JP2019167311A - 有機発光素子材料合成用原料および化合物 - Google Patents
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Abstract
【課題】有機発光素子材料として有用な化合物を容易に合成することができる有機発光素子材料合成用原料を提供すること。
【解決手段】一般式（１）で表される化合物。Ａｃは一般式（２）または一般式（３）で表される基；ＺはＮまたはＣ（Ｒ5）；Ｒ1〜Ｒ5は水素原子または置換基；Ｒ1とＲ4の少なくとも一方はアリール基、ヘテロアリール基またはエテニル基；Ｒ1〜Ｒ5の少なくとも１つはハロゲン原子；Ｘ1〜Ｘ4のうちの少なくとも１つはＮで、残りはＣ（Ｒ6）；Ｒ6は水素原子または置換基；Ｘ5およびＸ6はＮまたはＣ（Ｒ7）；Ｘ7はＯ、ＳまたはＮ（Ｒ8）；Ｒ7およびＲ8は水素原子または置換基；＊は結合位置を表す。
【選択図】なし
【解決手段】一般式（１）で表される化合物。Ａｃは一般式（２）または一般式（３）で表される基；ＺはＮまたはＣ（Ｒ5）；Ｒ1〜Ｒ5は水素原子または置換基；Ｒ1とＲ4の少なくとも一方はアリール基、ヘテロアリール基またはエテニル基；Ｒ1〜Ｒ5の少なくとも１つはハロゲン原子；Ｘ1〜Ｘ4のうちの少なくとも１つはＮで、残りはＣ（Ｒ6）；Ｒ6は水素原子または置換基；Ｘ5およびＸ6はＮまたはＣ（Ｒ7）；Ｘ7はＯ、ＳまたはＮ（Ｒ8）；Ｒ7およびＲ8は水素原子または置換基；＊は結合位置を表す。
【選択図】なし
Description
本発明は、有機発光素子材料を合成するための原料として有用な化合物に関する。
有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）などの有機発光素子には、発光材料や、発光分子への電荷輸送およびエネルギー輸送を担うホスト材料、電極からの電荷を発光層へ輸送する電荷輸送材料など、様々な材料（有機発光素子材料）が用いられており、有機発光素子のさらなる性能向上を目指して、これらの材料として有用な化合物を新たに開発する研究が活発に行われている（非特許文献１参照）。
ここで、こうした化合物の開発研究は、発光や電荷輸送などの、目的の機能を奏することが期待されるＨＯＭＯ／ＬＵＭＯ準位や励起エネルギー準位を予測し、それに適合する分子構造を、電子状態計算を用いて設計し、その設計した分子構造を有する化合物を実際に合成して評価することにより行われる。
ここで、こうした化合物の開発研究は、発光や電荷輸送などの、目的の機能を奏することが期待されるＨＯＭＯ／ＬＵＭＯ準位や励起エネルギー準位を予測し、それに適合する分子構造を、電子状態計算を用いて設計し、その設計した分子構造を有する化合物を実際に合成して評価することにより行われる。
時任静士、安達千波矢、村田英幸共著「有機ＥＬディスプレイ」（オーム社）
しかしながら、有機発光素子材料として有用であることが期待される化合物を分子設計できたとしても、その合成が困難であったり、合成は可能であっても合成ルートが長くて効率的な合成ができなかったりする問題があり、有機発光素子材料を得るために分子設計した化合物を合成することは容易でないのが実情である。
そこで本発明者らは、このような従来技術の課題を解決するために、有機発光素子材料として有用な化合物を容易に合成することができる有機発光素子材料合成用原料を提供することを目的として検討を進めた。
上記の課題を解決するために鋭意検討を行った結果、本発明者らは、環員として少なくとも２つの窒素原子を含有するか、環員として少なくとも１つの窒素原子と他のヘテロ原子（Ｏ、Ｓ）を含有するヘテロ芳香族基Ａｃで６員芳香環が置換されており、さらに、その６員芳香環のヘテロ芳香族基Ａｃに対するオルト位の少なくとも一方が、特定の二重結合含有基で置換され、その他の位置の少なくとも１つがハロゲン原子で置換された構造を有する化合物を原料に用いることにより、有機発光素子材料として有用な化合物を容易に合成できるとの知見を得るに至った。本発明は、こうした知見に基づいて提案されたものであり、具体的に以下の構成を有する。
［１］ 下記一般式（１）で表される化合物。
［一般式（１）において、Ａｃは下記一般式（２）または下記一般式（３）で表される基を表す。ＺはＮまたはＣ（Ｒ5）を表す。Ｒ1〜Ｒ5は、各々独立に水素原子または置換基を表す。ただし、Ｒ1とＲ4の少なくとも一方は、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロアリール基、または置換もしくは無置換のエテニル基（Ｒ9−ＣＨ＝ＣＨ−：Ｒ9は水素原子または置換基を表す）であり、Ｒ1〜Ｒ5の少なくとも１つはハロゲン原子である。］
［一般式（２）において、Ｘ1〜Ｘ4のうちの少なくとも１つはＮであり、残りはＣ（Ｒ6）を表す。Ｒ6は水素原子または置換基を表す。＊は一般式（１）におけるＺを含む６員環への結合位置を表す。
一般式（３）において、Ｘ5およびＸ6は、各々独立にＮまたはＣ（Ｒ7）を表し、Ｘ7はＯ、ＳまたはＮ（Ｒ8）を表す。Ｒ7およびＲ8は、各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｘ5およびＸ6の両方がＣ（Ｒ7）であるとき、Ｒ7同士は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。＊は一般式（１）におけるＺを含む６員環への結合位置を表す。]
［２］ 前記一般式（１）のＲ1とＲ4の少なくとも一方は、置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のヘテロアリール基である、［１］に記載の化合物。
［３］ 前記一般式（１）のＲ1〜Ｒ5の少なくとも１つは、フッ素原子または臭素原子である、［１］または［２］に記載の化合物。
［４］ 前記一般式（１）のＡｃが下記一般式（２ａ）、下記一般式（３ａ）または下記一般式（３ｂ）で表される基である、［１］に記載の化合物。
［一般式（２ａ）において、Ｘ2およびＸ4の少なくとも一方はＮであり、残りはＣ（Ｒ6）を表す。
Ｒ6、Ｒ61およびＲ62は、各々独立に水素原子または置換基を表す。＊は一般式（１）におけるＺを含む６員環への結合位置を表す。］
［一般式（３ａ）において、Ｘ7はＯ、ＳまたはＮ（Ｒ8）を表し、Ｒ8、Ｒ71およびＲ72は、各々独立に水素原子または置換基を表す。＊は一般式（１）におけるＺを含む６員環への結合位置を表す。
一般式（３ｂ）において、Ｘ7はＯ、ＳまたはＮ（Ｒ8）を表し、Ｒ8、Ｒ73〜Ｒ76は、各々独立に水素原子または置換基を表す。＊は一般式（１）におけるＺを含む６員環への結合位置を表す。］
［５］ 前記一般式（１）のＡｃが下記一般式（２ａ−１）〜（２ａ−３）のいずれかで表される基であるか、下記式（３ａ−１）および（３ｂ−１）のいずれかで表される基である、［１］に記載の化合物。
［一般式（２ａ−１）〜（２ａ−３）において、Ｒ61およびＲ62は、各々独立に水素原子または置換基を表す。＊は一般式（１）におけるＺを含む６員環への結合位置を表す。］
［式（３ａ−１）、（３ｂ−１）において、＊は一般式（１）におけるＺを含む６員環への結合位置を表す。］
［６］ 前記一般式（１）で表される化合物が、下記一般式（１−１）〜（１−２５）のいずれかで表される、［１］に記載の化合物。
［一般式（１−１）〜（１−２５）において、Ａｃは下記一般式（２）または下記一般式（３）で表される基を表す。Ｒ11およびＲ14は、各々独立に置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロアリール基、または置換もしくは無置換のエテニル基（Ｒ9−ＣＨ＝ＣＨ−：Ｒ9は水素原子または置換基を表す）を表す。］
［一般式（２）において、Ｘ1〜Ｘ4のうちの少なくとも１つはＮであり、残りはＣ（Ｒ6）を表す。Ｒ6は水素原子または置換基を表す。＊は一般式（１）におけるＺを含む６員環への結合位置を表す。
一般式（３）において、Ｘ5およびＸ6は、各々独立にＮまたはＣ（Ｒ7）を表し、Ｘ7はＯ、ＳまたはＮ（Ｒ8）を表す。Ｒ7およびＲ8は、各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｘ5およびＸ6の両方がＣ（Ｒ7）であるとき、Ｒ7同士は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。＊は一般式（１）におけるＺを含む６員環への結合位置を表す。]
［７］ ［１］〜［６］のいずれか1項に記載の化合物からなる有機発光素子材料合成用原料。
一般式（３）において、Ｘ5およびＸ6は、各々独立にＮまたはＣ（Ｒ7）を表し、Ｘ7はＯ、ＳまたはＮ（Ｒ8）を表す。Ｒ7およびＲ8は、各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｘ5およびＸ6の両方がＣ（Ｒ7）であるとき、Ｒ7同士は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。＊は一般式（１）におけるＺを含む６員環への結合位置を表す。]
［２］ 前記一般式（１）のＲ1とＲ4の少なくとも一方は、置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のヘテロアリール基である、［１］に記載の化合物。
［３］ 前記一般式（１）のＲ1〜Ｒ5の少なくとも１つは、フッ素原子または臭素原子である、［１］または［２］に記載の化合物。
［４］ 前記一般式（１）のＡｃが下記一般式（２ａ）、下記一般式（３ａ）または下記一般式（３ｂ）で表される基である、［１］に記載の化合物。
Ｒ6、Ｒ61およびＲ62は、各々独立に水素原子または置換基を表す。＊は一般式（１）におけるＺを含む６員環への結合位置を表す。］
一般式（３ｂ）において、Ｘ7はＯ、ＳまたはＮ（Ｒ8）を表し、Ｒ8、Ｒ73〜Ｒ76は、各々独立に水素原子または置換基を表す。＊は一般式（１）におけるＺを含む６員環への結合位置を表す。］
［５］ 前記一般式（１）のＡｃが下記一般式（２ａ−１）〜（２ａ−３）のいずれかで表される基であるか、下記式（３ａ−１）および（３ｂ−１）のいずれかで表される基である、［１］に記載の化合物。
［６］ 前記一般式（１）で表される化合物が、下記一般式（１−１）〜（１−２５）のいずれかで表される、［１］に記載の化合物。
一般式（３）において、Ｘ5およびＸ6は、各々独立にＮまたはＣ（Ｒ7）を表し、Ｘ7はＯ、ＳまたはＮ（Ｒ8）を表す。Ｒ7およびＲ8は、各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｘ5およびＸ6の両方がＣ（Ｒ7）であるとき、Ｒ7同士は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。＊は一般式（１）におけるＺを含む６員環への結合位置を表す。]
［７］ ［１］〜［６］のいずれか1項に記載の化合物からなる有機発光素子材料合成用原料。
本発明の化合物は有機発光素子材料合成用原料として有用である。本発明の有機発光素子材料合成用原料を用いることにより、有機発光素子材料として有用な化合物を容易に合成することができる。
以下において、本発明について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、代表的な実施形態や具体例に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施形態に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は「〜」前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。また、本発明に用いられる化合物の分子内に存在する水素原子の同位体種は特に限定されず、例えば分子内の水素原子がすべて1Ｈであってもよいし、一部または全部が2Ｈ（デューテリウムＤ）であってもよい。
＜一般式（１）で表される化合物＞
本発明の化合物は、下記一般式（１）で表される化合物である。
本発明の化合物は、下記一般式（１）で表される化合物である。
一般式（１）において、Ａｃは下記一般式（２）または下記一般式（３）で表される基を表す。
一般式（２）において、Ｘ1〜Ｘ4のうちの少なくとも１つはＮであり、残りはＣ（Ｒ6）を表す。
Ｒ6は水素原子または置換基を表す。＊は一般式（１）におけるＺを含む６員環への結合位置を表す。本発明の化合物は、Ｘ1〜Ｘ4のうちの少なくとも１つがＮであることにより、該化合物を有機発光素子材料合成用原料として使用したとき、最終目的化合物のＨＯＭＯ（Highest Occupied Molecular Orbital）やＬＵＭＯ（Lowest Unoccupied Molecular Orbital）などの電子状態を制御し易いという特徴を有する。そのため、本発明の化合物から、発光材料、ホスト材料、電荷輸送材料など、機能が異なる様々な材料を合成することが可能である。また、ＨＯＭＯとＬＵＭＯの制御により、分子内での電荷移動性を大きくすることもできるため、最終目的化合物において、高いＰＬ量子収率や熱活性型の遅延蛍光発光性を獲得し易いという効果がある。
Ｘ1〜Ｘ4の中でＮであるものは、１つであっても２〜４つであってもよい。Ｘ1〜Ｘ4の１つがＮであるとき、Ｘ1がＮであっても、Ｘ2がＮであっても、Ｘ3がＮであっても、Ｘ4がＮであってもよい。Ｘ1〜Ｘ4の２つ以上がＮであるときは、Ｘ2とＸ4、Ｘ1とＸ3、または、Ｘ1とＸ4がＮであることが好ましい。これらの中で特に好ましいのは、Ｘ2がＮであるか、Ｘ4がＮであるか、Ｘ2とＸ4の両方がＮである場合である。Ｘ1〜Ｘ4のうち、Ｎ以外のものはＣ（Ｒ6）である。Ｘ1〜Ｘ4の２つ以上がＣ（Ｒ6）であるとき、その複数のＲ6同士は互いに同一であっても異なっていてもよい。すなわち、その複数のＲ6は、全てが水素原子であっても、全てが置換基であってもよく、一部が置換基で残りが水素原子であってもよい。Ｒ6の２つ以上が置換基であるとき、その複数の置換基は互いに同一であっても異なっていてもよい。
以下に一般式（２）に包含される基の一般式を例示する。下記一般式において、Ｒa〜ＲcはＲ6と同義であり、互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ6は水素原子または置換基を表す。＊は一般式（１）におけるＺを含む６員環への結合位置を表す。本発明の化合物は、Ｘ1〜Ｘ4のうちの少なくとも１つがＮであることにより、該化合物を有機発光素子材料合成用原料として使用したとき、最終目的化合物のＨＯＭＯ（Highest Occupied Molecular Orbital）やＬＵＭＯ（Lowest Unoccupied Molecular Orbital）などの電子状態を制御し易いという特徴を有する。そのため、本発明の化合物から、発光材料、ホスト材料、電荷輸送材料など、機能が異なる様々な材料を合成することが可能である。また、ＨＯＭＯとＬＵＭＯの制御により、分子内での電荷移動性を大きくすることもできるため、最終目的化合物において、高いＰＬ量子収率や熱活性型の遅延蛍光発光性を獲得し易いという効果がある。
Ｘ1〜Ｘ4の中でＮであるものは、１つであっても２〜４つであってもよい。Ｘ1〜Ｘ4の１つがＮであるとき、Ｘ1がＮであっても、Ｘ2がＮであっても、Ｘ3がＮであっても、Ｘ4がＮであってもよい。Ｘ1〜Ｘ4の２つ以上がＮであるときは、Ｘ2とＸ4、Ｘ1とＸ3、または、Ｘ1とＸ4がＮであることが好ましい。これらの中で特に好ましいのは、Ｘ2がＮであるか、Ｘ4がＮであるか、Ｘ2とＸ4の両方がＮである場合である。Ｘ1〜Ｘ4のうち、Ｎ以外のものはＣ（Ｒ6）である。Ｘ1〜Ｘ4の２つ以上がＣ（Ｒ6）であるとき、その複数のＲ6同士は互いに同一であっても異なっていてもよい。すなわち、その複数のＲ6は、全てが水素原子であっても、全てが置換基であってもよく、一部が置換基で残りが水素原子であってもよい。Ｒ6の２つ以上が置換基であるとき、その複数の置換基は互いに同一であっても異なっていてもよい。
以下に一般式（２）に包含される基の一般式を例示する。下記一般式において、Ｒa〜ＲcはＲ6と同義であり、互いに同一であっても異なっていてもよい。
一般式（３）において、Ｘ5およびＸ6は、各々独立にＮまたはＣ（Ｒ7）を表し、Ｘ7はＯ、ＳまたはＮ（Ｒ8）を表す。Ｒ7およびＲ8は、各々独立に水素原子または置換基を表す。＊は一般式（１）におけるＺを含む６員環への結合位置を表す。
Ｘ5およびＸ6は、両方がＮであっても、両方がＣ（Ｒ7）であってもよく、いずれか一方がＮで他方がＣ（Ｒ7）であってもよい。Ｘ5およびＸ6の両方がＣ（Ｒ7）であるとき、その２つのＲ7同士は互いに同一であっても異なっていてもよい。すなわち、その２つのＲ7は、両方が水素原子であっても、両方が置換基であってもよく、一方が置換基で他方が水素原子であってもよい。２つのＲ7の両方が置換基であるとき、その２つの置換基は互いに同一であっても異なっていてもよい。また、２つのＲ7同士は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。
Ｘ7はＯ、ＳおよびＮ（Ｒ8）のいずれであってもよい。Ｘ7がＮ（Ｒ8）であるとき、Ｎ（Ｒ8）におけるＲ8と、Ｃ（Ｒ7）におけるＲ7は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｘ5およびＸ6は、両方がＮであっても、両方がＣ（Ｒ7）であってもよく、いずれか一方がＮで他方がＣ（Ｒ7）であってもよい。Ｘ5およびＸ6の両方がＣ（Ｒ7）であるとき、その２つのＲ7同士は互いに同一であっても異なっていてもよい。すなわち、その２つのＲ7は、両方が水素原子であっても、両方が置換基であってもよく、一方が置換基で他方が水素原子であってもよい。２つのＲ7の両方が置換基であるとき、その２つの置換基は互いに同一であっても異なっていてもよい。また、２つのＲ7同士は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。
Ｘ7はＯ、ＳおよびＮ（Ｒ8）のいずれであってもよい。Ｘ7がＮ（Ｒ8）であるとき、Ｎ（Ｒ8）におけるＲ8と、Ｃ（Ｒ7）におけるＲ7は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
一般式（２）のＲ6、一般式（３）のＲ7およびＲ8が表す置換基は特に限定されないが、好ましい例として、メチル基等のアルキル基、メトキシ基等のアルコキシ基、アルケニル基、フェニル基やナフチル基等のアリール基、シアノ基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基等のハロゲン化アルキル基、カルバゾリル基やフェニルカルバゾリル基等のヘテロアリール基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基等を挙げることができ、メチル基等のアルキル基、メトキシ基等のアルコキシ基、フェニル基やナフチル基等のアリール基、シアノ基、トリフルオロメチル基等のハロゲン化アルキル基、カルバゾリル基やフェニルカルバゾリル基であることがより好ましい。これらの具体例のうち、さらに置換基により置換可能なものは置換されていてもよい。
一般式（３）のＲ7同士が互いに結合して形成する環状構造は芳香環であっても脂環であってもよく、また環骨格構成原子としてヘテロ原子を含むものであってもよく、さらに環状構造は２環以上の縮合環であってもよい。ここでいうヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群より選択されるものであることが好ましい。形成される環状構造の例として、ベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環、イミダゾリン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾイミダゾール環、シクロヘキサジエン環、シクロヘキセン環、シクロペンタエン環、シクロヘプタトリエン環、シクロヘプタジエン環、シクロヘプタエン環などを挙げることができる。これらの環状構造は置換基で置換されていてもよい。置換基は特に限定されず、その好ましい範囲と具体例については、上記のＲ6等が表す置換基の好ましい例を参照することができる。
一般式（２）で表される基の好ましい例として、下記一般式（２ａ）で表される基を挙げることができる。
一般式（２ａ）において、Ｘ2およびＸ4の少なくとも一方はＮであり、残りはＣ（Ｒ6）を表す。
Ｒ6、Ｒ61およびＲ62は、各々独立に水素原子または置換基を表す。＊は一般式（１）におけるＺを含む６員環への結合位置を表す。
Ｘ2およびＸ4のうちでＮであるものは、Ｘ2およびＸ4の一方であってもよいし、Ｘ2およびＸ4の両方であってもよい。Ｘ2およびＸ4の一方がＮであるとき、他方はＣ（Ｒ6）である。
Ｒ61およびＲ62は、両方が水素原子であっても、両方が置換基であってもよく、一方が置換基で他方が水素原子であってもよい。Ｒ61およびＲ62の両方が置換基であるとき、それらの置換基は互いに同一であっても異なっていてもよい。また、Ｘ2およびＸ4の一方がＣ（Ｒ6）であるときは、Ｃ（Ｒ6）におけるＲ6と、Ｒ61およびＲ62は、互いに同一であっても異なっていてもよい。また、Ｒ6とＲ61、Ｒ6とＲ62は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。
Ｒ6、Ｒ61およびＲ62が表す置換基は特に限定されないが、その好ましい範囲と具体例については、上記のＲ6等が表す置換基の好ましい例を参照することができる。Ｒ6とＲ61、Ｒ6とＲ62が互いに結合して形成する環状構造の好ましい範囲と具体例については、上記のＲ7同士が互いに結合して形成する環状構造の好ましい範囲と具体例を参照することができる。
Ｒ6、Ｒ61およびＲ62は、各々独立に水素原子または置換基を表す。＊は一般式（１）におけるＺを含む６員環への結合位置を表す。
Ｘ2およびＸ4のうちでＮであるものは、Ｘ2およびＸ4の一方であってもよいし、Ｘ2およびＸ4の両方であってもよい。Ｘ2およびＸ4の一方がＮであるとき、他方はＣ（Ｒ6）である。
Ｒ61およびＲ62は、両方が水素原子であっても、両方が置換基であってもよく、一方が置換基で他方が水素原子であってもよい。Ｒ61およびＲ62の両方が置換基であるとき、それらの置換基は互いに同一であっても異なっていてもよい。また、Ｘ2およびＸ4の一方がＣ（Ｒ6）であるときは、Ｃ（Ｒ6）におけるＲ6と、Ｒ61およびＲ62は、互いに同一であっても異なっていてもよい。また、Ｒ6とＲ61、Ｒ6とＲ62は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。
Ｒ6、Ｒ61およびＲ62が表す置換基は特に限定されないが、その好ましい範囲と具体例については、上記のＲ6等が表す置換基の好ましい例を参照することができる。Ｒ6とＲ61、Ｒ6とＲ62が互いに結合して形成する環状構造の好ましい範囲と具体例については、上記のＲ7同士が互いに結合して形成する環状構造の好ましい範囲と具体例を参照することができる。
さらに、一般式（２ａ）で表される基のより好ましい例として、下記一般式（２ａ−１）〜（２ａ−３）のいずれかで表される基を挙げることができる。Ｒ61およびＲ62は一般式（２ａ）におけるＲ61およびＲ62と同義であり、互いに同一であっても異なっていてもよい。＊は一般式（１）におけるＺを含む６員環への結合位置を表す。
一般式（３）で表される基の好ましい例としては、下記一般式（３ａ）または下記一般式（３ｂ）で表される基を挙げることができる。
一般式（３ａ）において、Ｘ7はＯ、ＳまたはＮ（Ｒ8）を表し、Ｒ8、Ｒ71およびＲ72は、各々独立に水素原子または置換基を表す。＊は一般式（１）におけるＺを含む６員環への結合位置を表す。
Ｒ71およびＲ72は、両方が水素原子であっても、両方が置換基であってもよく、一方が置換基で他方が水素原子であってもよい。Ｒ71およびＲ72の両方が置換基であるとき、それらの置換基は互いに同一であっても異なっていてもよい。また、Ｘ7がＮ（Ｒ8）であるとき、Ｎ（Ｒ8）におけるＲ8と、Ｒ71およびＲ72は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
一般式（３ｂ）において、Ｘ7はＯ、ＳまたはＮ（Ｒ8）を表し、Ｒ8、Ｒ73〜Ｒ76は、各々独立に水素原子または置換基を表す。＊は一般式（１）におけるＺを含む６員環への結合位置を表す。
Ｒ73〜Ｒ76は、全てが水素原子であっても、全てが置換基であってもよく、一部が置換基で残りが水素原子であってもよい。Ｒ73〜Ｒ76の２つ以上が置換基であるとき、それらの置換基は互いに同一であっても異なっていてもよい。また、Ｒ73とＲ74、Ｒ74とＲ75、Ｒ75とＲ76は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。Ｘ7がＮ（Ｒ8）であるとき、Ｎ（Ｒ8）におけるＲ8と、Ｒ73〜Ｒ76は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ8、Ｒ71〜Ｒ76が表す置換基は特に限定されない。その好ましい範囲と具体例については、上記のＲ6等が表す置換基の好ましい例を参照することができる。Ｒ73とＲ74、Ｒ74とＲ75、Ｒ75とＲ76が互いに結合して形成する環状構造の好ましい範囲と具体例については、上記のＲ7同士が互いに結合して形成する環状構造の好ましい範囲と具体例を参照することができる。
Ｒ71およびＲ72は、両方が水素原子であっても、両方が置換基であってもよく、一方が置換基で他方が水素原子であってもよい。Ｒ71およびＲ72の両方が置換基であるとき、それらの置換基は互いに同一であっても異なっていてもよい。また、Ｘ7がＮ（Ｒ8）であるとき、Ｎ（Ｒ8）におけるＲ8と、Ｒ71およびＲ72は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
一般式（３ｂ）において、Ｘ7はＯ、ＳまたはＮ（Ｒ8）を表し、Ｒ8、Ｒ73〜Ｒ76は、各々独立に水素原子または置換基を表す。＊は一般式（１）におけるＺを含む６員環への結合位置を表す。
Ｒ73〜Ｒ76は、全てが水素原子であっても、全てが置換基であってもよく、一部が置換基で残りが水素原子であってもよい。Ｒ73〜Ｒ76の２つ以上が置換基であるとき、それらの置換基は互いに同一であっても異なっていてもよい。また、Ｒ73とＲ74、Ｒ74とＲ75、Ｒ75とＲ76は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。Ｘ7がＮ（Ｒ8）であるとき、Ｎ（Ｒ8）におけるＲ8と、Ｒ73〜Ｒ76は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ8、Ｒ71〜Ｒ76が表す置換基は特に限定されない。その好ましい範囲と具体例については、上記のＲ6等が表す置換基の好ましい例を参照することができる。Ｒ73とＲ74、Ｒ74とＲ75、Ｒ75とＲ76が互いに結合して形成する環状構造の好ましい範囲と具体例については、上記のＲ7同士が互いに結合して形成する環状構造の好ましい範囲と具体例を参照することができる。
一般式（３ａ）で表される基の好ましい具体例として、下記式（３ａ−１）で表される基を挙げることができ、一般式（３ｂ）で表される基の好ましい具体例として、下記式（３ｂ−１）で表される基を挙げることができる。下記式（３ａ−１）、（３ｂ−１）において、＊は一般式（１）におけるＺを含む６員環への結合位置を表す。
一般式（１）において、ＺはＮまたはＣ（Ｒ5）を表す。Ｒ1〜Ｒ5は、各々独立に水素原子または置換基を表す。ただし、Ｒ1とＲ4の少なくとも一方は、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロアリール基、または置換もしくは無置換のエテニル基（Ｒ9−ＣＨ＝ＣＨ−：Ｒ9は水素原子または置換基を表す）であり、Ｒ1〜Ｒ5の少なくとも１つはハロゲン原子である。以下の説明では、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロアリール基、または置換もしくは無置換のエテニル基（Ｒ9−ＣＨ＝ＣＨ−）を総称して「二重結合含有基」という。
Ｒ1およびＲ4のうちで上記の二重結合含有基であるものは、Ｒ1およびＲ4のいずれか一方であってもよいし、Ｒ1およびＲ4の両方であってもよい。Ｒ1およびＲ4の両方が二重結合含有基であるとき、それらの二重結合含有基は互いに同一であっても異なっていてもよい。また、Ｒ1およびＲ4のいずれか一方が上記の二重結合含有基であるとき、他方は置換基（上記の二重結合含有基以外の置換基）であっても水素原子であってもよいが、置換基である場合には、ハロゲン原子であることが好ましい。
Ｒ1およびＲ4のうちで上記の二重結合含有基であるものは、Ｒ1およびＲ4のいずれか一方であってもよいし、Ｒ1およびＲ4の両方であってもよい。Ｒ1およびＲ4の両方が二重結合含有基であるとき、それらの二重結合含有基は互いに同一であっても異なっていてもよい。また、Ｒ1およびＲ4のいずれか一方が上記の二重結合含有基であるとき、他方は置換基（上記の二重結合含有基以外の置換基）であっても水素原子であってもよいが、置換基である場合には、ハロゲン原子であることが好ましい。
Ｒ1とＲ4の少なくとも一方において、そのアリール基を構成する芳香環は、単環であっても、２以上の芳香環が縮合した縮合環であっても、２以上の芳香環が連結した連結環であってもよい。２以上の芳香環が連結している場合は、直鎖状に連結したものであってもよいし、分枝状に連結したものであってもよい。芳香環の炭素数は、６〜２２であることが好ましく、６〜１８であることがより好ましく、６〜１４であることがさらに好ましく、６〜１０であることがさらにより好ましい。アリール基の具体例として、フェニル基、ナフタレンイル基、ビフェニルイル基等を挙げることができる。アリール基は無置換であっても置換基で置換されていてもよい。置換アリール基における置換基は特に限定されず、その好ましい範囲と具体例については、上記のＲ6等が表す置換基の好ましい例を参照することができる。中でも、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、シアノ基、ハロゲン化アルキル基が好ましい。また、ジメチルアミノ基等の置換アミノ基や、１０Ｈ−フェノキサジン−１０−イル基、１０Ｈ−フェノチアジン−１０−イル基、１０位がメチル基等の置換基で置換された５，１０−ジヒドロフェナジン−５−イル基のようなヘテロアリール基も、アリール基の置換基として好ましく用いることができる。これらのヘテロアリール基は置換基で置換されていてもよい。
Ｒ1とＲ4の少なくとも一方において、そのヘテロアリール基を構成するヘテロ芳香環は、単環であっても、１以上のヘテロ環と１以上の芳香環またはヘテロ環が縮合した縮合環であっても、１以上のヘテロ環と１以上の芳香環またはヘテロ環が連結した連結環であってもよい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ芳香環の炭素数は３〜４０であることが好ましく、５〜２２であることがより好ましく、５〜１８であることがさらに好ましく、５〜１４であることがさらにより好ましく、５〜１０であることが特に好ましい。ヘテロ環を構成する複素原子は窒素原子、酸素原子、硫黄原子であることが好ましい。ヘテロ環の具体例として、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアゾール環、ベンゾトリアゾール環、カルバゾール環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、フェノキサジン環、フェノチアジン環、５，１０−ジヒドロフェナジン環を挙げることができる。ヘテロアリール基は無置換であっても置換基で置換されていてもよい。置換ヘテロアリール基における置換基は特に限定されず、その好ましい範囲と具体例については、上記のＲ6等が表す置換基の好ましい例を参照することができる。
Ｒ1とＲ4の少なくとも一方において、そのエテニル基（Ｒ9−ＣＨ＝ＣＨ−）のＲ9は、水素原子であっても置換基であってもよい。Ｒ9が表す置換基は特に限定されず、その好ましい範囲と具体例については、上記のＲ6等が表す置換基の好ましい例を参照することができる。
Ｒ1とＲ4の少なくとも一方において、そのヘテロアリール基を構成するヘテロ芳香環は、単環であっても、１以上のヘテロ環と１以上の芳香環またはヘテロ環が縮合した縮合環であっても、１以上のヘテロ環と１以上の芳香環またはヘテロ環が連結した連結環であってもよい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ芳香環の炭素数は３〜４０であることが好ましく、５〜２２であることがより好ましく、５〜１８であることがさらに好ましく、５〜１４であることがさらにより好ましく、５〜１０であることが特に好ましい。ヘテロ環を構成する複素原子は窒素原子、酸素原子、硫黄原子であることが好ましい。ヘテロ環の具体例として、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアゾール環、ベンゾトリアゾール環、カルバゾール環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、フェノキサジン環、フェノチアジン環、５，１０−ジヒドロフェナジン環を挙げることができる。ヘテロアリール基は無置換であっても置換基で置換されていてもよい。置換ヘテロアリール基における置換基は特に限定されず、その好ましい範囲と具体例については、上記のＲ6等が表す置換基の好ましい例を参照することができる。
Ｒ1とＲ4の少なくとも一方において、そのエテニル基（Ｒ9−ＣＨ＝ＣＨ−）のＲ9は、水素原子であっても置換基であってもよい。Ｒ9が表す置換基は特に限定されず、その好ましい範囲と具体例については、上記のＲ6等が表す置換基の好ましい例を参照することができる。
以下において、Ｒ1とＲ4の少なくとも一方が表す二重結合含有基の具体例を例示する。下記式において、Ｐｈはフェニル基を表し、Ｍｅはメチル基を表し、＊は一般式（１）におけるＺを含む６員環への結合位置を表す。Ｚ1は、Ｏ、Ｓ、Ｎ（Ｒ10）を表し、Ｒ10は水素原子または置換基を表す。置換基は特に限定されず、その好ましい範囲と具体例については、上記のＲ6等が表す置換基の好ましい例を参照することができる。下記の二重結合含有基のうち、カルバゾリル基で置換されたフェニル基およびＺ1を含むヘテロアリール基で置換されたフェニル基における、Ｚを含む６員環への結合位置（＊）は、カルバゾリル基またはＺ1を含むヘテロアリール基の置換位置に対するオルト位、メタ位、パラ位のいずれであってもよいが、パラ位またはメタ位であること好ましい。Ｚ2の結合位置は、カルバゾール環を構成するベンゼン環の置換可能な位置であれば特に限定されないが、３位および６位であることが好ましい。カルバゾリル基、ジベンゾフラニル基、ジベンゾチオフェニル基におけるＺを含む６員環への結合位置（＊）は、そのベンゼン環の置換可能な位置であればよく、特に限定されない。
また、一般式（１）において、Ｒ1〜Ｒ5の少なくとも１つはハロゲン原子である。具体的には、ＺがＣ（Ｒ5）である場合には、Ｒ1〜Ｒ5のうち、二重結合含有基であるＲ1およびＲ4の少なくとも一方を除いた残りの少なくとも１つがハロゲン原子であり、ＺがＮである場合には、Ｒ1〜Ｒ4のうち、二重結合含有基であるＲ1およびＲ4の少なくとも一方を除いた残りの少なくとも１つがハロゲン原子である。一般式（１）で表される化合物は、Ｒ1〜Ｒ5の少なくとも１つがハロゲン原子であることにより、アリール基などの二重結合含有基をＲ1やＲ4に導入しやすく、熱活性型置換蛍光体としての分子骨格を容易に形成することができる。また、その後の反応により、ハロゲン原子を電子供与性基に置換することができるため、最終目的化合物の励起三重項エネルギー準位Ｔ1を制御し易いという効果もある。
Ｒ1〜Ｒ5の中でハロゲン原子であるものは、１つであっても２つ以上であってもよい。Ｒ1〜Ｒ5の１つがハロゲン原子であるとき、Ｒ1がハロゲン原子であっても、Ｒ2がハロゲン原子であっても、Ｒ5がハロゲン原子であってもよい。Ｒ1〜Ｒ5の２つ以上がハロゲン原子であるときは、Ｒ1とＲ2とＲ3とＲ5、Ｒ1とＲ2とＲ3、Ｒ1とＲ3とＲ5、Ｒ2とＲ3とＲ5、Ｒ1とＲ3、Ｒ1とＲ5、Ｒ2とＲ3、またはＲ2とＲ5がハロゲン原子であることが好ましい。Ｒ1〜Ｒ5の２つ以上がハロゲン原子であるとき、その複数のハロゲン原子は互いに同じであっても異なっていてもよい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を挙げることができる。Ｒ1〜Ｒ5の少なくとも１つが表すハロゲン原子はいずれのものであってもよいが、フッ素原子または臭素原子であることが好ましく、フッ素原子であることがより好ましい。
Ｒ1〜Ｒ5の中でハロゲン原子であるものは、１つであっても２つ以上であってもよい。Ｒ1〜Ｒ5の１つがハロゲン原子であるとき、Ｒ1がハロゲン原子であっても、Ｒ2がハロゲン原子であっても、Ｒ5がハロゲン原子であってもよい。Ｒ1〜Ｒ5の２つ以上がハロゲン原子であるときは、Ｒ1とＲ2とＲ3とＲ5、Ｒ1とＲ2とＲ3、Ｒ1とＲ3とＲ5、Ｒ2とＲ3とＲ5、Ｒ1とＲ3、Ｒ1とＲ5、Ｒ2とＲ3、またはＲ2とＲ5がハロゲン原子であることが好ましい。Ｒ1〜Ｒ5の２つ以上がハロゲン原子であるとき、その複数のハロゲン原子は互いに同じであっても異なっていてもよい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を挙げることができる。Ｒ1〜Ｒ5の少なくとも１つが表すハロゲン原子はいずれのものであってもよいが、フッ素原子または臭素原子であることが好ましく、フッ素原子であることがより好ましい。
Ｒ1〜Ｒ5のうち、二重結合含有基であるＲ1とＲ4の少なくとも一方とハロゲン原子であるものを除いた残りのものは、水素原子であっても置換基であってもよく、その置換基の種類は、特に限定されない。また、残りのＲ1〜Ｒ5は、互いに同一であっても異なっていてもよい。残りのＲ1〜Ｒ5として好ましいものは、水素原子、重水素、シアノ基、フェニル基やナフチル基等のアリール基、メチル基等のアルキル基、メトキシ基等のアルコキシ基である。これらの具体例のうち、さらに置換基により置換可能なものは置換されていてもよい。また、残りのＲ1〜Ｒ5の中で、互いに隣り合うものがあるときは、それらのもの同士が互いに結合して環状構造を形成していてもよい。残りのＲ1〜Ｒ5同士が互いに結合して形成する環状構造の好ましい範囲と具体例については、上記のＲ7同士が互いに結合して形成する環状構造の好ましい範囲と具体例を参照することができる。
一般式（１）で表される化合物は、下記一般式（１−１）〜（１−２５）のいずれかで表される化合物であることが好ましい。下記式において、Ａｃは一般式（１）におけるＡｃと同義であり、その説明と好ましい範囲、具体例については、一般式（１）における対応する記載を参照することができる。Ｒ11およびＲ14は、各々独立に置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロアリール基、または置換もしくは無置換のエテニル基（Ｒ9−ＣＨ＝ＣＨ−）を表す。これらの説明と好ましい範囲、具体例については、一般式（１）のＲ1とＲ4の少なくとも一方が表す、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロアリール基、または置換もしくは無置換のエテニル基（Ｒ9−ＣＨ＝ＣＨ−）についての説明と好ましい範囲、具体例を参照することができる。
以下の表１〜２５において、一般式（１）で表される化合物の例として、一般式（１−１）〜（１−２５）で表される化合物の具体例を例示する。ただし、本発明において一般式（１）で表される化合物は、これらの具体例によって限定的に解釈されるべきものではない。表１〜２５において、上段の横に並べた各欄（横列欄）のヘテロ芳香族基は、それぞれ一般式（１−１）〜（１−２５）のＡｃに対応し、左側の縦に並べた各欄（縦列欄）のアリール基およびヘテロアリール基は、それぞれ一般式（１−１）〜（１−２５）のＲ11、または、Ｒ11とＲ14に対応する。各表では、各横列欄から下方に延在させた欄と、各縦列欄から右側に延在させた欄が交差した位置にそれぞれ化合物番号を示している。ここでは、各番号の化合物が、対応する横列欄のヘテロ芳香族基をＡｃとして有し、対応する縦列欄のアリール基またはヘテロアリール基をＲ11、Ｒ14として有することを意味することとする。また、Ｐｈはフェニル基を表し、Ｍｅはメチル基を表し、＊は一般式（１−１）〜（１−２５）における６員環への結合位置を表す。
まず、一般式（１−１）で表される化合物として、ＡｃおよびＲ1が表１に示す基である化合物１〜３９６を挙げることができる。
まず、一般式（１−１）で表される化合物として、ＡｃおよびＲ1が表１に示す基である化合物１〜３９６を挙げることができる。
一般式（１−２）で表される化合物として、Ａｃ、Ｒ1およびＲ4が表２に示す基である化合物３９７〜７９２を挙げることができる。
一般式（１−３）で表される化合物として、ＡｃおよびＲ1が表３に示す基である化合物７９３〜１１８８を挙げることができる。
一般式（１−４）で表される化合物として、ＡｃおよびＲ1が表４に示す基である化合物１１８９〜１５８４を挙げることができる。
一般式（１−５）で表される化合物として、ＡｃおよびＲ1が表５に示す基である化合物１５８５〜１９８０を挙げることができる。
一般式（１−６）で表される化合物として、Ａｃ、Ｒ1およびＲ4が表６に示す基である化合物１９８１〜２３７６を挙げることができる。
一般式（１−７）で表される化合物として、Ａｃ、Ｒ1およびＲ4が表７に示す基である化合物２３７７〜２７７２を挙げることができる。
一般式（１−８）で表される化合物として、ＡｃおよびＲ1が表８に示す基である化合物２７７３〜３１６８を挙げることができる。
一般式（１−９）で表される化合物として、ＡｃおよびＲ1が表９に示す基である化合物３１６９〜３５６４を挙げることができる。
一般式（１−１０）で表される化合物として、Ａｃ、Ｒ1およびＲ4が表１０に示す基である化合物３５６５〜３９６０を挙げることができる。
一般式（１−１１）で表される化合物として、Ａｃ、Ｒ1およびＲ4が表１１に示す基である化合物３９６１〜４３５６を挙げることができる。
一般式（１−１２）で表される化合物として、Ａｃ、Ｒ1およびＲ4が表１２に示す基である化合物４３５７〜４７５２を挙げることができる。
一般式（１−１３）で表される化合物として、ＡｃおよびＲ1が表１３に示す基である化合物４７５３〜５１４８を挙げることができる。
一般式（１−１４）で表される化合物として、ＡｃおよびＲ1が表１４に示す基である化合物５１４９〜５５４４を挙げることができる。
一般式（１−１５）で表される化合物として、Ａｃ、Ｒ1およびＲ4が表１５に示す基である化合物５５４５〜５９４０を挙げることができる。
一般式（１−１６）で表される化合物として、ＡｃおよびＲ1が表１６に示す基である化合物５９４１〜６３３６を挙げることができる。
一般式（１−１７）で表される化合物として、ＡｃおよびＲ1が表１７に示す基である化合物６３３７〜６７３２を挙げることができる。
一般式（１−１８）で表される化合物として、Ａｃ、Ｒ1およびＲ4が表１８に示す基である化合物６７３３〜７１２８を挙げることができる。
一般式（１−１９）で表される化合物として、ＡｃおよびＲ1が表１９に示す基である化合物７１２９〜７５２４を挙げることができる。
一般式（１−２０）で表される化合物として、ＡｃおよびＲ1が表２０に示す基である化合物７５２５〜７９２０を挙げることができる。
一般式（１−２１）で表される化合物として、ＡｃおよびＲ1が表２１に示す基である化合物７９２１〜８３１６を挙げることができる。
一般式（１−２２）で表される化合物として、ＡｃおよびＲ1が表２２に示す基である化合物８３１７〜８７１２を挙げることができる。
一般式（１−２３）で表される化合物として、Ａｃ、Ｒ1およびＲ4が表２３に示す基である化合物８７１３〜９１０８を挙げることができる。
一般式（１−２４）で表される化合物として、Ａｃ、Ｒ1およびＲ4が表２４に示す基である化合物９１０９〜９５０４を挙げることができる。
一般式（１−２５）で表される化合物として、Ａｃ、Ｒ1およびＲ4が表２５に示す基である化合物９５０５〜９９００を挙げることができる。
［一般式（１）で表される化合物の合成方法］
一般式（１）で表される化合物は新規化合物である。
一般式（１）で表される化合物は、一般式（１）のＲ1〜Ｒ5のうち、二重結合含有基（置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロアリール基、または置換もしくは無置換のエテニル基（Ｒ9−ＣＨ＝ＣＨ−））を導入すべきＲ1とＲ4の少なくとも一方に対応する位置がハロゲン原子になっており、さらに他のＲ1〜Ｒ5の少なくとも１つに対応する位置がハロゲン原子である前駆体と、二重結合含有基を有する化合物とのカップリング反応により合成することができる。例えば、一般式（１）のＺがＣ（Ｒ5）、Ｒ1が二重結合含有基、Ｒ2〜Ｒ5がハロゲン原子である化合物（一般式（１−１）で表される化合物）は、下記一般式（１１）で表される前駆体と、下記一般式（１２）で表されるボロン酸を、パラジウム触媒の存在下で反応させることによって合成することができる。
一般式（１）で表される化合物は新規化合物である。
一般式（１）で表される化合物は、一般式（１）のＲ1〜Ｒ5のうち、二重結合含有基（置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロアリール基、または置換もしくは無置換のエテニル基（Ｒ9−ＣＨ＝ＣＨ−））を導入すべきＲ1とＲ4の少なくとも一方に対応する位置がハロゲン原子になっており、さらに他のＲ1〜Ｒ5の少なくとも１つに対応する位置がハロゲン原子である前駆体と、二重結合含有基を有する化合物とのカップリング反応により合成することができる。例えば、一般式（１）のＺがＣ（Ｒ5）、Ｒ1が二重結合含有基、Ｒ2〜Ｒ5がハロゲン原子である化合物（一般式（１−１）で表される化合物）は、下記一般式（１１）で表される前駆体と、下記一般式（１２）で表されるボロン酸を、パラジウム触媒の存在下で反応させることによって合成することができる。
上記の反応式におけるＡｃの説明については、一般式（２）および一般式（３）についての説明を参照することができる。Ｘはハロゲン原子を表し、４つのＸは、同じハロゲン原子であっても異なるハロゲン原子であってもよい。ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を挙げることができ、フッ素原子、臭素原子であることが好ましく、フッ素原子であることがより好ましい。上記の反応は、塩基の存在下で行うことが好ましい。また、一般式（１）のＲ1とＲ4の両方が二重結合含有基である化合物は、ボロン酸やパラジウム触媒の前駆体に対する当量数をより多くすることや、反応時間をより長くすることで合成することができる。すなわち、二重結合含有基が導入されるのが、Ｒ1とＲ4の一方であるか、両方であるかは、ボロン酸やパラジウム触媒の前駆体に対する当量数や反応時間の調整により制御することができる。なお、一般式（１１）で表される前駆体は、一般式（１１）で表される化合物のＡｃを水素原子で置き換えた化合物と、Ａｃ−Ｘ（Ｘはハロゲン原子または脱離基を表す）とのカップリング反応により合成することができる。
上記の反応の詳細については、後述の実施例を参考にすることができる。
上記の反応の詳細については、後述の実施例を参考にすることができる。
［有機発光素子材料合成用原料としての使用］
一般式（１）で表される化合物は、環員として少なくとも２つの窒素原子を含有するか、環員として少なくとも１つの窒素原子と他のヘテロ原子（Ｏ、Ｓ）を含有するヘテロ芳香族基Ａｃで６員芳香環が置換されており、さらに、その６員芳香環のヘテロ芳香族基Ａｃに対するオルト位の少なくとも一方が、特定の二重結合含有基で置換され、その他の位置の少なくとも１つがハロゲン原子で置換された構造を有することにより、その６員環における窒素原子の有無、ヘテロ芳香族基Ａｃを構成する窒素原子の数、二重結合含有基の置換数や種類、フッ素原子の置換数等の分子構造を制御することで、その電子状態を多様に変化させることができる。そのため、この一般式（１）で表される化合物を原料として用いることにより、有機発光素子材料を得るために設定したＨＯＭＯ／ＬＵＭＯ準位や励起エネルギー準位を有する化合物を容易に得ることができる。よって、一般式（１）で表される化合物は、有機発光素子材料合成用原料として有用であり、特に、発光材料、ホスト材料、電荷輸送材料を合成するための原料として効果的に用いることができる。
一般式（１）で表される化合物は、環員として少なくとも２つの窒素原子を含有するか、環員として少なくとも１つの窒素原子と他のヘテロ原子（Ｏ、Ｓ）を含有するヘテロ芳香族基Ａｃで６員芳香環が置換されており、さらに、その６員芳香環のヘテロ芳香族基Ａｃに対するオルト位の少なくとも一方が、特定の二重結合含有基で置換され、その他の位置の少なくとも１つがハロゲン原子で置換された構造を有することにより、その６員環における窒素原子の有無、ヘテロ芳香族基Ａｃを構成する窒素原子の数、二重結合含有基の置換数や種類、フッ素原子の置換数等の分子構造を制御することで、その電子状態を多様に変化させることができる。そのため、この一般式（１）で表される化合物を原料として用いることにより、有機発光素子材料を得るために設定したＨＯＭＯ／ＬＵＭＯ準位や励起エネルギー準位を有する化合物を容易に得ることができる。よって、一般式（１）で表される化合物は、有機発光素子材料合成用原料として有用であり、特に、発光材料、ホスト材料、電荷輸送材料を合成するための原料として効果的に用いることができる。
以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
以下の実施例１では、一般式（１）で表される化合物のうち、化合物３、３９９を合成し、実施例２では、一般式（１）で表される化合物のうち、化合物６、１０５、３４７、５０１、５２３を合成した。
（実施例１） 化合物３および化合物３９９の合成
本実施例では、下記の反応式に示すように、前駆体１から化合物３、３９９を合成した。
本実施例では、下記の反応式に示すように、前駆体１から化合物３、３９９を合成した。
［化合物３の合成］
窒素気流下、前駆体１（１．０ｇ、２．５１ｍｍｏｌ）、フェニルボロン酸（０．６５ｇ、５．０２ｍｍｏｌ）、フッ化カリウム（０．２９２ｇ、５．０２ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（１５ｍL）にテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（０．２９ｇ、０．２５１ｍｍｏｌ）を加え、１１０℃で１２時間攪拌した。この反応混合物を室温に戻し、水を加えて反応を停止させた後、酢酸エチルによる抽出を行った。得られた有機層を飽和食塩水により洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥させ、減圧濃縮して濃縮物を得た。この濃縮物を、トルエン：ヘキサン＝１：２の混合溶媒を展開液に用いてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物３の白色固体を収量０．７６ｇ（１．６６ｍｍｏｌ）、収率６６．５％で得た。
1Ｈ ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，δ）：７．８８（ｓ，１Ｈ）、７．８７−７．８５（ｍ，４Ｈ）、７．５２−７．４５（ｍ，６Ｈ）、７．２９−７．２０（ｍ，５Ｈ）
ＡＳＡＰマススペクトル分析：理論値４５６．１、観測値４５６．１
窒素気流下、前駆体１（１．０ｇ、２．５１ｍｍｏｌ）、フェニルボロン酸（０．６５ｇ、５．０２ｍｍｏｌ）、フッ化カリウム（０．２９２ｇ、５．０２ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（１５ｍL）にテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（０．２９ｇ、０．２５１ｍｍｏｌ）を加え、１１０℃で１２時間攪拌した。この反応混合物を室温に戻し、水を加えて反応を停止させた後、酢酸エチルによる抽出を行った。得られた有機層を飽和食塩水により洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥させ、減圧濃縮して濃縮物を得た。この濃縮物を、トルエン：ヘキサン＝１：２の混合溶媒を展開液に用いてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物３の白色固体を収量０．７６ｇ（１．６６ｍｍｏｌ）、収率６６．５％で得た。
1Ｈ ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，δ）：７．８８（ｓ，１Ｈ）、７．８７−７．８５（ｍ，４Ｈ）、７．５２−７．４５（ｍ，６Ｈ）、７．２９−７．２０（ｍ，５Ｈ）
ＡＳＡＰマススペクトル分析：理論値４５６．１、観測値４５６．１
［化合物３９９の合成］
窒素気流下、前駆体１（０．３ｇ、０．７５３ｍｍｏｌ）、フェニルボロン酸（０．５９８ｇ、４．９０ｍｍｏｌ）、フッ化カリウム（０．３２８ｇ、５．６４ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（１５ｍL）にテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（０．４６７ｇ、０．４０４ｍｍｏｌ）を加え、１５０℃で２０時間攪拌した。この反応混合物を室温に戻し、水を加えて反応を停止させた後、酢酸エチルによる抽出を行った。得られた有機層を飽和食塩水により洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥させ、減圧濃縮して濃縮物を得た。この濃縮物を、トルエン：ヘキサン＝１：１の混合溶媒を展開液に用いてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物３９９の白色固体を収量０．０８７ｇ（０．１６９ｍｍｏｌ）、収率２２．４％で得た。
1Ｈ ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，δ）：７．８８（ｓ，１Ｈ）、７．８７−７．８５（ｍ，４Ｈ）、７．５０−７．４５（ｍ，６Ｈ）、７．３７−７．３４（ｍ，２Ｈ）、７．２７−７．２４（ｍ，６Ｈ）、７．１４−７．０９（ｍ，２Ｈ）
ＡＳＡＰマススペクトル分析：理論値５１４．２、観測値５１４．２
窒素気流下、前駆体１（０．３ｇ、０．７５３ｍｍｏｌ）、フェニルボロン酸（０．５９８ｇ、４．９０ｍｍｏｌ）、フッ化カリウム（０．３２８ｇ、５．６４ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（１５ｍL）にテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（０．４６７ｇ、０．４０４ｍｍｏｌ）を加え、１５０℃で２０時間攪拌した。この反応混合物を室温に戻し、水を加えて反応を停止させた後、酢酸エチルによる抽出を行った。得られた有機層を飽和食塩水により洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥させ、減圧濃縮して濃縮物を得た。この濃縮物を、トルエン：ヘキサン＝１：１の混合溶媒を展開液に用いてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物３９９の白色固体を収量０．０８７ｇ（０．１６９ｍｍｏｌ）、収率２２．４％で得た。
1Ｈ ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，δ）：７．８８（ｓ，１Ｈ）、７．８７−７．８５（ｍ，４Ｈ）、７．５０−７．４５（ｍ，６Ｈ）、７．３７−７．３４（ｍ，２Ｈ）、７．２７−７．２４（ｍ，６Ｈ）、７．１４−７．０９（ｍ，２Ｈ）
ＡＳＡＰマススペクトル分析：理論値５１４．２、観測値５１４．２
（実施例２） 化合物６、１０５、３４７、５０１、５２３の合成
本実施例では、下記反応式に示すように、前駆体２から化合物６、１０５、３４７、５０１、５２３を合成した。
本実施例では、下記反応式に示すように、前駆体２から化合物６、１０５、３４７、５０１、５２３を合成した。
［化合物６の合成］
窒素気流下、前駆体２（０．２９３ｇ、０．７３３ｍｍｏｌ）、フェニルボロン酸（０．２０ｇ、１．４６ｍｍｏｌ）、フッ化カリウム（０．０８５ｇ、１．４６ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（１０ｍL）にテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（０．１２７ｇ、０．１１ｍｍｏｌ）を加え、１１０℃で１６時間攪拌した。この反応混合物を室温に戻し、水を加えて反応を停止させ、酢酸エチルによる抽出を行った。得られた有機層を飽和食塩水により洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥させ、減圧濃縮して濃縮物を得た。この濃縮物を、トルエン：ヘキサン＝１：１の混合溶媒を展開液に用いてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物６の白色固体を収量０．２４２ｇ（０．５２９ｍｍｏｌ）、収率７２．２％で得た。
1Ｈ ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，δ）：８．４１−８．３９（ｍ，４Ｈ）、７．６０−７．５５（ｍ，５Ｈ）、７．５０−７．４３（ｍ，６Ｈ）
ＡＳＡＰマススペクトル分析：理論値４５７．１、観測値４５７．２
窒素気流下、前駆体２（０．２９３ｇ、０．７３３ｍｍｏｌ）、フェニルボロン酸（０．２０ｇ、１．４６ｍｍｏｌ）、フッ化カリウム（０．０８５ｇ、１．４６ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（１０ｍL）にテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（０．１２７ｇ、０．１１ｍｍｏｌ）を加え、１１０℃で１６時間攪拌した。この反応混合物を室温に戻し、水を加えて反応を停止させ、酢酸エチルによる抽出を行った。得られた有機層を飽和食塩水により洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥させ、減圧濃縮して濃縮物を得た。この濃縮物を、トルエン：ヘキサン＝１：１の混合溶媒を展開液に用いてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物６の白色固体を収量０．２４２ｇ（０．５２９ｍｍｏｌ）、収率７２．２％で得た。
1Ｈ ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，δ）：８．４１−８．３９（ｍ，４Ｈ）、７．６０−７．５５（ｍ，５Ｈ）、７．５０−７．４３（ｍ，６Ｈ）
ＡＳＡＰマススペクトル分析：理論値４５７．１、観測値４５７．２
［化合物１０５の合成］
窒素気流下、前駆体２（０．７０ｇ、１．７５ｍｍｏｌ）、４−（９H−カルバゾール−９−イル）フェニルボロン酸（１．００ｇ、３．５０ｍｍｏｌ）、フッ化カリウム（０．２０ｇ、３．５０ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（２０ｍL）にテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（０．３０ｇ、０．２６２ｍｍｏｌ）を加え、１１０℃で１６時間攪拌した。この反応混合物を室温に戻し、水を加えて反応を停止させ、酢酸エチルによる抽出を行った。得られた有機層を飽和食塩水により洗浄し、これを減圧濃縮して濃縮物を得た。この濃縮物を、トルエン：ヘキサン＝１：１の混合溶媒を展開液に用いてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物１０５の白色固体を収量０．２３７ｇ（０．３８ｍｍｏｌ）、収率２１．７％で得た。
1Ｈ ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，δ）：８．５２（ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ、１．０Ｈｚ、４Ｈ）、８．０５（ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ、１．０Ｈｚ、２Ｈ）、７．５７−７．４１（ｍ，１０Ｈ）、７．２１（ｄｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ、１．０Ｈｚ、２Ｈ）、７．１６（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ、２Ｈ）、６．９２−６．８９（ｍ，２Ｈ）
ＡＳＡＰマススペクトル分析：理論値６２２．２、観測値６２２．４
窒素気流下、前駆体２（０．７０ｇ、１．７５ｍｍｏｌ）、４−（９H−カルバゾール−９−イル）フェニルボロン酸（１．００ｇ、３．５０ｍｍｏｌ）、フッ化カリウム（０．２０ｇ、３．５０ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（２０ｍL）にテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（０．３０ｇ、０．２６２ｍｍｏｌ）を加え、１１０℃で１６時間攪拌した。この反応混合物を室温に戻し、水を加えて反応を停止させ、酢酸エチルによる抽出を行った。得られた有機層を飽和食塩水により洗浄し、これを減圧濃縮して濃縮物を得た。この濃縮物を、トルエン：ヘキサン＝１：１の混合溶媒を展開液に用いてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物１０５の白色固体を収量０．２３７ｇ（０．３８ｍｍｏｌ）、収率２１．７％で得た。
1Ｈ ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，δ）：８．５２（ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ、１．０Ｈｚ、４Ｈ）、８．０５（ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ、１．０Ｈｚ、２Ｈ）、７．５７−７．４１（ｍ，１０Ｈ）、７．２１（ｄｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ、１．０Ｈｚ、２Ｈ）、７．１６（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ、２Ｈ）、６．９２−６．８９（ｍ，２Ｈ）
ＡＳＡＰマススペクトル分析：理論値６２２．２、観測値６２２．４
［化合物５０１の合成］
窒素気流下、前駆体２（０．７０ｇ、１．７５ｍｍｏｌ）、４−（９H−カルバゾール−９−イル）フェニルボロン酸（３．０１ｇ、１０．５ｍｍｏｌ）、フッ化カリウム（０．８１ｇ、１３．９ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（２０ｍL）にテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（０．４０ｇ、０．３５ｍｍｏｌ）を加え、１１０℃で２６時間攪拌した。この反応混合物を室温に戻し、水を加えて反応を停止させ、酢酸エチルによる抽出を行った。得られた有機層を飽和食塩水により洗浄し、これを減圧濃縮して濃縮物を得た。この濃縮物を、トルエン：ヘキサン＝１：１の混合溶媒を展開液に用いてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物５０１の白色固体を収量０．５９７ｇ（０．７０６ｍｍｏｌ）、収率４０．３％で得た。
1Ｈ ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，δ）：８．３７（ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ、１．０Ｈｚ、４Ｈ）、８．０５（ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ、１．０Ｈｚ、４Ｈ）、７．５７−７．５３（ｍ，６Ｈ）、７．４８−７．４２（ｍ，８Ｈ）、７．２２−７．１６（ｍ，１０Ｈ）、６．９２−６．８４（ｍ，２Ｈ）
ＡＳＡＰマススペクトル分析：理論値８４５．３、観測値８４５．６
窒素気流下、前駆体２（０．７０ｇ、１．７５ｍｍｏｌ）、４−（９H−カルバゾール−９−イル）フェニルボロン酸（３．０１ｇ、１０．５ｍｍｏｌ）、フッ化カリウム（０．８１ｇ、１３．９ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（２０ｍL）にテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（０．４０ｇ、０．３５ｍｍｏｌ）を加え、１１０℃で２６時間攪拌した。この反応混合物を室温に戻し、水を加えて反応を停止させ、酢酸エチルによる抽出を行った。得られた有機層を飽和食塩水により洗浄し、これを減圧濃縮して濃縮物を得た。この濃縮物を、トルエン：ヘキサン＝１：１の混合溶媒を展開液に用いてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物５０１の白色固体を収量０．５９７ｇ（０．７０６ｍｍｏｌ）、収率４０．３％で得た。
1Ｈ ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，δ）：８．３７（ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ、１．０Ｈｚ、４Ｈ）、８．０５（ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ、１．０Ｈｚ、４Ｈ）、７．５７−７．５３（ｍ，６Ｈ）、７．４８−７．４２（ｍ，８Ｈ）、７．２２−７．１６（ｍ，１０Ｈ）、６．９２−６．８４（ｍ，２Ｈ）
ＡＳＡＰマススペクトル分析：理論値８４５．３、観測値８４５．６
［化合物５２３の合成］
窒素気流下、前駆体２（１．００ｇ、２．５０ｍｍｏｌ）、３−（９H−カルバゾール−９−イル）フェニルボロン酸（２．８７ｇ、１０．０ｍｍｏｌ）、フッ化カリウム（１．１６ｇ、２０．０ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（２０ｍL）にテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（０．５７７ｇ、０．５０ｍｍｏｌ）を加え、１１０℃で２０時間攪拌した。この反応混合物を室温に戻し、水を加えて反応を停止させ、酢酸エチルによる抽出を行った。得られた有機層を飽和食塩水により洗浄し、これを減圧濃縮して濃縮物を得た。この濃縮物を、トルエン：ヘキサン＝１：２の混合溶媒を展開液に用いてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物５２３の白色固体を収量０．７３ｇ（０．８６３ｍｍｏｌ）、収率３４．５％で得た。
1Ｈ ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，δ）：８．４７（ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ、１．０Ｈｚ、４Ｈ）、８．２４（ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ、１．０Ｈｚ、２Ｈ）、８．２４（ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ、１．０Ｈｚ、２Ｈ）８．０９−８．０７（ｍ，５Ｈ）、７．５０−７．０８（ｍ，２１Ｈ）
ＡＳＡＰマススペクトル分析：理論値８４５．３、観測値８４５．６
窒素気流下、前駆体２（１．００ｇ、２．５０ｍｍｏｌ）、３−（９H−カルバゾール−９−イル）フェニルボロン酸（２．８７ｇ、１０．０ｍｍｏｌ）、フッ化カリウム（１．１６ｇ、２０．０ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（２０ｍL）にテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（０．５７７ｇ、０．５０ｍｍｏｌ）を加え、１１０℃で２０時間攪拌した。この反応混合物を室温に戻し、水を加えて反応を停止させ、酢酸エチルによる抽出を行った。得られた有機層を飽和食塩水により洗浄し、これを減圧濃縮して濃縮物を得た。この濃縮物を、トルエン：ヘキサン＝１：２の混合溶媒を展開液に用いてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物５２３の白色固体を収量０．７３ｇ（０．８６３ｍｍｏｌ）、収率３４．５％で得た。
1Ｈ ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，δ）：８．４７（ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ、１．０Ｈｚ、４Ｈ）、８．２４（ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ、１．０Ｈｚ、２Ｈ）、８．２４（ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ、１．０Ｈｚ、２Ｈ）８．０９−８．０７（ｍ，５Ｈ）、７．５０−７．０８（ｍ，２１Ｈ）
ＡＳＡＰマススペクトル分析：理論値８４５．３、観測値８４５．６
［化合物３４７の合成］
窒素気流下、前駆体２（０．３２ｇ、０．７５ｍｍｏｌ）、ジベンゾフラン−１−ボロン酸ピナコール（０．４４ｇ、１．５０ｍｍｏｌ）、フッ化カリウム（０．１３ｇ、２．２３ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（１０ｍL）にテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（０．１３ｇ、０．１１３ｍｍｏｌ）を加え、１１０℃で１５時間攪拌した。この反応混合物を室温に戻し、水を加えて反応を停止させた後、酢酸エチルによる抽出を行った。得られた有機層を飽和食塩水により洗浄し、これを減圧濃縮して濃縮物を得た。この濃縮物を、トルエン：ヘキサン＝１：１の混合溶媒を展開液に用いてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物３４７の白色固体を収量０．１０ｇ（０．１８３ｍｍｏｌ）、収率２４．３％で得た。
1Ｈ ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，δ）：８．０９（ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ、１．０Ｈｚ、４Ｈ）、７．６１−７．４６（ｍ，８Ｈ）、７．４５−７．３０（ｍ，４Ｈ）、７．０５（ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ、１．０Ｈｚ、１Ｈ）
ＡＳＡＰマススペクトル分析：理論値５４７．１、観測値５４７．２
窒素気流下、前駆体２（０．３２ｇ、０．７５ｍｍｏｌ）、ジベンゾフラン−１−ボロン酸ピナコール（０．４４ｇ、１．５０ｍｍｏｌ）、フッ化カリウム（０．１３ｇ、２．２３ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（１０ｍL）にテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（０．１３ｇ、０．１１３ｍｍｏｌ）を加え、１１０℃で１５時間攪拌した。この反応混合物を室温に戻し、水を加えて反応を停止させた後、酢酸エチルによる抽出を行った。得られた有機層を飽和食塩水により洗浄し、これを減圧濃縮して濃縮物を得た。この濃縮物を、トルエン：ヘキサン＝１：１の混合溶媒を展開液に用いてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物３４７の白色固体を収量０．１０ｇ（０．１８３ｍｍｏｌ）、収率２４．３％で得た。
1Ｈ ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，δ）：８．０９（ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ、１．０Ｈｚ、４Ｈ）、７．６１−７．４６（ｍ，８Ｈ）、７．４５−７．３０（ｍ，４Ｈ）、７．０５（ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ、１．０Ｈｚ、１Ｈ）
ＡＳＡＰマススペクトル分析：理論値５４７．１、観測値５４７．２
本発明の有機発光素子材料合成用原料によれば、発光材料、ホスト材料、電荷輸送材料等の有機発光素子材料として有用な化合物を容易に合成することができる。そのため、本発明は、産業上の利用可能性が高い。
Claims (7)
- 下記一般式（１）で表される化合物。
一般式（３）において、Ｘ5およびＸ6は、各々独立にＮまたはＣ（Ｒ7）を表し、Ｘ7はＯ、ＳまたはＮ（Ｒ8）を表す。Ｒ7およびＲ8は、各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｘ5およびＸ6の両方がＣ（Ｒ7）であるとき、Ｒ7同士は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。＊は一般式（１）におけるＺを含む６員環への結合位置を表す。] - 前記一般式（１）のＲ1とＲ4の少なくとも一方は、置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のヘテロアリール基である、請求項１に記載の化合物。
- 前記ハロゲン原子は、フッ素原子または臭素原子である、請求項１または２に記載の化合物。
- 前記一般式（１）のＡｃが下記一般式（２ａ）、下記一般式（３ａ）または下記一般式（３ｂ）で表される基である、請求項１に記載の化合物。
Ｒ6、Ｒ61およびＲ62は、各々独立に水素原子または置換基を表す。＊は一般式（１）におけるＺを含む６員環への結合位置を表す。］
一般式（３ｂ）において、Ｘ7はＯ、ＳまたはＮ（Ｒ8）を表し、Ｒ8、Ｒ73〜Ｒ76は、各々独立に水素原子または置換基を表す。＊は一般式（１）におけるＺを含む６員環への結合位置を表す。］ - 前記一般式（１）のＡｃが下記一般式（２ａ−１）〜（２ａ−３）のいずれかで表される基であるか、下記式（３ａ−１）および（３ｂ−１）のいずれかで表される基である、請求項１に記載の化合物。
- 前記一般式（１）で表される化合物が下記一般式（１−１）〜（１−２５）のいずれかで表される、請求項１に記載の化合物。
一般式（３）において、Ｘ5およびＸ6は、各々独立にＮまたはＣ（Ｒ7）を表し、Ｘ7はＯ、ＳまたはＮ（Ｒ8）を表す。Ｒ7およびＲ8は、各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｘ5およびＸ6の両方がＣ（Ｒ7）であるとき、Ｒ7同士は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。＊は一般式（１）におけるＺを含む６員環への結合位置を表す。] - 請求項１〜６のいずれか1項に記載の化合物からなる有機発光素子材料合成用原料。
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