JP2019114310A - 光ディスク及び光ディスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】両面型の光ディスクにおいて、ディスク外周部をつかむ形で機械的に高速ハンドリングした場合、ディスク端面の割れや剥離が生じ易い。【解決手段】光ディスク端面における凹凸差を小さくして、高速ハンドリング時の応力集中等を抑える。具体的には、（１）基板の片面側に記録層を有するとともに該基板の反対面側に貼り合せ面を有する記録基板が、一対にして貼り合せられた光ディスクであって、断面視において、前記光ディスクの端面における凹凸差の平均値が１２０μｍ以下である、光ディスク、或いは、（２）基板の片面側に記録層を有するとともに該基板の反対面側に貼り合せ面を有する記録基板が、一対にして貼り合せられた光ディスクであって、前記記録基板の前記貼り合せ面同士が接着層を介して貼り合せられており、前記接着層がレべリング剤を含む、光ディスクとする。【選択図】図１

Description

本願は両面型の光ディスク及びその製造方法を開示する。

光ディスクは、運用コストが低いことから、アクセス頻度が低いデータの長期保管用の記録媒体として、その大容量化が求められている。大容量の光ディスクとして、２枚の記録基板を貼り合せた両面型の光ディスクが知られている。両面型の光ディスクは、例えば、特許文献１、２に開示されているように、基板の片面側に記録層を有し該基板の反対面側に貼り合せ面を有する記録基板を一対にして貼り合せることにより作製可能である。

特開２０１５−１９７９３６号公報 特開２０１７−１７４４８７号公報

特許文献１、２に開示されたような両面型の光ディスクにあっては、貼り合せに伴ってディスクの端部を起点とした割れなどが問題となる場合があり、特にディスク外周部をつかむ形で機械的に高速ハンドリング（例えば０．５秒以内にディスクを１０ｃｍ以上移動）した場合、ディスク端面の割れや剥離が生じ易いという課題がある。

本願は上記課題を解決するための手段の一つ（第１の形態）として、基板の片面側に記録層を有するとともに該基板の反対面側に貼り合せ面を有する記録基板が、一対にして貼り合せられた光ディスクであって、断面視において、前記光ディスクの端面における凹凸差の平均値が１２０μｍ以下である、光ディスクを開示する。

「断面視」とは、光ディスクの表裏面に対して垂直な断面から視た場合をいう。
「光ディスクの端面」とは、図１に示すように、光ディスクの端部を構成する面であって、一方の基板の上記片面（外側面）端部の位置と他方の基板の上記片面（外側面）端部の位置とを基準線（図１に示すような、光ディスクの中心軸と直交する一点破線）として、その間に存在する面（図１中、太い実線で示された面）をいう。
「断面視において、前記光ディスクの端面における凹凸差」とは、図１に示すように、断面視における端面において、光ディスクの中心軸から端面の最も突出した部分までの距離（Ｌ_１）と、光ディスクの中心軸から端面の最も窪んだ部分までの距離（Ｌ_２）との差（ΔＬ＝Ｌ_１−Ｌ_２）をいう。
「平均値」とは、光ディスクの外周の少なくとも４箇所（好ましくは８箇所）において、それぞれ断面視における端面の凹凸差を測定し、得られた凹凸差を平均したものをいう。この場合の「４箇所」の位置は任意であるが、例えば図２に示すように、光ディスクの外周を周方向に略４等分する４等分線と、光ディスクの外周との交点である４箇所とする。

第１の形態に係る光ディスクにおいては、平面視において、前記光ディスクの端面における凹凸差が２５μｍ以下であることが好ましい。

「平面視」とは、光ディスクの表裏面を平面とした場合における平面視をいう。
「平面視において、前記光ディスクの端面における凹凸差」とは、図３に示すように、平面視において、光ディスクの中心軸から光ディスクの外周のうち中心軸から最も遠い部分までの長さ（Ｒ_１）と、光ディスクの中心軸から光ディスクの外周のうち中心軸に最も近い部分までの長さ（Ｒ_２）との差（ΔＲ＝Ｒ_１−Ｒ_２）をいう。

第１の形態に係る光ディスクにおいては、前記記録基板の前記片面側及び端面にカバー層及びハードコート層が設けられており、前記記録基板の前記貼り合せ面同士が接着層を介して貼り合せられており、前記光ディスクの前記端面が、前記カバー層及び／又は前記ハードコート層と前記接着層とによって構成されていることが好ましく、前記ハードコート層と前記接着層とによって構成されていることがより好ましい。

第１の形態に係る光ディスクにおいては、前記接着層がレべリング剤を含むことが好ましい。

第１の形態に係る光ディスクにおいては、前記レべリング剤が、ポリエーテル変性シリコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル、メタクリル変性シリコーンオイル、アクリル変性シリコーンオイル、メチルスチリル変性シリコーンオイル、高級脂肪酸エステル変性シリコーンオイル、高級アルコキシ変性シリコーンオイルからなる群より選ばれる少なくとも１種のシリコーンオイルであることが好ましい。

第１の形態に係る光ディスクにおいては、前記接着層が接着成分として紫外線硬化樹脂を含むことが好ましい。

第１の形態に係る光ディスクにおいては、前記ハードコート層が（メタ）アクリレート化合物、（メタ）アクリレート化合物以外のエチレン性不飽和化合物、スリップ剤、及び光重合開始剤を含む硬化物層であることが好ましい。

本願は上記課題を解決するための手段の一つ（第２の形態）として、基板の片面側に記録層を有するとともに該基板の反対面側に貼り合せ面を有する記録基板が、一対にして貼り合せられた光ディスクであって、前記記録基板の前記貼り合せ面同士が接着層を介して貼り合せられており、前記接着層がレべリング剤を含む、光ディスクを開示する。

第２の形態に係る光ディスクにおいては、前記レべリング剤が、ポリエーテル変性シリコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル、メタクリル変性シリコーンオイル、アクリル変性シリコーンオイル、メチルスチリル変性シリコーンオイル、高級脂肪酸エステル変性シリコーンオイル、高級アルコキシ変性シリコーンオイルからなる群より選ばれる少なくとも１種のシリコーンオイルであることが好ましい。

第２の形態に係る光ディスクにおいては、前記接着層が接着成分として紫外線硬化樹脂を含むことが好ましい。

第２の形態に係る光ディスクにおいては、前記記録基板の前記片面側及び端面にカバー層及びハードコート層が設けられており、前記光ディスクの前記端面が、前記カバー層及び／又は前記ハードコート層と前記接着層とによって構成されていることが好ましい。

第２の形態に係る光ディスクにおいては、前記ハードコート層が（メタ）アクリレート化合物、（メタ）アクリレート化合物以外のエチレン性不飽和化合物、スリップ剤、及び光重合開始剤を含む硬化物層であることが好ましい。

上記第１の形態と対応して、本願は上記課題を解決するための手段の一つとして、基板の片面側に記録層を有するとともに該基板の反対面側に貼り合せ面を有する記録基板を２枚準備し、準備した２枚の記録基板の前記貼り合せ面同士を貼り合せて光ディスクを製造する方法であって、断面視において、前記光ディスクの端面における凹凸差の平均値を１２０μｍ以下とする、光ディスクの製造方法を開示する。

上記第２の形態と対応して、本願は上記課題を解決するための手段の一つとして、基板の片面側に記録層を有するとともに該基板の反対面側に貼り合せ面を有する記録基板を２枚準備し、準備した２枚の記録基板の前記貼り合せ面同士を接着層を介して貼り合せて光ディスクを製造する方法であって、前記接着層にレべリング剤を含ませる、光ディスクの製造方法を開示する。

本発明者の新たな知見によれば、従来の光ディスクにおいては、その端面にハードコート層や接着層のはみ出しや接着層のハジキ（後述）が存在し、これによって光ディスクの端面のうち例えばディスクの厚み方向中央部付近において大きな凹凸差が生じ易い。端面に大きな凹凸差を有する光ディスクに対して、ディスク外周部をつかむ形で機械的に高速ハンドリングした場合、例えば凸部に応力が集中する等して、ディスクの割れや剥離が生じ易い。

これに対し、第１の形態に係る本開示の光ディスクは、端面における凹凸差が所定以下と小さくされており、ディスク外周部をつかむ形で機械的に高速ハンドリングした場合においても、応力集中等が生じ難く、ディスク端面の割れや剥離が生じ難い。

また、第２の形態に係る本開示の光ディスクは、接着層にレべリング剤が含まれており、接着面に対する接着剤の接触角が小さい。そのため、ディスクの端面に接着層がはみ出した場合でも、ハジキ（後述）が生じ難く、接着剤層の部分的な突出等を抑制できる。すなわち、端面における凹凸差を容易に小さくすることができる。そのため、ディスク外周部をつかむ形で機械的に高速ハンドリングした場合においても、応力集中等が生じ難く、ディスク端面の割れや剥離が生じ難い。

光ディスクの「断面視における端面の凹凸差」等について説明するための概略図である。 断面視における端面の凹凸差を測定する４箇所の一例を説明するための概略図である。 光ディスクの「平面視における端面の凹凸差」について説明するための概略図である。 光ディスク１００の構成を説明するための概略図である。 光ディスク１００を構成した状態における記録基板１０、１０の構成や位置関係を説明するための概略図である。 接着層の「ハジキ」について説明するための概略図である。 光ディスク２００の構成を説明するための概略図である。 光ディスクの製造方法の流れの一例を説明するための図である。 比較例１に係る光ディスクの構成を説明するための概略図である。 実施例１に係る光ディスクの構成を説明するための概略図である。 実施例２に係る光ディスクの構成を説明するための概略図である。

１．光ディスク１００
図４に光ディスク１００の構成を概略的に示す。図４（Ａ）が断面図であってディスク端部近傍を拡大した図、図４（Ｂ）が平面図である。図４に示すように、光ディスク１００は、基板１の片面側に記録層２を有し、該基板１の反対面側に貼り合せ面を有する記録基板１０が、一対にして貼り合されている。光ディスク１００は、断面視において、光ディスク１００の端面における凹凸差（ΔＬ、図１参照）の平均値が１２０μｍ以下であることに一つの特徴を有する。

１．１．記録基板１０
図５に示すように、一対の記録基板１０、１０は、それぞれ、基板１と、基板の片面側に設けられた記録層２を有しており、基板１の反対面側が貼り合せ面とされる。

１．１．１．基板１
基板１は、光ディスクの基板として公知のものをいずれも採用可能である。基板１を構成する材質は、光ディスクとしての機能を確保可能な材質であればよい。例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂（特に非晶質ポリオレフィン）、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、エポキシ系樹脂等が挙げられる。中でも強度や透明性等の観点からポリカーボネート系樹脂からなることが好ましい。基板１の形状は規格に応じて適宜決定すればよく、例えば平面視において中心部に穴を有する円盤状であることが好ましい。

図４、５に示すように、基板１は、端部の形状に工夫が施されていることが好ましい。基板１の端部の形状を工夫することで、断面視における端面の凹凸差（ΔＬ）を小さくし易くなる。

例えば、図５に示すように、記録基板１０、１０の貼り合せ面同士を対向させた場合に端部に窪み１ａが形成されるように、基板１の反対面の形状を工夫することが好ましい。すなわち、光ディスク１００は、記録基板１０、１０の貼り合せ面同士の間隔が端部において拡大されて、空間部１ａが形成されていることが好ましい。具体的には、基板１の反対面の端部に切り欠きを設けるとよい。これにより、後述の接着層４０のはみ出しが抑制され、光ディスクの端面の凹凸差（ΔＬ）を小さくし易くなる。ただし、空間部１ａが大きすぎると、接着層４０によって空間部１ａ全体を埋め込むことが難しくなり、結果として、光ディスクの端面の厚み方向中央部に大きな凹部が生じ易い。この点、図５（Ｂ）に示すように、空間部１ａにおける基板１、１同士の間隔（Ｗ_１）を２０μｍ以上７０μｍ以下とすることが好ましい。また、空間部１ａの奥行き（Ｗ_２）を２００μｍ以上５００μｍ以下とすることが好ましい。さらに、図５に示すように、断面視において空間部１ａが平面部１ｂと傾斜部１ｃとを有する場合、平面部１ｂの幅（Ｗ_３）を５０μｍ以上２００μｍ以下とすることが好ましい。

図５に示すように、基板１は、その端面に突出部１ｄを備えていることが好ましい。これにより、相対的に空間部１ａがより内側へ移動し高速ハンドリング時の応力影響が少なくできるという効果が発揮される。図５（Ｂ）に示す突出部１ｄの突出長さ（Ｘ_１）は特に限定されるものではない。ただし、突出部１ｄが突出し過ぎている場合、端面における凹凸差が大きくなり易い。この点、突出部１ｄの突出長さ（Ｘ_１）は、４０μｍ以上６０μｍ以下とすることが好ましい。一方、突出部１ｄの幅（Ｘ_２）は特に限定されるものではなく、例えば、２００μｍ以上５００μｍ以下とすることが好ましい。

図５において、基板１の厚み（Ｔ_１）は特に限定されるものではないが、強度や透明性等の観点から、例えば３００μｍ以上１３００μｍ以下が好ましい。下限がより好ましくは４５０μｍ以上である。

図５において、１対の記録基板１０同士の間隔のうち空間部１ａ以外の部分における間隔（Ｔ_２）（後述の接着層４０の厚みと対応）は特に限定されるものではないが、強度等の観点から、１０μｍ以上１００μｍ以下が好ましい。下限がより好ましくは２０μｍ以上、上限がより好ましくは８０μｍ以下である。

１．１．２．記録層２
記録層２は、光ディスクの記録層として公知のものをいずれも採用可能である。記録層２は多層構造であってもよい。非書換型の場合、記録層２は半透明な酸化物層を有する。一方、書換型の場合、記録層２は不透明な金属層を有する。本開示の光ディスク１００においては、記録層２の形態によらず、上記課題を解決することができる。記録層２の構成は自明であり、ここではこれ以上の説明を省略する。

以上の構成を備える記録基板１０の厚み（基板１及び記録層２を含む全体としての厚み）は特に限定されるものではないが、光学特性、強度等の観点から、例えば４００μｍ以上１４００μｍ以下であることが好ましい。下限がより好ましくは４５０μｍ以上である。

１．２．その他の層
本開示の光ディスク１００は、少なくとも上記の基板１及び記録層２を有する記録基板１０が１対にして貼り合されていればよい。光ディスク１００は、これら以外の層を有していてもよい。例えば、図１及び４に示すように、光ディスク１００は、記録基板１０の片面側及び端面にカバー層２０及びハードコート層３０が設けられており（例えば、記録基板１０の片面側及び端面において、ハードコート層３０がカバー層２０を介して設けられており）、記録基板１０、１０の貼り合せ面同士が接着層４０を介して貼り合せられており、光ディスク１００の端面が、カバー層２０及び／又はハードコート層３０と接着層４０とによって構成されていることが好ましい。特に、図４に示すように、光ディスク１００の端面がハードコート層３０と接着層４０とによって構成されていることが好ましい。

１．２．１．カバー層２０
カバー層２０は、光ディスクの読み取り面のキズやへこみ等を防止するためのもので、公知のものをいずれも採用可能である。例えば、カバー層２０には、紫外線硬化樹脂などの感光性樹脂を硬化してなる樹脂層を適用することができる。この樹脂層の材料としては、例えば、紫外線硬化型のアクリル系樹脂が挙げられる。カバー層２０は、（メタ）アクリレート化合物、（メタ）アクリレート化合物以外のエチレン性不飽和化合物、スリップ剤、及び光重合開始剤を含む硬化物層であることが好ましい。

カバー層２０の厚みは特に限定されるものではないが、光ディスク１００における端面の凹凸差（ΔＬ）を一層小さくし易くする観点からは、カバー層２０及び後述のハードコート層３０の合計厚みを５０μｍ以上１１０μｍ以下とすることが好ましい。カバー層２０の構成は自明であり、ここではこれ以上の説明を省略する。

１．２．２．ハードコート層３０
ハードコート層３０は、光ディスクの読み取り面のキズや汚れを防止するためのもので、公知のものをいずれも採用可能である。例えば、特許文献１に開示されているように、ハードコート層３０には、機械的強度を向上させるためにシリカゲルの微粉末を混入したものや、溶剤タイプ、無溶剤タイプなどの紫外線硬化樹脂を用いることができる。ハードコート層３０は、（メタ）アクリレート化合物、（メタ）アクリレート化合物以外のエチレン性不飽和化合物、スリップ剤、及び光重合開始剤を含む硬化物層であることが好ましい。硬化物層を構成する各成分のモノマー種や組成比を調整することで、カバー層２０よりも硬質な層とすることができる。ハードコート層として高い表面保護効果を発揮できることに加えて、後述の接着層４０のハジキに対するレべリング剤による効果がより顕著となるためである。

ハードコート層３０の厚みは特に限定されるものではないが、光ディスク１００における端面の凹凸差（ΔＬ）を一層小さくし易くする観点からは、ハードコート層３０の厚みを０．１μｍ以上１０μｍ以下とすることが好ましい。ただし、本開示の光ディスク１００においては、例えば、上述したように基板１の形状を工夫することや、後述の通り接着層４０にレべリング剤を含ませること等により、端面の凹凸差を適切に小さくすることができる。すなわち、本開示の光ディスク１００においては、ハードコート層３０の形態によらず、上記課題を解決することも可能といえる。ハードコート層３０の構成は自明であり、ここではこれ以上の説明を省略する。

１．２．３．接着層４０
接着層４０は両面型の光ディスクにおいて記録基板同士を接着可能な成分を含むものであればよい。特に、接着層４０は、紫外線硬化樹脂を含むことが好ましい。紫外線硬化樹脂の具体例は特に限定されるものではなく、一般的な紫外線硬化樹脂をいずれも採用可能である。たとえば、カチオン重合系やラジカル重合系の紫外線硬化樹脂が挙げられるが、特に、ラジカル重合系の紫外線硬化樹脂が好ましい。接着層４０の厚みも特に限定されるものではなく、記録基板１０、１０を適切に接着可能な厚みであればよい。接着強度と接着成分の硬化の容易性との両立等を考慮した場合、例えば、接着層４０の厚み（図５のＴ_２）を１０μｍ以上１００μｍ以下とすることが好ましい。下限がより好ましくは２０μｍ以上、上限がより好ましくは８０μｍ以下であり、特に好ましくは４０μｍである。接着層４０は記録基板１０の貼り合せ面の全面に設けられていることが好ましい。

光ディスクにおいて使用される接着層は、通常、硬化前の液体状態において、接着面に対する接触角度が大きい。そのため、例えば図６（Ａ）に示すように光ディスクの端面が平滑となるように接着層を塗布したとしても、図６（Ｂ）に示すように接着層が接着面において弾かれて凝集し、断面視において半球状の突出部を構成し易い（本願において、この突出部を「ハジキ」と称する。）。すなわち、光ディスクの端面においては、接着層のハジキによって凹凸差（ΔＬ）が大きくなる場合がある。この点、本開示の光ディスク１００においては、接着層４０のハジキを解消するための工夫を施すことが好ましい。

本発明者は、接着層４０のハジキを解消するためには、接着層４０にレべリング剤を含ませることが有効であることを知見した。レべリング剤は、接着層４０の接着面に対する濡れ性を改善する（接触角を小さくする）ためのものであり、このような機能を発揮するものであればいずれも採用可能である。本発明者が確認した限りでは、特に、接着層４０に、レべリング剤として、ポリエーテル変性シリコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル、メタクリル変性シリコーンオイル、アクリル変性シリコーンオイル、メチルスチリル変性シリコーンオイル、高級脂肪酸エステル変性シリコーンオイル、高級アルコキシ変性シリコーンオイルからなる群より選ばれる少なくとも１種のシリコーンオイルを含ませた場合に、接着層４０のハジキを解消し易い。中でも、ポリエーテル変性シリコーンオイルが好ましい。接着層４０におけるレべリング剤の含有量は特に限定されるものではなく、目的とする性能に応じて適宜調整すればよい。例えば、十分な接着強度と濡れ性改善との両立を図る観点からは、接着層４０において、レべリング剤を０．１質量％以上５．０質量％以下含ませることが好ましい。

１．３．端面における凹凸差
上述の通り、本開示の光ディスク１００は、その端面における凹凸差（ΔＬ）の平均値が１２０μｍ以下であることに一つの特徴を有する。このように、端面における凹凸差を小さくすることで、ディスク外周部をつかむ形で機械的に高速ハンドリングした場合においても、応力集中等が生じ難く、ディスク端面の割れや剥離が生じ難い。特に、本開示の光ディスク１００は、その端面における凹凸差（ΔＬ）が、光ディスク１００の外周のいずれの箇所においても、１２０μｍ以下であることが好ましい。このように、ディスクの外周全体に亘って、端面における凹凸差を小さくすることで、上記の効果がより顕著となる。
凹凸差（ΔＬ）の平均値は、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは６０μｍ以下、さらに好ましくは４０μｍ以下、特に好ましくは３０μｍ以下である。また、端面における凹凸差（ΔＬ）が、光ディスク１００の外周のいずれの箇所においても、１００μｍ以下であることがより好ましく、さらに好ましくは６０μｍ以下、特に好ましくは４０μｍ以下である。

一方、本発明者の知見によれば、光ディスクは、上述の通り接着層のハジキ等によって、平面視において局所的に突出部を有する場合がある（図３参照）。このように、平面視において突出部を有する場合、高速ハンドリング時、当該突出部を起点として割れや剥離が生じ易い。この点、本開示の光ディスク１００は、平面視において、光ディスク１００の端面における凹凸差（ΔＲ＝Ｒ_１−Ｒ_２、図３参照）が２５μｍ以下であることが好ましい。より好ましくは１０μｍ以下である。

１．４．補足
尚、光ディスク１００には、基板１及び記録層２を有する記録基板１０と、カバー層２０と、ハードコート層３０と、接着層４０とのほかに、上記課題を解決できる範囲で、何らかの層を備えていてもよい。例えば、記録基板１０において基板１と記録層２との間に何らかの中間層を備えていてもよいし、記録層２とカバー層２０との間に何らかの中間層を備えていてもよいし、カバー層２０とハードコート層３０との間に何らかの中間層を備えていてもよいし、基板１と接着層３との間に何らかの中間層を備えていてもよい。

２．光ディスク２００
上述したように、従来の光ディスクにおいては、接着層のハジキによって端面の凹凸差が大きくなる場合がある。これに対し、上述したように、接着層にレベリング剤を含ませることで、接着層のハジキを解消して端面の凹凸差を小さくすることができる。すなわち、図７に示すように、本願は上記課題を解決するための別の形態として、基板１の片面側に記録層２を有するとともに該基板１の反対面側に貼り合せ面を有する記録基板１０が、一対にして貼り合せられた光ディスクであって、記録基板１０の貼り合せ面同士が接着層５０を介して貼り合せられており、接着層５０がレべリング剤を含む、光ディスク２００を開示する。光ディスク２００に備えられる記録基板１０については、上記光ディスク１００におけるものと同様とすることができる。一方、光ディスク２００に備えられる接着層５０は、光ディスク１００に備えられる接着層４０の好ましい形態に相当する。

光ディスク２００の好ましい形態については、上記した光ディスク１００における形態を援用することができる。例えば、光ディスク２００においては、接着層５０に含まれるレべリング剤が、ポリエーテル変性シリコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル、メタクリル変性シリコーンオイル、アクリル変性シリコーンオイル、メチルスチリル変性シリコーンオイル、高級脂肪酸エステル変性シリコーンオイル、高級アルコキシ変性シリコーンオイルからなる群より選ばれる少なくとも１種のシリコーンオイルであることが好ましい。また、光ディスク２００においては、接着層５０が接着成分として紫外線硬化樹脂を含むことが好ましい。さらに、光ディスク２００においては、記録基板１０の片面側及び端面にカバー層２０及びハードコート層３０が設けられており、光ディスク２００の端面が、カバー層２０及び／又はハードコート層３０と接着層５０とによって構成されていることが好ましい。この場合、ハードコート層３０は、光ディスク１００におけるものと同様とすることができる。例えば、光ディスク２００において、ハードコート層は（メタ）アクリレート化合物、（メタ）アクリレート化合物以外のエチレン性不飽和化合物、スリップ剤、及び光重合開始剤を含む硬化物層であることが好ましい。

言うまでもないが、光ディスク２００においても、光ディスク１００と同様に、断面視における端面の凹凸差（ΔＬ）の平均値を５０μｍ以下とすることが好ましく、また、平面視における端面の凹凸差（ΔＲ）を４０μｍ以下とすることが好ましい。

３．光ディスクの製造方法
本開示の技術は、上記したような光ディスクとしての側面のほか、光ディスクの製造方法としての側面も有する。

３．１．光ディスク１００の製造方法
すなわち、本開示の光ディスク１００の製造方法は、基板１の片面側に記録層２を有するとともに該基板１の反対面側に貼り合せ面を有する記録基板１０を２枚準備し、準備した２枚の記録基板１０、１０の貼り合せ面同士を貼り合せて光ディスク１００を製造する方法であって、断面視において、光ディスク１００の端面における凹凸差（ΔＬ）の平均値を５０μｍ以下とすることを特徴とする。凹凸差（ΔＬ）を５０μｍ以下とするには、上記したように、例えば、基板１の端部の形状を工夫したり、ハードコート層３０の塗布量を調整したり、接着層４０の組成を調整（レベリング剤を含ませる）することが有効である。

３．２．光ディスク２００の製造方法
また、本開示の光ディスク２００の製造方法は、基板１の片面側に記録層２を有するとともに該基板１の反対面側に貼り合せ面を有する記録基板１０を２枚準備し、準備した２枚の記録基板１０、１０の貼り合せ面同士を接着層５０を介して貼り合せて光ディスク２００を製造する方法であって、接着層５０にレべリング剤を含ませることを特徴とする。このように接着層５０にレベリング剤を含ませた場合でも、光ディスク２００の端面における凹凸差（ΔＬやΔＲ）を小さくすることができる。

１．光ディスクの作製及び構造観察
１．１．比較例１
次のプロセスで記録基板を作製した。
（１）射出成型によって厚み０．５ｍｍで基板端部に突出部や切欠きを設けた溝付きポリカーボネート基板を作製した。
（２）その後、基板上にスパッタリングにより記録層を成膜した。記録層は次の複数の層から構成されるものとした。
Ｓｎ−Ｚｎ−Ｉｎ−Ｓｉ−Ｏ ６ｎｍ、Ａｇ‐Ｃｕ−Ｎｄ ７０ｎｍ、ＣｒＴａＯ−ＳｉＯ_２ ８ｎｍ、ＺｎＳ−ＳｉＯ_２ ２ｎｍ、ＧｅＩｎＳｂＴｅ ２６ｎｍ、ＺｒＯ_２−ＺｎＳ ５ｎｍ、ＺｎＳ−ＳｉＯ_２ ２８ｎｍ。
（３）記録層上にそれぞれ紫外線硬化樹脂からなり、総厚みが１００μｍの、記録層を保護するカバー層及び読み取り面のキズ・汚れ防止の為のハードコート層をスピンコートにて形成することで、記録基板を得た。

上記の記録基板を２枚用意し、記録層とは反対側の面を貼り合せ面として、図８に示すような流れで、記録基板同士を紫外線硬化樹脂（ラジカル重合系、デクセリアルズ社製ＳＫ６５７０）で貼り合せて、比較例１に係る光ディスクを得た。紫外線の照度は１００ｍＷ／ｃｍ^２、照射時間は４秒とした。

比較例１に係る光ディスクにおいて、基板端部に突出部や切欠きの形状詳細は、図５におけるＸ_１が５０μｍ、Ｘ_２が３００μｍ、Ｗ_１が３００μｍ、Ｗ_２が５７０μｍ、Ｗ_３が１００μｍ、Ｔ_１が０．５ｍｍ、Ｔ_２が４０μｍであった。

図９に比較例１に係る光ディスクの端面の断面形状の観察結果を示す。図９に示すように、比較例１に係る光ディスクは、断面視において、端部の厚み方向中央部に大きな窪みを有しており、端面における凹凸差（ΔＬ）の平均値が３００μｍと大きくなった。一方で、比較例１に係る光ディスクは、平面視において、端面における凹凸差（ΔＲ）が１３μｍであった。
なお、いずれの凹凸差も４点で測定した場合の平均値を表す。以下、同様とする。

１．２．実施例１
ポリカーボネート基板の端部の突出部や切欠きの形状を工夫したこと以外は、比較例１と同様にして光ディスクを得た。実施例１に係る光ディスクにおいて、図５におけるＸ_１は５０μｍ、Ｘ_２は３００μｍ、Ｗ_１は１００μｍ、Ｗ_２は４００μｍ、Ｗ_３は１００μｍ、Ｔ_１は０．５ｍｍ、Ｔ_２は４０μｍであった。

図１０に実施例１に係る光ディスクの端面の断面形状の観察結果を示す。図１０に示すように、実施例１に係る光ディスクは、断面視において、端部の厚み方向中央部に接着層の若干のハジキが認められるものの、比較例１に係る光ディスクと比べて、端部の凹凸差（ΔＬ）が小さくなった。凹凸差（ΔＬ）の平均値は５７μｍであった。一方、実施例１に係る光ディスクは、平面視において、端面における凹凸差（ΔＲ）が６２μｍであり、接着層のハジキによって、平面視における凹凸差が比較例１よりも大きくなった。

１．３．実施例２
接着層として紫外線硬化樹脂とともにレベリング剤としてポリエーテル変性シリコーンオイル（東レ・ダウコーニング社製 DOW CORNING TORAY L-7001）を０．３質量％もしくは０．５質量％含ませたものを用いたこと以外は、実施例１と同様にして、実施例２に係る光ディスクを得た。実施例１に係る光ディスクと同様に、実施例２に係る光ディスクも、図５におけるＸ_１が５０μｍ、Ｘ_２が３００μｍ、Ｗ_１が１００μｍ、Ｗ_２が４００μｍ、Ｗ_３が１００μｍ、Ｔ_１が０．５ｍｍ、Ｔ_２が４０μｍであった。

図１１に実施例２に係る光ディスクの端面の断面形状の観察結果を示す。図１１に示すように、実施例２に係る光ディスクは、接着層にレベリング剤を添加したことにより、断面視において、接着層が平滑化され、端部の凹凸差（ΔＬ）が実施例１よりもさらに小さくなった。凹凸差（ΔＬ）の平均値は２２μｍであった。また、実施例２に係る光ディスクは、平面視において、端面における凹凸差（ΔＲ）が６μｍと、こちらも小さな値となった。

２．光ディスクの高速ハンドリング性評価
比較例１及び実施例１、２に係る光ディスクについて、端部を機械的に掴んで高速ハンドリング（０．５秒以内にディスクを１０ｃｍ以上移動）を行う。その結果、比較例１に係る光ディスクにおいては、端部において割れや剥離が生じ、製品不良となり易い。一方、実施例１に係る光ディスクにおいては、端部のハジキの部分において、局所的に小さな割れや剥離が生じる場合があったものの、ディスク全体として大きな問題はなく、そのまま出荷できるレベルである。また、実施例２に係る光ディスクにおいては、端部において割れや剥離は生じず、極めて良好な結果となる。

本発明に係る光ディスクは、例えば、アクセス頻度が低いデータの長期保管用の大容量記録媒体として利用可能である。

１ 基板
２ 記録層
１０ 記録基板
２０ ハードコート層
３０、４０ 接着層
１００、２００ 光ディスク

Claims (14)

1. 基板の片面側に記録層を有するとともに該基板の反対面側に貼り合せ面を有する記録基板が、一対にして貼り合せられた光ディスクであって、
   断面視において、前記光ディスクの端面における凹凸差の平均値が１２０μｍ以下である、
   光ディスク。
2. 平面視において、前記光ディスクの端面における凹凸差が２５μｍ以下である、
   請求項１に記載の光ディスク。
3. 前記記録基板の前記片面側及び端面にカバー層及びハードコート層が設けられており、
   前記記録基板の前記貼り合せ面同士が接着層を介して貼り合せられており、
   前記光ディスクの前記端面が、前記カバー層及び／又は前記ハードコート層と前記接着層とによって構成されている、
   請求項１又は２に記載の光ディスク。
4. 前記接着層がレべリング剤を含む、
   請求項３に記載の光ディスク。
5. 前記レべリング剤が、ポリエーテル変性シリコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル、メタクリル変性シリコーンオイル、アクリル変性シリコーンオイル、メチルスチリル変性シリコーンオイル、高級脂肪酸エステル変性シリコーンオイル、高級アルコキシ変性シリコーンオイルからなる群より選ばれる少なくとも１種のシリコーンオイルである、
   請求項４に記載の光ディスク。
6. 前記接着層が接着成分として紫外線硬化樹脂を含む、
   請求項３〜５のいずれか１項に記載の光ディスク。
7. 前記ハードコート層が(メタ)アクリレート化合物、(メタ)アクリレート化合物以外のエチレン性不飽和化合物、スリップ剤、及び光重合開始剤を含む硬化物層からなる、
   請求項３〜６のいずれか１項に記載の光ディスク。
8. 基板の片面側に記録層を有するとともに該基板の反対面側に貼り合せ面を有する記録基板が、一対にして貼り合せられた光ディスクであって、
   前記記録基板の前記貼り合せ面同士が接着層を介して貼り合せられており、
   前記接着層がレべリング剤を含む、
   光ディスク。
9. 前記レべリング剤が、ポリエーテル変性シリコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル、メタクリル変性シリコーンオイル、アクリル変性シリコーンオイル、メチルスチリル変性シリコーンオイル、高級脂肪酸エステル変性シリコーンオイル、高級アルコキシ変性シリコーンオイルからなる群より選ばれる少なくとも１種のシリコーンオイルである、
   請求項８に記載の光ディスク。
10. 前記接着層が接着成分として紫外線硬化樹脂を含む、
    請求項８又は９に記載の光ディスク。
11. 前記記録基板の前記片面側及び端面にカバー層及びハードコート層が設けられており、
    前記光ディスクの前記端面が、前記カバー層及び／又は前記ハードコート層と前記接着層とによって構成されている、
    請求項８〜１０のいずれか１項に記載の光ディスク。
12. 前記ハードコート層が（メタ）アクリレート化合物、（メタ）アクリレート化合物以外のエチレン性不飽和化合物、スリップ剤、及び光重合開始剤を含む硬化物層からなる、
    請求項１１に記載の光ディスク。
13. 基板の片面側に記録層を有するとともに該基板の反対面側に貼り合せ面を有する記録基板を２枚準備し、準備した２枚の記録基板の前記貼り合せ面同士を貼り合せて光ディスクを製造する方法であって、
    断面視において、前記光ディスクの端面における凹凸差の平均値を１２０μｍ以下とする、
    光ディスクの製造方法。
14. 基板の片面側に記録層を有するとともに該基板の反対面側に貼り合せ面を有する記録基板を２枚準備し、準備した２枚の記録基板の前記貼り合せ面同士を接着層を介して貼り合せて光ディスクを製造する方法であって、
    前記接着層にレべリング剤を含ませる、
    光ディスクの製造方法。