とからなり、上記メッシュマスクは開口長が50μm〜1.4mmで、かつ開口率が80%以上であることを特徴とする樹脂ガラス板の製造方法。
- 前記メッシュマスクは伸縮性を有し、曲面形状の樹脂基板の表面に接触した状態で、上記紫外光線の照射を行うことを特徴とする請求項1に記載の樹脂ガラス板の製造方法。
- 前記メッシュマスクは、少なくともポリウレタン糸を含む樹脂繊維を編み込んだものであり、引き伸ばすことにより開口の長さおよび開口率が変化させられることを特徴とする請求項1に記載の樹脂ガラス板の製造方法。
- 前記メッシュマスクに再剥離可能な粘着剤を塗布し、その後前記メッシュマスクを前記樹脂ガラス板の表面に固定することを特徴とする請求項1の記載の樹脂ガラス板の製造方法。
- 請求項1の製造方法により作成された樹脂ガラス板。
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