JP2019131656A - 組成物、フィルム、積層体構造、発光装置およびディスプレイ - Google Patents

Abstract

【課題】ペロブスカイト化合物を含む熱耐久性が高い組成物の提供。【解決手段】下記（１）、（２）、及び（３）の３成分を含む組成物。（１）Ａ、Ｂ、Ｘを含むペロブスカイト化合物（Ａは、結晶構造において、Ｂを中心とする６面体の各頂点に位置する成分で、１価の陽イオン。Ｂは、Ａを頂点に配置する６面体、及びＸを頂点に配置する８面体の中心に位置する成分で、金属イオン。Ｘは、Ｂを中心とする８面体の各頂点に位置する成分で、ハロゲン化物イオンまたはチオシアン酸イオン。）（２）式（Ｃ）で表される化合物又はその改質体。（３）式（Ｘ１）等で表される化合物。（Ｃ）（Ｘ１）【選択図】なし

Description

本発明は、組成物、フィルム、積層体構造、発光装置、およびディスプレイに関する。

青色ＬＥＤ（発光ダイオード）と、発光性を有する組成物とを備えるＬＥＤバックライトが開発されている。近年、当該組成物に含まれる発光性を有する化合物として、ペロブスカイト化合物に対する関心が高まっている（非特許文献１）。

Ｌ． Ｐｒｏｔｅｓｅｓｃｕ， Ｓ． Ｙａｋｕｎｉｎ， Ｍ．Ｉ．Ｂｏｄｎａｒｃｈｕｋ， Ｆ． Ｋｒｉｅｇ， Ｒ． Ｃａｐｕｔｏ，Ｃ． Ｈ． Ｈｅｎｄｏｎ， Ｒ． Ｘ． Ｙａｎｇ， Ａ． Ｗａｌｓｈ， ａｎｄ Ｍ． Ｖ． Ｋｏｖａｌｅｎｋｏ， Ｎａｎｏ Ｌｅｔｔｅｒｓ， １５， ｐ．３６９２―３６９６ （２０１５）

しかしながら、上記非特許文献１に記載のようなペロブスカイト化合物を含む組成物を発光材料として用いる場合、さらなる熱耐久性の向上が求められている。

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、ペロブスカイト化合物を含む熱耐久性が高い組成物を提供することを目的とする。

上記課題を解決するため、本発明者らは鋭意検討した結果、以下の本発明に至った。

すなわち、本発明は、下記［１］〜［５］の発明を包含する。
［１］下記（１）成分、（２）成分、及び（３）成分を含む組成物。
（Ａは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ｂを中心とする６面体の各頂点に位置する成分であって、１価の陽イオンである。
Ｂは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ａを頂点に配置する６面体、及びＸを頂点に配置する８面体の中心に位置する成分であって、金属イオンである。
Ｘは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ｂを中心とする８面体の各頂点に位置する成分であって、ハロゲン化物イオン及びチオシアン酸イオンからなる群より選ばれる少なくとも一種のイオンである。）
（２）成分：式（Ｃ）で表される化合物又はその改質体。
（３）成分：式（Ｘ１）〜（Ｘ３）でそれぞれ表される化合物及びそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物。

（Ｃ）
（式（Ｃ）中、Ｙ^５は単結合、酸素原子又は硫黄原子を表す。
Ｙが酸素原子の場合、Ｒ^３０、Ｒ^３１は、それぞれ独立に水素原子、炭素原子数が１〜２０のアルキル基、炭素原子数が３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数が２〜２０の不飽和炭化水素基を表す。
Ｙ^５が単結合又は硫黄原子の場合、Ｒ^３０は炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数が３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数が２〜２０の不飽和炭化水素基を表し、Ｒ^３１は水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数が３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数が２〜２０の不飽和炭化水素基を表す。
Ｒ^３０又はＲ^３１で表される基に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。
ａは１〜３の整数である。
ａが２又は３のとき、複数存在するＹ^５は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
ａが２又は３のとき、複数存在するＲ^３０は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
ａが１又は２のとき、複数存在するＲ^３１は、同一であってもよく、異なっていてもよい。）

（Ｘ１）

（Ｘ２）

（Ｘ３）
（式（Ｘ１）中、Ｒ^１８〜Ｒ^２１はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数６〜３０のアリール基を表し、それらは置換基を有していてもよい。Ｍ⁻はカウンターアニオンを表す。
式（Ｘ２）中、Ａ^４は単結合又は酸素原子を表す。Ｒ^２５は、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数６〜３０のアリール基を表し、それらは置換基を有していてもよい。
式（Ｘ３）中、Ａ^５およびＡ^６はそれぞれ独立に、単結合又は酸素原子を表す。Ｒ^２６〜Ｒ^２８はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、又は炭素原子数２〜２０のアルキニル基を表し、それらは置換基を有していてもよい。
Ｒ^１８〜Ｒ^２１及びＲ^２５〜Ｒ^２８で表される基に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。）
［２］［１］に記載の組成物を用いたフィルム。
［３］［２］に記載のフィルムを含む積層構造体。
［４］［３］に記載の積層構造体を備える発光装置。
［５］［３］に記載の積層構造体を備えるディスプレイ。

本発明によれば、熱耐久性の高い組成物、並びにこれを用いた、フィルム、積層体構造、発光装置およびディスプレイ提供することができる。

本発明に係る積層構造体の一実施形態を示す断面図である。 本発明に係るディスプレイの一実施形態を示す断面図である。

＜組成物＞
本発明の組成物は、発光性を有する。「発光性」とは、光を発する性質を指す。組成物は、励起により発光する性質を有することが好ましく、励起光による励起により発光する性質であることがより好ましい。励起光の波長は、例えば、２００ｎｍ〜８００ｎｍであってもよく、２５０ｎｍ〜７５０ｎｍであってもよく、３００ｎｍ〜７００ｎｍであってもよい。

本発明の組成物は、下記（１）成分、（２）成分、および（３）成分を含む。
（１）成分：Ａ、Ｂ、及びＸを有するペロブスカイト化合物。
（Ａ）は、ペロブスカイト型結晶構造において、Ｂを中心とする６面体の各頂点に位置する成分であって、１価の陽イオンである。
Ｂは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ａを頂点に配置する６面体、及びＸを頂点に配置する８面体の中心に位置する成分であって、金属イオンである。
Ｘは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ｂを中心とする８面体の各頂点に位置する成分であって、ハロゲン化物イオン及びチオシアン酸イオンからなる群より選ばれる少なくとも一種のイオンである。）
（２）成分：式（Ｃ）で表される化合物又はその改質体。
（３）成分：式（Ｘ１）〜（Ｘ３）で表される化合物及びそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも一種。

（Ｃ）
（式（Ｃ）中、Ｙ^５は単結合、酸素原子又は硫黄原子を表す。
Ｙが酸素原子の場合、Ｒ^３０、Ｒ^３１は、それぞれ独立に水素原子、炭素原子数が１〜２０のアルキル基、炭素原子数が３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数が２〜２０の不飽和炭化水素基を表す。
Ｙ^５が単結合又は硫黄原子の場合、Ｒ^３０は炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数が３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数が２〜２０の不飽和炭化水素基を表し、Ｒ^３１は水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数が３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数が２〜２０の不飽和炭化水素基を表す。
Ｒ^３０又はＲ^３１で表される基に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。
ａは１〜３の整数である。
ａが２又は３のとき、複数存在するＹ^５は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
ａが２又は３のとき、複数存在するＲ^３０は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
ａが１又は２のとき、複数存在するＲ^３１は、同一であってもよく、異なっていてもよい。）

（Ｘ１）

（Ｘ２）

（Ｘ３）
（式（Ｘ１）中、Ｒ^１８〜Ｒ^２１はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数６〜３０のアリール基を表し、それらは置換基を有していてもよい。Ｍ⁻はカウンターアニオンを表す。
式（Ｘ２）中、Ａ^４は単結合又は酸素原子を表す。Ｒ^２５は、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数６〜３０のアリール基を表し、それらは置換基を有していてもよい。
式（Ｘ３）中、Ａ^５およびＡ^６はそれぞれ独立に、単結合又は酸素原子を表す。Ｒ^２６〜Ｒ^２８はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、又は炭素原子数２〜２０のアルキニル基を表し、それらは置換基を有していてもよい。
Ｒ^１８〜Ｒ^２１及びＲ^２５〜Ｒ^２８で表される基に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。）

本実施形態の組成物において、組成物全体に対する（１）成分、（２）成分、および（３）成分の合計の含有割合は、特に限定されるものではないが、組成物全体に対し９５質量％以上であってもよく、９９質量％以上であってもよく、１００質量％であってもよい。
組成物全体に対する（１）成分の含有割合は、通常、０．０００１質量％〜５０質量％であり、０．０１質量％〜２０質量％であることが好ましく、０．１質量％〜１５質量％以下であることがより好ましく、１質量％〜１０質量％以下であることがさらに好ましい。
組成物全体に対する（２）成分の含有割合は、通常、０．０１質量％〜９９質量％であり、１質量％〜９６質量％であることが好ましく、１０質量％〜９５質量％以下であることがより好ましく、４０質量％〜９４質量％以下であることがさらに好ましい。
組成物全体に対する（３）成分の含有割合は、通常、０．０１質量％〜７０質量％であり、０．１質量％〜６０質量％であることが好ましく、０．５質量％〜５５質量％以下であることがより好ましく、１質量％〜５３質量％以下であることがさらに好ましい。
（１）成分、（２）成分、および（３）成分の配合に係るそれぞれの範囲が、上記範囲内である組成物は、（１）成分の凝集が生じ難く、高い発光性を発揮する点で好ましい。

本実施形態の組成物は、下記（４）成分および（５）成分からなる群より選ばれる少なくとも一種を含んでいてもよい。
（４）成分：溶媒。
（５）成分：重合性化合物、またはその重合体。

本実施形態において、（１）成分は、（４）成分および（５）成分からなる群より選ばれる少なくとも一種に分散していることが好ましい。

（１）成分、（２）成分、および（３）成分と、（４）成分および（５）成分からなる群より選ばれる少なくとも一種とを含む実施形態の組成物において、組成物全体に対する（１）成分、（２）成分、および（３）成分と、（４）成分および（５）成分からなる群より選ばれる少なくとも一種とを含む組成物の合計は、組成物全体に対し９５質量％以上であってもよく、９９質量％以上であってもよく、１００質量％であってもよい。
組成物全体に対する（１）成分の含有割合は、通常、０．０００１質量％〜５０質量％であり、０．０００１質量％〜１質量％であることが好ましく、０．０００５質量％〜１質量％以下であることがより好ましく、０．００１質量％〜０．５質量％以下であることがさらに好ましく、０．０５質量％〜０．３質量％以下であることがもっとも好ましい。
組成物全体に対する（２）成分の含有割合は、通常、０．０００１質量％〜５０質量％であり、０．０００１質量％〜１質量％であることが好ましく、０．０５質量％〜１０質量％以下であることがより好ましく、１質量％〜７質量％以下であることがさらに好ましい。
組成物全体に対する（３）成分の含有割合は、通常、０．０００１質量％〜５０質量％であり、０．００１質量％〜１０質量％であることが好ましく、０．００５質量％〜５質量％以下であることがより好ましく、０．０１質量％〜３質量％以下であることがさらに好ましい。
組成物全体に対する（４）成分および（５）成分からなる群より選ばれる少なくとも一種の含有割合は、通常、０．０００１質量％〜９９質量％であり、１０質量％〜９９質量％であることが好ましく、３０質量％〜９８．５質量％以下であることがより好ましく、７０質量％〜９８質量％以下であることがさらに好ましい。
上記の上限値および下限値は任意に組み合わせることができる。
（１）成分、（２）成分、および（３）成分と、（４）成分、および（５）成分からなる群より選ばれる少なくとも一種の配合に係るそれぞれの範囲が、上記範囲内である組成物は、（１）成分の凝集が生じ難く、高い発光性を発揮する点で好ましい。

本実施形態の組成物は、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および下記（５’）成分を含み、（１）成分、（２）成分、（３）成分および（５’）成分の合計量が、組成物全体に対し９０質量％以上であることが好ましい。
（５’）成分：重合体。
本実施形態の組成物において、（１）成分は、（５’）成分に分散していることが好ましい。
本実施形態の組成物において、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５’）成分の合計は、組成物全体に対し９５質量％以上であってもよく、９９質量％以上であってもよく、１００質量％であってもよい。
組成物全体に対する（１）成分の含有割合は、通常、０．０００１質量％〜５０質量％であり、０．０００１質量％〜１質量％であることが好ましく、０．０００５質量％〜１質量％以下であることがより好ましく、０．００１質量％〜０．５質量％以下であることがさらに好ましく、０．０５質量％〜０．３質量％以下であることがもっとも好ましい。
組成物全体に対する（２）成分の含有割合は、通常、０．０００１質量％〜５０質量％であり、０．０００１質量％〜１質量％であることが好ましく、０．０５質量％〜１０質量％以下であることがより好ましく、１質量％〜７質量％以下であることがさらに好ましい。
組成物全体に対する（３）成分の含有割合は、通常、０．０００１質量％〜５０質量％であり、０．００１質量％〜１０質量％であることが好ましく、０．００５質量％〜５質量％以下であることがより好ましく、０．０１質量％〜３質量％以下であることがさらに好ましい。
組成物全体に対する（５’）成分の含有割合は、通常、０．０００１質量％〜９９質量％であり、１０質量％〜９９質量％であることが好ましく、３０質量％〜９８．５質量％以下であることがより好ましく、７０質量％〜９８質量％以下であることがさらに好ましい。
上記の上限値および下限値は任意に組み合わせることができる。
（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５’）成分の配合に係るそれぞれの範囲が、上記範囲内である組成物は、（１）成分の凝集が生じ難く、高い発光性を発揮する点で好ましい。

本実施形態の組成物は、下記（６）成分を含んでいてもよい。
（６）成分：アンモニア、アミン、およびカルボン酸、並びにこれらの塩またはイオンからなる群から選ばれる少なくとも１種。

本実施形態の組成物において、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（６）成分の合計は、組成物全体に対し０．１質量％以上であってもよく、９９質量％以上であってもよく、１００質量％であってもよい。
組成物全体に対する（１）成分の含有割合は、通常、０．０００１質量％〜５０質量％であり、０．０１質量％〜２０質量％であることが好ましく、０．１質量％〜１５質量％以下であることがより好ましく、１質量％〜１０質量％以下であることがさらに好ましい。
組成物全体に対する（２）成分の含有割合は、通常、０．０１質量％〜９９質量％であり、１質量％〜９６質量％であることが好ましく、１０質量％〜９５質量％以下であることがより好ましく、４０質量％〜９４質量％以下であることがさらに好ましい。
組成物全体に対する（３）成分の含有割合は、通常、０．０１質量％〜７０質量％であり、０．１質量％〜６０質量％であることが好ましく、０．５質量％〜５５質量％以下であることがより好ましく、１質量％〜５３質量％以下であることがさらに好ましい。
組成物全体に対する（６）成分の含有割合は、通常、０．０００１質量％〜５０質量％であり、０．０００１質量％〜２０質量％であることが好ましく、０．０１質量％〜１０質量％以下であることがより好ましく、０．１質量％〜５質量％以下であることがさらに好ましい。
上記の上限値および下限値は任意に組み合わせることができる。
（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（６）成分の配合に係るそれぞれの範囲が、上記範囲内である組成物は、（１）成分の凝集が生じ難く、高い発光性を発揮する点で好ましい。

本実施形態の組成物は、上述の（１）成分〜（６）成分以外のその他の成分を有していてもよい。
その他の成分としては、例えば、若干の不純物、並びにペロブスカイト化合物を構成する元素成分からなるアモルファス構造を有する化合物、重合開始剤が挙げられる。
その他の成分は、組成物全体に対して１０質量％以下であることが好ましく、５質量％以下であることがより好ましく、１質量％以下であることがさらに好ましい。

以下、本発明における組成物について実施形態を示して説明する。

≪（１）成分≫
（１）成分は、Ａ、Ｂ、およびＸを有するペロブスカイト化合物である。以下、（１）成分について説明する。

本実施形態の組成物に含まれるペロブスカイト化合物は、Ａ、Ｂ、およびＸを有するペロブスカイト化合物である。
（Ａは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ｂを中心とする６面体の各頂点に位置する成分であって、１価の陽イオンである。
Ｘは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ｂを中心とする８面体の各頂点に位置する成分を表し、ハロゲン化物イオン、およびチオシアン酸イオンからなる群より選ばれる少なくとも１種のイオンである。
Ｂは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ａを頂点に配置する６面体、およびＸを頂点に配置する８面体の中心に位置する成分であって、金属イオンである。）。

Ａ、Ｂ、およびＸを有するペロブスカイト化合物としては、特に限定されず、３次元構造、２次元構造、疑似２次元構造のいずれの構造を有する化合物であってもよい。
３次元構造の場合には、ペロブスカイト化合物は、ＡＢＸ_{（３＋δ）}で表される。
２次元構造の場合には、ペロブスカイト化合物は、Ａ_２ＢＸ_{（４＋δ）}で表される。
ここで、δは、Ｂの電荷バランスに応じて適宜変更が可能な数であり、−０．７以上０．７以下である。

ペロブスカイト化合物は、下記一般式（１）で表されるペロブスカイト化合物であることが好ましい。
ＡＢＸ_{（３＋δ）} （−０．７≦δ≦０．７） …（１）
［一般式（１）中、Ａは１価の陽イオン、Ｂは金属イオン、Ｘはハロゲン化物イオン、およびチオシアン酸イオンからなる群より選ばれる少なくとも１種のイオンである。］

〔Ａ〕
ペロブスカイト化合物中、Ａは前記ペロブスカイト型結晶構造において、Ｂを中心とする６面体の各頂点に位置する成分であって、１価の陽イオンである。１価の陽イオンとしては、セシウムイオン、有機アンモニウムイオン、またはアミジニウムイオンが挙げられる。ペロブスカイト化合物において、Ａがセシウムイオン、炭素原子数が３以下の有機アンモニウムイオン、または炭素原子数が３以下のアミジニウムイオンである場合、一般的にペロブスカイト化合物は、ＡＢＸ_{（３＋δ）}で表される、３次元構造を有する。
ペロブスカイト化合物中のＡはセシウムイオン、または有機アンモニウムイオンが好ましい。

Ａの有機アンモニウムイオンとして具体的には、下記一般式（Ａ３）で表される陽イオンが挙げられる。

一般式（Ａ３）中、Ｒ^６〜Ｒ^９は、それぞれ独立に、水素原子、置換基としてアミノ基を有していてもよいアルキル基、または置換基としてアミノ基を有していてもよいシクロアルキル基を表す。

Ｒ^６〜Ｒ^９で表されるアルキル基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよく、置換基としてアミノ基を有していてもよい。
Ｒ^６〜Ｒ^９で表されるアルキル基の炭素原子数は、通常１〜２０であり、１〜４であることが好ましく、１〜３であることがより好ましい。

Ｒ^６〜Ｒ^９で表されるシクロアルキル基は、置換基としてアルキル基を有していてもよく、アミノ基を有していてもよい。
Ｒ^６〜Ｒ^９で表されるシクロアルキル基の炭素原子数は、通常３〜３０であり、３〜１１であることが好ましく、３〜８であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数も含む。

Ｒ^６〜Ｒ^９としては、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基であることが好ましい。
一般式（Ａ３）に含まれ得るアルキル基およびシクロアルキル基の数を少なくすること、ならびにアルキル基およびシクロアルキル基の炭素原子数を小さくすることにより、発光強度が高い３次元構造のペロブスカイト型結晶構造を有する化合物を得ることができる。
アルキル基またはシクロアルキル基の炭素原子数が４以上の場合、２次元、および／または擬似二次元（ｑｕａｓｉ―２Ｄ）のペロブスカイト型の結晶構造を一部あるいは全体に有する化合物を得ることができる。２次元のペロブスカイト型結晶構造が無限大に積層すると３次元のペロブスカイト型結晶構造と同等になる（参考文献：Ｐ．Ｐ．Ｂｏｉｘら、Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．２０１５，６，８９８−９０７など）。
Ｒ^６〜Ｒ^９で表されるアルキル基およびシクロアルキル基に含まれる炭素原子数の合計数は１〜４であることが好ましく、Ｒ^６〜Ｒ^９のうちの１つが炭素原子数１〜３のアルキル基であり、Ｒ^６〜Ｒ^９のうちの３つが水素原子であることがより好ましい。

Ｒ^６〜Ｒ^９のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、１−メチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２，２−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘプチル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル基、２，２−ジメチルペンチル基、２，３−ジメチルペンチル基、２，４−ジメチルペンチル基、３，３−ジメチルペンチル基、３−エチルペンチル基、２，２，３−トリメチルブチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基が例示できる。

Ｒ^６〜Ｒ^９のシクロアルキル基としては、Ｒ^６〜Ｒ^９のアルキル基で例示した炭素原子数３以上のアルキル基が環を形成したものが挙げられ、一例として、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、１−アダマンチル基、２−アダマンチル基、トリシクロデシル基等を例示できる。

Ａで表される有機アンモニウムイオンとしては、ＣＨ_３ＮＨ_３ ^＋（メチルアンモニウムイオン）、Ｃ_２Ｈ_５ＮＨ_３ ^＋（エチルアンモニウムイオン） またはＣ_３Ｈ_７ＮＨ_３ ^＋（プロピルアンモニウムイオン）であることが好ましく、ＣＨ_３ＮＨ_３ ^＋ またはＣ_２Ｈ_５ＮＨ_３ ^＋であることより好ましく、ＣＨ_３ＮＨ_３ ^＋であることがさらに好ましい。

Ａで表されるアミジニウムイオンとしては、例えば、下記一般式（Ａ４）で表されるアミジニウムイオンが挙げられる。
（Ｒ^１０Ｒ^１１Ｎ＝ＣＨ−ＮＲ^１２Ｒ^１３）^＋・・・（Ａ４）

一般式（Ａ４）中、Ｒ^１０〜Ｒ^１３は、それぞれ独立に、水素原子、置換基としてアミノ基を有していてもよいアルキル基、または置換基としてアミノ基を有していてもよいシクロアルキル基を表す。

Ｒ^１０〜Ｒ^１３で表されるアルキル基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよく、置換基としてアミノ基を有していてもよい。
Ｒ^１０〜Ｒ^１３で表されるアルキル基の炭素原子数は、通常１〜２０であり、１〜４であることが好ましく、１〜３であることがより好ましい。

Ｒ^１０〜Ｒ^１３で表されるシクロアルキル基は、置換基として、アルキル基を有していてもよく、アミノ基を有していてもよい。
Ｒ^１０〜Ｒ^１３で表されるシクロアルキル基の炭素原子数は、通常３〜３０であり、３〜１１であることが好ましく、３〜８であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。

Ｒ^１０〜Ｒ^１３のアルキル基の具体例としては、Ｒ^６〜Ｒ^９において例示したアルキル基が挙げられる。
Ｒ^１０〜Ｒ^１３のシクロアルキル基の具体例としては、Ｒ^６〜Ｒ^９において例示したシクロアルキル基が挙げられる。

Ｒ^１０〜Ｒ^１３としては、水素原子またはアルキル基が好ましい。
一般式（Ａ４）に含まれる、アルキル基およびシクロアルキル基の数を少なくすること、ならびにアルキル基およびシクロアルキル基の炭素原子数を小さくすることにより、発光強度が高い３次元構造のペロブスカイト化合物を得ることができる。

アルキル基またはシクロアルキル基の炭素原子数が４以上の場合、２次元、および／または擬似二次元（ｑｕａｓｉ―２Ｄ）のペロブスカイト型結晶構造を一部あるいは全体に有する化合物を得ることができる。また、Ｒ^１０〜Ｒ^１３で表されるアルキル基およびシクロアルキル基に含まれる炭素原子数の合計数は１〜４であることが好ましく、Ｒ^１０が炭素原子数１〜３のアルキル基であり、Ｒ^１１〜Ｒ^１３が水素原子であることがより好ましい。

〔Ｂ〕
ペロブスカイト化合物中、Ｂは前記ペロブスカイト型結晶構造において、Ａを頂点に配置する６面体、およびＸを頂点に配置する８面体の中心に位置する成分であって、金属イオンである。Ｂ成分の金属イオンは１価の金属イオン、２価の金属イオン、および３価の金属イオンからなる群より選ばれる１種類以上からなるイオンであってよい。Ｂは２価の金属イオンを含むことが好ましく、鉛、またはスズからなる群より選ばれる１種類以上の金属イオンを含むことがより好ましい。

〔Ｘ〕
ペロブスカイト化合物中、Ｘは前記ペロブスカイト型結晶構造において、Ｂを中心とする８面体の各頂点に位置する成分を表し、ハロゲン化物イオン、およびチオシアン酸イオンからなる群より選ばれる少なくとも１種のイオンを表す。Ｘは、塩化物イオン、臭化物イオン、フッ化物イオン、ヨウ化物イオン、およびチオシアン酸イオンからなる群より選ばれる少なくとも１種のイオンであってよい。

Ｘは、所望の発光波長に応じて適宜選択することができるが、例えばＸは臭化物イオンを含むことができる。
Ｘが２種以上のハロゲン化物イオンである場合、該ハロゲン化物イオンの含有比率は、発光波長により適宜選ぶことができ、例えば、臭化物イオンと塩化物イオンとの組み合わせ、または、臭化物イオンとヨウ化物イオンとの組み合わせとすることができる。

本明細書において、ペロブスカイト構造は、Ｘ線回折パターンにより確認することができる。
前記３次元構造のペロブスカイト型結晶構造を有する化合物の場合、Ｘ線回折パターンにおいて、通常、２θ＝１２〜１８°の位置に（ｈｋｌ）＝（００１）に由来するピーク、又は２θ＝１８〜２５°の位置に(ｈｋｌ)＝（１１０）に由来するピークが確認される。２θ＝１３〜１６°の位置に、(ｈｋｌ)＝（００１）に由来するピークが、又は２θ＝２０〜２３°の位置に、(ｈｋｌ)＝（１１０）に由来するピークが確認されることがより好ましい。

前記２次元構造のペロブスカイト型結晶構造を有する化合物の場合、Ｘ線回折パターンにおいて、通常、２θ＝１〜１０°の位置に、(ｈｋｌ)＝（００２）由来のピークが確認され、２θ＝２〜８°の位置に、(ｈｋｌ)＝（００２）由来のピークが確認されることがより好ましい。

ペロブスカイト化合物であって、ＡＢＸ_{（３＋δ）}で表される、３次元構造のペロブスカイト型の結晶構造を有する化合物の具体例としては、ＣＨ_３ＮＨ_３ＰｂＢｒ_３、ＣＨ_３ＮＨ_３ＰｂＣｌ_３、ＣＨ_３ＮＨ_３ＰｂＩ_３、ＣＨ_３ＮＨ_３ＰｂＢｒ_{（３−ｙ）}Ｉ_ｙ（０＜ｙ＜３）、ＣＨ_３ＮＨ_３ＰｂＢｒ_{（３−ｙ）}Ｃｌ_ｙ（０＜ｙ＜３）、（Ｈ_２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ_２) ＰｂＢｒ_３、（Ｈ_２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ_２) ＰｂＣｌ_３、（Ｈ_２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ_２) ＰｂＩ_３、
ＣＨ_３ＮＨ_３Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｃａ_ａＢｒ_３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ_３ＮＨ_３Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｓｒ_ａＢｒ_３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ_３ＮＨ_３Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｌａ_ａＢｒ_{（３＋δ）}（０＜ａ≦０．７，０＜δ≦０．７）、ＣＨ_３ＮＨ_３Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｂａ_ａＢｒ_３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ_３ＮＨ_３Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｄｙ_ａＢｒ_{（３＋δ）}（０＜ａ≦０．７，０＜δ≦０．７）、
ＣＨ_３ＮＨ_３Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｎａ_ａＢｒ_{（３＋δ）}（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０）、ＣＨ_３ＮＨ_３Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｌｉ_ａＢｒ_{（３＋δ）}（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０）、
ＣｓＰｂ_{（１−ａ）}Ｎａ_ａＢｒ_{（３＋δ）}（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０）、ＣｓＰｂ_{（１−ａ）}Ｌｉ_ａＢｒ_{（３＋δ）}（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０）、
ＣＨ_３ＮＨ_３Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｎａ_ａＢｒ_{（３＋δ−ｙ）}Ｉ_ｙ（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０, ０＜ｙ＜３）、ＣＨ_３ＮＨ_３Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｌｉ_ａＢｒ_{（３＋δ−ｙ）}Ｉ_ｙ（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０, ０＜ｙ＜３）、ＣＨ_３ＮＨ_３Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｎａ_ａＢｒ_{（３＋δ−ｙ）}Ｃｌ_ｙ（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０, ０＜ｙ＜３）、ＣＨ_３ＮＨ_３Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｌｉ_ａＢｒ_{（３＋δ−ｙ）}Ｃｌ_ｙ（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０, ０＜ｙ＜３）、
（Ｈ_２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ_２) Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｎａ_ａＢｒ_{（３＋δ）}（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０）、（Ｈ_２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ_２) Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｌｉ_ａＢｒ_{（３＋δ）}（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０）、（Ｈ_２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ_２)Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｎａ_ａＢｒ_{（３＋δ−ｙ）}Ｉ_ｙ（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０, ０＜ｙ＜３）、（Ｈ_２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ_２)Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｎａ_ａＢｒ_{（３＋δ−ｙ）}Ｃｌ_ｙ（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０, ０＜ｙ＜３）、
ＣｓＰｂＢｒ_３、ＣｓＰｂＣｌ_３、ＣｓＰｂＩ_３、ＣｓＰｂＢｒ_{（３−ｙ）}Ｉ_ｙ（０＜ｙ＜３）、ＣｓＰｂＢｒ_{（３−ｙ）}Ｃｌ_ｙ（０＜ｙ＜３）、ＣＨ_３ＮＨ_３ＰｂＢｒ_{（３−ｙ）}Ｃｌ_ｙ（０＜ｙ＜３）、
ＣＨ_３ＮＨ_３Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｚｎ_ａＢｒ_３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ_３ＮＨ_３Ｐｂ_{（１−ａ）}Ａｌ_ａＢｒ_{（３＋δ）}（０＜ａ≦０．７、０≦δ≦０．７）、ＣＨ_３ＮＨ_３Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｃｏ_ａＢｒ_３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ_３ＮＨ_３Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｍｎ_ａＢｒ_３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ_３ＮＨ_３Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｍｇ_ａＢｒ_３（０＜ａ≦０．７）、
ＣｓＰｂ_{（１−ａ）}Ｚｎ_ａＢｒ_３（０＜ａ≦０．７）、ＣｓＰｂ_{（１−ａ）}Ａｌ_ａＢｒ_{（３＋δ）}（０＜ａ≦０．７、０＜δ≦０．７）、ＣｓＰｂ_{（１−ａ）}Ｃｏ_ａＢｒ_３（０＜ａ≦０．７）、ＣｓＰｂ_{（１−ａ）}Ｍｎ_ａＢｒ_３（０＜ａ≦０．７）、ＣｓＰｂ_{（１−ａ）}Ｍｇ_ａＢｒ_３（０＜ａ≦０．７）、
ＣＨ_３ＮＨ_３Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｚｎ_ａＢｒ_{（３−ｙ）}Ｉ_ｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜３）、ＣＨ_３ＮＨ_３Ｐｂ_{（１−ａ）}Ａｌ_ａＢｒ_{（３＋δ−ｙ）}Ｉ_ｙ（０＜ａ≦０．７，０＜δ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ_３ＮＨ_３Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｃｏ_ａＢｒ_{（３−ｙ）}Ｉ_ｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜３）、ＣＨ_３ＮＨ_３Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｍｎ_ａＢｒ_{（３−ｙ）}Ｉ_ｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ_３ＮＨ_３Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｍｇ_ａＢｒ_{（３−ｙ）}Ｉ_ｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜３）、ＣＨ_３ＮＨ_３Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｚｎ_ａＢｒ_{（３−ｙ）}Ｃｌ_ｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜３）、ＣＨ_３ＮＨ_３Ｐｂ_{（１−ａ）}Ａｌ_ａＢｒ_{（３＋δ−ｙ）}Ｃｌ_ｙ（０＜ａ≦０．７、０＜δ≦０．７、０＜ｙ＜３）、ＣＨ_３ＮＨ_３Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｃｏ_ａＢｒ_{（３＋δ−ｙ）}Ｃｌ_ｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜３）、ＣＨ_３ＮＨ_３Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｍｎ_ａＢｒ_{（３−ｙ）}Ｃｌ_ｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜３）、ＣＨ_３ＮＨ_３Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｍｇ_ａＢｒ_{（３−ｙ）}Ｃｌ_ｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜３）、
（Ｈ_２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ_２）Ｚｎ_ａＢｒ_３）（０＜ａ≦０．７）、（Ｈ_２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ_２）Ｍｇ_ａＢｒ_３（０＜ａ≦０．７）、（Ｈ_２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ_２）Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｚｎ_ａＢｒ_{（３−ｙ）}Ｉ_ｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜３）、（Ｈ_２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ_２）Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｚｎ_ａＢｒ_{（３−ｙ）}Ｃｌ_ｙ（０＜ａ≦０．０＜ｙ＜３）等が好ましいものとして挙げられる。

ペロブスカイト化合物であって、Ａ_２ＢＸ_{（４＋δ）}で表される、２次元構造のペロブスカイト型の結晶構造を有する化合物の具体例としては、
(Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ_３)_２ＰｂＢｒ_４、(Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ_３)_２ＰｂＣｌ_４、 (Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ_３)_２ＰｂＩ_４、(Ｃ_７Ｈ_１５ＮＨ_３)_２ＰｂＢｒ_４、(Ｃ_７Ｈ_１５ＮＨ_３)_２ＰｂＣｌ_４、(Ｃ_７Ｈ_１５ＮＨ_３)_２ＰｂＩ_４、(Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ_３)_２Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｌｉ_ａＢｒ_{（４＋δ）}（０＜ａ≦０．７、−０．７≦δ＜０）、(Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ_３)_２Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｎａ_ａＢｒ_{（４＋δ）}（０＜ａ≦０．７、−０．７≦δ＜０）、(Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ_３)_２Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｒｂ_ａＢｒ_{（４＋δ）}（０＜ａ≦０．７、−０．７≦δ＜０）、
(Ｃ_７Ｈ_１５ＮＨ_３)_２Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｎａ_ａＢｒ_{（４＋δ）}（０＜ａ≦０．７、−０．７≦δ＜０）、(Ｃ_７Ｈ_１５ＮＨ_３)_２Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｌｉ_ａＢｒ_{（４＋δ）}（０＜ａ≦０．７、−０．７≦δ＜０）、(Ｃ_７Ｈ_１５ＮＨ_３)_２Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｒｂ_ａＢｒ_{（４＋δ）}（０＜ａ≦０．７、−０．７≦δ＜０）、
(Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ_３)_２Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｎａ_ａＢｒ_{（４＋δ−ｙ）}Ｉ_ｙ（０＜ａ≦０．７、−０．７≦δ＜０、０＜ｙ＜４）、(Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ_３)_２Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｌｉ_ａＢｒ_{（４＋δ−ｙ）}Ｉ_ｙ（０＜ａ≦０．７、−０．７≦δ＜０、０＜ｙ＜４）、(Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ_３)_２Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｒｂ_ａＢｒ_{（４＋δ−ｙ）}Ｉ_ｙ（０＜ａ≦０．７、−０．７≦δ＜０、０＜ｙ＜４）、
(Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ_３)_２Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｎａ_ａＢｒ_{（４＋δ−ｙ）}Ｃｌ_ｙ（０＜ａ≦０．７、−０．７≦δ＜０、０＜ｙ＜４）、(Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ_３)_２Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｌｉ_ａＢｒ_{（４＋δ−ｙ）}Ｃｌ_ｙ（０＜ａ≦０．７、−０．７≦δ＜０、０＜ｙ＜４）、(Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ_３)_２Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｒｂ_ａＢｒ_{（４＋δ−ｙ）}Ｃｌ_ｙ（０＜ａ≦０．７、−０．７≦δ＜０、０＜ｙ＜４）、
(Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ_３)_２ＰｂＢｒ_４、(Ｃ_７Ｈ_１５ＮＨ_３)_２ＰｂＢｒ_４、
(Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ_３)_２ＰｂＢｒ_{（４-ｙ）}Ｃｌ_ｙ（０＜ｙ＜４）、(Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ_３)_２ＰｂＢｒ_{（４-ｙ）}Ｉ_ｙ（０＜ｙ＜４）、
(Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ_３)_２Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｚｎ_ａＢｒ_４（０＜ａ≦０．７）、(Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ_３)_２Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｍｇ_ａＢｒ_４（０＜ａ≦０．７）(Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ_３)_２Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｃｏ_ａＢｒ_４（０＜ａ≦０．７）、(Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ_３)_２Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｍｎ_ａＢｒ_４（０＜ａ≦０．７）、
(Ｃ_７Ｈ_１５ＮＨ_３)_２Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｚｎ_ａＢｒ_４（０＜ａ≦０．７）、(Ｃ_７Ｈ_１５ＮＨ_３)_２Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｍｇ_ａＢｒ_４（０＜ａ≦０．７）、(Ｃ_７Ｈ_１５ＮＨ_３)_２Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｃｏ_ａＢｒ_４（０＜ａ≦０．７）、(Ｃ_７Ｈ_１５ＮＨ_３)_２Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｍｎ_ａＢｒ_４（０＜ａ≦０．７）、
(Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ_３)_２Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｚｎ_ａＢｒ_{（４-ｙ）}Ｉ_ｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜４）、（Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ_３)_２Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｍｇ_ａＢｒ_{（４-ｙ）}Ｉ_ｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜４）、(Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ_３)_２Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｃｏ_ａＢｒ_{（４-ｙ）}Ｉ_ｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜４）、(Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ_３)_２Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｍｎ_ａＢｒ_{（４-ｙ）}Ｉ_ｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜４）、
(Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ_３)_２Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｚｎ_ａＢｒ_{（４-ｙ）}Ｃｌ_ｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜４）、(Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ_３)_２Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｍｇ_ａＢｒ_{（４-ｙ）}Ｃｌ_ｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜４）、(Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ_３)_２Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｃｏ_ａＢｒ_{（４-ｙ）}Ｃｌ_ｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜４）、(Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ_３)_２Ｐｂ_{（１−ａ）}Ｍｎ_ａＢｒ_{（４-ｙ）}Ｃｌ_ｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜４）等が好ましいものとして挙げられる。

・発光スペクトル
ペロブスカイト化合物は、可視光波長領域に蛍光を発することができる発光体である。Ｘが臭化物イオンの場合は、通常４８０ｎｍ以上、好ましくは５００ｎｍ以上、より好ましくは５１０ｎｍ以上であって、かつ、通常７００ｎｍ以下、好ましくは６００ｎｍ以下、より好ましくは５８０ｎｍ以下の波長範囲に発光強度の極大ピークがある蛍光を発することができる。
上記の上限値および下限値は任意に組み合わせることができる。

Ｘがヨウ化物イオンの場合は、通常５２０ｎｍ以上、好ましくは５３０ｎｍ以上、より好ましくは５４０ｎｍ以上であって、かつ、通常８００ｎｍ以下、好ましくは７５０ｎｍ以下、より好ましくは７３０ｎｍ以下の波長範囲に発光強度の極大ピークがある蛍光を発することができる。
上記の上限値および下限値は任意に組み合わせることができる。

Ｘが塩化物イオンの場合は、通常３００ｎｍ以上、好ましくは３１０ｎｍ以上、より好ましくは３３０ｎｍ以上であって、かつ、通常６００ｎｍ以下、好ましくは５８０ｎｍ以下、より好ましくは５５０ｎｍ以下の波長範囲に発光強度の極大ピークがある蛍光を発することができる。
上記の上限値および下限値は任意に組み合わせることができる。

組成物に含まれる、（１）成分の粒径は、特に限定されるものではないが、良好に結晶構造を維持させる観点から、直径が１ｎｍ以上であることが好ましく、２ｎｍ以上であることがより好ましく、３ｎｍ以上であることがさらに好ましい。また、組成物において（１）成分が沈降しにくくなる観点から、１０μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以下であることがより好ましく、５００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
上記の上限値および下限値は任意に組み合わせることができる。

組成物に含まれる、（１）成分の粒径は、特に限定されるものではないが、組成物において（１）成分が沈降しにくくなる観点、および良好に結晶構造を維持させる観点から、直径が１ｎｍ以上１０μｍ以下であることが好ましく、２ｎｍ以上１μｍ以下であることがより好ましく、３ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。

組成物に含まれる、（１）成分の粒度分布は、特に限定されるものではないが、良好に結晶構造を維持させる観点から、メディアン径のＤ_５０が３ｎｍ以上であることが好ましく、４ｎｍ以上であることがより好ましく、５ｎｍ以上であることがさらに好ましい。また、組成物において（１）が沈降しにくくなる観点から、５μｍ以下であることが好ましく、５００ｎｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。

≪（２）成分≫
（２）成分は、式（Ｃ）で表される化合物又はその改質体である。

（Ｃ）
（式（Ｃ）中、Ｙ^５は単結合、酸素原子または硫黄原子である。
（Ｙが酸素原子の場合）
Ｒ^３０、Ｒ^３１は、それぞれ独立に炭素原子数が１〜２０のアルキル基、炭素原子数が３〜３０のシクロアルキル基、または炭素原子数が２〜２０の不飽和炭化水素基、または水素原子である。
（Ｙ^５が単結合、または硫黄原子の場合）
Ｒ^３０は炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数が３〜３０のシクロアルキル基、または炭素原子数が２〜２０の不飽和炭化水素基であり、
Ｒ^３１は炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数が３〜３０のシクロアルキル基、炭素原子数が２〜２０の不飽和炭化水素基、または水素原子である。
Ｒ^３０またはＲ^３１で表される上記アルキル基、シクロアルキル基および不飽和炭化水素基にある水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、置換基として、それぞれ独立にアルキル基、シクロアルキル基、不飽和炭化水素基、又はアミノ基で置換さていてもよい。
ａは１〜３の整数である。
ａが２または３のとき、複数存在するＹは、同一であってもよく、異なっていてもよい。
ａが２または３のとき、複数存在するＲ３０は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
ａが１または２のとき、複数存在するＲ３１は、同一であってもよく、異なっていてもよい。）

前記式（Ｃ）で表される化合物は、後述する方法でシリカ変性させて改質して用いてもよい。

（２）成分の少なくとも一部は、組成物に含まれる（１）成分に吸着していてもよく、組成物中に分散していてもよい。

Ｒ^３０およびＲ^３１で表されるアルキル基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよい。

Ｙ^５が酸素原子である場合、Ｒ^３０で表されるアルキル基の炭素原子数は、改質が素早く進行することから、１〜２０であることが好ましく、１〜３であることがより好ましく、１であることがさらに好ましい。

Ｙ^５が単結合、または硫黄原子である場合、Ｒ^３０で表されるアルキル基の炭素原子数は、５〜２０であることが好ましく、８〜２０であることがより好ましい。

Ｙ^５は、改質が素早く進行することから、酸素原子が好ましい。

Ｒ^３１で表されるアルキル基の炭素原子数は、改質が素早く進行することから、１〜５であることが好ましく、１〜２であることがより好ましく、１であることがさらに好ましい。

Ｒ^３０およびＲ^３１で表されるシクロアルキル基の炭素原子数は、３〜２０であることが好ましく、３〜１１であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。

Ｒ^３０およびＲ^３１で表されるシクロアルキル基にある水素原子が、それぞれ独立に、アルキル基で置換されている場合、上記シクロアルキル基の炭素原子数は、４以上である。上記シクロアルキル基にある水素原子が置換されてもよいアルキル基は、炭素原子数が１〜２７である。

Ｒ^３０およびＲ^３１で表される不飽和炭化水素基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよく、環状であってもよい。
Ｒ^３０およびＲ^３１で表される不飽和炭化水素基の炭素原子数は、５〜２０であることが好ましく、８〜２０であることがより好ましい。

Ｒ^３０は、アルキル基、または不飽和炭化水素基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましい。Ｒ^３１は、水素原子、アルキル基、または不飽和炭化水素基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましい。Ｒ^３０およびＲ^３１で表される不飽和炭化水素基としては、アルケニル基が好ましく、炭素原子数８〜２０のアルケニル基であることがより好ましい。

Ｒ^３０およびＲ^３１のアルキル基の具体例としては、Ｒ^６〜Ｒ^９で表される基において例示したアルキル基が挙げられる。
Ｒ^３０およびＲ^３１で表されるシクロアルキル基の具体例としては、Ｒ^６〜Ｒ^９で表される基において例示したシクロアルキル基が挙げられる。

Ｒ^６〜Ｒ^９のアルケニル基としては、Ｒ^６〜Ｒ^９で表される基において例示した前記直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基において、いずれか一つの炭素原子間の単結合（Ｃ−Ｃ）が、二重結合（Ｃ＝Ｃ）に置換されたものが例示でき、二重結合の位置は限定されない。
このようなアルケニル基の好ましいものとしては、例えば、エテニル基、プロペニル基、３−ブテニル基、２−ブテニル基、２−ペンテニル基、２−ヘキセニル基、２−ノネニル基、２−ドデセニル基、９−オクタデセニル基が挙げられる。

Ｒ^３１で表されるアルキル基、シクロアルキル基および不飽和炭化水素基が上述の炭素原子数であると、前記式（Ｃ）で表される化合物が加水分解されやすく、生成したシラノール結合同士がさらに縮合することができる。これにより、前記式（Ｃ）で表される化合物が（１）成分の表面に吸着しやすい。その結果、熱環境下においても組成物中の（１）成分が劣化しにくく、耐久性が高い組成物が得られると考えられる。

上記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、化学的安定性の観点からフッ素原子が好ましい。

前記式（Ｃ）で表される化合物としては、具体的に、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラブトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、トリメトキシフェニルシラン、エトキシトリエチルシラン、メトキシトリメチルシラン、メトキシジメチル（フェニル）シラン、ペンタフルオロフェニルエトキシジメチルシラン、トリメチルエトキシシラン、３−クロロプロピルジメトキシメチルシラン、（３−クロロプロピル）ジエトキシ（メチル）シラン、（クロロメチル）ジメトキシ（メチル）シラン、（クロロメチル）ジエトキシ（メチル）シラン、ジエトキシジメチルシラン、ジメトキシジメチルシラン、ジメトキシジフェニルシラン、ジメトキシメチルフェニルシラン、ジエトキシジフェニルシラン、ジメトキシメチルビニルシラン、ジエトキシ（メチル）フェニルシラン、ジメトキシ（メチル）（３，３，３−トリフルオロプロピル）シラン、アリルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、（３−ブロモプロピル）トリメトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、（クロロメチル）トリエトキシシラン、（クロロメチル）トリメトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、トリエトキシエチルシラン、デシルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、トリメトキシ（メチル）シラン、トリエトキシメチルシラン、テトラブトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、トリメトキシ（１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシル）シラン、トリエトキシ−１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−トリデカフルオロ−ｎ−オクチルシラン、トリメトキシ（１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ノナフルオロヘキシル）シラン、トリメトキシ（３，３，３−トリフルオロプロピル）シラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトキシシラン等が挙げられる。

なかでも、トリメトキシフェニルシラン、メトキシジメチル（フェニル）シラン、ジメトキシジフェニルシラン、ジメトキシメチルフェニルシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、トリメトキシ（１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシル）シラン、トリエトキシ−１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−トリデカフルオロ−ｎ−オクチルシラン、トリメトキシ（１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ノナフルオロヘキシル）シラン、トリメトキシ（３，３，３−トリフルオロプロピル）シラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラブトキシシラン、テトライソプロポキシシランが好ましく、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラブトキシシラン、テトライソプロポキシシランがより好ましく、テトラメトキシシランがもっとも好ましい。

さらに、前記式（Ｃ）で表される化合物としては、ドデシルトリメトキシシラン、トリメトキシフェニルシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトキシシラン、トリメトキシ（１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ノナフルオロヘキシル）シランでもよい。

（２）成分は、前記式（Ｃ）で表される化合物が、後述する方法により改質された、前記式（Ｃ）で表される化合物の改質体であってもよい。

本明細書において、「式（Ｃ）で表される化合物を改質する」とは、２分子以上の式（Ｃ）で表される化合物を縮合させ、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成させることをいう。また、「式（Ｃ）で表される化合物の改質体」とは、上記縮合反応によって得られるＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を含む化合物（縮合体）のことをいう。

前記式（Ｃ）で表される化合物の改質体としては、例えば、上述した、前記式（Ｃ）で表される化合物に含まれる少なくとも１つのＲ^３１が、Ｓｉで置換された化合物が好ましい。

≪（３）成分≫
（３）成分は、式（Ｘ１）〜（Ｘ３）でそれぞれ表される化合物及びそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物。

（Ｘ１）

（Ｘ２）

（Ｘ３）
（式（Ｘ１）中、Ｒ^１８〜Ｒ^２１はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数６〜３０のアリール基を表し、それらは置換基を有していてもよい。Ｍ⁻はカウンターアニオンを表す。
式（Ｘ２）中、Ａ^４は単結合又は酸素原子を表す。Ｒ^２５は、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数６〜３０のアリール基を表し、それらは置換基を有していてもよい。
式（Ｘ３）中、Ａ^５およびＡ^６はそれぞれ独立に、単結合又は酸素原子を表す。Ｒ^２６〜Ｒ^２８はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、又は炭素原子数２〜２０のアルキニル基を表し、それらは置換基を有していてもよい。
Ｒ^１８〜Ｒ^２１及びＲ^２５〜Ｒ^２８で表される基に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。）

＜式（Ｘ１）で表される化合物＞
式（Ｘ１）において、Ｒ^１８〜Ｒ^２１はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、又は置換基を有していてもよい炭素原子数６〜３０のアリール基を表す。

Ｒ^１８〜Ｒ^２１で表されるアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ^１８〜Ｒ^２１で表されるアルキル基の炭素原子数は、通常１〜２０であり、５〜２０であることが好ましく、８〜２０であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。

Ｒ^１８〜Ｒ^２１で表されるシクロアルキル基は、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ^１８〜Ｒ^２１で表されるシクロアルキル基の炭素原子数は、通常３〜３０であり、３〜２０であることが好ましく、３〜１１であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。

Ｒ^１８〜Ｒ^２１で表されるアリール基は、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ^１８〜Ｒ^２１で表されるアリール基の炭素原子数は、通常６〜３０であり、６〜２０であることが好ましく、６〜１０であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。

Ｒ^１８〜Ｒ^２１で表される基は、アルキル基であることが好ましい。

Ｒ^１８〜Ｒ^２１で表されるアルキル基の具体例としては、Ｒ^６〜Ｒ^９で表されるアルキル基において例示したアルキル基が挙げられる。

Ｒ^１８〜Ｒ^２１で表されるシクロアルキル基の具体例としては、Ｒ^６〜Ｒ^９で表されるシクロアルキル基において例示したシクロアルキル基が挙げられる。

Ｒ^１８〜Ｒ^２１で表されるアリール基の具体例としては、Ｒ^６〜Ｒ^９で表されるアリール基において例示したアリール基が挙げられる。

Ｒ^１８〜Ｒ^２１で表される基に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、化学的安定性の観点から、フッ素原子が好ましい。

式（Ｘ１）で表される化合物において、Ｍ⁻はカウンターアニオンを表し、Ｂｒ^―、Ｃｌ^―、Ｉ^―、Ｆ^―のハロゲン化物イオンや、カルボキシレートイオンなどが好ましい例として挙げられる。

式（Ｘ１）で表される化合物の具体例としては、トリブチル−ｎ−オクチルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムクロリド、トリブチルヘキサデシルホスホニウムクロリド、テトラブチルホスホニウムクロリド、テトラエチルホスホニウムクロリド、テトラ−ｎ−オクチルホスホニウムクロリド、テトラフェニルホスホニウムブロミド、トリブチルヘキサデシルホスホニウムブロミド、テトラブチルホスホニウムブロミド、テトラエチルホスホニウムブロミド、テトラ−ｎ−オクチルホスホニウムブロミド、トリブチルドデシルホスホニウムブロミド、トリブチル−ｎ−オクチルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムヨージド、トリブチルヘキサデシルホスホニウムヨージド、テトラブチルホスホニウムヨージド、テトラエチルホスホニウムヨージド、テトラ−ｎ−オクチルホスホニウムヨージド、トリブチル−ｎ−オクチルホスホニウムブロミドが挙げられ、組成物の熱耐久性の観点から、トリブチルヘキサデシルホスホニウムブロミド、トリブチルｎオクチルホスホニウムブロミドが好ましく、トリブチル−ｎ−オクチルホスホニウムブロミドがより好ましい。

式（Ｘ１）で表される化合物の一部もしくは全部が、本発明に係るペロブスカイト化合物の表面に吸着していてもよく、組成物中で分散していてもよい。

＜式（Ｘ２）で表される化合物＞
式（Ｘ２）で表される化合物において、Ａ^４は単結合又は酸素原子を表す。

式（Ｘ２）で表される化合物において、Ｒ^２５は、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、又は置換基を有していてもよい炭素原子数６〜３０のアリール基を表す。

Ｒ^２５で表されるアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ^２５で表されるアルキル基の炭素原子数は、通常１〜２０であり、５〜２０であることが好ましく、８〜２０であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。

Ｒ^２５で表されるシクロアルキル基は、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ^２５で表されるシクロアルキル基の炭素原子数は、通常３〜３０であり、３〜２０であることが好ましく、３〜１１であることがより好ましい。Ｒ^２５で表されるシクロアルキル基は、置換基としてアルキル基、またはアリール基を有していてもよい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。

Ｒ^２５で表されるアリール基は、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ^２５で表されるアリール基の炭素原子数は、通常６〜３０であり、６〜２０であることが好ましく、６〜１０であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。

Ｒ^２５は、アルキル基であることが好ましい。

Ｒ^２５で表されるアルキル基の具体例としては、Ｒ^６〜Ｒ^９で表されるアルキル基において例示したアルキル基が挙げられる。

Ｒ^２５で表されるシクロアルキル基の具体例としては、Ｒ^６〜Ｒ^９で表されるシクロアルキル基において例示したシクロアルキル基が挙げられる。

Ｒ^２５で表されるアリール基の具体例としては、Ｒ^６〜Ｒ^９で表されるアリール基において例示したアリール基が挙げられる。

Ｒ^２５で表される基に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、化学的安定性の観点から、フッ素原子が好ましい。

式（Ｘ２）で表される化合物の塩において、陰イオン性基は下記式（Ｘ２−１）で表される。

（Ｘ２−１）

式（Ｘ２）で表される化合物の塩において、式（Ｘ２−１）対となる陽イオン性基としては、例えば、アンモニウム塩が挙げられる。

式（Ｘ２）で表される化合物の塩において、式（Ｘ２−１）の対となるカウンターカチオンとしては、例えば、特に制限は無いがＮａ^＋、Ｋ^＋、Ｃｓ^＋、Ｈ^＋等の一価のイオンが挙げられる。

式（Ｘ２）で表される化合物の塩としては、１−オクタンスルホン酸ナトリウム、１−デカンスルホン酸ナトリウム、１−ドデカンスルホン酸ナトリウム、ヘキサデシル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム 、ミリスチル硫酸ナトリウム、ラウレス硫酸ナトリウム、ドデシル硫酸ナトリウムが挙げられ、組成物の熱耐久性の観点から、ヘキサデシル硫酸ナトリウム、ドデシル硫酸ナトリウムが好ましく、ドデシル硫酸ナトリウムがより好ましい。

式（Ｘ２）で表される化合物またはその塩の一部もしくは全部が、本発明に係るペロブスカイト化合物の表面に吸着していてもよく、組成物中で分散していてもよい。

＜式（Ｘ３）で表される化合物＞
式（Ｘ３）で表される化合物において、Ａ^５およびＡ^６はそれぞれ独立に、単結合又は酸素原子を表す。

式（Ｘ３）で表される化合物において、Ｒ^２６〜Ｒ^２８はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜３０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素原子数２〜２０のアルケニル基、又は置換基を有していてもよい炭素原子数２〜２０のアルキニル基を表す。

Ｒ^２６〜Ｒ^２８で表されるアルキル基はそれぞれ独立に、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ^２６〜Ｒ^２８で表されるアルキル基の炭素原子数は、通常１〜２０であり、５〜２０であることが好ましく、８〜２０であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。

Ｒ^２６〜Ｒ^２８で表されるシクロアルキル基はそれぞれ独立に、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ^２６〜Ｒ^２８で表されるシクロアルキル基の炭素原子数は、通常３〜３０であり、３〜２０であることが好ましく、３〜１１であることがより好ましい。Ｒ^２６〜Ｒ^２８で表されるシクロアルキル基は、置換基としてアルキル基、またはアリール基を有していてもよい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。

Ｒ^２６〜Ｒ^２８で表されるアリール基はそれぞれ独立に、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ^２６〜Ｒ^２８で表されるアリール基の炭素原子数は、通常６〜３０であり、６〜２０であることが好ましく、６〜１０であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。

Ｒ^２６〜Ｒ^２８で表されるアルケニル基はそれぞれ独立に、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ^２６〜Ｒ^２８で表されるアルケニル基の炭素原子数は、通常２〜２０であり、６〜２０であることが好ましく、１２〜１８であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。

Ｒ^２６〜Ｒ^２８で表されるアルキニル基はそれぞれ独立に、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ^２６〜Ｒ^２８で表されるアルキニル基の炭素原子数は、通常２〜２０であり、６〜２０であることが好ましく、１２〜１８であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。

Ｒ^２６〜Ｒ^２８はそれぞれ独立に、アルキル基であることが好ましい。

Ｒ^２６〜Ｒ^２８で表されるアルキル基の具体例としては、Ｒ^６〜Ｒ^９で表されるアルキル基において例示したアルキル基が挙げられる。

Ｒ^２６〜Ｒ^２８で表されるシクロアルキル基の具体例としては、Ｒ^６〜Ｒ^９で表されるシクロアルキル基において例示したシクロアルキル基が挙げられる。

Ｒ^２６〜Ｒ^２８で表されるアリール基の具体例としては、Ｒ^６〜Ｒ^９で表されるアリール基において例示したアリール基が挙げられる。

Ｒ^２６〜Ｒ^２８で表されるアルケニル基の具体例としては、ヘキセニル、オクテニル、デセニル、ドデセニル、テトラデセニル、ヘキサデセニル、オクタデセニル、イコセニルが挙げられる。

Ｒ^２６〜Ｒ^２８で表されるアルキニル基の具体例としては、ヘキシニル、オクチニル、デシニル、ドデシニル、テトラデシニル、ヘキサデシニル、オクタデシニル、イコシニルが挙げられる。

Ｒ^２６〜Ｒ^２８で表される基に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、化学的安定性の観点から、フッ素原子が好ましい。

式（Ｘ３）で表される化合物としては、亜りん酸トリオレイル、亜りん酸トリブチル、亜りん酸トリエチル、亜りん酸トリヘキシル、亜りん酸トリイソデシル、亜りん酸トリメチル挙げられ、組成物の熱耐久性の観点から、亜りん酸トリオレイル、亜りん酸トリヘキシルが好ましく、亜りん酸トリオレイルがより好ましい。

式（Ｘ３）で表される化合物の一部もしくは全部が、本発明に係るペロブスカイト化合物の表面に吸着していてもよく、組成物中で分散していてもよい。

≪（４）成分≫
（４）成分は溶媒である。溶媒は、前記（１）成分を分散させることができる媒体であれば特に限定されないが、（１）成分を溶解し難いものが好ましい。

溶媒としては、例えば、メチルホルメート、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート、ペンチルアセテート等のエステル；γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、アセトン、ジメチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン；ジエチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、４−メチルジオキソラン、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール等のエーテル；メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、メトキシプロパノール、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノール、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール等のアルコール；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド基を有する有機溶媒；アセトニトリル、イソブチロニトリル、プロピオニトリル、メトキシアセトニトリル等のニトリル基を有する有機溶媒；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート基を有する有機溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化した炭化水素基を有する有機溶媒；ｎ−ペンタン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素基を有する有機溶媒；ジメチルスルホキシド、１−オクタデセン等が挙げられる。

これらの中でもメチルホルメート、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート、ペンチルアセテート等のエステル；γ−ブチロラクトン、アセトン、ジメチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン；ジエチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、４−メチルジオキソラン、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール等のエーテル、アセトニトリル、イソブチロニトリル、プロピオニトリル、メトキシアセトニトリル等のニトリル基を有する有機溶媒；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート基を有する有機溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化した炭化水素基を有する有機溶媒；ｎ−ペンタン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素基を有する有機溶媒は、極性が低く、（１）成分を溶解し難いと考えられるため好ましく、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化した炭化水素基を有する有機溶媒；ｎ−ペンタン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素基を有する有機溶媒がより好ましい。

≪（５）成分≫
（５）成分は、重合性化合物、または重合体である。
本実施形態の組成物に含まれる重合性化合物は、特に限定されるものではないが、当該組成物を製造する温度において、重合性化合物に対する（１）成分の溶解度が低いものが好ましい。

例えば、室温、常圧下において製造する場合、重合性化合物としては、特に制限は無いが、例えば、スチレン、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、アクリロニトリル等の公知の重合性化合物が挙げられる。なかでも、重合性化合物としては、アクリル系樹脂の単量体成分であるアクリル酸エステルおよび／またはメタクリル酸エステルが好ましい。

本実施形態の組成物に含まれる重合体は、特に限定されるものではないが、当該組成物を製造する温度において、重合体に対する（１）成分の溶解度が低いものが好ましい。

例えば、室温、常圧下において製造する場合、重合体としては、特に制限は無いが、例えば、ポリスチレン、アクリル系樹脂、エポキシ樹脂等の公知の重合体が挙げられる。なかでも、重合体としては、アクリル系樹脂が好ましい。アクリル系樹脂は、アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルのいずれか一方又は両方に由来する構成単位を含む。

（４）成分が有する構成単位のうち、アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルのいずれか一方又は両方、並びにそれらに由来する構成単位は、モル％で表した場合、１０％以上であってもよく、３０％以上であってもよく、５０％以上であってもよく、８０％以上であってもよい。

≪（６）成分≫
（６）成分は、アンモニア、アミン、およびカルボン酸、並びにこれらの塩またはイオンからなる群から選ばれる少なくとも１種である。
（６）成分としては、アンモニア、アミン、およびカルボン酸並びに、当該化合物がとり得る形態として、これらの塩またはイオンからなる群から選ばれる少なくとも１種が挙げられる。
すなわち、（６）成分は、アンモニア、アミン、カルボン酸、アンモニアの塩、アミンの塩、カルボン酸の塩、アンモニアのイオン、アミンのイオン、およびカルボン酸のイオンからなる群から選ばれる少なくとも１種が挙げられる。

アンモニア、アミン、およびカルボン酸、並びにこれらの塩またはイオンは、通常、キャッピング配位子として作用する。キャッピング配位子とは、（１）成分の表面に吸着して、（１）成分を組成物中に安定して分散させる作用を有する化合物である。アンモニアまたはアミンの、イオン若しくは塩（アンモニウム塩等）としては、後述する一般式（Ａ１）で表されるアンモニウムカチオンと、それを含むアンモニウム塩が挙げられる。カルボン酸のイオンまたは塩（カルボン酸塩等）としては、後述する一般式（Ａ２）で表されるカルボキシレートアニオンと、それを含むカルボン酸塩が挙げられる。本実施形態の組成物は、アンモニウム塩等、およびカルボン酸塩等のいずれか一方を含んでいてもよく、両方を含んでいてもよい。
（６）成分は、一般式（Ａ１）で表されるアンモニウムカチオン、またはそれを含むアンモニウム塩であってもよい。

一般式（Ａ１）中、Ｒ^１〜Ｒ^３は、水素原子を表し、Ｒ^４は、水素原子、または１価の炭化水素基を表す。Ｒ^４で表される炭化水素基は、飽和炭化水素基（アルキル基、またはシクロアルキル基）であってもよく、不飽和炭化水素基であってもよい。

Ｒ^４で表されるアルキル基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよい。
Ｒ^４で表されるアルキル基の炭素原子数は、通常１〜２０であり、５〜２０であることが好ましく、８〜２０であることがより好ましい。

Ｒ^４で表されるシクロアルキル基は、置換基としてアルキル基を有していてもよい。シクロアルキル基の炭素原子数は、通常３〜３０であり、３〜２０であることが好ましく、３〜１１であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。

Ｒ^４の不飽和炭化水素基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよい。
Ｒ^４の不飽和炭化水素基の炭素原子数は、通常２〜２０であり、５〜２０であることが好ましく、８〜２０であることがより好ましい。

Ｒ^４は、水素原子、アルキル基、または不飽和炭化水素基であることが好ましい。不飽和炭化水素基としては、アルケニル基が好ましい。Ｒ^４は、炭素原子数８〜２０のアルケニル基であることが好ましい。

Ｒ^４のアルキル基の具体例としては、Ｒ^６〜Ｒ^９において例示したアルキル基が挙げられる。
Ｒ^４のシクロアルキル基の具体例としては、Ｒ^６〜Ｒ^９において例示したシクロアルキル基が挙げられる。

Ｒ^４のアルケニル基としては、Ｒ^６〜Ｒ^９において例示した前記直鎖状または分岐鎖状のアルキル基において、いずれか一つの炭素原子間の単結合（Ｃ−Ｃ）が、二重結合（Ｃ＝Ｃ）に置換されたものが例示でき、二重結合の位置は限定されない。
このようなアルケニル基の好ましいものとしては、例えば、エテニル基、プロペニル基、３−ブテニル基、２−ブテニル基、２−ペンテニル基、２−ヘキセニル基、２−ノネニル基、２−ドデセニル基、９−オクタデセニル基が挙げられる。

アンモニウムカチオンが塩を形成する場合、カウンターアニオンとしては、特に制限は無いがＢｒ^―、Ｃｌ^―、Ｉ^―、Ｆ^―のハロゲン化物イオンや、カルボキシレートイオンなどが好ましい例として挙げられる。
一般式（Ａ１）で表されるアンモニウムカチオンと、カウンターアニオンとを有するアンモニウム塩としては、ｎ−オクチルアンモニウム塩、オレイルアンモニウム塩が好ましい例として挙げられる。

（５）は、一般式（Ａ２）で表されるカルボキシレートアニオン、またはそれを含むカルボン酸塩であってもよい。
Ｒ^５―ＣＯ_２ ^-・・・（Ａ２）

一般式（Ａ２）中、Ｒ^５は、一価の炭化水素基を表す。Ｒ^５で表される炭化水素基は、飽和炭化水素基（アルキル基、シクロアルキル基）であってもよく、不飽和炭化水素基であってもよい。

Ｒ^５で表されるアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。Ｒ^５で表されるアルキル基の炭素原子数は、通常１〜２０であり、５〜２０であることが好ましく、８〜２０であることがより好ましい。

Ｒ^５で表されるシクロアルキル基は、置換基としてアルキル基を有していてもよい。シクロアルキル基の炭素原子数は、通常３〜３０であり、３〜２０であることが好ましく、３〜１１であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数も含む。

Ｒ^５で表される不飽和炭化水素基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよい。
Ｒ^５で表される不飽和炭化水素基の炭素原子数は、通常２〜２０であり、５〜２０であることが好ましく、８〜２０であることがより好ましい。

Ｒ^５はアルキル基または不飽和炭化水素基であることが好ましい。不飽和炭化水素基としては、アルケニル基が好ましい。

Ｒ^５のアルキル基の具体例としては、Ｒ^６〜Ｒ^９において例示したアルキル基が挙げられる。
Ｒ^５のシクロアルキル基の具体例としては、Ｒ^６〜Ｒ^９において例示したシクロアルキル基が挙げられる。
Ｒ^５のアルケニル基の具体例としては、Ｒ^４において例示したアルケニル基が挙げられる。

一般式（Ａ２）で表されるカルボキシレートアニオンは、オレイン酸アニオンが好ましい。
カルボキレートアニオンが塩を形成する場合、カウンターカチオンとしては、特に制限は無いが、プロトン、アルカリ金属カチオン、アルカリ土類金属カチオン、アンモニウムカチオンなどが好ましい例として挙げられる。

＜各成分の配合比について＞
実施形態の組成物において、（１）成分と（２）成分との配合比は、（２）成分による、水蒸気に対する耐久性向上の作用が発揮される程度であればよく、（１）成分および（２）の種類等に応じて、適宜定めることができる。
実施形態の組成物において、（１）成分のＢである金属イオンと、（２）成分のＳｉ元素とのモル比［Ｓｉ／Ｂ］は、０．００１〜２０００であってもよく、０．０１〜５００であってもよく、１〜１００であってもよい。
（１）成分と（２）成分との配合比に係る範囲が上記範囲内である組成物は、（２）成分による、熱耐久性向上の作用が、特に良好に発揮される点で好ましい。

実施形態の組成物において、（１）成分と（３）成分との配合比は、（１）成分および下記（３）成分の種類等に応じて、適宜定めることができる。
（３）成分：式（Ｘ１）〜（Ｘ３）で表される化合物およびそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも一種。
実施形態の組成物において、（１）成分に含まれる金属イオンであるＢと式（Ｘ１）で表される化合物に含まれるＰ元素とのモル比［（Ｘ１）／Ｂ］は、０．００１〜１００であることが好ましく、０．００５〜５であることがより好ましく、０．２〜２であることがさらに好ましい。
実施形態の組成物において、（１）成分に含まれる金属イオンであるＢ式（Ｘ２）で表される化合物に含まれるＰ元素とのモル比、または（１）成分に含まれる金属イオンであるＢ式（Ｘ２）で表される化合物の塩に含まれるＰ元素とのモル比［（Ｘ２）／Ｂ］は、１〜１００であることが好ましく、５〜５０であることがより好ましく、１０〜３０であることがさらに好ましい。
実施形態の組成物において、（１）成分に含まれる金属イオンであるＢ式（Ｘ３）で表される化合物に含まれるＰ元素とのモル比［（Ｘ３）／Ｂ］は、０．１〜１００であることが好ましく、０．２〜２０であることがより好ましく、０．３〜１５であることがさらに好ましい。
（１）成分と（３）成分との配合比に係る範囲が上記範囲内である組成物は、熱耐久性の作用が、特に良好に発揮される点で好ましい。

実施形態の組成物において、（１）と、（４）および（５）の合計との配合比は、（１）による発光作用が良好に発揮される程度であればよく、（１）〜（５）の種類等に応じて、適宜定めることができる。
（１）、（２）、および（３）と、（４）および（５）からなる群より選ばれる少なくとも一種とを含む実施形態の組成物において、（１）と、（４）および（５）の合計との質量比［（１）／（（４）および（５）の合計）］は、０．００００１〜１０であってもよく、０．０００１〜２であってもよく、０．０００５〜１であってもよい。
（１）と、（４）および（５）の合計との配合比に係る範囲が上記範囲内である組成物は、（１）の凝集が生じ難く、発光性も良好に発揮される点で好ましい。

本実施形態の組成物において、（１）と（６）との配合比は、（１）による発光作用が良好に発揮される程度であればよく、（１）〜（３）および（６）の種類等に応じて、適宜定めることができる。
（１）、（２）、（３）、および（６）を含む実施形態の組成物において、（１）と、（６）とのモル比［（１）／（６）］は、０．０００１〜１０００であってもよく、０．０１〜１００であってもよい。
（１）と（６）との配合比に係る範囲が上記範囲内である樹脂組成物は、（１）の凝集が生じ難く、発光性も良好に発揮される点で好ましい。

≪組成物の製造方法≫
以下、本発明における組成物の製造方法に関し、実施形態を示して説明する。実施形態の組成物の製造方法によれば、本発明に係る実施形態の組成物を製造可能である。なお、本発明の組成物は、以下の実施形態の組成物の製造方法によって製造されるものに限定されるものではない。

（１）Ａ、Ｂ、およびＸを有するペロブスカイト化合物の製造方法
ペロブスカイト化合物は、既知文献（Ｎａｎｏ Ｌｅｔｔ． ２０１５， １５， ３６９２−３６９６、ＡＣＳＮａｎｏ，２０１５，９，４５３３−４５４２）を参考に、以下に述べる方法によって製造することができる。

（Ａ、Ｂ、およびＸを有するペロブスカイト化合物の製造方法の第１実施形態）
たとえば、本発明に係るペロブスカイト化合物の製造方法としては、Ｂ、Ｘ、およびＡを溶媒ｘに溶解させ溶液ｇを得る工程と、得られた溶液ｇと、ペロブスカイト化合物の溶媒に対する溶解度が溶液ｇを得る工程で用いた溶媒ｘよりも低い溶媒ｙとを混合する工程とを含む製造方法が挙げられる。より具体的には、ＢおよびＸを含む化合物と、ＡまたはＡおよびＸを含む化合物とを溶媒ｘに溶解させ、溶液ｇを得る工程と、得られた溶液ｇと、ペロブスカイト化合物の溶媒に対する溶解度が溶液ｇを得る工程で用いた溶媒ｘよりも低い溶媒ｙとを混合する工程とを含む製造方法が挙げられる。

以下、ＢおよびＸを含む化合物と、ＡまたはＡおよびＸを含む化合物とを溶媒ｘに溶解させ、溶液ｇを得る工程と、得られた溶液ｇと、ペロブスカイト化合物の溶媒に対する溶解度が溶液ｇを得る工程で用いた溶媒ｘよりも低い溶媒ｙとを混合する工程とを含む製造方法について説明する。
なお、溶解度とは、混合する工程をおこなう温度における溶解度を意味する。

当該製造方法は、ペロブスカイト化合物を安定して分散できる観点から、キャッピング配位子を加える工程を含んでいることが好ましい。キャッピング配位子は、前述の混合する工程の前に添加することが好ましく、Ａ、Ｂ、およびＸを溶解させた溶液ｇにキャッピング配位子を添加してもよいし、ペロブスカイト化合物の溶媒に対する溶解度が溶液ｇを得る工程で用いた溶媒ｘよりも低い溶媒ｙに添加してもよく、溶媒ｘ、および溶媒ｙの両方に添加してもよい。

当該製造方法は、前述の混合する工程のあと、遠心分離、ろ過などの手法により粗大粒子を除去する工程を含んでいていることが好ましい。当該除去する工程によって除去する粗大粒子のサイズは、１０μｍ以上が好ましく、１μｍ以上がより好ましく、５００ｎｍ以上が特に好ましい。

前述の、溶液ｇと、溶媒ｙとを混合する工程は、（Ｉ）溶液ｇを、溶媒ｙに滴下する工程であってもよく、（ＩＩ）溶液ｇに、溶媒ｙを滴下する工程であってもよいが、（１）の分散性を高める観点から（Ｉ）であることが好ましい。
滴下する際には攪拌を行うことが（１）成分の分散性を高める観点から好ましい。
溶液ｇと、溶媒ｙとを混合する工程において、温度には特に制限は無いが、（１）成分の析出し易さを確保する観点から、−２０℃以上４０℃以下の範囲であることが好ましく、−５℃以上３０℃以下の範囲であることがより好ましい。

当該製造方法で用いるペロブスカイト化合物の溶媒に対する溶解度の異なる２種類の溶媒ｘ、およびｙとしては、特に限定されるものではないが、たとえば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、メトキシプロパノール、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノール、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール等のアルコール；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド基を有する有機溶媒；メチルホルメート、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート、ペンチルアセテート等のエステル；γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、アセトン、ジメチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン；ジエチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、４−メチルジオキソラン、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール等のエーテル；アセトニトリル、イソブチロニトリル、プロピオニトリル、メトキシアセトニトリル等のニトリル基を有する有機溶媒；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート基を有する有機溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化した炭化水素基を有する有機溶媒；ｎ−ペンタン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素基を有する有機溶媒、ジメチルスルホキシドからなる群より選ばれる２種の溶媒が挙げられる。

当該製造方法に含まれる、溶液ｇを得る工程で用いる溶媒ｘとしては、ペロブスカイト化合物の溶媒に対する溶解度が高い溶媒が好ましく、例えば、室温（１０℃以上３０℃以下）で当該工程をおこなう場合、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、メトキシプロパノール、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノール、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール等のアルコール；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド基を有する有機溶媒；ジメチルスルホキシドが挙げられる。

当該製造方法に含まれる、混合する工程で用いる溶媒ｙとしては、ペロブスカイト化合物の溶媒に対する溶解度が低い溶媒が好ましく、例えば、室温（１０℃以上３０℃以下）で当該工程をおこなう場合、メチルホルメート、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート、ペンチルアセテート等のエステル；γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、アセトン、ジメチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン；ジエチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、４−メチルジオキソラン、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール等のエーテル；アセトニトリル、イソブチロニトリル、プロピオニトリル、メトキシアセトニトリル等のニトリル基を有する有機溶媒；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート基を有する有機溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化した炭化水素基を有する有機溶媒；ｎ−ペンタン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素基を有する有機溶媒が挙げられる。

溶解度の異なる２種類の溶媒において、溶解度の差は１００μｇ／溶媒１００ｇ以上９０ｇ／溶媒１００ｇ以下であることが好ましく、１ｍｇ／溶媒１００ｇ以上９０ｇ／溶媒１００ｇ以下であることがより好ましい。溶解度の差を１００μｇ／溶媒１００ｇ以上９０ｇ／溶媒１００ｇ以下にする観点から、例えば、室温（１０℃以上３０℃以下）で混合する工程を行う場合、溶液を得る工程で用いる溶媒ｘが、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド基を有する有機溶媒やジメチルスルホキシドであり、混合する工程で用いる溶媒ｙが塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化した炭化水素基を有する有機溶媒；ｎ−ペンタン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素基を有する有機溶媒であることが好ましい。

得られたペロブスカイト化合物を含む分散液から、ペロブスカイト化合物を取り出す方法としては、固液分離を行うことでペロブスカイト化合物のみを回収する方法が挙げられる。
前述の固液分離方法は、ろ過などの方法や、溶媒の蒸発を利用した方法などが挙げられる。

（Ａ、Ｂ、およびＸを有するペロブスカイト化合物の製造方法の第２実施形態）
ペロブスカイト化合物の製造方法は、Ｂ、ＸおよびＡを高温の溶媒ｚに添加して溶解させ溶液ｈを得る工程と、得られた溶液ｈを冷却する工程とを含む製造方法であってもよい。より具体的には、ＢおよびＸを含む化合物と、Ａを含む化合物、またはＡおよびＸを含む化合物とを高温の溶媒ｚに添加して溶解させ溶液ｈを得る工程と、得られた溶液ｈを冷却する工程とを含む製造方法が挙げられる。

ＢおよびＸを含む化合物と、ＡまたはＡおよびＸを含む化合物とを高温の溶媒ｚに添加して溶解させ溶液ｈを得る工程は、ＢおよびＸを含む化合物と、ＡまたはＡおよびＸを含む化合物とを溶媒ｚに添加後、昇温することで溶液ｈを得る工程であってもよい。
当該製造方法では、温度の差による溶解度の差によって本発明に係るペロブスカイト化合物を析出させ、本発明に係るペロブスカイト化合物を製造することができる。

当該製造方法は、ペロブスカイト化合物を安定して分散できる観点から、キャッピング配位子を加える工程を含んでいることが好ましい。キャッピング配位子は、前述の冷却する工程の前に溶液ｈに含まれていることが好ましい。
当該製造方法は、冷却する工程の後、遠心分離、ろ過などの手法により粗大粒子を除去する工程を含んでいていることが好ましい。上記除去工程によって除去する粗大粒子のサイズは、１０μｍ以上が好ましく、１μｍ以上がより好ましく、５００ｎｍ以上が特に好ましい。

ここで、高温の溶媒ｚとは、ＢおよびＸを含む化合物と、ＡまたはＡおよびＸを含む化合物とが、溶解する温度の溶媒であればよく、例えば、６０℃以上６００℃以下の溶媒であることが好ましく、８０℃以上４００℃以下の溶媒であることがより好ましい。
冷却する温度としては、−２０℃以上５０℃以下であることが好ましく、−１０℃以上３０℃以下であることがより好ましい。

当該製造方法に用いる溶媒ｚとしては、ＢおよびＸを含む化合物と、ＡまたはＡおよびＸを含む化合物とを溶解しうる溶媒であれば、特に限定されるものではない。例えば、前記（３）として記載した溶媒を用いることができる。

得られたペロブスカイト化合物を含む分散液から、ペロブスカイト化合物を取り出す方法としては、固液分離を行うことでペロブスカイト化合物のみを回収する方法が挙げられる。
前述の固液分離方法は、ろ過などの方法や、溶媒の蒸発を利用した方法などが挙げられる。

（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（４）成分を含む組成物の製造方法
（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（４）成分を含む組成物の製造方法としては、例えば、下記製造方法（ａ１）であってもよく、下記製造方法（ａ２）であってもよい。
製造方法（ａ１）：（１）成分および（４）成分を混合する工程と（１）成分および（４）成分の混合物と、（２）成分と、（３）成分とを混合する工程と、を含む組成物の製造方法。
製造方法（ａ２）：（１）成分、（２）成分、および（３）成分を混合する工程と、（１）成分、（２）成分、および（３）成分の混合物と、（４）成分とを混合する工程と、を含む組成物の製造方法。

前記製造方法（ａ１）は、（１）成分を、（４）成分に分散することが好ましい。前記製造方法（ａ１）は、例えば（１）成分を（４）成分に分散させ、分散液を得る工程と、該分散液と、（２）成分と、（３）成分とを混合する工程と、を含む組成物の製造方法であってよい。

実施形態において、下記（２’）の改質体を含む組成物を製造する場合、下記製造方法（ａ３）であってもよく、製造方法（ａ４）であってもよい。
（２’）成分：式（Ｃ）で表される化合物
製造方法（ａ３）：（１）成分および（４）成分を混合する工程と、（１）成分および（４）成分の混合物と、（２’）成分と、（３）成分とを混合する工程と、（１）成分、（２’）、（３）成分、および（４）成分を含む混合物に改質処理を施す工程とを含む、組成物の製造方法。
製造方法（ａ４）：（１）成分、（２’）成分、および（３）成分を混合する工程と、（１）成分、（２’）成分、および（３）成分の混合物と、（４）成分とを混合する工程と、（１）成分、（２’）成分、（３）成分、および（４）成分の混合物に改質処理を施す工程とを含む、組成物の製造方法。

上述の製造方法に含まれる混合する工程では、攪拌を行うことが分散性を高める観点から好ましい。
上述の製造方法に含まれる混合する工程において、温度には特に制限は無いが、均一に混合する観点から、０℃以上１００℃以下の範囲であることが好ましく、１０℃以上８０℃以下の範囲であることがより好ましい。
組成物の製造方法は、（１）成分の分散性を向上させる観点から、製造方法（ａ１）、または製造方法（ａ３）であることが好ましい。

式（Ｃ）で表される化合物に改質処理を施す方法
上述の製造方法に含まれる式（Ｃ）で表される化合物である、式（Ｃ）で表される化合物に改質処理を施す方法は、２分子以上の式（Ｃ）で表される化合物をそれぞれ有する少なくとも一部のＳｉ−Ｏ−Ｒ^３１結合同士で縮合させ、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成させる方法であれば特に限定されない。改質処理を施す方法としては、例えば、式（Ｃ）で表される化合物と水蒸気とを反応させる方法等の公知の方法が挙げられる。
中でも式（Ｃ）で表される化合物と水蒸気とを反応させる（以下、加湿処理を施すということがある。）ことによって、改質処理を施すことが、（１）の近傍により強固な保護領域を形成する観点から好ましい。

加湿処理を施す場合、例えば、後述する温度、および湿度条件下で一定の時間、組成物を静置、または攪拌してもよい。
加湿処理における温度は、十分に改質が進行する温度であればよく、例えば、５〜１５０℃であることが好ましく、１０〜１００℃であることがより好ましく、１５〜８０℃であることがさらに好ましい。
加湿処理における湿度は、組成物中の式（Ｃ）で表される化合物に十分に水分が供給される湿度であればよく、例えば３０％〜１００％、好ましくは、４０％〜９５％、より好ましくは６０％〜９０％である。
加湿処理に要する時間は、十分に改質が進行する時間であればよく、例えば１０分以上１週間以下、好ましくは、１時間以上５日以下、より好ましくは１２時間以上３日以下である。
組成物に含まれる式（Ｃ）で表される化合物の分散性を高める観点から、攪拌することが好ましい。

実施形態において、（２）成分、（３）成分および（４）成分は、上述した（１）成分の製造方法に含まれるいずれかの工程で混合させてもよい。例えば、下記製造方法（ａ５）であってもよく、下記製造方法（ａ６）であってもよい。

製造方法（ａ５）：ＢおよびＸを含む化合物と、ＡまたはＡおよびＸを含む化合物と、（２）成分、（３）成分とを（４）成分に溶解させ、溶液ｇを得る工程と、得られた溶液ｇと、ペロブスカイト化合物の溶媒に対する溶解度が、溶液を得る工程で用いた（３）成分よりも低い溶媒ｙとを混合する工程と、を含む製造方法。
製造方法（ａ６）：ＢおよびＸを含む化合物と、ＡまたはＡおよびＸを含む化合物と、（２）成分、（３）成分を高温の（４）成分に添加して溶解させ溶液ｈを得る工程と、得られた溶液ｈを冷却する工程と、を含む製造方法。

これらの製造方法に含まれる各工程の条件は、上述の、ペロブスカイト化合物の製造方法の第１および第２実施形態で記載したものと同様である。

（１）成分、（２）成分、（３）成分、（４）成分、および（６）成分を含む組成物の製造方法
たとえば、（１）成分、（２）成分、（３）成分、（４）成分、および（６）成分を含む組成物の製造方法は、上述した製造方法（ａ１）〜（ａ４）に含まれるいずれかの工程で（６）成分を混合する以外は、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（４）成分を含む組成物の製造方法と同様の方法とすることができる。
本実施形態においては、（１）成分の分散性を高める観点から、（６）成分は、上述の（１）成分のＡ、Ｂ、およびＸを有するペロブスカイト化合物の製造方法に含まれるいずれかの工程で混合されることが好ましい。例えば、下記製造方法（ｂ１）〜（ｂ４）のいずれかにより製造することが好ましい。

製造方法（ｂ１）：ＢおよびＸを含む化合物と、ＡまたはＡおよびＸを含む化合物と、（２）成分と、（３）成分と、（６）成分とを（４）成分に溶解させ、溶液ｇを得る工程と、得られた溶液ｇと、ペロブスカイト化合物の溶媒に対する溶解度が、溶液を得る工程で用いた（３）成分よりも低い溶媒ｙとを混合する工程と、を含む製造方法。

製造方法（ｂ２）：ＢおよびＸを含む化合物と、ＡまたはＡおよびＸを含む化合物と、（２）成分と、（３）成分と、（６）成分とを高温の（４）成分に添加して溶解させ溶液ｈを得る工程と、得られた溶液ｈを冷却する工程と、を含む製造方法。

製造方法（ｂ３）：ＢおよびＸを含む化合物と、ＡまたはＡおよびＸを含む化合物と、（２’）成分と、（３）成分と、（６）成分とを（４）成分に溶解させ、溶液ｇを得る工程と、得られた溶液ｇと、ペロブスカイト化合物の溶媒に対する溶解度が、溶液を得る工程で用いた（４）成分よりも低い溶媒ｙとを混合する工程と、（１）成分、（２’）成分、（３）成分、（４）成分、および（６）成分の混合物に改質処理を施す工程と、を含む製造方法。

製造方法（ｂ４）：ＢおよびＸを含む化合物と、ＡまたはＡおよびＸを含む化合物と、（２’）成分と、（３）成分と、（６）成分とを高温の（４）成分に添加して溶解させ溶液ｈを得る工程と、得られた溶液ｈを冷却する工程と、（１）成分、（２’）成分、（３）成分、（４）成分、および（６）成分を含み冷却された溶液ｈに改質処理を施す工程と、を含む製造方法。

（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５）成分を含む組成物の製造方法
（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５）成分を含む組成物の製造方法としては、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５）成分を混合する方法が挙げられる。
（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５）成分を混合する工程は、（１）成分の分散性を高める観点から攪拌しながら行うこと好ましい。
（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５）成分を混合する工程において、温度には特に制限は無いが、均一に混合する観点から、０℃以上１００℃以下の範囲であることが好ましく、１０℃以上８０℃以下の範囲であることがより好ましい。

（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５）成分を含む組成物の製造方法は、例えば、下記製造方法（ｃ１）〜（ｃ３）が挙げられる。
製造方法（ｃ１）：（５）成分に（１）成分を分散させ、分散体を得る工程と、得られた分散体と、（２）成分と、（３）成分とを混合する工程とを含む製造方法。
製造方法（ｃ２）：（５）成分に（２）成分および（３）成分を分散させ、分散体を得る工程と、得られた分散体と（１）成分とを混合する工程とを含む製造方法。
製造方法（ｃ３）：（５）成分に（１）成分、（２）成分、および（３）成分の混合物を分散させる工程を含む製造方法。

（ｃ１）〜（ｃ３）の製造方法において、（１）成分の分散性を高める観点から（ｃ１）の製造方法であることが好ましい。

（ｃ１）〜（ｃ３）の製造方法に含まれる各分散体を得る工程においては、（５）成分を、（１）成分、（２）成分および／または（３）成分に滴下してもよいし、（１）成分、（２）成分、または（３）成分のいずれか一方もしくはすべてを（５）成分に滴下してよい。
分散性を高める観点からは、（１）成分、（２）成分、または（３）成分のいずれか一方又はすべてを（５）成分に滴下することが好ましい。
（ｃ１）〜（ｃ３）の製造方法に含まれる各混合する工程においては、（１）成分、（２）成分、または（３）成分を分散体に滴下してもよいし、分散体を（１）成分、（２）成分、または（３）成分に滴下してもよい。
分散性を高める観点からは、（１）成分、（２）成分、または（３）成分を分散体に滴下することが好ましい。

（５）成分として、重合体を採用する場合、重合体は、溶媒に溶解している重合体であってもよい。

上述の重合体が溶解している溶媒は、重合体（樹脂）を溶解しうる溶媒であれば特に限定されないが、上述の本発明に用いる（１）成分を溶解し難いものが好ましい。
上述の重合体が溶解している溶媒としては、例えば前記（４）成分として記載した溶媒を使用することができる。

また、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５）成分を含む組成物の製造方法は、下記製造方法（ｃ４）であってもよく、製造方法（ｃ５）であってもよい。
製造方法（ｃ４）：（１）成分を（４）成分に分散させ分散液を得る工程と、得られた分散液と（５）成分とを混合し混合液を得る工程と、得られた混合液と、（２）成分と、（３）成分とを混合する工程と、を有する組成物の製造方法。

製造方法（ｃ５）：（１）成分を（４）成分に分散させ、分散液を得る工程と、該分散液と、（２’）成分と、（３）成分とを混合し、混合液を得る工程と、該混合液に改質処理を施し、シラザンの改質体を含む混合液を得る工程と、該改質体を含む混合液と、（４）成分とを混合する工程と、を有する組成物の製造方法であってもよい。

（１）成分、（２）成分、（３）成分、（５）成分、および（６）成分を含む組成物の製造方法
（１）成分、（２）成分、（３）成分、（５）成分、および（６）成分を含む組成物の製造方法は、（６）成分を添加する以外は、既に説明した、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（４）成分を含む組成物の製造方法と同様の方法とすることができる。

（６）成分は、上述の（１）成分のＡ、Ｂ、およびＸを有するペロブスカイト化合物の製造方法に含まれるいずれかの工程で添加してもよく、上述の（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（６）成分を含む組成物の製造方法に含まれるいずれかの工程で添加してもよい。
（６）成分は、（１）成分の分散性を高める観点から、（１）成分のＡ、Ｂ、およびＸを有するペロブスカイト化合物の製造方法に含まれるいずれかの工程で添加することが好ましい。

（１）成分、（２）成分、（３）成分、（５）成分、および（６）成分を含む組成物の製造方法において、（４）成分溶媒を用いてもよく、これにより、例えば、少なくとも一部が（６）成分で被覆されている（１）成分が（４）成分に分散している分散体と、（２）成分、（３）成分が（４）成分に分散している分散体と、（５）成分との混合物、または、少なくとも一部が（６）成分で被覆されている（１）成分、（２）成分、および（３）成分が（４）成分に分散している分散体と、（５）成分との混合物として、本実施形態の組成物を得ることができる。

（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５’）成分を含み、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５’）成分の合計が９０質量％以上である組成物の製造方法
（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５’）成分を含み、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５’）成分の合計が９０質量％以上である組成物の製造方法としては、例えば、下記の製造方法（Ｙ）が挙げられる。

製造方法（Ｙ）：（１）成分と、（２）成分、（３）成分と、重合性化合物とを混合する工程と、重合性化合物を重合させる工程と、を含む製造方法、並びに、（１）成分と、（２）成分、（３）成分と、溶媒に溶解している重合体とを混合する工程と、溶媒を除去する工程と、を含む製造方法。

当該製造方法に含まれる、混合する工程には、既に説明した、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５）成分を含む組成物の製造方法と同様の混合方法を用いることができる。
当該製造方法は、例えば、下記製造方法（ｄ１）〜（ｄ６）が挙げられる。

製造方法（ｄ１）：重合性化合物に、（１）成分を分散させ、分散体を得る工程と、得られた分散体、（２）成分、および（３）成分とを混合する工程と、重合性化合物を重合させる工程と、を含む製造方法。
製造方法（ｄ２）：溶媒に溶解している重合体に、（１）成分を分散させ、分散体を得る工程と、得られた分散体、（２）成分、および（３）成分を混合する工程と、溶媒を除去する工程と、を含む製造方法。
製造方法（ｄ３）： 重合性化合物に、（２）成分および（３）成分を分散させ、分散体を得る工程と、得られた分散体および（１）成分を混合する工程と、重合性化合物を重合させる工程と、を含む製造方法。
製造方法（ｄ４）：溶媒に溶解している重合体に、（２）成分および（３）成分を分散させ、分散体を得る工程と、得られた分散体および（１）成分を混合する工程と、溶媒を除去する工程と、を含む製造方法。
製造方法（ｄ５）： 重合性化合物に、（１）成分、（２）成分、および（３）成分の混合物を分散させる工程と、重合性化合物を重合させる工程と、を含む製造方法。
製造方法（ｄ６）： 溶媒に溶解している重合体に、（１）成分、（２）成分、および（３）成分の混合物を分散させる工程と、溶媒を除去する工程と、を含む製造方法。

当該製造方法に含まれる、溶媒を除去する工程は、室温で静置し、自然乾燥させる工程であってもよいし、真空乾燥機を用いた減圧乾燥や加熱によって溶媒を蒸発させる工程であってもよい。
例えば、０℃以上３００℃以下で、１分間以上７日間以下乾燥させることで、溶媒を除去することができる。

当該製造方法に含まれる、重合性化合物を重合させる工程は、ラジカル重合などの公知の重合反応を適宜用いることで行うことができる。
例えばラジカル重合の場合は、（１）成分と、（２）成分、（３）成分と、重合性化合物との混合物に、ラジカル重合開始剤を添加し、ラジカルを発生させることで重合反応を進行させることができる。
ラジカル重合開始剤は特に限定されるものではないが、例えば、光ラジカル重合開始剤等が挙げられる。
上記光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシド等が挙げられる。

（１）成分、（２）成分、（３）成分、（５’）成分、および（６）成分を含み、（１）成分、（２）成分、（３）成分、（５’）成分および（６）成分の合計が９０質量％以上である組成物の製造方法
（１）成分、（２）成分、（３）成分、（５’）成分、および（６）成分を含み、（１）成分、（２）成分、（３）成分、（５’）成分および（６）成分の合計が９０質量％以上である組成物の製造方法は、例えば、（１）成分、（２）成分、（３）成分および（５’）成分を含み、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５’）成分の合計が９０質量％以上である組成物の製造方法に含まれるいずれかの工程で、（６）成分を添加する以外は、既に説明した、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５’）成分を含み、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５’）成分の合計が９０質量％以上である組成物の製造方法と同様の方法とすることができる。
上述のペロブスカイト化合物の製造方法に含まれるいずれかの工程で添加してもよく、
上述の（１）と、（２）成分、（３）成分と、重合性化合物とを混合する工程で添加してもよく、
上述の（１）と、（２）成分、（３）成分と、溶媒に溶解している重合体とを混合する工程で添加してもよい。
（５）成分は、ペロブスカイト化合物の分散性を高める観点から、（１）Ａ、Ｂ、およびＸを成分とするペロブスカイト化合物の製造方法に含まれる下記のいずれかの工程で添加することが好ましい。

≪ペロブスカイト化合物の構成元素の濃度測定とそれに基づくペロブスカイト化合物の濃度≫
本発明の組成物に含まれるペロブスカイト化合物の構成元素の濃度（μｇ／ｇ）は、誘導結合プラズマ質量分析計ＩＣＰ−ＭＳ（例えば、ＰｅｒｋｉｎＥｌｍｅｒ社製、ＥＬＡＮ ＤＲＣＩＩ）を用いてＰｂ、及びＣｓを測定し、イオンクロマトグラフ（例えば、サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社製、Ｉｎｔｅｇｒｉｏｎ）を用いて、Ｂｒを測定する。ペロブスカイト化合物の濃度は、上述の各構成元素の合計量から求める。
それぞれの測定は、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の良溶媒とペロブスカイト化合物との溶液をもちいて行う。

≪量子収率の測定≫
本発明の組成物の量子収率は、絶対ＰＬ量子収率測定装置（例えば、浜松ホトニクス株式会社製、Ｃ９９２０−０２）を用いて、励起光４５０ｎｍ、室温、大気下で測定する。

（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（４）成分を含む組成物においては、組成物に含まれるペロブスカイト化合物の濃度が２０００ｐｐｍ（μｇ／ｇ）となるように調整し、該組成物を1ｃｍ×１ｃｍサイズのガラス基板に５０μＬ滴下し、乾燥させたものを測定する。

（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５）成分を含む組成物においては、組成物に含まれるペロブスカイト化合物の濃度が２０００ｐｐｍ（μｇ／ｇ）となるように混合比を調整し、該組成物を1ｃｍ×１ｃｍサイズのガラス基板に５０μＬ滴下し、乾燥させたものを測定する。（５）成分を（５’）成分に代えた場合も同様である。

≪熱耐久性の評価≫
本発明の組成物をホットプレート上で１５０℃、２分間加熱し、加熱前後の量子収率を測定して、下記の式を用いて減少率を評価する。
減少率（％）＝（１−熱耐久試験後の量子収率÷熱耐久試験前の量子収率）×１００。

実施形態の組成物は、上記のそれぞれの測定方法において、減少率が、５４％以下であってもよく、５０％以下であってもよく、４５％以下であってもよく、４３％以下であってもよい。組成物の熱耐久性の作用が高いことから、減少率は低いほうがよい。

＜フィルム＞
本発明に係るフィルムは、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５’）成分を含む組成物であって、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５’）成分の合計が９０質量％以上の組成物を用いたフィルムである。当該組成物は、（６）成分を含んでいてもよい。

フィルム形状は特に限定されるものではなく、シート状、バー状等の任意の形状であることができる。
フィルムの厚みは、０．０１μｍ以上１０００ｍｍ以下であってもよく、０．１μｍ以上１０ｍｍ以下であってもよく、１μｍ以上１ｍｍ以下であってもよい。

フィルムは、単層であってもよく、複層であってもよい。複層の場合、各層は同一の種類の実施形態の組成物が用いられていてもよく、互いに異なる種類の実施形態の組成物が用いられていてもよい。

フィルムは、例えば、後述の積層構造体の製造方法（ｉ）〜（ｉＶ）により、基板上に形成されたフィルムを得ることができる。

＜積層構造体＞
本発明に係る積層構造体は、複数の層を有し、少なくとも一層が、上述のフィルムである。

積層構造体が有する複数の層のうち、上述のフィルム以外の層としては、基板、バリア層、光散乱層等の任意の層が挙げられる。
積層されるフィルムの形状は特に限定されるものではなく、シート状、バー状等の任意の形状であることができる。

（基板）
本発明に係る積層構造体が有していてもよい層としては、特に制限は無いが、基板が挙げられる。
基板は、特に制限はないが、フィルムであってもよく、発光した光を取り出す観点から、透明なものが好ましい。基板としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートなどのポリマーや、ガラスなどの公知の機材を用いることができる。
例えば、積層構造体において、上述のフィルムを、基板上に設けていてもよい。

図１は、実施形態の積層構造体の構成を模式的に示す断面図である。積層構造体１ａは、基板２０、２１の間に、実施形態のフィルム１０が設けられている。フィルム１０は、封止材２２によって封止されている。

（バリア層）
本発明に係る積層構造体が有していてもよい層としては、特に制限は無いが、バリア層が挙げられる。外気の水蒸気、および大気中の空気から前述の組成物を保護する観点から、バリア層を含んでいても良い。
バリア層は、特に制限は無いが、発光した光を取り出す観点から、透明なものが好ましい。バリア層としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートなどのポリマーや、ガラス膜などの公知のバリア層を用いることができる。

（光散乱層）
本発明に係る積層構造体が有していてもよい層としては、特に制限は無いが、光散乱層が挙げられる。入射した光を有効に利用する観点から、光散乱層を含んでいてもよい。
光散乱層は、特に制限は無いが、発光した光を取り出す観点から、透明なものが好ましい。光散乱層としては、シリカ粒子などの光散乱粒子や、増幅拡散フィルムなどの公知の光散乱層を用いることができる。

＜発光装置＞
本発明に係る発光装置は、本発明の実施形態の組成物または積層構造体と、光源とを合せることで得ることができる。発光装置は、光源から発光した光を、後段に設置した組成物または積層構造体に照射することで、組成物または積層構造体を発光させ、光を取り出す装置である。該発光装置における積層構造体が有する複数の層のうち、上述のフィルム、基板、バリア層、光散乱層以外の層としては、光反射部材、輝度強化部、プリズムシート、導光板、要素間の媒体材料層等の任意の層が挙げられる。

（光源）
本発明に係る発光装置を構成する光源は、特に制限は無いが、前述の組成物、または積層構造体中の半導体微粒子を発光させるという観点から、６００ｎｍ以下の発光波長を有する光源が好ましい。光源としては、例えば、青色発光ダイオードなどの発光ダイオード（ＬＥＤ）、レーザー、ＥＬなどの公知の光源を用いることができる。

（光反射部材）
本発明に係る発光装置を構成する積層構造体が有していてもよい層としては、特に制限は無いが、光反射部材が挙げられる。光源の光を前記の組成物、または積層構造体に向かって照射する観点から、光反射部材を含んでいても良い。光反射部材は、特に制限は無いが、反射フィルムであっても良い。
反射フィルムとしては、例えば、反射鏡、反射粒子のフィルム、反射金属フィルムや反射体などの公知の反射フィルムを用いることができる。

（輝度強化部）
本発明に係る発光装置を構成する積層構造体が有していてもよい層としては、特に制限は無いが、輝度強化部が挙げられる。光の一部分を、光が伝送された方向に向かって反射して戻す観点から、輝度強化部を含んでいても良い。

（プリズムシート）
本発明に係る発光装置を構成する積層構造体が有していてもよい層としては、特に制限は無いが、プリズムシートが挙げられる。プリズムシートは、代表的には、基材部とプリズム部とを有する。なお、基材部は、隣接する部材に応じて省略してもよい。 プリズムシートは、任意の適切な接着層（例えば、接着剤層、粘着剤層）を介して隣接する部材に貼り合わせることができる。プリズムシートは、視認側とは反対側（背面側）に凸となる複数の単位プリズムが並列されて構成されている。プリズムシートの凸部を背面側に向けて配置することにより、プリズムシートを透過する光が集光されやすくなる。また、プリズムシートの凸部を背面側に向けて配置すれば、凸部を視認側に向けて配置する場合と比較して、プリズムシートに入射せずに反射する光が少なく、輝度の高いディスプレイを得ることができる。

（導光板）
本発明に係る発光装置を構成する積層構造体が有していてもよい層としては、特に制限は無いが、導光板が挙げられる。導光板としては、例えば、横方向からの光を厚さ方向に偏向可能となるよう、背面側にレンズパターンが形成された導光板、背面側および／または視認側にプリズム形状等が形成された導光板などの任意の適切な導光板が用いることができる。

（要素間の媒体材料層）
本発明に係る発光装置を構成する積層構造体が有していてもよい層としては、特に制限は無いが、隣接する要素（層）間の光路上に１つ以上の媒体材料からなる層（要素間の媒体材料層）が挙げられる。
要素間の媒体材料層に含まれる１つ以上の媒体には、特に制限は無いが、真空、空気、ガス、光学材料、接着剤、光学接着剤、ガラス、ポリマー、固体、液体、ゲル、硬化材料、光学結合材料、屈折率整合または屈折率不整合材料、屈折率勾配材料、クラッディングまたは抗クラッディング材料、スペーサー、シリカゲル、輝度強化材料、散乱または拡散材料、反射または抗反射材料、波長選択性材料、波長選択性抗反射材料、色フィルター、または当該技術分野で既知の好適な媒体、が含まれる。

本発明に係る発光装置の具体例としては、例えば、ＥＬディスプレイや液晶ディスプレイ用の波長変換材料を備えたものが挙げられる。
具体的には、（Ｅ１）本発明の組成物をガラスチューブ等の中に入れて封止し、これを導光板の端面（側面）に沿うように、光源である青色発光ダイオードと導光板の間に配置して、青色光を緑色光や赤色光に変換するバックライト（オンエッジ方式のバックライト）が挙げられる。

また、（Ｅ２）本発明の組成物をシート化し、これを２枚のバリアーフィルムで挟んで封止したフィルムを、導光板の上に設置して、導光板の端面（側面）に置かれた青色発光ダイオードから導光板を通して前記シートに照射される青色の光を緑色光や赤色光に変換するバックライト（表面実装方式のバックライト）が挙げられる。

また、（Ｅ３）本発明の組成物を、樹脂等に分散させて青色発光ダイオードの発光部近傍に設置し、照射される青色の光を緑色光や赤色光に変換するバックライト（オンチップ方式のバックライト）が挙げられる。

さらに、（Ｅ４）本発明の組成物を、レジスト中に分散させて、カラーフィルター上に設置し、光源から照射される青色の光を緑色光や赤色光に変換するバックライトが挙げられる。
が挙げられる。

また、本発明に係る発光装置の具体例としては、本発明の実施形態の組成物を成形し、光源である青色発光ダイオードの後段に配置して、青色光を緑色光や赤色光に変換して白色光を発する照明が挙げられる。

＜ディスプレイ＞
図２に示すように、実施形態のディスプレイ３は、液晶パネル４０と、前述の発光装置２とを視認側からこの順に備える。発光装置２は、積層構造体１ｂと光源３０とを備える。積層構造体１ｂは、前述の積層構造体１ａが、プリズムシート５０と、導光板６０と、をさらに備えたものである。ディスプレイは、任意の適切なその他の部材をさらに備えていてもよい。

（液晶パネル）
上記液晶パネルは、代表的には、液晶セルと、該液晶セルの視認側に配置された視認側偏光板と、該液晶セルの背面側に配置された背面側偏光板とを備える。視認側偏光板および背面側偏光板は、それぞれの吸収軸が実質的に直交または平行となるようにして配置され得る。

（液晶セル）
液晶セルは、一対の基板と、当該基板間に挟持された表示媒体としての液晶層とを有する。一般的な構成においては、一方の基板に、カラーフィルターおよびブラックマトリクスが設けられており、他方の基板に、液晶の電気光学特性を制御するスイッチング素子と、このスイッチング素子にゲート信号を与える走査線およびソース信号を与える信号線と、画素電極および対向電極とが設けられている。上記基板の間隔（セルギャップ）は、スペーサー等によって制御できる。上記基板の液晶層と接する側には、例えば、ポリイミドからなる配向膜等を設けることができる。

（偏光板）
偏光板は、代表的には、偏光子と、偏光子の両側に配置された保護層とを有する。偏光子は、代表的には、吸収型偏光子である。
上記偏光子としては、任意の適切な偏光子が用いられる。例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。これらの中でも、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素などの二色性物質を吸着させて一軸延伸した偏光子が、偏光二色比が高く、特に好ましい。

本発明の組成物の用途としては、例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ）用の波長変換材料が挙げられる。
＜ＬＥＤ＞
本発明の組成物は、例えば、ＬＥＤの発光層の材料として用いることができる。
本発明の組成物を含むＬＥＤとしては、例えば、本発明の組成物とＺｎＳなどの導電性粒子を混合して膜状に積層し、片面にｎ型輸送層を積層し、もう片面にｐ型輸送層を積層した構造をしており、電流を流すことで、ｐ型半導体の正孔と、ｎ型半導体の電子が接合面の組成物に含まれる（１）成分および（２）成分の粒子中で電荷を打ち消すことで発光する方式が挙げられる。

＜太陽電池＞
本発明の組成物は、太陽電池の活性層に含まれる電子輸送性材料として利用することができる。
当該太陽電池としては、構成は特に限定されないが、例えば、フッ素ドープされた酸化スズ（ＦＴＯ）基板、酸化チタン緻密層、多孔質酸化アルミニウム層、本発明の組成物を含む活性層、２，２’，７，７’−ｔｅｔｒａｋｉｓ（Ｎ，Ｎ−ｄｉ−ｐ−ｍｅｔｈｏｘｙｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｅ）−９，９−ｓｐｉｒｏｂｉｆｌｕｏｒｅｎｅ （Ｓｐｉｒｏ−ＭｅＯＴＡＤ）などのホール輸送層、および、銀（Ａｇ）電極をこの順で有する太陽電池が挙げられる。
酸化チタン緻密層は、電子輸送の機能、ＦＴＯのラフネスを抑える効果、および、逆電子移動を抑制する機能を有する。
多孔質酸化アルミニウム層は、光吸収効率を向上させる機能を有する。
活性層に含まれる、本発明の組成物は、電荷分離および電子輸送の機能を有する。

＜積層構造体の製造方法＞
積層構造体の製造方法としては、例えば、下記の製造方法（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）、（ｉｖ）が挙げられる。
製造方法（ｉ）：（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（４）成分を混合する工程と、
得られた混合物を基板上に塗工する工程と、
溶媒を除去する工程と、を含む積層構造体の製造方法。
製造方法（ｉｉ）：（１）成分、（２）成分、（３）成分、および溶媒に溶解している重合体を混合する工程と、
得られた混合物を基板上に塗工する工程と、
溶媒を除去する工程と、を含む積層構造体の製造方法であってもよく、
製造方法（ｉｉｉ）：（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５’）成分を含む組成物であって、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５’）成分の合計が９０質量％以上である組成物を、基板に張り合わせる工程を含む積層構造体の製造方法であってもよく、
製造方法（ｉｖ）：（１）成分、（２）成分、（３）成分、および重合性化合物を混合する工程と、
得られた混合物を基板上に塗工する工程と、
重合性化合物を重合させる工程と、を含む製造方法であってもよい。

上記（ｉ）の製造方法に含まれる、混合する工程、および、溶媒を除去する工程、
上記（ｉｉ）の製造方法に含まれる、混合する工程、および、溶媒を除去する工程、
上記（ｉｖ）の製造方法に含まれる、混合する工程、
および、重合性化合物を重合させる工程は、
それぞれ、既に説明した、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５’）成分を含む組成物であって、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５’）成分の合計が９０質量％以上である組成物の製造方法に含まれる工程と同様の工程とすることができる。

（ｉ）、（ｉｉ）、および（ｉｖ）の製造方法に含まれる、基板上に塗工する工程は、特に制限は無いが、グラビア塗布法、バー塗布法、印刷法、スプレー法、スピンコーティング法、ディップ法、ダイコート法などの、公知の塗布、塗工方法を用いることができる。

（ｉｉｉ）の製造方法に含まれる、基板に張り合わせる工程では、任意の接着剤を用いることができる。
接着剤は、（１）成分、および（２）成分、（３）成分の化合物を溶解しない物であれば特に制限は無く、公知の接着剤を用いることができる。

積層構造体の製造方法は、（ｉ）〜（ｉｖ）で得られた積層構造体に、さらに、任意のフィルムを張り合わせる工程を含んでいてもよい。
張り合わせる任意のフィルムとしては、例えば、反射フィルム、拡散フィルムが挙げられる。
フィルムを張り合わせる工程では、任意の接着剤を用いることができる。
上述の接着剤は、（１）成分、および（２）成分、（３）成分の化合物を溶解しない物であれば特に制限は無く、公知の接着剤を用いることができる。

＜発光装置の製造方法＞
たとえば、前述の光源と、光源から後段の光路上に前述の組成物、または積層構造体を設置する工程とを含む製造方法が挙げられる。

以下、実施例および比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

（ペロブスカイト化合物の濃度測定）
実施例１〜３、および比較例１〜３で得られた組成物におけるペロブスカイト化合物の濃度は下記の方法により測定した。
まず、再分散させることで得られたペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液に、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを添加することでペロブスカイト化合物を溶解させた。
その後、ＩＣＰ−ＭＳ（ＰｅｒｋｉｎＥｌｍｅｒ社製、ＥＬＡＮ ＤＲＣＩＩ）、およびイオンクロマトグラフ（サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社製、Ｉｎｔｅｇｒｉｏｎ）を用いて測定した。

（量子収率の測定）
実施例１〜３、および比較例１〜３で得られた組成物の量子収率を、絶対ＰＬ量子収率測定装置（浜松ホトニクス株式会社製、Ｃ９９２０−０２）を用いて、励起光４５０ｎｍ、室温、大気下で測定した。

（熱耐久性評価）
実施例１〜３、および比較例１〜３で得られた組成物をホットプレート上で１５０℃、２分間加熱し、加熱前後の量子収率を測定して、下記の式を用いて減少率をを求めた。こうして求めた減少率が小さいほど熱耐久性が高いと評価できる。
減少率（％）＝（１−熱耐久試験後の量子収率÷熱耐久試験前の量子収率）×１００

（透過型電子顕微鏡によるペロブスカイト化合物の観察）
ペロブスカイト化合物は透過型電子顕微鏡（日本電子株式会社製、ＪＥＭ−２２００ＦＳ）を用いて観察した。観察用の試料は、ペロブスカイト化合物を含む分散液組成物からペロブスカイト化合物を支持膜付きグリッドに採取後、加速電圧を２００ｋＶとして観察を行った。
平均のフェレー径は、２０のペロブスカイト化合物のフェレー径の平均値とした。

［実施例１］
炭酸セシウム０．８１４ｇと、１−オクタデセンの溶媒４０ｍＬと、オレイン酸２．５ｍＬとを混合した。マグネチックスターラーで攪拌して、窒素を流しながら１５０℃で１時間加熱して炭酸セシウム溶液１を調製した。
臭化鉛（ＰｂＢｒ_２）０．２７６ｇを１−オクタデセンの溶媒２０ｍＬと混合した。マグネチックスターラーで攪拌して窒素を流しながら１２０℃の温度で１時間加熱した後、オレイン酸２ｍＬ、およびオレイルアミン２ｍＬを添加して臭化鉛分散液を調製した。
臭化鉛分散液を１６０℃の温度に昇温した後、上述の炭酸セシウム溶液を１．６ｍＬ添加した。添加後、反応容器を氷水に漬けることで、室温まで降温し、分散液を得た。
次いで、分散液を１００００ｒｐｍ、５分間遠心分離し、沈殿物を分離することで、沈殿物のペロブスカイト化合物を得た。ペロブスカイト化合物をトルエン５ｍＬに分散させた後、分散液５００μＬを分取して、トルエン４．５ｍＬに再分散させることで、ペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１を得た。
ＩＣＰ−ＭＳ、およびイオンクロマトグラフによって測定したペロブスカイト化合物の濃度は、２０００ｐｐｍ（μｇ／ｇ）であった。
溶媒を自然乾燥させて回収した化合物のＸ線回折パターンをＸ線回折測定装置（ＸＲＤ、Ｃｕ Ｋα線、Ｘ’ｐｅｒｔ ＰＲＯ ＭＰＤ、スペクトリス社製）で測定した所、２θ＝１４°の位置に（ｈｋｌ）＝（００１）由来のピークを有しており、３次元のペロブスカイト型結晶構造を有していることを確認した。
ＴＥＭで観察したペロブスカイト化合物の平均のフェレー径は１１ｎｍであった。
トルエンでペロブスカイト化合物の濃度が２００ｐｐｍ（μｇ／ｇ）になるように希釈した後、量子収率測定装置によって測定した量子収率は３０％であった。
上述のペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１にトリブチル−ｎ−オクチルホスホニウムブロミドを混合した。分散液において、トリブチル−ｎ−オクチルホスホニウムブロミドに含まれるＰ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比は、トリブチル−ｎ−オクチルホスホニウムブロミド／Ｐｂ＝０．８５であった。次いで上述の分散液にテトラメトキシシランを混合した。分散液において、テトラメトキシシランに含まれるＳｉ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比はＳｉ／Ｐｂ＝４５であった。
上述の分散液を２５℃、８０％の湿度条件で、スターラーで攪拌しながら、１日間改質処理した。
上述の分散液５０μＬを１ｃｍ×１ｃｍサイズのガラス基板上にキャストし、自然乾燥させることで組成物を得た。上述の組成物を１５０℃に加熱したホットプレート上で２分間加熱して熱耐久試験を行った。耐久試験前後の量子収率を測定して減少率を算出すると、減少率は４９％であった。

［実施例２］
実施例１と同様の方法で、ペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１を得た。トルエンでペロブスカイト化合物の濃度が２００ｐｐｍ（μｇ／ｇ）になるように希釈した後、量子収率測定装置によって測定した量子収率は３０％であった。
上述のペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１に亜りん酸トリオレイルを混合した。分散液において、亜りん酸トリオレイルに含まれるＰ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比は、亜りん酸トリオレイル／Ｐｂ＝２．１であった。次いで上述の分散液にテトラメトキシシランを混合した。分散液において、テトラメトキシシランに含まれるＳｉ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比はＳｉ／Ｐｂ＝４５であった。
上述の分散液を２５℃、８０％の湿度条件で、スターラーで攪拌しながら、１日間改質処理した。
上述の分散液５０μＬを１ｃｍ×１ｃｍサイズのガラス基板上にキャストし、自然乾燥させることで組成物を得た。上述の組成物を１５０℃に加熱したホットプレート上で２分間加熱して熱耐久試験を行った。耐久試験前後の量子収率を測定して減少率を算出すると、減少率は４４％であった。

［実施例３］
実施例１と同様の方法で、ペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１を得た。トルエンでペロブスカイト化合物の濃度が２００ｐｐｍ（μｇ／ｇ）になるように希釈した後、量子収率測定装置によって測定した量子収率は３０％であった。
上述のペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１にドデシル硫酸ナトリウムを混合した。分散液において、ドデシル硫酸ナトリウムに含まれるＰ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比は、ドデシル硫酸ナトリウム／Ｐｂ＝１２であった。次いで上述の分散液にテトラメトキシシランを混合した。分散液において、テトラメトキシシランに含まれるＳｉ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比はＳｉ／Ｐｂ＝４５であった。
上述の分散液を２５℃、８０％の湿度条件で、スターラーで攪拌しながら、１日間改質処理した。
上述の分散液５０μＬを１ｃｍ×１ｃｍサイズのガラス基板上にキャストし、自然乾燥させることで組成物を得た。上述の組成物を１５０℃に加熱したホットプレート上で２分間加熱して熱耐久試験を行った。耐久試験前後の量子収率を測定して減少率を算出すると、減少率は４１％であった。

［比較例１］
実施例１と同様の方法で、ペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１を得た。トルエンでペロブスカイト化合物の濃度が２００ｐｐｍ（μｇ／ｇ）になるように希釈した後、量子収率測定装置によって測定した量子収率は３０％であった。
上述のペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１を５０μＬを１ｃｍ×１ｃｍサイズのガラス基板上にキャストし、自然乾燥させることで組成物を得た。上述の組成物を１５０℃に加熱したホットプレート上で２分間加熱して熱耐久試験を行った。耐久試験前後の量子収率を測定して減少率を算出すると、減少率は５７％であった。

［比較例２］
実施例１と同様の方法で、ペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１を得た。トルエンでペロブスカイト化合物の濃度が２００ｐｐｍ（μｇ／ｇ）になるように希釈した後、量子収率測定装置によって測定した量子収率は３０％であった。
上述のペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１にトリブチル−ｎ−オクチルホスホニウムブロミドを混合した。分散液において、トリブチル−ｎ−オクチルホスホニウムブロミドに含まれるＰ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比は、トリブチル−ｎ−オクチルホスホニウムブロミド／Ｐｂ＝０．８５であった。
上述の分散液５０μＬを１ｃｍ×１ｃｍサイズのガラス基板上にキャストし、自然乾燥させることで組成物を得た。上述の組成物を１５０℃に加熱したホットプレート上で２分間加熱して熱耐久試験を行った。耐久試験前後の量子収率を測定して減少率を算出すると、減少率は６８％であった。

［比較例３］
実施例１と同様の方法で、ペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１を得た。トルエンでペロブスカイト化合物の濃度が２００ｐｐｍ（μｇ／ｇ）になるように希釈した後、量子収率測定装置によって測定した量子収率は３０％であった。
次いで上述のペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１にテトラメトキシシランを混合した。分散液において、テトラメトキシシランに含まれるＳｉ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比はＳｉ／Ｐｂ＝４５であった。
上述の分散液を２５℃、８０％の湿度条件で、スターラーで攪拌しながら、１日間改質処理した。
上述の分散液５０μＬを１ｃｍ×１ｃｍサイズのガラス基板上にキャストし、自然乾燥させることで組成物を得た。上述の組成物を１５０℃に加熱したホットプレート上で２分間加熱して熱耐久試験を行った。耐久試験前後の量子収率を測定して減少率を算出すると、減少率は５９％であった。

上記の結果から、本発明の実施例１〜３に係る組成物は、比較例１〜３の組成物と比較して、高い熱耐久性を示した。

［参考例１］
実施例１〜３に記載の組成物を、必要に応じて溶媒を除去した後に、必要に応じて樹脂を混合して、ガラスチューブ等の中に入れて封止した後に、これを光源である青色発光ダイオードと導光板の間に配置することで、青色発光ダイオードの青色光を緑色光や赤色光に変換することができるバックライトを製造する。

［参考例２］
実施例１〜３に記載の組成物を、必要に応じて溶媒を除去した後に、必要に応じて樹脂を混合して、シート化する事で樹脂組成物を得ることができ、これを２枚のバリアーフィルムで挟んで封止したフィルムを導光板の上に設置することで、導光板の端面（側面）に置かれた青色発光ダイオードから導光板を通して前記シートに照射される青色の光を緑色光や赤色光に変換することができるバックライトを製造する。

［参考例３］
実施例１〜３に記載の組成物を、必要に応じて溶媒を除去した後に、必要に応じて樹脂を混合して、青色発光ダイオードの発光部近傍に設置することで照射される青色の光を緑色光や赤色光に変換することができるバックライトを製造する。

［参考例４］
実施例１〜３に記載の組成物を必要に応じて溶媒を除去し、レジストを混合した後に、溶媒を除去する事で波長変換材料を得ることができる。得られた波長変換材料を光源である青色発光ダイオードと導光板の間や、光源であるＯＬＥＤの後段に配置することで、光源の青色光を緑色光や赤色光に変換することができるバックライトを製造する。

［参考例５］
実施例１〜３に記載の組成物をＺｎＳなどの導電性粒子を混合して成膜し、片面にｎ型輸送層を積層し、もう片面をｐ型輸送層で積層することでＬＥＤを得る。電流を流すことによりｐ型半導体の正孔と、ｎ型半導体の電子が接合面のペロブスカイト化合物中で電荷を打ち消されることで発光させることができる。

［参考例６］
フッ素ドープされた酸化スズ（ＦＴＯ）基板の表面上に、酸化チタン緻密層を積層させ、その上から多孔質酸化アルミニウム層を積層し、その上に実施例１〜３に記載の組成物を積層し、溶媒を除去した後にその上から２，２−，７，７−ｔｅｔｒａｋｉｓ−（Ｎ，Ｎ−ｄｉ−ｐ−ｍｅｔｈｏｘｙｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｅ）９，９−ｓｐｉｒｏｂｉｆｌｕｏｒｅｎｅ （Ｓｐｉｒｏ−ＯＭｅＴＡＤ）などのホール輸送層を積層し、その上に銀（Ａｇ）層を積層し、太陽電池を作製する。

［参考例７］
実施例１〜３に記載の組成物と樹脂を混合した後に、溶媒を除去して成形する事で本発明の組成物を含む樹脂組成物を得ることができ、これを青色発光ダイオードの後段に設置することで、青色発光ダイオードから前記樹脂成形体に照射される青色の光を緑色光や赤色光に変換して白色光を発するレーザーダイオード照明を製造する。

本発明によれば、熱耐久性の高い、ペロブスカイト化合物を含む組成物をえることができる。さらに、当該組成物を用いて、フィルム、積層構造体、およびディスプレイを提供することが可能である。

１ａ，１ｂ…積層構造体、１０…フィルム、２０，２１…基板、２２…封止材、２…発光装置、３…ディスプレイ、３０…光源、４０…液晶パネル、５０…プリズムシート、６０…導光板

Claims (5)

1. 下記（１）成分、（２）成分、及び（３）成分を含む組成物。
   （１）成分：Ａ、Ｂ、及びＸを有するペロブスカイト化合物。
   （Ａは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ｂを中心とする６面体の各頂点に位置する成分であって、１価の陽イオンである。
   Ｂは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ａを頂点に配置する６面体、及びＸを頂点に配置する８面体の中心に位置する成分であって、金属イオンである。
   Ｘは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ｂを中心とする８面体の各頂点に位置する成分であって、ハロゲン化物イオン及びチオシアン酸イオンからなる群より選ばれる少なくとも一種のイオンである。）
   （２）成分：式（Ｃ）で表される化合物又はその改質体。
   （３）成分：式（Ｘ１）〜（Ｘ３）でそれぞれ表される化合物及びそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物。
   

   

   
   （Ｃ）
   （式（Ｃ）中、Ｙ^５は単結合、酸素原子又は硫黄原子を表す。
   Ｙが酸素原子の場合、Ｒ^３０、Ｒ^３１は、それぞれ独立に水素原子、炭素原子数が１〜２０のアルキル基、炭素原子数が３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数が２〜２０の不飽和炭化水素基を表す。
   Ｙ^５が単結合又は硫黄原子の場合、Ｒ^３０は炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数が３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数が２〜２０の不飽和炭化水素基を表し、Ｒ^３１は水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数が３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数が２〜２０の不飽和炭化水素基を表す。
   Ｒ^３０又はＲ^３１で表される基に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。
   ａは１〜３の整数である。
   ａが２又は３のとき、複数存在するＹ^５は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
   ａが２又は３のとき、複数存在するＲ^３０は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
   ａが１又は２のとき、複数存在するＲ^３１は、同一であってもよく、異なっていてもよい。）
   

   

   
   （Ｘ１）
   

   

   （Ｘ２）
   
   

   

   （Ｘ３）
   （式（Ｘ１）中、Ｒ^１８〜Ｒ^２１はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数６〜３０のアリール基を表し、それらは置換基を有していてもよい。Ｍ⁻はカウンターアニオンを表す。
   式（Ｘ２）中、Ａ^４は単結合又は酸素原子を表す。Ｒ^２５は、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数６〜３０のアリール基を表し、それらは置換基を有していてもよい。
   式（Ｘ３）中、Ａ^５およびＡ^６はそれぞれ独立に、単結合又は酸素原子を表す。Ｒ^２６〜Ｒ^２８はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、又は炭素原子数２〜２０のアルキニル基を表し、それらは置換基を有していてもよい。
   Ｒ^１８〜Ｒ^２１及びＲ^２５〜Ｒ^２８で表される基に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。）
2. 請求項１に記載の組成物を用いたフィルム。
3. 請求項２に記載のフィルムを含む積層構造体。
4. 請求項３に記載の積層構造体を備える発光装置。
5. 請求項３に記載の積層構造体を備えるディスプレイ。

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