JP2019143020A - 皮膜 - Google Patents
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Abstract
Description
[1]ポリシロキサン骨格を有する皮膜であって、該皮膜では、
CnF2n+1−で表されるパーフルオロアルキル基を末端に有する1価の基(a)が、前記ポリシロキサン骨格のケイ素原子の少なくとも一部に結合しており、
前記基(a)は基中にパーフルオロポリエーテル構造を有すると共に、−CmF2m−で表される基の少なくとも1種を有し、
飛行時間型二次イオン質量分析計によって測定したCmF2mフラグメントイオン強度のうちの最大の強度に対する、CnF2n+1フラグメントイオン強度の比が0.25以上である皮膜。
[2]更に、水素原子の少なくとも一部がフッ素原子に置換されているオキシアルキレン単位を有する構造(b)を有する[1]に記載の皮膜。
[3]前記基(a)が下記式(1a)で表される基である[1]または[2]に記載の皮膜。
Rf11は、炭素数1〜20のパーフルオロアルキル基であり、
Rf12、Rf13、Rf14及びRf15は、それぞれ独立して、1個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数1〜20のアルキル基またはフッ素原子であり、
R11、R12、R13及びR14は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基であり、
Mは、それぞれ独立して、−O−、−C(=O)−O−、−O−C(=O)−、−NR−、−NRC(=O)−、又は−C(=O)NR−(Rは水素原子、炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4の含フッ素アルキル基)であり、
Yは、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基であり、
Zは、水素原子またはハロゲン原子であり、
a1、b1、c1、d1及びe1はそれぞれ独立して0〜600の整数であり、a1、b1、c1、d1及びe1の合計値は9以上であり、
f1は、1〜20の整数であり、
g1は、0〜2の整数であり、
a1、b1、c1、d1、e1及びf1を付して括弧でくくられた各繰り返し単位は、少なくとも一部でパーフルオロポリエーテル構造及び−CmF2m−を形成し、Rf11−及び−Zが末端である限りそれぞれ任意の順に並んでいればよい。
[4]前記構造(b)が下記式(1b)で表される[2]または[3]に記載の皮膜。
X1、X2は、それぞれ独立して、水素原子またはフッ素原子であり、
R30は、ヒドロキシ基又は結合手であり、
Rf31、Rf32、Rf33は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は−CF3であり、
Jは−O−、−C(=O)−O−、又は−O−C(=O)−O−であり、
a3は1〜5、b3は20〜200、c3は5〜200であり、d3は0又は1であり、
a3、b3、及びc3を付して括弧でくくられた各繰り返し単位は、少なくとも一部で、水素原子の少なくとも一部がフッ素原子に置換されているオキシアルキレン単位を形成し、X1−、−(X2)d3が末端となる限り、それぞれ任意の順に並んでいればよい。
[5]前記基(a)が上記式(1a)で表され、式(1a)がOCF2CF2CF2O構造及びCF2OCF2構造を含み、かつ
前記構造(b)が上記式(1b)で表され、式(1b)がCF2OCF2構造及びOCF2O構造を含むとともに、CH2OCH2構造及びCH2OCF2構造の少なくとも一種と、OCH2CH2構造及びOCH2O構造の少なくとも一種を含む[4]に記載の皮膜。
[6]前記基(a)が下記式(1a−2)で表されると共に、
前記構造(b)が、下記式(1b−1)で表されると共にCF2OCF2構造、OCF2O構造、CH2OCH2構造及びOCH2CH2構造を含む構造であるか、又は下記式(1b−2)で表されると共にCF2OCF2構造、OCF2O構造、CH2OCF2構造及びOCH2O構造を含む構造である[5]に記載の皮膜。
[7]X線光電子分光法により測定される酸素(O1s)のスペクトルを解析して求められるCF2OCF2構造のOに由来するピーク強度に対する、CH2OCH2構造及びCH2OCF2構造のOに由来するピーク強度の合計の比が0.07以上である[5]または[6]に記載の皮膜。
[8]X線光電子分光法により測定される炭素(C1s)のスペクトルを解析して求められるOCF2O構造とOCF2CF2構造のCに由来するピーク強度の合計に対する、OCH2CH2構造及びOCH2O構造のCに由来するピーク強度の合計の比が0.07以上である[5]〜[7]のいずれかに記載の皮膜。
Rf11は、炭素数1〜20のパーフルオロアルキル基であり、
Rf12、Rf13、Rf14及びRf15は、それぞれ独立して、1個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数1〜20のアルキル基またはフッ素原子であり、
R11、R12、R13及びR14は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基であり、
Mは、それぞれ独立して、−O−、−C(=O)−O−、−O−C(=O)−、−NR−、−NRC(=O)−、又は−C(=O)NR−(Rは水素原子、炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4の含フッ素アルキル基)であり、
Yは、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基であり、
Zは、水素原子またはハロゲン原子であり、
a1、b1、c1、d1及びe1はそれぞれ独立して0〜600の整数であり、a1、b1、c1、d1及びe1の合計値は9以上であり、
f1は、1〜20の整数であり、
g1は、0〜2の整数であり、
a1、b1、c1、d1、e1及びf1を付して括弧でくくられた各繰り返し単位は、少なくとも一部でパーフルオロポリエーテル構造及び−CmF2m−を形成し、Rf11−及び−Zが末端である限りそれぞれ任意の順に並んでいればよい。
Rf12、Rf13、Rf14及びRf15は、好ましくはそれぞれ独立して、1個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数1〜2のアルキル基またはフッ素原子であり、より好ましくはすべてフッ素原子である。
R11、R12、R13及びR14は、好ましくはそれぞれ独立して、水素原子、または炭素数1もしくは2のアルキル基であり、より好ましくはすべて水素原子である。
Mは、好ましくはそれぞれ独立して、−C(=O)−O−、−O−、−O−C(=O)−であり、より好ましくはすべて−O−である。
Yは、好ましくはそれぞれ独立して、水素原子または炭素数1もしくは2のアルキル基であり、より好ましくはすべて水素原子である。
Zは、好ましくは水素原子である。
好ましくはa1、c1及びd1はそれぞれb1の1/2以下であり、より好ましくは1/4以下であり、さらに好ましくはc1又はd1は0であり、特に好ましくはc1及びd1は0である。
e1は、好ましくはa1、b1、c1及びd1の合計値の1/5以上であり、a1、b1、c1及びd1の合計値以下である。
b1は、20以上、600以下が好ましく、より好ましくは20以上、200以下であり、更に好ましくは50以上、200以下である。e1は4以上、600以下が好ましく、より好ましくは4以上、200以下であり、更に好ましくは10以上、200以下である。a1、b1、c1、d1及びe1の合計値は、20以上、600以下が好ましく、20以上、200以下がより好ましく、50以上、200以下が更に好ましい。
f1は、好ましくは1以上、18以下である。更に好ましくは、1以上、15以下である。
g1は、好ましくは0以上、1以下である。
a1、b1、c1、d1及びe1を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の順序について、好ましくは最も固定端側(ケイ素原子と結合する側)のb1を付して括弧でくくられた繰り返し単位は、最も自由端側のa1を付して括弧でくくられた繰り返し単位よりも自由端側に位置し、より好ましくは最も固定端側のb1及びd1を付して括弧でくくられた繰り返し単位は、最も自由端側のa1及びc1を付して括弧でくくられた繰り返し単位よりも自由端側に位置する。また、e1を付して括弧でくくられた各繰り返し単位は、少なくとも2つ存在することが好ましい。
X1、X2は、それぞれ独立して、水素原子またはフッ素原子であり、
R30は、ヒドロキシ基又は結合手であり、
Rf31、Rf32、Rf33は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は−CF3であり、
Jは−O−、−C(=O)−O−、又は−O−C(=O)−O−であり、
a3は1〜5、b3は20〜200、c3は5〜200であり、d3は0又は1であり、
a3、b3、及びc3を付して括弧でくくられた各繰り返し単位は、少なくとも一部で、水素原子の少なくとも一部がフッ素原子に置換されているオキシアルキレン単位を形成し、X1−、−(X2)d3が末端となる限り、それぞれ任意の順に並んでいればよい。またa3、b3、c3で括られる単位が複数存在する場合には、複数のa3で括られる単位は互いに異なっていても同一であってもよく、b3、c3についても同様である。
(ただし、式(p1)中、複数あるX2はそれぞれ独立して、ハロゲン原子、アルコキシ基またはイソシアネート基を示す。)
(ただし、式(p2)中、複数あるX3はそれぞれ独立して加水分解性基または水酸基を示し、pは1〜8の整数である。)
測定には、リガク社製X線反射率測定装置(SmartLab)を用いた。X線源として45kWのX線発生装置、CuターゲットによるCuKα線の波長λ=0.15418nmまたはCuKα1線の波長λ=0.15406nmを使用し、また、モノクロメータは、用いない。設定条件として、サンプリング幅は0.01°、走査範囲0.0〜2.5°に設定した。そして、上記設定条件により測定し、反射率測定値を得た。得られた測定値を、同社解析ソフト(GlobalFit)を用いて解析した。
接触角測定装置(協和界面科学社製 DM700)を用い、液滴法(解析方法:θ/2法)で液量:3μLにて、皮膜表面の水の接触角を測定した。
minoan製消しゴムを具備したスクラッチ装置を用い、消しゴムがサンプルに接した状態で、荷重1000gをかけ、40r/minでサンプルを動かすことによって摩耗試験を行った。摩耗回数1000回ごとに接触角を測定し、初期接触角から−15度以下となるまでの回数を測定した。
トライボギア往復摩耗試験機(TYPE:38、HEIDON社製)を使用し、ASTM D1894を参考に、表面の動摩擦係数を測定した。具体的には、摩擦子として、直径10mm、SUJ2製のボール圧子を使用し、荷重1000g、速度40mm/secとして測定を行った。
ULVAC−PHI社製(米国)PHI TRIFT V nanoTOFを用いた。一次イオンとして、Auを用い、加速電圧は30kVとし、100μm×100μmのエリアを測定した。測定質量範囲は、正二次イオンに対して、0.0a.m.u.〜1850a.m.u.として測定した。積算時間は、照射するAuイオンの量が、1.0×1012個/cm2以下となるように調整した。正二次イオン測定においては5分間とした。チャージ補正対策としては、帯電補正用のカーボンテープおよび帯電補正用電子銃を用いた。
日本電子社製 JFS−9010型を用いた。励起X線として、MgKαを用い、X線出力は110Wとし、光電子脱出角度は45°、パスエネルギー50eVにて、フッ素(F1s)、酸素(O1s)、炭素(C1s)、ケイ素の各種元素について、測定を行った。測定中にチャージアップが生じてしまう場合には、帯電補正用電子銃を用いた。さらに測定スペクトルの化学シフトの帯電補正を行う際には、適宜標準サンプルを用いることが出来るが、今回は、酸素のスペクトルのうち、CF2−O−CF2構造によるスペクトルをエネルギー基準536.5eVと補正した。
M. Toselli et. al, Polym Int 52: 1262−1274 (2003)
A. Hawkridge et. al, Macromolecules, Vol. 35, No. 17 (2002)
走査型プローブ顕微鏡(SPA300HV,SPI4000;エスアイアイ・ナノテクノロジー社製)を用い、皮膜の表面観察を行った。走査エリアを10μmとして、JIS B0601に準拠して算術平均粗さRaを算出した。
特開2014−15609号公報の合成例1、2に記載の方法により、下記式(a)で表される化合物(数平均分子量約8000)を合成した。
化合物(b1)に代えて、下記式(b2)で示すFluorolink(登録商標)D4000(数平均分子量約4000)を用い、化合物(A)、化合物(B)、フッ素系溶剤(C)の割合を、化合物(A):化合物(B):フッ素系溶剤(C)=95.2:23.8:381にした以外は実施例1と同様の操作を行い、皮膜を形成した。Fluorolink(登録商標)D4000は、末端にヒドロキシ基を有するとともに、オキシアルキレン単位を有し、オキシアルキレン単位の水素原子の一部がフッ素原子に置換されていた。また、Fluorolink(登録商標)D4000において、ヒドロキシ基中の水素原子以外の水素原子数と、フッ素原子数との合計に対するフッ素原子数の割合は40%以上である。
化合物(A):化合物(B):フッ素系溶剤(C)=95.2:23.8:381にした以外は実施例1と同様にして、皮膜を形成した。
化合物(B)として、Fluorolink(登録商標)D4000を用いたこと以外は実施例1と同様にして、皮膜を形成した。
化合物(B)を用いることなく、化合物(A):フッ素系溶剤(C)=100:400としたこと以外は、実施例1と同様にして、皮膜を形成した。
化合物(b1)に代えて、下記式(c)で表されるFomblin(登録商標)M03(数平均分子量約4000)を用いた以外は実施例1と同様にして、皮膜を形成した。Fomblin(登録商標)M03は、オキシアルキレン単位を有し、オキシアルキレン単位の水素原子の全部がフッ素原子に置換されていたが、その分子内にヒドロキシ基を有さなかった。
化合物(b1)に代えて、上記式(c)で表され、数平均分子量が約9800であるFomblin(登録商標)M30を用いた以外は実施例1と同様にして、皮膜を形成した。Fomblin(登録商標)M30は、オキシアルキレン単位を有し、オキシアルキレン単位の水素原子の全部がフッ素原子に置換されていたが、その分子内にヒドロキシ基を有さなかった。
Claims (8)
- ポリシロキサン骨格を有する皮膜であって、該皮膜では、
CnF2n+1−で表されるパーフルオロアルキル基を末端に有する1価の基(a)が、前記ポリシロキサン骨格のケイ素原子の少なくとも一部に結合しており、
前記基(a)は基中にパーフルオロポリエーテル構造を有すると共に、−CmF2m−で表される基の少なくとも1種を有し、
飛行時間型二次イオン質量分析計によって測定したCmF2mフラグメントイオン強度のうちの最大の強度に対する、CnF2n+1フラグメントイオン強度の比が0.25以上であることを特徴とする皮膜。 - 更に、水素原子の少なくとも一部がフッ素原子に置換されているオキシアルキレン単位を有する構造(b)を有する請求項1に記載の皮膜。
- 前記基(a)が下記式(1a)で表される基である請求項1又は2に記載の皮膜。
Rf11は、炭素数1〜20のパーフルオロアルキル基であり、
Rf12、Rf13、Rf14及びRf15は、それぞれ独立して、1個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数1〜20のアルキル基またはフッ素原子であり、
R11、R12、R13及びR14は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基であり、
Mは、それぞれ独立して、−O−、−C(=O)−O−、−O−C(=O)−、−NR−、−NRC(=O)−、又は−C(=O)NR−(Rは水素原子、炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4の含フッ素アルキル基)であり、
Yは、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基であり、
Zは、水素原子またはハロゲン原子であり、
a1、b1、c1、d1及びe1はそれぞれ独立して0〜600の整数であり、a1、b1、c1、d1及びe1の合計値は9以上であり、
f1は、1〜20の整数であり、
g1は、0〜2の整数であり、
a1、b1、c1、d1、e1及びf1を付して括弧でくくられた各繰り返し単位は、少なくとも一部でパーフルオロポリエーテル構造及び−CmF2m−を形成し、Rf11−及び−Zが末端である限りそれぞれ任意の順に並んでいればよい。 - 前記構造(b)が下記式(1b)で表される請求項2または3に記載の皮膜。
X1、X2は、それぞれ独立して、水素原子またはフッ素原子であり、
R30は、ヒドロキシ基又は結合手であり、
Rf31、Rf32、Rf33は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は−CF3であり、
Jは−O−、−C(=O)−O−、又は−O−C(=O)−O−であり、
a3は1〜5、b3は20〜200、c3は5〜200であり、d3は0又は1であり、
a3、b3、及びc3を付して括弧でくくられた各繰り返し単位は、少なくとも一部で、水素原子の少なくとも一部がフッ素原子に置換されているオキシアルキレン単位を形成し、X1−、−(X2)d3が末端となる限り、それぞれ任意の順に並んでいればよい。 - 前記基(a)が上記式(1a)で表され、式(1a)がOCF2CF2CF2O構造及びCF2OCF2構造を含み、かつ
前記構造(b)が上記式(1b)で表され、式(1b)がCF2OCF2構造及びOCF2O構造を含むとともに、CH2OCH2構造及びCH2OCF2構造の少なくとも一種と、OCH2CH2構造及びOCH2O構造の少なくとも一種を含む請求項4に記載の皮膜。 - 前記基(a)が下記式(1a−2)で表されると共に、
前記構造(b)が、下記式(1b−1)で表されると共にCF2OCF2構造、OCF2O構造、CH2OCH2構造及びOCH2CH2構造を含む構造であるか、又は下記式(1b−2)で表されると共にCF2OCF2構造、OCF2O構造、CH2OCF2構造及びOCH2O構造を含む構造である請求項5に記載の皮膜。
- X線光電子分光法により測定される酸素(O1s)のスペクトルを解析して求められるCF2OCF2構造のOに由来するピーク強度に対する、CH2OCH2構造及びCH2OCF2構造のOに由来するピーク強度の合計の比が0.07以上である請求項5または6に記載の皮膜。
- X線光電子分光法により測定される炭素(C1s)のスペクトルを解析して求められるOCF2O構造とOCF2CF2構造のCに由来するピーク強度の合計に対する、OCH2CH2構造及びOCH2O構造のCに由来するピーク強度の合計の比が0.07以上である請求項5〜7のいずれかに記載の皮膜。
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