JP2019150295A - 粒子線治療システムおよび粒子線治療システムの設備更新方法 - Google Patents

Abstract

【課題】効率的に設備を更新できるようにした粒子線治療システムおよび粒子線治療システムの設備更新方法を提供すること。【解決手段】粒子線治療システム１は、荷電粒子ビームＢｍを発生させる荷電粒子ビーム発生装置２と、荷電粒子ビームを所定の照射対象へ照射させる第１照射装置４（１）と、荷電粒子ビームを荷電粒子ビーム発生装置２から第１照射装置４（１）へ輸送する第１ビーム輸送装置３（１）と、第１ビーム輸送装置３（１）に設けられる第１真空バルブ３３（１）と、を備える。【選択図】図１

Description

本発明は、粒子線治療システムおよび粒子線治療システムの設備更新方法に関する。

患部に陽子または重イオン等の荷電粒子ビームを照射することにより治療する粒子線治療システムは知られている（特許文献１）。

特許第５４０９５２１号 米国特許出願公開第２０１４／０２９６６１０号

例えば、既設の粒子線治療システムが老朽化したり、粒子線による治療対象の患者数が増大したりした場合には、既設システムに新たな照射装置を追加する必要があるが、この場合には、新しい照射装置の追加工事、調整、試験等といった一連の作業が完了するまでには多大な装置停止時間を要すると見込まれる。

同様に、既設システムに含まれる古い照射装置を新技術を適用した新しい照射装置に入れ替える場合も考えられる。この場合も、一連の作業完了までに長い装置の停止時間を要すると見込まれる。

これら一連の作業を行う間は、既設システム内の真空を保つことができない。これにより、荷電粒子ビームを加速・輸送できないため、作業期間中は、長期間既設システムは運転できず、治療を行うことができなかった。既存の粒子線治療システムの構成を更新する場合に、その更新が完了して粒子線治療システムが再稼働するまでの時間が長いと、粒子線治療システム稼働中に期待される治療収入が見込めず、装置設置者の経営上の金銭的負担が大きくなる

本発明の目的は、効率的に設備を追加更新できるようにした粒子線治療システムおよび粒子線治療システムの設備更新方法を提供することにある。

上記課題を解決すべく、本発明に従う粒子線治療システムは、荷電粒子ビームを発生させる荷電粒子ビーム発生装置と、荷電粒子ビームを所定の照射対象へ照射させる第１照射装置と、荷電粒子ビームを荷電粒子ビーム発生装置から第１照射装置へ輸送する第１ビーム輸送装置と、第１ビーム輸送装置に設けられる第１真空バルブと、を備える。

本発明によれば、第１真空バルブを閉弁させることにより、第１真空バルブから荷電粒子ビーム発生装置にかけての経路上の真空度を維持しながら、設備の追加または更新を行うことができ、荷電粒子ビーム発生装置を停止させる時間を短縮することができ、設備の追加更新期間中の治療収入が見込め、装置設置者の金銭的負担を軽減することができる。

実施形態に係る粒子線治療システムの説明図である。 粒子線治療システムの構成説明図である。 ビーム輸送装置と遮蔽壁、真空バルブの関係を示す説明図であり、（１）は増設工事前の状態を示し、（２）は増設工事後の状態を示す。 新規設備を追加する場合の概略工程を示す説明図である。 本実施例を適用しない比較例としての概略工程を示す説明図である。 第２実施例に係り、２台目の照射装置を追加できるようにした粒子線治療システムの説明図である。 第３実施例に係り、偏向装置の持つ各出口にそれぞれ真空バルブを設けた場合を示す粒子線治療システムの説明図である。 第４実施例に係り、照射装置の更新用に真空バルブを設ける場合を示す粒子線治療システムの説明図である。

以下、図面に基づいて、本発明の実施の形態を説明する。本実施の形態に係る粒子線治療システムは、後述するように、あらかじめ拡張性を考慮した構成を備えている。これにより、本実施形態によれば、更新作業（既存設備の一部入替、新設備の追加）を短期間で行うことができる。

本実施形態では、更新対象領域とそれ以外の領域（更新しない領域、維持領域）との境界に真空度を維持するための真空バルブを設ける。更新対象領域は、上述のように、新規設備を追加する場合と、既存設備の一部を入れ替える場合（交換する場合）とに分けることができる。

新規設備を追加する場合は、新規設備の追加が予定される領域と既存設備（ほぼ全体が維持領域となる）との境界に真空バルブをあらかじめ設置しておく。真空バルブを閉弁させておくことで、既存設備の真空状態を保持することができる。そして、既存設備の真空状態を保持したままで、真空バルブの先に新規設備を接続し、必要な作業を行う。新規設備と既存設備とは真空バルブにより切り離されているため、新規設備の設置作業および接続作業が既存設備に与える影響を抑制することができる。これにより、既存設備の運転（運用）を継続しながら、新規設備を比較的短期間で真空バルブの先に設置できる。

新規設備の設置終了後に、新規設備を真空ポンプで吸引することにより、新規設備の真空度を既存設備の真空度に一致させる。新規設備の真空度と既存設備の真空度とが一致した後で、真空バルブを開弁させることにより、新規設備と既存設備とが物理的に（荷電粒子ビームの流れ上）繋がる。追加される新規設備にも事前に真空バルブを設けておくことにより、さらに新しい設備の追加に対応することができる。

なお、新規設備の制御装置と既存設備の制御装置とは、それぞれ別々に構成して連携させてもよいし、既存の制御装置を新規制御装置に入れ替えてもよい。

既存設備の一部を入れ替える場合は、入替対象の領域（既存設備のうち交換対象の設備）とそれ以外の領域（既存設備のうちそのまま残しておく設備、維持領域の設備）との境界に真空バルブをあらかじめ設けておく。真空バルブを開弁させておくことにより、既存設備の運転を通常通りに継続することができる。

そして、新規設備の取付け前に真空バルブを閉弁し、新規設備と既存設備（維持領域）との間を切り離す。切り離しが完了した状態で、新規設備を真空バルブの先に設置する。真空バルブの先に設置された新規設備を真空ポンプにより吸引し、真空バルブで切り離された既存設備の真空度に一致させる。新規設備の真空度とそのまま引き続き使用される既存設備の真空度とが一致した後で、真空バルブを再び開弁させる。これにより、既存設備の一部を新規設備に比較的短期間で入れ替えることができる。

本実施形態に係る粒子線治療システムは、後述のように、新規設備の追加に対応する追加準備の構成と、既存設備の一部の入替に対応する入替準備の構成とのいずれか一方または両方を備えることができる。

図１〜図５を用いて第１実施例を説明する。図１は、粒子線治療システム１に新規設備を追加する場合の説明図である。

図１（１）は、新規設備を追加する前の構成を示す。粒子線治療システム１は、例えば、荷電粒子ビーム発生装置２と、ビーム輸送装置３（１）と、照射装置４（１）と、制御装置５と、図示せぬ電源装置とを備えている。

粒子線治療システム１は、病院の専用治療棟などの建物６に設けられている。建物６には、例えば、加速器室６１、治療室６２（１）、ビーム輸送室６３を備える。

荷電粒子ビーム発生装置２は、陽子または重イオン等の荷電粒子ビームを発生させる装置である。荷電粒子ビーム発生装置２は、加速器室６１に設置されている。荷電粒子ビーム発生装置２は、例えば、イオン源（図示せず）、前段加速器２１、円形加速器２２を備える。円形加速器２２は、シンクロトロンでもよいし、サイクロトロンでもよい。前段加速器２１の上流側に図示せぬイオン源が接続されており、前段加速器２１の下流側に円形加速器２２が接続される。

ビーム輸送装置３（１）は、「第１ビーム輸送装置」の例である。ビーム輸送装置３（１）は、ビーム輸送室６３に設けられている。ビーム輸送装置３（１）は、荷電粒子ビーム発生装置２の下流側に接続されており、荷電粒子ビーム発生装置２と照射装置４（１）とを接続する。

荷電粒子ビーム発生装置２で発生された荷電粒子ビームは、ビーム輸送装置３（１）を通って、治療室６２（１）に設置された照射装置４（１）に送られる。荷電粒子ビームは、照射装置４（１）により「所定の照射対象」としての患者の患部に照射される。照射装置４（１）は、「第１照射装置」の例である。図１では、照射装置４（１）が照射するビームに符号Ｂｍ（１）を付している。

ビーム輸送装置３（１）は、例えば、真空管路３１（１）と、真空管路３１（１）に設けられた偏向電磁石３２（１）とを含む。真空管路３１（１）には、偏向電磁石３２（１）のほかに、例えば、四極電磁石、ステアリング電磁石、プロファイルモニタ（いずれも不図示）が設けられる。

「第１分岐装置」の例である偏向電磁石３２（１）は、真空管路３１（１）の途中に設けられている。偏向電磁石３２（１）は、制御装置５からの制御信号に応じて、真空管路３１（１）を通過する荷電粒子ビームの方向を制御する。

偏向電磁石３２（１）は、荷電粒子ビームの入射する一つの入口と、荷電粒子ビームが出射する複数の出口（例えば２個の出口）とを有する。偏向電磁石３２（１）へ入射する荷電粒子ビームは、異なる方向を向く複数の出口のいずれか一方から出射される。一つの出口は、照射装置４（１）へ向かう出口である。この出口は、「第１照射装置側出口」の例である。他の一つの出口は、第２照射装置４（２）へ向かう出口である。この出口は、「第２照射装置側出口」の例である。

「第１真空バルブ」の例である真空バルブ３３（１）は、ビーム輸送装置３（１）の途中にあらかじめ設けられている。真空バルブ３３（１）は、偏向電磁石３２（１）の出口側に設けることができる。例えば、真空バルブ３３（１）は、偏向電磁石３２（１）の各出口のうち第２照射装置側出口に設けることができる。真空バルブ３３（１）は、常時閉弁状態である。これにより、ビーム輸送装置３（１）内の真空が保持されている。

制御装置５は、粒子線治療システム１の動作を制御する装置である。制御装置５は、図外のコンピュータ端末からの操作に応じて粒子線治療システム１を制御する。図１では、制御装置５は、円形加速器２２と偏向電磁石３２（１）にのみ電気的に接続されているかのように示しているが、実際には、制御装置５は、粒子線治療システム１の制御に必要な各部に接続されている。

図１（２）は、粒子線治療システム１の既存設備に新規設備（第２照射装置４（２）等）を追加する場合を示す。ビーム輸送室６３において、閉弁状態の真空バルブ３３（１）に「第２ビーム輸送装置」の例であるビーム輸送装置３（２）が接続される。第２治療室とも言うべき治療室６２（２）には、新たな照射装置４（２）が設置される。

ビーム輸送装置３（２）の終端（荷電粒子ビームの流れ方向の終端）には、治療室６２（２）内の新規な照射装置４（２）が接続される。これにより、ビーム輸送装置３（２）は、真空バルブ３３（１）から新規な照射装置４（２）までの経路を連通させる。真空バルブ３３（１）は閉弁しているため、図１（２）の時点ではビーム輸送装置３（２）とビーム輸送装置３（１）とは連通していない。つまり、追加対象以外の既存設備であるビーム輸送装置３（１）の真空は維持されている。

ビーム輸送装置３（２）の途中には、「第２分岐装置」の例である偏向電磁石３２（２）が設けられている。偏向電磁石３２（２）は、制御装置５からの制御信号により、荷電粒子ビームが照射装置４（２）へ向かうように制御する。

偏向電磁石３２（２）には、偏向電磁石３２（１）で述べたと同様に、「第２真空バルブ」の例である真空バルブ３３（２）が設けられている。詳しくは、偏向電磁石３２（２）の持つ２つの出口のうち照射装置４（２）へ向かう出口以外の出口に、真空バルブ３３（２）が設けられている。この真空バルブ３３（２）は閉弁されている。

ビーム輸送装置３（２）の途中には、真空ポンプ７１と圧力センサ７２とが設けられている。真空ポンプ７１は、圧力センサ７２により検出される真空度がビーム輸送装置３（１）に設定される真空度と一致するまで、ビーム輸送装置３（２）内のガスを吸引して排出する。ビーム輸送装置３（１）の真空度（圧力）とビーム輸送装置３（２）の真空度（圧力）とが一致すると、真空バルブ３３（１）が開弁される。

図１（３）は、粒子線治療システム１への新規設備の追加が終了した場合を示す。電気工事が終了して、照射装置４（２）および偏向電磁石３２（２）等が制御装置５の制御下に置かれると、荷電粒子ビームの導通試験および最終調整等が行われる。これにより新規設備の追加工事が完了し、荷電粒子ビーム発生装置２から照射装置４（２）に供給された荷電粒子ビームＢｍ（２）が患部に向けて照射される。

図２は、粒子線治療システム１の構成を示す平面図である。建物６について詳述すると、加速器室６１とビーム輸送室６３との間には、遮蔽壁６４が設けられている。ビーム輸送装置３（２）とビーム輸送装置３（１）とは、遮蔽壁６４を貫通して接続される。ビーム輸送装置３（２）とビーム輸送装置３（１）とは、真空バルブ３３（１）により分離または連通させることができる。

真空バルブ３３（１）は、例えば、遮蔽壁６４の手前側に位置して加速器室６１内に設けられている。真空バルブ３３（１）を遮蔽壁６４の手前に設けることで、加速器２２による影響をビーム輸送室６３側でうけずに工事等ができることを可能としている。

図３は、遮蔽壁６４と真空バルブ３３（１）等との関係を示す断面図である。図３（１）は、新規設備の追加工事前の状態、すなわち、既存設備の納入時の状態である。ビーム輸送装置３（１）の下流側端部は遮蔽壁６４を貫通して設けられている。ビーム輸送装置３（１）の下流側開口部は、フランジ６６により施蓋されている。ビーム輸送装置３（１）には、ビーム輸送装置３（１）の下流側開口部から真空バルブ３３（１）の出口に至る範囲に、遮蔽物６５が充填されている。遮蔽物６５は、例えば鋼鉄製の球体として構成される。これにより、新規設備の追加前に、加速器室６１側の影響がビーム輸送室６３側へ及ぶのを防止している。

図３（２）に示すように、新規設備の追加工事に際しては、フランジ６６および遮蔽物６５を除去した後、真空バルブ３３（１）を介してビーム輸送装置３（２）とビーム輸送装置３（１）とを接続する。

図４は、本実施例による新規設備の追加工事に要する工程の流れを示す。図４および後述の図５では、工事に要する各工程のうち主要な工程の概略を示す。

上述の通り、既存設備とは、粒子線治療システム１のうち設備の追加または入替の対象とならない部分の構成である。既存設備が運転中とは、既設の照射装置４（１）を用いた治療が可能であることを意味する。

新規設備の追加工事の開始前では、真空バルブ３３（１）は閉弁している。したがって、既存設備側（荷電粒子ビーム発生装置２、ビーム輸送装置３（１）、照射装置４（１））の真空は維持されているため、既存設備は今まで通り運転を継続できる（Ｓ１）。

既存設備の運転中に、新規設備である照射装置４（２）やビーム輸送装置３（２）を設置するための建物工事が行われる（Ｓ２）。なお、将来の設備増強を見込んで、あらかじめ建物６に治療室６２（２）およびビーム輸送室６３を作っておいてもよい。

部屋の工事が終了すると、照射装置４（２）およびビーム輸送装置３（２）が搬入されて設置される（Ｓ３）。詳しくは、照射装置４（２）は治療室６２（２）に設置され、ビーム輸送装置３（２）はビーム輸送室６３に設置される。

そして、新規設備の電気工事が行われる（Ｓ４）。電気工事では、例えば、照射装置４（２）と電源とを接続したり、ビーム輸送装置３（２）の偏向電磁石３２（２）等と電源とを接続したり、それら電源と制御装置５とを接続したりする。

電気工事の終了後に、真空バルブ３３（１）を閉弁させたままの状態で、真空ポンプ７１を作動させることにより、ビーム輸送装置３（２）および照射装置４（２）のもつ荷電粒子ビーム経路（真空管路）の圧力を所定の圧力まで低下させる（Ｓ５）。所定の圧力とは、荷電粒子ビームの輸送に必要な真空度である。

真空引き作業が終了すると、既存設備の運転を再開することができる（Ｓ６）。新規な照射装置４（２）の最終調整が終了するよりも前に、既設の照射装置４（１）を用いた治療を再開させることができる。

一方、新規設備の真空引きが終了すると、真空バルブ３３（１）が開弁され、ビーム輸送装置３（１）とビーム輸送装置３（２）とが連通する（Ｓ７）。そして、新規設備の最終調整、すなわち照射装置４（２）の最終調整が実施される。

ただし、既設の照射装置４（１）の運転が再開されているため、追加された照射装置４（２）の最終調整は、例えば夜間または休日等の時間帯に行われる（Ｓ８）。最終調整では、例えば、荷電粒子ビーム発生装置２から照射装置４（２）へ供給される荷電粒子ビームの位置およびサイズ等が調整される。照射装置４（２）の最終調整の終了後、照射装置４（２）も運転可能となる（Ｓ９）。

このように構成される本実施例によれば、更新対象の設備と既存のまま使用を継続する設備との境界に真空バルブ３３（１）をあらかじめ設けておき、更新対象設備と既存設備とを分離することができる。これにより、既存設備の真空度を維持し、既存設備を稼働させたまま（運転させたまま）、新規設備の追加工事を実行することができ、既存設備の停止時間を短くすることができる。

図４の例では、既存設備の停止時間Ｔ１は、新規設備の電気工事（盤へのケーブル接続）に要する時間にほぼ等しい。これに対し、図５は、本実施例が適用されない場合の比較例における工程概略図である。

比較例は、既存設備と更新対象設備とを分離して管理する真空バルブ３３（１）を備えていないため、新規設備に対する工事の影響がそのまま既存設備にも及ぶ。新規設備の追加工事が行われる期間中、既存設備は運転することができない。つまり、例えば、新規設備用の部屋の増設工事（Ｓ１２）、新規設備の設置工事（Ｓ１３）、電気工事（Ｓ１４）、新規設備および既存設備が所定の圧力（所定の真空度）になるように真空引きする作業（Ｓ１５）、最終調整作業（Ｓ１６）の各工程中、既存設備を用いた治療を行うことはできない。したがって、比較例の場合では、既存設備の停止期間Ｔ１ａは、本実施例に係る粒子線治療システム１の停止期間Ｔ１よりも長い（Ｔ１ａ＞Ｔ１）。

本実施例によれば、新規設備を追加する場合に、既存設備の停止期間を短くすることができ、既存設備による治療を継続しながら新規設備の追加を行うことができる。これにより、収入を確保しつつ、粒子線治療システム１の能力を拡張することができ、事業経営上の収益低下リスクが減少する。

図６を用いて第２実施例を説明する。本実施例を含む以下の各実施例は第１実施例の変形例に該当するため、第１実施例との差異を中心に説明する。本実施例では、新規に追加された照射装置４（２）にもあらかじめ真空バルブ３３（２）を取り付けておくことにより、さらなる拡張性を得ている。

図６（１）は、２台目の照射装置４（２）の追加が終了した状態を示す。２台目の照射装置４（２）に接続されるビーム輸送装置３（２）にもあらかじめ真空バルブ３３（２）が設けられている。真空バルブ３３（２）の詳細な取付例は、第１実施例で述べた真空バルブ３３（１）と同様であるため、ここでの説明は割愛する。

図６（２）は、３台目の照射装置４（３）をさらに追加した状態を示す。３台目の照射装置４（３）を真空バルブ３３（２）を介してビーム輸送装置３（２）に接続する方法は、２台目の照射装置４（２）を真空バルブ３３（１）を介してビーム輸送装置３（１）に接続する方法と同様である。図６では、最初の構成（照射装置４（１）、荷電粒子ビーム発生装置２、ビーム輸送装置３（１））に対して、２つの新規設備４（１），４（２）を追加する場合を述べた。これに限らず、４台以上の新規設備を追加してもよい。

図７を用いて第３実施例を説明する。本実施例では、既存設備に新規設備を追加するだけではなく、既存設備の一部を入れ替える場合を説明する。

本実施例では、図６で述べたように、追加される新規設備にもあらかじめ真空バルブ３３（２），３３（３）を設けている。さらに、本実施例では、照射装置４（１），４（２）と偏向電磁石３２（１），３２（２）との間のビーム輸送装置３（１），３（２）に、壁６７（１），６７（２）の手前側に位置して設備入替用の真空バルブ３４（１），３４（２）がそれぞれ設けられている。

このように構成される本実施例では、第１実施例および第２実施例と同様に、設備追加用の真空バルブ３３（１）を用いることにより、新規な照射装置４（２）を短期間で増設することができる。図７では、省略しているが、新規な照射装置４（２）の増設時に設備追加用の真空バルブ３３（２）をあらかじめ取り付けることもできる。

さらに本実施例によれば、照射装置４（１），４（２）にもあらかじめ入替用の真空バルブ３４（１），３４（２）を設けておくため、照射装置４（１），４（２）の入替を短期間で行うことができる。例えば、照射装置４（１）を他の照射装置に入れ替える場合、真空バルブ３４（１）を閉弁してから、照射装置４（１）を取り外し、他の照射装置を取り付ける。そして、図示せぬ真空ポンプを用いて、他の照射装置内部の圧力を所定の真空度とする。その後に、真空バルブ３４（１）を開弁することにより、他の照射装置とビーム輸送装置３（１）とを接続することができる。照射装置４（２）についても同様にして入れ替えることができる。

図８を用いて第４実施例を説明する。本実施例では、図７で述べた構成から設備追加用の真空バルブ３３（１）を除去しており、設備入替用の真空バルブ３４（１），３４（２）のみを備えている。このように構成される本実施例では、照射装置４（１），４（２）を短期間で入れ替えることができる。

なお、本発明は、上述した実施形態に限定されない。当業者であれば、本発明の範囲内で、種々の追加や変更等を行うことができる。上述の実施形態において、添付図面に図示した構成例に限定されない。本発明の目的を達成する範囲内で、実施形態の構成や処理方法は適宜変更することが可能である。

また、本発明の各構成要素は、任意に取捨選択することができ、取捨選択した構成を具備する発明も本発明に含まれる。さらに特許請求の範囲に記載された構成は、特許請求の範囲で明示している組合せ以外にも組み合わせることができる。

１：粒子線治療システム、２：荷電粒子ビーム発生装置、３（１），３（２），３（３）：ビーム輸送装置、４（１），４（２），４（３）：照射装置、５：制御装置、６：建物、２１：前段加速器、２２：円形加速器、３１（１），３１（２）：真空管路、３２（１），３２（２）：偏向電磁石、３３（１），３３（２），３３（３）：真空バルブ、３４（１），３４（２）：真空バルブ、６１：加速器室、６２（１），６２（２），６２（３）：治療室、６３：ビーム輸送室

Claims (10)

1. 荷電粒子ビームを発生させる荷電粒子ビーム発生装置と、
   前記荷電粒子ビームを所定の照射対象へ照射させる第１照射装置と、
   前記荷電粒子ビームを前記荷電粒子ビーム発生装置から前記第１照射装置へ輸送する第１ビーム輸送装置と、
   前記第１ビーム輸送装置に設けられる第１真空バルブと、
   を備える粒子線治療システム。
2. 前記第１ビーム輸送装置には、荷電粒子ビームの行き先を分岐させる第１分岐装置が設けられており、
   前記第１真空バルブは、前記第１分岐装置の出口に設けられる、
   請求項１に記載の粒子線治療システム。
3. 前記第１分岐装置には、前記荷電粒子ビームを第２照射装置へ輸送する第２ビーム輸送装置が前記第１真空バルブを介して接続される、
   請求項２に記載の粒子線治療システム。
4. 前記第１分岐装置は、荷電粒子ビームを前記第１照射装置へ向かわせる第１照射装置側出口と、荷電粒子ビームを前記第２照射装置へ向かわせる第２照射装置側出口とを備えており、
   前記第１真空バルブは、前記第２照射装置側出口に設けられる、
   請求項３に記載の粒子線治療システム。
5. 前記第１真空バルブは複数存在し、前記複数の第１真空バルブのうち一つの第１真空バルブは前記第２照射装置側出口に設けられ、前記複数の第１真空バルブのうち他の一つの第１真空バルブは前記第１照射装置側出口に設けられる、
   請求項６に記載の粒子線治療システム。
6. 前記第１真空バルブは、遮蔽壁と前記第１分岐装置との間に位置して設けられる、
   請求項２に記載の粒子線治療システム。
7. 前記第１真空バルブは、前記第１ビーム輸送装置および前記第１分岐装置が設置された後に設けられる、
   請求項２に記載の粒子線治療システム。
8. 前記第２ビーム輸送装置には第２真空バルブが設けられる、
   請求項３に記載の粒子線治療システム。
9. 前記第２ビーム輸送装置には、荷電粒子ビームの行き先を分岐させる第２分岐装置が設けられており、
   前記第２真空バルブは、前記第２分岐装置の出口に設けられる、
   請求項８に記載の粒子線治療システム。
10. 粒子線治療システムの設備更新方法であって、
    前記粒子線治療システムは、
    荷電粒子ビームを発生させる荷電粒子ビーム発生装置と、
    前記荷電粒子ビームを所定の照射対象へ照射させる第１照射装置と、
    前記荷電粒子ビームを前記荷電粒子ビーム発生装置から前記第１照射装置へ輸送する第１ビーム輸送装置と、
    前記第１ビーム輸送装置に設けられ、荷電粒子ビームの行き先を分岐させる第１分岐装置と、
    前記第１分岐装置の出口に設けられる第１真空バルブと、
    制御装置とを備え、
    前記第１真空バルブを閉弁させた状態で、前記第１分岐装置には、荷電粒子ビームを第２照射装置へ輸送する第２ビーム輸送装置を前記第１真空バルブを介して接続し、
    前記第２ビーム輸送装置および前記第２照射装置を通過する荷電粒子ビームの経路上の圧力を所定の真空度まで低下させ、
    前記第２ビーム輸送装置および前記第２照射装置を前記制御装置に接続し、
    前記第１真空バルブを開弁させ、
    前記荷電粒子ビームが前記第１ビーム輸送装置と前記第１分岐装置と前記真空バルブと前記第２ビーム輸送装置とを介して前記第２照射装置へ供給されるように調整する、
    粒子線治療システムの設備更新方法。

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