JP2000075100A - 荷電粒子照射装置 - Google Patents
荷電粒子照射装置Info
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- JP2000075100A JP2000075100A JP10245201A JP24520198A JP2000075100A JP 2000075100 A JP2000075100 A JP 2000075100A JP 10245201 A JP10245201 A JP 10245201A JP 24520198 A JP24520198 A JP 24520198A JP 2000075100 A JP2000075100 A JP 2000075100A
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- irradiation
- charged particle
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-
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- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61N—ELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
- A61N5/00—Radiation therapy
- A61N5/10—X-ray therapy; Gamma-ray therapy; Particle-irradiation therapy
- A61N5/1077—Beam delivery systems
- A61N5/1079—Sharing a beam by multiple treatment stations
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Pathology (AREA)
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- General Health & Medical Sciences (AREA)
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- Veterinary Medicine (AREA)
- Radiation-Therapy Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 複数のビーム照射室を小さいスペースに配置
し、偏向電磁石等の構成機器の数を削減して、経済的で
利用効率の高い荷電粒子照射装置を提供する。 【解決手段】 荷電粒子加速装置と荷電粒子ビーム分岐
用電磁石と、多極磁界発生電磁石と、偏向電磁石と、放
射状に配置された複数の治療室と、前記治療室に設置す
るビーム照射用の回転ガントリとを備え、前記回転ガン
トリから出射されたビームを照射する複数の照射位置が
前記ビーム分岐用電磁石を概中心とする円周面上に配置
された。
し、偏向電磁石等の構成機器の数を削減して、経済的で
利用効率の高い荷電粒子照射装置を提供する。 【解決手段】 荷電粒子加速装置と荷電粒子ビーム分岐
用電磁石と、多極磁界発生電磁石と、偏向電磁石と、放
射状に配置された複数の治療室と、前記治療室に設置す
るビーム照射用の回転ガントリとを備え、前記回転ガン
トリから出射されたビームを照射する複数の照射位置が
前記ビーム分岐用電磁石を概中心とする円周面上に配置
された。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は荷電粒子を照射して
ガン治療を行う装置に関するものである。
ガン治療を行う装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図６は例えば「ＴＨＥ ＴＥＲＡ ＰＲ
ＯＪＥＣＴ ＡＮＤ ＴＨＥ ＣＥＮＴＯＲＥ ＦＯＲ
ＯＮＣＯＬＯＧＩＣＡＬ ＨＡＤＲＯＮ ＴＨＥＲＡ
ＰＹ」ＴＨＥ ＴＥＲＡ ＣＯＬＬＡＢＯＲＡＴＩＯＮ
ｓｅｃｏｎｄ ｅｄｉｔｉｏｎ（１９９４）に記載さ
れた従来の荷電粒子照射装置の構成の例を示す図であ
る。図において、１１は直線加速装置、１２はシンクロ
トロン、１３は回転ガントリ照射室、１４は固定照射
室、１５は別の回転ガントリ照射室、１６は偏向電磁
石、１７は患者固定用ベッド、１８はビーム分岐用電磁
石、１９は他の用途の実験室である。
ＯＪＥＣＴ ＡＮＤ ＴＨＥ ＣＥＮＴＯＲＥ ＦＯＲ
ＯＮＣＯＬＯＧＩＣＡＬ ＨＡＤＲＯＮ ＴＨＥＲＡ
ＰＹ」ＴＨＥ ＴＥＲＡ ＣＯＬＬＡＢＯＲＡＴＩＯＮ
ｓｅｃｏｎｄ ｅｄｉｔｉｏｎ（１９９４）に記載さ
れた従来の荷電粒子照射装置の構成の例を示す図であ
る。図において、１１は直線加速装置、１２はシンクロ
トロン、１３は回転ガントリ照射室、１４は固定照射
室、１５は別の回転ガントリ照射室、１６は偏向電磁
石、１７は患者固定用ベッド、１８はビーム分岐用電磁
石、１９は他の用途の実験室である。
【０００３】次に、動作について説明する。直線加速器
１１から出射された荷電粒子をシンクロトロン１２で所
定のエネルギーまで加速する。所定のエネルギーまで加
速された荷電粒子はシンクロトロン１２から放射状にの
びる真空ダクトを通って、患者に荷電粒子ビームを照射
するための部屋（以下、ビーム照射室と記す）１３，１
４，１５の各部屋へ導かれる。このうち、回転ガントリ
照射室１３，１５内に設置された回転ガントリでは、偏
向電磁石１６でビームの向きを変え、患者固定用ベッド
１７の周囲で３６０度の回転照射することができる。こ
れによって患者を動かさずに患者の照射部位に対して全
方向から照射することができる。照射のコストパフォー
マンスをあげるためにはビーム照射室の数をできるだけ
多くする必要がある。この例では、加速器１２を大型に
して、その周囲にビーム照射室を設置することによって
合計６部屋（実験室１９を含む）で治療することを可能
にしている。１３，１４および１５のそれぞれの照射室
へは分岐用電磁石１８を用いてビームを時間的に振り分
けている。また、通常は同じビーム輸送系を用いるので
１３，１４および１５の照射室でベッドの位置１７はほ
ぼ同一平面内になっている。
１１から出射された荷電粒子をシンクロトロン１２で所
定のエネルギーまで加速する。所定のエネルギーまで加
速された荷電粒子はシンクロトロン１２から放射状にの
びる真空ダクトを通って、患者に荷電粒子ビームを照射
するための部屋（以下、ビーム照射室と記す）１３，１
４，１５の各部屋へ導かれる。このうち、回転ガントリ
照射室１３，１５内に設置された回転ガントリでは、偏
向電磁石１６でビームの向きを変え、患者固定用ベッド
１７の周囲で３６０度の回転照射することができる。こ
れによって患者を動かさずに患者の照射部位に対して全
方向から照射することができる。照射のコストパフォー
マンスをあげるためにはビーム照射室の数をできるだけ
多くする必要がある。この例では、加速器１２を大型に
して、その周囲にビーム照射室を設置することによって
合計６部屋（実験室１９を含む）で治療することを可能
にしている。１３，１４および１５のそれぞれの照射室
へは分岐用電磁石１８を用いてビームを時間的に振り分
けている。また、通常は同じビーム輸送系を用いるので
１３，１４および１５の照射室でベッドの位置１７はほ
ぼ同一平面内になっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来は、複数の回転ガ
ントリでの照射位置がほぼ同一平面上で対称になるよう
にビーム輸送系を設計していた。即ち、分岐用電磁石１
８に対して回転ガントリ照射室１３と１５が対称になる
ように配置するので、分岐用電磁石１８から照射位置ま
での距離が長くなり、ビームを輸送するための電磁石の
数が増えたりする。また、設置するのに広いスペースが
要求されるなどの問題点があった。
ントリでの照射位置がほぼ同一平面上で対称になるよう
にビーム輸送系を設計していた。即ち、分岐用電磁石１
８に対して回転ガントリ照射室１３と１５が対称になる
ように配置するので、分岐用電磁石１８から照射位置ま
での距離が長くなり、ビームを輸送するための電磁石の
数が増えたりする。また、設置するのに広いスペースが
要求されるなどの問題点があった。
【０００５】また、従来は照射ビームをつくるための加
速器は固定されていたので、複数の照射室へビームを導
く場合、その方向を変えるための電磁石と偏向に伴うビ
ームの変化調整するための電磁石の調整が必要であっ
た。また、分岐用電磁石の偏向角度には限界があるので
分岐する角度が大きくなると複数の分岐電磁石が必要で
あった。このために複数の電磁石とそれを置く広いスペ
ースが必要になり、電磁石の調整が複雑になるという問
題点があった。
速器は固定されていたので、複数の照射室へビームを導
く場合、その方向を変えるための電磁石と偏向に伴うビ
ームの変化調整するための電磁石の調整が必要であっ
た。また、分岐用電磁石の偏向角度には限界があるので
分岐する角度が大きくなると複数の分岐電磁石が必要で
あった。このために複数の電磁石とそれを置く広いスペ
ースが必要になり、電磁石の調整が複雑になるという問
題点があった。
【０００６】本発明は、従来の荷電粒子照射装置の前記
のような問題点を解決するためになされたものであり、
複数のビーム照射室を小さいスペースに配置し、偏向電
磁石等の構成機器の数を削減して、経済的で利用効率の
高い荷電粒子照射装置を提供することを目的とする。
のような問題点を解決するためになされたものであり、
複数のビーム照射室を小さいスペースに配置し、偏向電
磁石等の構成機器の数を削減して、経済的で利用効率の
高い荷電粒子照射装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の第１の構成によ
る荷電粒子照射装置は、荷電粒子加速装置と荷電粒子ビ
ーム分岐用電磁石と、多極磁界発生電磁石と、偏向電磁
石と、放射状に配置された複数の治療室と、前記治療室
に設置するビーム照射用の回転ガントリとを備え、前記
回転ガントリから出射されたビームを照射する複数の照
射位置が前記ビーム分岐用電磁石を概中心とする円周面
上に配置されたものである。
る荷電粒子照射装置は、荷電粒子加速装置と荷電粒子ビ
ーム分岐用電磁石と、多極磁界発生電磁石と、偏向電磁
石と、放射状に配置された複数の治療室と、前記治療室
に設置するビーム照射用の回転ガントリとを備え、前記
回転ガントリから出射されたビームを照射する複数の照
射位置が前記ビーム分岐用電磁石を概中心とする円周面
上に配置されたものである。
【０００８】また、本発明の第２の構成による荷電粒子
照射装置は、荷電粒子加速装置と荷電粒子ビーム分岐用
電磁石と、多極磁界発生電磁石と、偏向電磁石と、複数
の治療室と、前記治療室に設置するビーム照射用回転ガ
ントリと、前記荷電粒子加速装置を回転させる装置とを
備え、前記荷電粒子加速装置を回転することによって前
記複数の治療室へ荷電粒子を導くものである。
照射装置は、荷電粒子加速装置と荷電粒子ビーム分岐用
電磁石と、多極磁界発生電磁石と、偏向電磁石と、複数
の治療室と、前記治療室に設置するビーム照射用回転ガ
ントリと、前記荷電粒子加速装置を回転させる装置とを
備え、前記荷電粒子加速装置を回転することによって前
記複数の治療室へ荷電粒子を導くものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】実施の形態１．図１は本発明の第
１の実施の形態による荷電粒子照射装置の構成を示す図
である。図において、４１はサイクロトロン等の荷電粒
子加速器、４２はビーム分岐用電磁石、４３は照射室、
４４は照射位置、４５は照射位置を含む円筒曲面、４６
は回転ガントリ、４７は遮蔽壁、４８は４極電磁石、４
９は偏向電磁石である。
１の実施の形態による荷電粒子照射装置の構成を示す図
である。図において、４１はサイクロトロン等の荷電粒
子加速器、４２はビーム分岐用電磁石、４３は照射室、
４４は照射位置、４５は照射位置を含む円筒曲面、４６
は回転ガントリ、４７は遮蔽壁、４８は４極電磁石、４
９は偏向電磁石である。
【００１０】次に、動作について説明する。荷電粒子加
速器４１で所定のエネルギーに加速された荷電粒子は電
磁石４２で治療室４３へ分岐される。分岐する場合は磁
場の向きを変えるか、磁場をゼロにして行う。また、分
岐されたビームは照射位置４４を中心として垂直面内で
回転する。回転ガントリ４６を通して照射位置４４へ導
かれる。照射位置４４に到達するまでに４極電磁石４８
を用いてビーム形状を調整する。また、複数の偏向電磁
石でビームの向きを変えて、照射位置４４までビームを
輸送する。図では照射室４３は３箇所あるが、これらの
照射装置４４はビーム分岐用電磁石４２をほぼ中心とす
る円筒曲面４５内に配置されている。このような配置に
よれば、ビーム分岐用電磁石４２から先のビーム経路長
を短くすることができ、照射装置の設置スペースを小さ
くすることができる。また、ビーム偏向用電磁石の偏向
角を小さくすることができ、電磁石の数も少なくするこ
とができるので、装置の規模をを小さくできることがで
き、調整も容易に行うことができる。
速器４１で所定のエネルギーに加速された荷電粒子は電
磁石４２で治療室４３へ分岐される。分岐する場合は磁
場の向きを変えるか、磁場をゼロにして行う。また、分
岐されたビームは照射位置４４を中心として垂直面内で
回転する。回転ガントリ４６を通して照射位置４４へ導
かれる。照射位置４４に到達するまでに４極電磁石４８
を用いてビーム形状を調整する。また、複数の偏向電磁
石でビームの向きを変えて、照射位置４４までビームを
輸送する。図では照射室４３は３箇所あるが、これらの
照射装置４４はビーム分岐用電磁石４２をほぼ中心とす
る円筒曲面４５内に配置されている。このような配置に
よれば、ビーム分岐用電磁石４２から先のビーム経路長
を短くすることができ、照射装置の設置スペースを小さ
くすることができる。また、ビーム偏向用電磁石の偏向
角を小さくすることができ、電磁石の数も少なくするこ
とができるので、装置の規模をを小さくできることがで
き、調整も容易に行うことができる。
【００１１】実施の形態２．図２は本発明の第２の実施
の形態による荷電粒子照射装置の構成を示す図であり、
図１と同じシステムを２つ対向して設置したものであ
る。
の形態による荷電粒子照射装置の構成を示す図であり、
図１と同じシステムを２つ対向して設置したものであ
る。
【００１２】実施の形態３．図３は本発明の第３の実施
の形態による荷電粒子照射装置の構成を示す図であり、
図２と同じガントリ配置であるが、サイクロトロンを１
台にしている。治療のために加速器を稼動する時間は、
治療全体に要する総時間に対して短いので、１台の加速
器を多くの照射室で共用することは大きな利益を生じ
る。
の形態による荷電粒子照射装置の構成を示す図であり、
図２と同じガントリ配置であるが、サイクロトロンを１
台にしている。治療のために加速器を稼動する時間は、
治療全体に要する総時間に対して短いので、１台の加速
器を多くの照射室で共用することは大きな利益を生じ
る。
【００１３】実施の形態４．図４は本発明の第４の実施
の形態による荷電粒子照射装置の構成を示す図である。
図において、５１はサイクロトロン、５２はサイクロト
ロン５１を回転させるためのテーブルである。サイクロ
トロン５１のビーム出射部および各照射室へのビーム輸
送系のビーム入射部には、真空を遮断するビーム透過窓
を設け、それぞれを独立した真空排気系とする。図では
回転ガントリ４６はテーブル５２を中心に６台配置して
いる。テーブル５２の上に乗ったサイクロトロンはテー
ブル５２を回転させることによって回転させることがで
きる。サイクロトロン５１はテーブル５２の中心から偏
芯した位置に取り付ける。患者の搬入や準備で時間がか
かるので、必要な照射室４３へサイクロトロン５１を回
転することによってビームを供給する。
の形態による荷電粒子照射装置の構成を示す図である。
図において、５１はサイクロトロン、５２はサイクロト
ロン５１を回転させるためのテーブルである。サイクロ
トロン５１のビーム出射部および各照射室へのビーム輸
送系のビーム入射部には、真空を遮断するビーム透過窓
を設け、それぞれを独立した真空排気系とする。図では
回転ガントリ４６はテーブル５２を中心に６台配置して
いる。テーブル５２の上に乗ったサイクロトロンはテー
ブル５２を回転させることによって回転させることがで
きる。サイクロトロン５１はテーブル５２の中心から偏
芯した位置に取り付ける。患者の搬入や準備で時間がか
かるので、必要な照射室４３へサイクロトロン５１を回
転することによってビームを供給する。
【００１４】このように、加速器５１を回転させる構成
は、照射位置４４を円筒面上に配置する構成の利点に加
えて、多数の照射室４３を更に近接配置することを可能
にし、施設全体をコンパクトに構成することができる。
また、偏向電磁石の数を少なくすることができ、調整が
容易になるので、経済性と稼動率を改善することができ
る。
は、照射位置４４を円筒面上に配置する構成の利点に加
えて、多数の照射室４３を更に近接配置することを可能
にし、施設全体をコンパクトに構成することができる。
また、偏向電磁石の数を少なくすることができ、調整が
容易になるので、経済性と稼動率を改善することができ
る。
【００１５】実施の形態５．図５は本発明の第５の実施
の形態による荷電粒子照射装置の構成を示す図である。
図において、７１はサイクロトロン回転テーブル５２を
回転させるための回転機構であり、サイクロトロン５１
を垂直面で回転させて３箇所に振り分ける。１箇所は回
転ガントリを設置する治療室、他の２つは固定照射装置
を有する部屋である。サイクロトロン５１を回転させて
垂直方向へ導く、また、回転ガントリと反対側の固定照
射室へもサイクロトロン５１を回転してビームを導く。
の形態による荷電粒子照射装置の構成を示す図である。
図において、７１はサイクロトロン回転テーブル５２を
回転させるための回転機構であり、サイクロトロン５１
を垂直面で回転させて３箇所に振り分ける。１箇所は回
転ガントリを設置する治療室、他の２つは固定照射装置
を有する部屋である。サイクロトロン５１を回転させて
垂直方向へ導く、また、回転ガントリと反対側の固定照
射室へもサイクロトロン５１を回転してビームを導く。
【００１６】
【発明の効果】本発明の第１の構成による荷電粒子照射
装置によれば、荷電粒子加速装置と荷電粒子ビーム分岐
用電磁石と、多極磁界発生電磁石と、偏向電磁石と、放
射状に配置された複数の治療室と、前記治療室に設置す
るビーム照射用の回転ガントリとを備え、前記回転ガン
トリから出射されたビームを照射する複数の照射位置が
前記ビーム分岐用電磁石を概中心とする円周面上に配置
されたので、複数のビーム照射室を近接配置して照射装
置の設置スペースを小さくすることができ、偏向電磁石
の数を少なくすることができるので照射装置の経済性と
稼動率を改善することができる。
装置によれば、荷電粒子加速装置と荷電粒子ビーム分岐
用電磁石と、多極磁界発生電磁石と、偏向電磁石と、放
射状に配置された複数の治療室と、前記治療室に設置す
るビーム照射用の回転ガントリとを備え、前記回転ガン
トリから出射されたビームを照射する複数の照射位置が
前記ビーム分岐用電磁石を概中心とする円周面上に配置
されたので、複数のビーム照射室を近接配置して照射装
置の設置スペースを小さくすることができ、偏向電磁石
の数を少なくすることができるので照射装置の経済性と
稼動率を改善することができる。
【００１７】また、本発明の第２の構成による荷電粒子
照射装置によれば、荷電粒子加速装置と荷電粒子ビーム
分岐用電磁石と、多極磁界発生電磁石と、偏向電磁石
と、複数の治療室と、前記治療室に設置するビーム照射
用回転ガントリと、前記荷電粒子加速装置を回転させる
装置とを備え、前記荷電粒子加速装置を回転することに
よって前記複数の治療室へ荷電粒子を導くようにしたの
で、第１の構成の効果に加えて複数のビーム照射室を更
に近接配置することができ、偏向電磁石の数を更に減少
させることができるので照射装置の設置スペース、経済
性および稼動率を更に改善することができる。
照射装置によれば、荷電粒子加速装置と荷電粒子ビーム
分岐用電磁石と、多極磁界発生電磁石と、偏向電磁石
と、複数の治療室と、前記治療室に設置するビーム照射
用回転ガントリと、前記荷電粒子加速装置を回転させる
装置とを備え、前記荷電粒子加速装置を回転することに
よって前記複数の治療室へ荷電粒子を導くようにしたの
で、第１の構成の効果に加えて複数のビーム照射室を更
に近接配置することができ、偏向電磁石の数を更に減少
させることができるので照射装置の設置スペース、経済
性および稼動率を更に改善することができる。
【図１】 本発明の第１の実施の形態による荷電粒子照
射装置の構成を示す図である。
射装置の構成を示す図である。
【図２】 本発明の第２の実施の形態による荷電粒子照
射装置の構成を示す図である。
射装置の構成を示す図である。
【図３】 本発明の第３の実施の形態による荷電粒子照
射装置の構成を示す図である。
射装置の構成を示す図である。
【図４】 本発明の第４の実施の形態による荷電粒子照
射装置の構成を示す図である。
射装置の構成を示す図である。
【図５】 本発明の第５の実施の形態による荷電粒子照
射装置の構成を示す図である。
射装置の構成を示す図である。
【図６】 従来の荷電粒子照射装置の構成の例を示す図
である。
である。
４１ サイクロトロン等の荷電粒子加速器、４２ ビー
ム分岐用電磁石、４３照射室、４４ 照射位置、４５
円筒曲面、４６ 回転ガントリ、４７ 遮蔽壁、４８
４極電磁石、４９ 偏向電磁石、５１ サイクロトロ
ン、５２ テーブル、７１ 回転機構。
ム分岐用電磁石、４３照射室、４４ 照射位置、４５
円筒曲面、４６ 回転ガントリ、４７ 遮蔽壁、４８
４極電磁石、４９ 偏向電磁石、５１ サイクロトロ
ン、５２ テーブル、７１ 回転機構。
Claims (2)
- 【請求項１】 荷電粒子加速装置と荷電粒子ビーム分岐
用電磁石と、多極磁界発生電磁石と、偏向電磁石と、放
射状に配置された複数の治療室と、前記治療室に設置す
るビーム照射用の回転ガントリとを備え、前記回転ガン
トリから出射されたビームを照射する複数の照射位置が
前記ビーム分岐用電磁石を概中心とする円周面上に配置
されたことを特徴とする荷電粒子照射装置。 - 【請求項２】 荷電粒子加速装置と荷電粒子ビーム分岐
用電磁石と、多極磁界発生電磁石と、偏向電磁石と、複
数の治療室と、前記治療室に設置するビーム照射用回転
ガントリと、前記荷電粒子加速装置を回転させる装置と
を備え、前記荷電粒子加速装置を回転することによって
前記複数の治療室へ荷電粒子を導くことを特徴とする荷
電粒子照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10245201A JP2000075100A (ja) | 1998-08-31 | 1998-08-31 | 荷電粒子照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10245201A JP2000075100A (ja) | 1998-08-31 | 1998-08-31 | 荷電粒子照射装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000075100A true JP2000075100A (ja) | 2000-03-14 |
Family
ID=17130137
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10245201A Pending JP2000075100A (ja) | 1998-08-31 | 1998-08-31 | 荷電粒子照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000075100A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011250910A (ja) * | 2010-06-01 | 2011-12-15 | Hitachi Ltd | 粒子線治療装置 |
| JP2012130721A (ja) * | 2012-02-15 | 2012-07-12 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 加速粒子照射設備 |
| US8546769B2 (en) | 2010-11-11 | 2013-10-01 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | Charged particle beam irradiation apparatus, charged particle beam irradiating method, and method of attaching and detaching transport line |
| JP2014023952A (ja) * | 2013-10-11 | 2014-02-06 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 粒子線治療設備 |
| CN103957996A (zh) * | 2012-01-16 | 2014-07-30 | 住友重机械工业株式会社 | 带电粒子束照射系统 |
| US9220923B2 (en) | 2010-03-09 | 2015-12-29 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | Accelerated particle irradiation equipment |
| JP2019105641A (ja) * | 2018-12-25 | 2019-06-27 | 株式会社東芝 | 荷電粒子ビーム照射装置 |
| US20190269941A1 (en) * | 2018-03-02 | 2019-09-05 | Hitachi, Ltd. | Particle beam treatment system and method for renewing facilities of particle beam treatment system |
-
1998
- 1998-08-31 JP JP10245201A patent/JP2000075100A/ja active Pending
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