JP2019112485A

JP2019112485A - 酸素阻害を低減する光ラジカル重合性組成物の重合方法

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Publication number: JP2019112485A
Application number: JP2017244928A
Authority: JP
Inventors: 啓太井内; Keita Inouchi; 俊一檜森; Shunichi Himori
Original assignee: Kawasaki Kasei Chemicals Ltd
Current assignee: Kawasaki Kasei Chemicals Ltd
Priority date: 2017-12-21
Filing date: 2017-12-21
Publication date: 2019-07-11
Also published as: WO2019124472A1

Abstract

【課題】酸素阻害の影響を受けることなく、容易にラジカル重合することができる光ラジカル重合性組成物及びラジカル重合方法の提供。
【解決手段】光ラジカル重合性組成物表面が空気と接触している状況において特定の波長範囲にピーク波長を有する光を照射することにより光ラジカル重合する光ラジカル重合性組成物において、ラジカル重合性化合物、一般式（１）で表されるアントラセン系光ラジカル重合開始剤及びオニウム塩系光重合開始剤を含有する光ラジカル重合性組成物。

Ｒ^１及びＲ^２はアルキル基、アリール基等、Ｘ、Ｙは水素、アルキル基、を表わす。
【選択図】なし

Description

本発明は、酸素阻害を受けない光ラジカル重合性組成物の重合方法に関し、特に、酸素存在下におけるアントラセン系光ラジカル重合開始剤を含む光ラジカル重合性組成物の重合方法に関する。

ラジカル重合性化合物のラジカル重合反応において、酸素分子による阻害（酸素阻害）が問題となることは一般によく知られている。この酸素阻害とは、ラジカル重合開始剤から発生したラジカル種が、例えばラジカル重合性組成物中に溶存している酸素分子と反応して失活してしまい、ラジカル重合が阻害されることをいう。この酸素阻害を防止する方法としては、ラジカル重合性化合物の重合反応において、系内に存在する酸素を例えば窒素雰囲気とするなどして除去したり、酸素非透過性のフィルムを被せて酸素との接触をなくしたりして、重合するといった方法が挙げられる。しかし、これらの方法は、手間やコストがかかる。そのため、この酸素阻害を低減するため、ラジカル重合性化合物を酸素阻害の影響の少ない化合物にするなどした検討が知られている（特許文献１、２など）。また、酸素非透過性のフィルムを被せた場合も、ラジカル重合性組成物中に溶存する酸素により、重合開始初期に重合阻害が起こり、重合開始のイニシャルタイムが増大するという問題がある。よって、ラジカル重合開始剤等の添加物量を増やすことなく、ラジカル重合性化合物を空気と接触した状態で実用的な速度で重合させる方法が求められている。

一方、この酸素阻害を起こす酸素分子は基底状態の酸素分子であり、三重項酸素であり、二つの不対電子を有するビラジカル構造を有している。そのため、ラジカル種と反応しやすく、ラジカル重合を阻害することとなる。しかし、酸素分子はこの基底状態の三重項酸素のほかに励起状態である一重項酸素という構造もとりうる。この一重項酸素は、活性酸素の一種ではあるが軌道上に単独の電子を持たずフリーラジカルではない。そのため、一重項酸素は、ラジカル種と反応せずラジカル重合を阻害しないことが知られている。

この一重項酸素は求電子的性格を有しており、オレフィンなどと反応することが知られている。例えば、アリル性の水素を有するオレフィンが一重項酸素と反応してアリルヒドロペルオキシドを生成することや、１，３−共役ジエンに対して一重項酸素がＤｉｅｌｓ−Ａｌｄｅｒ型付加反応をおこして、１，４−エンド過酸化物を生成することなどが知られている（非特許文献１）。

更に、この一重項酸素は基底状態の三重項酸素から直接励起され生成されることは、スピン禁制となり起こらない。そこで、一重項酸素を生成する方法として、例えば、ローズベンガルやメチレンブルーのような色素が光によって励起され、その励起種が項間交差によって励起三重項状態となり、その色素の励起三重項から基底状態の三重項酸素がエネルギーをもらい励起されて一重項酸素分子となることが知られている(特許文献３)。

一方、キサンテン染料、チアジン染料、アクリジン染料などの感光性染料を３００ｎｍ〜１４００ｎｍの波長をもつ光線に曝露させ、基底状態の酸素を一重項酸素に励起し、オレフィンおよび１，３−共役ジエンと反応して、ヒドロペルオキシドおよびペルオキシドを形成することができることが記載されている（特許文献４）。このヒドロペルオキシド基はスチレンに対するグラフト部位として働いて、コア−シェル形態をもつ高衝撃ポリスチレンを生成することができると記載されている。しかし、この一重項酸素をラジカル重合開始剤とする反応は、特殊なラジカル重合性組成物のラジカル重合に限られている。

一方、アントラセン化合物は、中央の環がジエンとして挙動し、一重項酸素と反応して、エンドパーオキサイドを生成することが知られている。例えば、９,１０−ジフェニルアントラセン誘導体が一重項酸素と反応して、エンドパーオキサイドを生成することが知られている(非特許文献３)。

また、光ラジカル重合において、９，１０−ジアルコキシアントラセン化合物や９，１０−ビス（アルコキシカルボニルオキシ）アントラセン化合物等のアントラセン化合物が光ラジカル重合増感剤して作用することが知られている。例えば、９，１０−ジブトキシアントラセンや９，１０−ビスオクタノイルオキシアントラセンなどの光ラジカル重合増感剤が、３８５ｎｍというような長波長の光でもラジカル重合が可能なように光ラジカル重合開始剤を活性化する光ラジカル重合増感剤として用いられている（特許文献５、６、７他）。

更に、９，１０−ビス（置換カルボニルオキシ）アントラセン化合物は、自らが分解し、ラジカル種を発生し、ラジカル重合の開始剤となることが記載されている（特許文献８）。しかし、その実施例にもあるように、窒素雰囲気下での励起種による分子内開裂によって置換カルボニルラジカルを発生することにより、重合開始剤となるものであり、酸素存在下で、ラジカル重合開始剤として働くことについては、記載されておらず、その示唆もない

特開２００３−２０６３１９号公報特開２００４−２７７６６０号公報特開２００８−２２１１５９号公報特表２０１２-５１４０７９号公報特開２０１５-１８３１３９号公報特開２０１７-５７２４９号公報特開２０１６-８４４４７号公報特許第５５９４５１０号公報

松本正勝、近藤聖、有機合成化学協会誌、第３５巻第３号（１９７７）,ｐ.１８８−２００笠明美ら、Ｊ. Ｓｏｃ. Ｃｏｓｍｅｔ. Ｃｈｅｍ. Ｊａｐａｎ. Ｖｏｌ. ２８, Ｎｏ. ２（１９９４），ｐ.１６３ＤｅｍｅｔＫａｒａｃａＢａｌｔａら、Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ（２０１２）４５，ｐ.１１９−１２５

本発明の目的は、ラジカル重合性化合物の重合反応において、系内に酸素が存在していても、酸素阻害を受けることなく、容易にラジカル重合することができる光ラジカル重合性組成物及びラジカル重合方法を提供することにある。

本発明者らは、アントラセン化合物のラジカル重合反応における反応性を鋭意検討した結果、特定構造を有するアントラセン化合物が、酸素存在下において、特定の波長の光の照射下に、該酸素分子と反応してエンドパーオキサイドとなり、酸素分子を消費し、更に該エンドパーオキサイドが分解して、ラジカルを発生させ、該ラジカル種がラジカル重合反応を促進することが可能であることを見出し、本発明を完成させた。

さらに、本発明に用いる特定構造を有するアントラセン化合物は、光カチオン重合開始剤であるオニウム塩系光重合開始剤に対する光カチオン重合増感剤として働くことが知られているが、本発明の特定構造を有するアントラセン化合物により増感され励起されたオニウム塩系光重合開始剤が、イオン開裂とは別にラジカル開裂も起こし、ラジカル重合開始剤としても働くことを見出したものである。よって、本発明のアントラセン化合物により、系内の酸素が消費され、酸素阻害が軽減されるとともに、該アントラセン化合物のエンドパーオキサイドから発生するラジカル種とオニウム塩系光重合開始剤から発生するラジカル種の両方により、ラジカル重合が開始すると考えられ、空気存在下においても、ラジカル重合が阻害されることなく、進行することを見出したものである。すなわち、本発明のアントラセン化合物は、酸素存在下において、ラジカル重合開始剤として作用し、更にオニウム塩系光重合開始剤の増感剤としても働くことから、酸素存在下でも効率的にラジカル重合を進行することが可能となる。

すなわち、本発明における第一の発明は、ラジカル重合反応において酸素阻害が発生する、光ラジカル重合性組成物表面が空気と接触している状況において、特定の波長範囲にピーク波長を有する光を照射することにより光ラジカル重合する光ラジカル重合性組成物において、ラジカル重合性化合物、一般式（１）で表されるアントラセン系光ラジカル重合開始剤及びオニウム塩系光重合開始剤を含有することを特徴とする光ラジカル重合性組成物（但し、カチオン重合性化合物は含有しない。）に存する。該一般式（１）で表されるアントラセン系光ラジカル重合開始剤は、基底状態の酸素を励起し捕捉する機能も有する光ラジカル重合開始剤である。

上記一般式（１）において、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ炭素数１から２０のアルキル基、炭素数６から２０のアリール基、炭素数１から２０のアルキル基を有するアルキルカルボニル基、炭素数６から２０のアリール基を有するアリールカルボニル基、炭素数１から２０のアルキル基を有するアルキルオキシカルボニル基又は炭素数６から２０のアリール基を有するアリールオキシカルボニル基を示し、Ｒ^１、Ｒ^２は同一であっても異なっていてもよい。また、Ｘ、Ｙは水素原子又は炭素数１から８のアルキル基を示し、Ｘ、Ｙは同一であっても異なっていてもよい。

第二の発明は、上記一般式（１）において、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ炭素数１から２０のアルキル基又は炭素数６から２０のアリール基である、第一の発明に記載の光ラジカル重合性組成物に存する。

第三の発明は、ラジカル重合性化合物が、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステル、フマル酸エステル若しくはスチレン又はそれらのオリゴマーである、第一の発明又は第二の発明に記載の光ラジカル重合性組成物に存する。

第四の発明は、照射する特定の波長範囲にピーク波長を有する光が３８０ｎｍ〜４２０ｎｍの波長範囲にピーク波長を有する光である、第一の発明乃至第三の発明のいずれか一つに記載の光ラジカル重合性組成物に存する。

第五の発明は、第一の発明乃至第三の発明のいずれかひとつに記載の光ラジカル重合性組成物を該光ラジカル重合性組成物表面が空気と接触している状況において、３８０ｎｍ〜４２０ｎｍの波長範囲にピーク波長を有する光を照射することにより光ラジカル重合することを特徴とする、光ラジカル重合方法に存する。

第六の発明は、第一の発明乃至第三の発明のいずれかひとつに記載の光ラジカル重合性組成物を該光ラジカル重合性組成物表面が空気と接触している状況において、２００〜３３０ｎｍの波長範囲にピーク波長を有する光と３８０ｎｍ〜４２０ｎｍの波長範囲にピーク波長を有する光を有する光を照射することにより光ラジカル重合することを特徴とする、光ラジカル重合方法に存する。

第七の発明は、第一の発明乃至第三の発明のいずれかひとつに記載の光ラジカル重合性組成物を該光ラジカル重合性組成物表面が空気と接触している状況において、３８０ｎｍ〜４２０ｎｍの波長範囲にピーク波長を有する光を有する光を照射した後、２００〜３３０ｎｍの波長範囲にピーク波長を有する光を照射することにより光ラジカル重合することを特徴とする、光ラジカル重合方法に存する。

第八の発明は、第一の発明乃至第三の発明のいずれかひとつに記載の光ラジカル重合性組成物を該光ラジカル重合性組成物表面が空気と接触している状況において、３８０ｎｍ〜４２０ｎｍの波長範囲にピーク波長を有する光を有する光を照射するとともに、加熱処理及び/又は赤外線照射処理することを特徴とする、光ラジカル重合方法に存する。

第九の発明は、第一の発明乃至第三の発明のいずれかひとつに記載の光ラジカル重合性組成物を該光ラジカル重合性組成物表面が空気と接触している状況において、３８０ｎｍ〜４２０ｎｍの波長範囲にピーク波長を有する光を有する光を照射した後、加熱処理及び/又は赤外線照射処理することを特徴とする、光ラジカル重合方法に存する。

第十の発明は、３８０ｎｍ〜４２０ｎｍの波長範囲内にピーク波長を有する光が、３８５ｎｍ、３９５ｎｍ、４０５ｎｍ、４１５ｎｍのいずれかにピーク波長を有する光であることを特徴とする、第五の発明乃至第九の発明のいずれかひとつに記載の光ラジカル重合方法に存する。

第十一の発明は、３８０ｎｍ〜４２０ｎｍの波長範囲内にピーク波長を有する光が、４０５ｎｍにピーク波長を有する光であることを特徴とする、第五の発明乃至第九の発明のいずれかひとつに記載の光ラジカル重合方法に存する。

本発明によれば、ラジカル重合性化合物の光ラジカル重合において酸素阻害を受けずに、酸素存在下でも光ラジカル重合を進行させることができる。

まず、本発明の光ラジカル重合性組成物について説明する。本発明の光ラジカル重合性組成物は、ラジカル重合性化合物と一般式（１）で表されるアントラセン系光ラジカル重合開始剤及びオニウム塩系光重合開始剤を含有することを特徴とする。本発明の光ラジカル重合性組成物は、特定の波長範囲を含む光を照射して重合することにより、酸素存在下において酸素阻害を受けることなくラジカル重合を進行させることができる光ラジカル重合性組成物である。

（アントラセン系光ラジカル重合開始剤）
本発明におけるアントラセン系光ラジカル重合開始剤は、一般式（１）の構造を有する化合物である。

一般式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２で表される炭素数１から２０のアルキル基としてはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｉ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−イコシル基、シクロヘキシル基等の直鎖状、分枝鎖状又は環状のアルキル基を挙げることができる。炭素数６から２０のアリール基としては置換基を有しても良いフェニル基、ナフチル基、アントラニル基等が挙げられる。

一般式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２で表される炭素数１から２０のアルキル基を有するアルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ｎ−ブタノイル基、ｉｓｏ−ブタノイル基、ｎ−ペンタノイル基、ｎ−ヘキサノイル基、ｎ−ヘプタノイル基、ｎ−オクタノイル基、２−エチルヘキサノイル基、ｎ−ノナノイル基、ｎ−デカノイル基、ｎ−ドデカノイル基等が挙げられる。また、炭素数６から２０のアリール基を有するアリールカルボニル基としては、ベンゾイル基、ナフトイル基等が挙げられる。

一般式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２で表される炭素数１から２０のアルキル基を有するアルキルオキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｉ−ブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、２，２−ジメチルプロピルオキシカルボニル基、シクロペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル基、２−メチルペンチルオキシカルボニル基、ｎ−オクチルオキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−ノニルオキシカルボニル基、ｎ−デシルオキシカルボニル基、ｎ−ウンデシルオキシカルボニル基、ｎ−ドデシルオキシカルボニル基、ｎ−トリデシルオキシカルボニル基、ｎ−テトラデシルオキシカルボニル基、ｎ−ペンタデシルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキサデシルオキシカルボニル基、ｎ−ヘプタデシルオキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基、ｎ−ノナデシルオキシカルボニル基、ｎ−イコシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の直鎖状、分枝鎖状又は環状のアルキルオキシカルボニル基を挙げることができる。炭素数６から２０のアリール基を有するアリールオキシカルボニル基としては、例えば、フェノキシカルボニル基、１−ナフチルオキシカルボニル基、２−ナフチルオキシカルボニル基、３−フェナントリルオキシカルボニル基、２−アントリルオキシカルボニル基等を挙げることができる。

一般式（１）中、Ｘ及びＹで表される炭素数１から８のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｉ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等が挙げられる。

一般式（１）で表される本発明のアントラセン化合物のうち、Ｒ^１及びＲ^２がアルキル基又はアリール基である場合を９，１０−ジアルコキシアントラセン化合物と称するが、それらの例としては次のようなものが挙げられる。

まず初めに、Ｘ、Ｙがともに水素原子である場合は、９，１０−ジメトキシアントラセン、９，１０−ジエトキシアントラセン、９，１０−ジプロポキシアントラセン、９，１０−ジブチルオキシアントラセン、９，１０−ジアミルオキシアントラセン、９，１０−ジヘキシルオキシアントラセン、９，１０−ジヘプチルオキシアントラセン、９，１０−ジオクチルオキシアントラセン、９，１０−ビス（２−エチルヘキシル）オキシアントラセン、９，１０−ジデシルオキシアントラセン、９，１０−ジドデシルオキシアントラセン、９，１０−ジフェニルオキシアントラセン、９，１０−ジナフチルオキシアントラセン等が挙げられる。

次に、Ｘがアルキル基であり、Ｙが水素原子である場合の例としては、２−メチル−９，１０−ジメトキシアントラセン、２−メチル−９，１０−ジエトキシアントラセン、２−メチル−９，１０−ジプロポキシアントラセン、２−メチル−９，１０−ジブチルオキシアントラセン、２−メチル−９，１０−ジアミルオキシアントラセン、２−メチル−９，１０−ジヘキシルオキシアントラセン、２−メチル−９，１０−ジヘプチルオキシアントラセン、２−メチル−９，１０−ジオクチルオキシアントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（２−エチルヘキシル）オキシアントラセン、２−メチル−９，１０−ジデシルオキシアントラセン、２−メチル−９，１０−ジドデシルオキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジメトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジエトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジプロポキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジブチルオキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジアミルオキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジヘキシルオキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジヘプチルオキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジオクチルオキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（２−エチルヘキシル）オキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジデシルオキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジドデシルオキシアントラセン、２−アミル−９，１０−ジメトキシアントラセン、２−アミル−９，１０−ジエトキシアントラセン、２−アミル−９，１０−ジプロポキシアントラセン、２−アミル−９，１０−ジブチルオキシアントラセン、２−アミル−９，１０−ジアミルオキシアントラセン、２−アミル−９，１０−ジヘキシルオキシアントラセン、２−アミル−９，１０−ジヘプチルオキシアントラセン、２−アミル−９，１０−ジオクチルオキシアントラセン、２−アミル−９，１０−ビス（２−アミル−ヘキシル）オキシアントラセン、２−アミル−９，１０−ジデシルオキシアントラセン、２−アミル−９，１０−ジドデシルオキシアントラセン等が挙げられる。

また、Ｘ、Ｙがともにアルキル基である場合の例としては、２，３−ジメチル−９，１０−ジメトキシアントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ジエトキシアントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ジプロポキシアントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ジブチルオキシアントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ジアミルオキシアントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ジヘキシルオキシアントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ジヘプチルオキシアントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ジオクチルオキシアントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ビス（２，３−ジメチル−ヘキシル）オキシアントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ジデシルオキシアントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ジドデシルオキシアントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ジメトキシアントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ジエトキシアントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ジプロポキシアントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ジブチルオキシアントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ジアミルオキシアントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ジヘキシルオキシアントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ジヘプチルオキシアントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ジオクチルオキシアントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ビス（２，６−ジメチル−ヘキシル）オキシアントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ジデシルオキシアントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ジドデシルオキシアントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ジメトキシアントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ジエトキシアントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ジプロポキシアントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ジブチルオキシアントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ジアミルオキシアントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ジヘキシルオキシアントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ジヘプチルオキシアントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ジオクチルオキシアントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ビス（２，７−ジメチル−ヘキシル）オキシアントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ジデシルオキシアントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ジドデシルオキシアントラセン等が挙げられる。

９，１０−ジオキシアントラセン化合物のその他の例としては、２−クロロ−９，１０−ジメトキシアントラセン、２−クロロ−９，１０−ジエトキシアントラセン、２−クロロ−９，１０−ジプロポキシアントラセン、２−クロロ−９，１０−ジブチルオキシアントラセン、２−クロロ−９，１０−ジアミルオキシアントラセン、２−クロロ−９，１０−ジヘキシルオキシアントラセン、２−クロロ−９，１０−ジヘプチルオキシアントラセン、２−クロロ−９，１０−ジオクチルオキシアントラセン、２−クロロ−９，１０−ビス（２−エチルヘキシル）オキシアントラセン、２−クロロ−９，１０−ジデシルオキシアントラセン、２−クロロ−９，１０−ジドデシルオキシアントラセン等が挙げられる。

９，１０−ジオキシアントラセン化合物のさらにその他の例としては、２−フェノキシ−９，１０−ジメトキシアントラセン、２−フェノキシ−９，１０−ジエトキシアントラセン、２−フェノキシ−９，１０−ジプロポキシアントラセン、２−フェノキシ−９，１０−ジブチルオキシアントラセン、２−フェノキシ−９，１０−ジアミルオキシアントラセン、２−フェノキシ−９，１０−ジヘキシルオキシアントラセン、２−フェノキシ−９，１０−ジヘプチルオキシアントラセン、２−フェノキシ−９，１０−ジオクチルオキシアントラセン、２−フェノキシ−９，１０−ビス（２−エチルヘキシル）オキシアントラセン、２−フェノキシ−９，１０−ジデシルオキシアントラセン、２−フェノキシ−９，１０−ジドデシルオキシアントラセン等も挙げられる。

一般式（１）で表される本発明のアントラセン化合物のうちＲ^１及びＲ^２がアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基である場合を９，１０−ビス（置換アシルオキシ）アントラセン化合物と称するがその例としては、次の化合物が挙げられる。

まず初めに、Ｘ、Ｙがともに水素原子である場合は、９，１０−ジアセチルオキシアントラセン、９，１０−ジプロピオニルオキシアントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ブタノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｉｓｏ−ブタノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ペンタノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ヘキサノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ヘプタノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−オクタノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（２−エチルヘキサノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ノナノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−デカノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ドデカノイルオキシ）アントラセン等が挙げられる。

次に、Ｘがアルキル基であり、Ｙが水素原子である場合の例としては、１−メチル−９，１０−ジアセチルオキシアントラセン、１−メチル−９，１０−ジプロピオニルオキシアントラセン、１−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ブタノイルオキシ）アントラセン、１−メチル−９，１０−ビス（ｉｓｏ−ブタノイルオキシ）アントラセン、１−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘキサノイルオキシ）アントラセン、１−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘプタノイルオキシ）アントラセン、１−メチル−９，１０−ビス（ｎ−オクタノイルオキシ）アントラセン、１−メチル−９，１０−ビス（２−エチルヘキサノイルオキシ）アントラセン、１−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ノナノイルオキシ）アントラセン、１−メチル−９，１０−ビス（ｎ−デカノイルオキシ）アントラセン、１−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ドデカノイルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ジアセチルオキシアントラセン、２−メチル−９，１０−ジプロピオニルオキシアントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ブタノイルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｉｓｏ−ブタノイルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘキサノイルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘプタノイルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−オクタノイルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（２−エチルヘキサノイルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ノナノイルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−デカノイルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ドデカノイルオキシ）アントラセン、１−エチル−９，１０−ジアセチルオキシアントラセン、１−エチル−９，１０−ジプロピオニルオキシアントラセン、１−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ブタノイルオキシ）アントラセン、１−エチル−９，１０−ビス（ｉｓｏ−ブタノイルオキシ）アントラセン、１−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘキサノイルオキシ）アントラセン、１−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘプタノイルオキシ）アントラセン、１−エチル−９，１０−ビス（ｎ−オクタノイルオキシ）アントラセン、１−エチル−９，１０−ビス（２−エチルヘキサノイルオキシ）アントラセン、１−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ノナノイルオキシ）アントラセン、１−エチル−９，１０−ビス（ｎ−デカノイルオキシ）アントラセン、１−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ドデカノイルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ジアセチルオキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジプロピオニルオキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ブタノイルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｉｓｏ−ブタノイルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘキサノイルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘプタノイルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−オクタノイルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（２−エチルヘキサノイルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ノナノイルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−デカノイルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ドデカノイルオキシ）アントラセン、２−アミル−９，１０−ジアセチルオキシアントラセン、２−アミル−９，１０−ジプロピオニルオキシアントラセン、２−アミル−９，１０−ビス（ｎ−ブタノイルオキシ）アントラセン、２−アミル−９，１０−ビス（ｉｓｏ−ブタノイルオキシ）アントラセン、２−アミル−９，１０−ビス（ｎ−ヘキサノイルオキシ）アントラセン、２−アミル−９，１０−ビス（ｎ−ヘプタノイルオキシ）アントラセン、２−アミル−９，１０−ビス（ｎ−オクタノイルオキシ）アントラセン、２−アミル−９，１０−ビス（２−アミル−ヘキサノイルオキシ）アントラセン、２−アミル−９，１０−ビス（ｎ−ノナノイルオキシ）アントラセン、２−アミル−９，１０−ビス（ｎ−デカノイルオキシ）アントラセン、２−アミル−９，１０−ビス（ｎ−ドデカノイルオキシ）アントラセン等が挙げられる。

また、Ｘ、Ｙがともにアルキル基である場合の例としては、２，３−ジメチル−９，１０−ジアセチルオキシアントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ジプロピオニルオキシアントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ブタノイルオキシ）アントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ビス（ｉｓｏ−ブタノイルオキシ）アントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘキサノイルオキシ）アントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘプタノイルオキシ）アントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−オクタノイルオキシ）アントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ビス（２−エチルヘキサノイルオキシ）アントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ノナノイルオキシ）アントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−デカノイルオキシ）アントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ドデカノイルオキシ）アントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ジアセチルオキシアントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ジプロピオニルオキシアントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ブタノイルオキシ）アントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ビス（ｉｓｏ−ブタノイルオキシ）アントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘキサノイルオキシ）アントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘプタノイルオキシ）アントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−オクタノイルオキシ）アントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ビス（２−エチルヘキサノイルオキシ）アントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ノナノイルオキシ）アントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−デカノイルオキシ）アントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ドデカノイルオキシ）アントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ジアセチルオキシアントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ジプロピオニルオキシアントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ブタノイルオキシ）アントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ビス（ｉｓｏ−ブタノイルオキシ）アントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘキサノイルオキシ）アントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘプタノイルオキシ）アントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−オクタノイルオキシ）アントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ビス（２−エチルヘキサノイルオキシ）アントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ノナノイルオキシ）アントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−デカノイルオキシ）アントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ドデカノイルオキシ）アントラセン等が挙げられる。

次に、一般式（１）で表される本発明のアントラセン化合物のうちＲ^１及びＲ^２がアルキルオキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基である場合を９，１０−ビス（アルコキシカルボニルオキシ）アントラセン化合物と称するがその例としては、次の化合物が挙げられる。

まず初めに、Ｘ及びＹがともに水素原子である場合の例としては、９，１０−ビス（メトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（エトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｉ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｉ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ヘプチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−オクチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（２−エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（アリルオキシカルボニルオキシ）アントラセン等が挙げられる。

次に、Ｘがアルキル基であり、Ｙが水素原子である場合の例としては、１−メチル−９，１０−ビス（メトキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−メチル−９，１０−ビス（エトキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−メチル−９，１０−ビス（ｎ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−メチル−９，１０−ビス（ｉ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−メチル−９，１０−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−メチル−９，１０−ビス（ｉ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘプチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−メチル−９，１０−ビス（ｎ−オクチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−メチル−９，１０−ビス（２−エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−メチル−９，１０−ビス（アリルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（メトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（エトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｉ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｉ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘプチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−オクチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（２−エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（アリルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−エチル−９，１０−ビス（メトキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−エチル−９，１０−ビス（エトキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−エチル−９，１０−ビス（ｎ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−エチル−９，１０−ビス（ｉ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−エチル−９，１０−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−エチル−９，１０−ビス（ｉ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘプチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−エチル−９，１０−ビス（ｎ−オクチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−エチル−９，１０−ビス（２−エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−エチル−９，１０−ビス（アリルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（メトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（エトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｉ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｉ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘプチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−オクチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（２−エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（アリルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−アミル−９，１０−ビス（メトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−アミル−９，１０−ビス（エトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−アミル−９，１０−ビス（ｎ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−アミル−９，１０−ビス（ｉ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−アミル−９，１０−ビス（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−アミル−９，１０−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−アミル−９，１０−ビス（ｎ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−アミル−９，１０−ビス（ｉ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−アミル−９，１０−ビス（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−アミル−９，１０−ビス（ｎ−ヘプチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−アミル−９，１０−ビス（ｎ−オクチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−アミル−９，１０−ビス（２−アミル−ヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−アミル−９，１０−ビス（アリルオキシカルボニルオキシ）アントラセン等が挙げられる。

そして、Ｘ及びＹがともにアルキル基である場合の例としては、２，３−ジメチル−９，１０−ビス（メトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ビス（エトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ビス（ｉ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ビス（ｉ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘプチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−オクチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ビス（２−エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ビス（アリルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ビス（メトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ビス（エトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ビス（ｉ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ビス（ｉ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘプチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−オクチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ビス（２−エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，６−ジメチル−９，１０−ビス（アリルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ビス（メトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ビス（エトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ビス（ｉ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ビス（ｉ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘプチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−オクチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ビス（２−エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，７−ジメチル−９，１０−ビス（アリルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、１，５−ジメチル−９，１０−ビス（メトキシカルボニルオキシ）アントラセン、１，５−ジメチル−９，１０−ビス（エトキシカルボニルオキシ）アントラセン、１，５−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、１，５−ジメチル−９，１０−ビス（ｉ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、１，５−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、１，５−ジメチル−９，１０−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、１，５−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、１，５−ジメチル−９，１０−ビス（ｉ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、１，５−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、１，５−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘプチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、１，５−ジメチル−９，１０−ビス（ｎ−オクチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、１，５−ジメチル−９，１０−ビス（２−エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、１，５−ジメチル−９，１０−ビス（アリルオキシカルボニルオキシ）アントラセン等が挙げられる。

さらには、２，３−ジエチル−９，１０−ビス（メトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，３−ジエチル−９，１０−ビス（エトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，３−ジエチル−９，１０−ビス（ｎ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，３−ジエチル−９，１０−ビス（ｉ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，３−ジエチル−９，１０−ビス（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，３−ジエチル−９，１０−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，３−ジエチル−９，１０−ビス（ｎ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，３−ジエチル−９，１０−ビス（ｉ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，３−ジエチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，３−ジエチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘプチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，３−ジエチル−９，１０−ビス（ｎ−オクチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，３−ジエチル−９，１０−ビス（２−エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，３−ジエチル−９，１０−ビス（アリルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，６−ジエチル−９，１０−ビス（メトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，６−ジエチル−９，１０−ビス（エトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，６−ジエチル−９，１０−ビス（ｎ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，６−ジエチル−９，１０−ビス（ｉ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，６−ジエチル−９，１０−ビス（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，６−ジエチル−９，１０−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，６−ジエチル−９，１０−ビス（ｎ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，６−ジエチル−９，１０−ビス（ｉ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，６−ジエチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，６−ジエチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘプチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，６−ジエチル−９，１０−ビス（ｎ−オクチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，６−ジエチル−９，１０−ビス（２−エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，６−ジエチル−９，１０−ビス（アリルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，７−ジエチル−９，１０−ビス（メトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，７−ジエチル−９，１０−ビス（エトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，７−ジエチル−９，１０−ビス（ｎ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，７−ジエチル−９，１０−ビス（ｉ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，７−ジエチル−９，１０−ビス（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，７−ジエチル−９，１０−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，７−ジエチル−９，１０−ビス（ｎ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，７−ジエチル−９，１０−ビス（ｉ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，７−ジエチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，７−ジエチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘプチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，７−ジエチル−９，１０−ビス（ｎ−オクチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，７−ジエチル−９，１０−ビス（２−エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２，７−ジエチル−９，１０−ビス（アリルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、１，５−ジエチル−９，１０−ビス（メトキシカルボニルオキシ）アントラセン、１，５−ジエチル−９，１０−ビス（エトキシカルボニルオキシ）アントラセン、１，５−ジエチル−９，１０−ビス（ｎ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、１，５−ジエチル−９，１０−ビス（ｉ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、１，５−ジエチル−９，１０−ビス（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、１，５−ジエチル−９，１０−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、１，５−ジエチル−９，１０−ビス（ｎ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、１，５−ジエチル−９，１０−ビス（ｉ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、１，５−ジエチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、１，５−ジエチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘプチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、１，５−ジエチル−９，１０−ビス（ｎ−オクチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、１，５−ジエチル−９，１０−ビス（２−エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、１，５−ジエチル−９，１０−ビス（アリルオキシカルボニルオキシ）アントラセン等が挙げられる。

以上述べた９，１０−ジアルコキシアントラセン化合物、９，１０−ビス（置換アシルオキシ）アントラセン化合物及び９，１０−ビス（アルコキシカルボニルオキシ）アントラセン化合物の具体例の中でも、特に、合成の容易さと性能の高さから、９，１０−ジメトキシアントラセン、９，１０−ジエトキシアントラセン、９，１０−ジプロポキシアントラセン、９，１０−ジブトキシアントラセン、９，１０−ジヘキシルオキシアントラセン、９，１０−ジヘプチルオキシアントラセン、９，１０−ジオクチルオキシアントラセン、９，１０−ジアセチルオキシアントラセン、９，１０−ジプロピオニルオキシアントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ブタノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ヘキサノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ヘプタノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−オクタノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（２−エチルヘキサノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ノナノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（メトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（エトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｉ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（２−エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセンが好ましく、溶媒やモノマーへの溶解性の点等からはアントラセン−９，１０−ジブチルエーテル、アントラセン−９，１０−ジヘキシルエーテル、アントラセン−９，１０−ジヘプチルエーテル、アントラセン−９，１０−ジオクチルエーテル、９，１０−ビス（ｎ−ヘキサノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ヘプタノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−オクタノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（２−エチルヘキサノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ノナノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（メトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（エトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｉ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（２−エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセンがさらに好ましい。

一重項酸素との反応性という点から、アントラセン骨格の電子密度が高い方が好ましく、その意味で、Ｒ^１及びＲ^２がアルキル基又はアリール基である９，１０−ジアルコキシアントラセン化合物が好ましい。特に、９，１０−ジエトキシアントラセン、９，１０−ジプロポキシアントラセン、９，１０−ジブトキシアントラセン、９，１０−ジヘキシルオキシアントラセンが好ましい。

（アントラセン化合物の製造法）
上記一般式（１）で表されるアントラセン化合物のうち、９，１０−ジアルコキシアントラセン化合物は、例えば特開２００３−１０４９２５号公報に記載の方法で製造することができる。すなわち、一般式（１）によって表される９，１０−ジアルコキシアントラセン化合物に対応する９，１０−ジヒドロキシアントラセン化合物にエーテル化剤を作用させることにより得ることができる。

上記一般式（１）で表されるアントラセン化合物のうち、９，１０−ビス（置換アシルオキシ）アントラセン化合物は、例えば特開２０１４−０１４４２号公報に記載の方法で製造することができる。すなわち、一般式（１）によって表される９，１０−ビス（置換アシルオキシ）アントラセン化合物に対応する９，１０−ジヒドロキシアントラセン化合物を塩基性化合物存在下、アシル化剤を作用させることにより得ることができる。

また、９，１０−ビス（アルコキシカルボニルオキシ）アントラセン化合物は、例えば特開２０１１−４２７４３号公報、特開２０１４−７０２０３号公報に記載のように、９，１０−ビス（アルコキシカルボニルオキシ）アントラセン化合物に対応する９，１０−ジヒドロキシアントラセン化合物を塩基性化合物存在下、炭酸エステル化剤を作用させることにより得ることができる。

（光ラジカル重合開始剤）
本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物は、特定の波長範囲を含む光を照射することにより励起され、該励起種が酸素存在下にラジカル重合性化合物のラジカル重合を開始する能力を有する化合物に変化し、ラジカル重合性化合物のラジカル重合を開始する光ラジカル重合開始剤として作用する。

該開始機構については、明確にはわかってはいないが、特定の波長範囲を含む光を照射された本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物が励起状態となり、項間交差を経て三重項状態となり、該励起三重項状態の一般式（１）で表されるアントラセン化合物が基底状態の三重項酸素と、三重項・三重項消滅反応を起こし、酸素が励起され一重項酸素となる。そして、この一重項酸素が本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物に捕捉されて、本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物はエンドパーオキサイドを生成し、このエンドパーオキサイドが分解し光ラジカル重合開始剤となり、ラジカル重合性化合物のラジカル重合を推進するものと考えられる。また、当該エンドパーオキサイドの分解にも本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物の励起状態が関与していると推定される。

（オニウム塩系光重合開始剤）
オニウム塩系光重合開始剤としては、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ピリジニウム塩、ホスホニウム塩等が挙げられるが、照射光に対する感度等の面から、スルホニウム塩、ヨードニウム塩が好ましい。

スルホニウム塩としては、ジフェニルアルキルスルホニム塩、ジナフチルアルキルスルホニム塩、トリフェニルスルホニム塩が挙げられるが、照射光に対する感度等の面から、トリフェニルスルホニウム塩が好ましい。トリフェニルスルホニウム塩としては、Ｓ，Ｓ，Ｓ’、Ｓ’−テトラフェニル−Ｓ，Ｓ’−（４、４’−チオジフェニル）ジスルホニウムビスヘキサフルオロフォスフェート、ジフェニル−４−フェニルチオフェニルスルホニウムヘキサフルオロフォスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロフォスフェート等が挙げられ、例えばダウ・ケミカル製ＵＶＩ−６９９２｛化合物名：Ｓ，Ｓ，Ｓ’、Ｓ’−テトラフェニル−Ｓ，Ｓ’−（４、４’−チオジフェニル）ジスルホニウムビスヘキサフルオロフォスフェート｝として、入手することができる。

一方、ヨードニウム塩としては、ジフェニルヨードニウム塩、フェニルナフチルヨードニウム塩、ジナフチルヨードニウム塩等のヨードニウム塩が挙げられ、照射光に対する感度等の面から、ジフェニルヨードニウム塩が好ましい。ジフェニルヨードニウム塩としては、４−イソブチルフェニル−４’−メチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−イソプロピルフェニル−４’−メチルフェニルヨードニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート等が挙げられ、例えばＢＡＳＦ社製イルガキュア（ｉｒｇａｕｒｅ）２５０｛化合物名：４−イソブチルフェニル−４’−メチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート｝、ローディア社製２０７４｛化合物名：４−イソプロピルフェニル−４’−メチルフェニルヨードニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート｝として入手することができる。

なお、これらのオニウム塩のうち、ヨードニウム塩は、スルホニウム塩に比べて保存安定性が低い場合があり、そのため長期保存時に変色等の問題が生じることがある。従って、長期保存安定性が必要な場合には、オニウム塩としてスルホニウム塩を用いることがより好ましい。

（ラジカル重合性化合物）
ラジカル重合性化合物としては、例えば、スチレン、酢酸ビニル、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル等の二重結合を有する有機化合物を用いることが出来る。これらのラジカル重合性化合物のうち、フィルム形成能等の面から、アクリル酸エステルやメタクリル酸エステル（以下、両者をあわせて（メタ）アクリル酸エステルという）が好ましい。

（メタ）アクリル酸エステルとしては、アクリル酸メチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリブタジエンアクリレート、ポリオールアクリレート、ポリエーテルアクリレート、シリコーン樹脂アクリレート、イミドアクリレート等が挙げられる。これらラジカル重合性化合物は、一種でも二種以上の混合物であっても良い、またこれらのオリゴマーであってもよい。

（光ラジカル重合性組成物）
本発明の光ラジカル重合性組成物は、上記ラジカル重合性化合物と一般式（１）で表されるアントラセン系光ラジカル重合開始剤及びオニウム塩系光重合開始剤を含有する。

本発明において、オニウム塩系光重合開始剤の添加量は、ラジカル重合性化合物１００重量部に対して０．１〜１０重量部であり、より好ましくは０．５〜５．０重量部である。光オニウム塩系光重合開始剤の濃度が低すぎれば、硬化速度が遅くなり、濃度が高すぎると硬化物の物性が悪化する。

一般式（１）で表されるアントラセン化合物の添加量は、ラジカル重合性化合物１００重量部に対して０．１〜５．０重量部であり、より好ましくは０．２〜２重量部である。一般式（１）で表されるアントラセン化合物の濃度が低すぎれば、十分な酸素捕捉効果がなく酸素阻害が発生し、硬化速度が遅くなる。一方、濃度が高すぎると硬化物の物性が悪化するので好ましくない。

本発明に係る光ラジカル重合性組成物には、さらに、本発明の効果を損なわない範囲で、希釈剤、着色剤、有機または無機の充填剤、レベリング剤、界面活性剤、消泡剤、増粘剤、難燃剤、酸化防止剤、安定剤、滑剤、可塑剤などの各種樹脂添加剤を、通常の使用範囲で配合することができる。

希釈剤としては、エポキシアクリレートなどのようなエポキシ系希釈剤、オキサシクロ
ブタンなどのオキセタン系希釈剤、ビニルエーテル系希釈剤、（メタ）アクリル単量体系希釈剤などが挙げられる。

着色剤としては、青色顔料、赤色顔料、白色顔料、黒色顔料などが挙げられる。黒色顔料としては、例えば、カーボンブラック、アセチレンブラック、ランプブラック、アニリンブラックなどが挙げられる。黄色顔料としては、例えば、黄鉛、亜鉛黄、カドミウムイエロー、黄色酸化鉄、ミネラルファストイエロー、ニッケルチタンイエロー、ネーブルスイエロー、ナフトールイエローＳ、ハンザイエローＧ、ハンザイエロー１０Ｇ、ベンジジンイエローＧ、ベンジジンイエローＧＲ、キノリンイエローレーキ、パーマネントイエローＮＣＧ、タートラジンレーキなどが挙げられる。

赤色顔料としては、例えば、ベンガラ、カドミウムレッド、鉛丹、硫化水銀カドミウム、パーマネントレッド４Ｒ、リソールレッド、レーキレッドＤブリリアントカーミン６Ｂ、エオシンレーキ、ローダミンレーキＢ、アリザリンレーキ、ブリリアントカーミン３Ｂなどが挙げられる。

青色顔料としては、例えば、紺青、コバルトブルー、アルカリブルーレーキ、ビクトリアブルーレーキ、フタロシアニンブルー、無金属フタロシアニンブルー、フタロシアニンブルー部分塩化物、ファーストスカイブルー、インダスレンブルーＢＣなどが挙げられる。

白色顔料としては、例えば、亜鉛華、酸化チタン、アンチモン白、硫化亜鉛などが挙げられる。その他の顔料としては、例えば、バライト粉、炭酸バリウム、クレー、シリカ、ホワイトカーボン、タルク、アルミナホワイトなどが挙げられる。

更に、エンドパーオキサイドの分解を促進させ、硬化を加速するために還元剤を添加することもできる。還元剤としては、鉄、コバルトのよう遷移金属、ジメチルアニリンのようなアミン類、トリフェニルホスフィンのようなホスフィン類が挙げられる。

（光ラジカル重合方法）
本発明の光ラジカル重合性組成物の光ラジカル重合はフィルム状で行うことも出来るし、塊状に重合させることも可能である。酸素による阻害が顕著であるという点から、フィルム状で重合させることが好ましい。フィルム状に重合させる場合は、たとえばポリエステルフィルムの基材に光ラジカル重合性組成物をバーコーター用いて塗布し、ついで特定の波長範囲にピーク波長を有する光を照射する。用いるランプとしては、その照射光が、特定の波長範囲としては３８０〜４２０ｎｍにピーク波長を有する光が好ましく、特に３８５ｎｍ、３９５ｎｍ、４０５ｎｍ、４１５ｎｍのいずれかにピーク波長を有する紫外線ＬＥＤ光源やレーザー光源でラジカル重合させたとき効果が著しいため好ましい。特に、３９５ｎｍや４０５ｎｍにピーク波長を有する紫外線ＬＥＤ光源やレーザー光源が好ましくさらに４０５ｎｍが好ましい。

光ラジカル重合を行う特定の波長範囲にピーク波長を有する光として、３８０〜４２０ｎｍにピーク波長を有する光とともに、２００〜３３０ｎｍの波長範囲にピーク波長を有する光を合わせて用いてもよい。２００〜３３０ｎｍの波長範囲にピーク波長を有する光を合わせて用いることにより、本発明のアントラセン化合物のエンドパーオキサイドの分解が促進される。また、３８０ｎｍ〜４２０ｎｍの波長範囲にピーク波長を有する光を有する光を照射した後、２００〜３３０ｎｍの波長範囲にピーク波長を有する光を照射する方法でもよい。

光ラジカル重合を行う特定の波長範囲にピーク波長を有する光として、３８０〜４２０ｎｍにピーク波長を有する光とともに、加熱処理を合わせて用いてもよい。加熱処理として赤外線を照射してもよい。また、３８０ｎｍ〜４２０ｎｍの波長範囲にピーク波長を有する光を有する光を照射した後、加熱処理、赤外線照射処理をする方法でもよい。加熱処理により、本発明のアントラセン化合物のエンドパーオキサイドの分解が促進されるので好ましい。

加熱処理としては、ホットプレート等で加熱してもよく、ハロゲンヒーターや熱風ヒーターを用いてもよい。加熱温度としては、６０℃から１５０℃が好ましく、８０℃から１４０℃がより好ましい。

加熱処理と合わせて、または加熱処理の代わりに赤外線を照射してもよい。照射する赤外線としては、近赤外線、遠赤外線のどちらでもよい。内部でのパーオキサイドの分解を効率的に起こすという意味で、外部加熱よりも赤外線照射が好ましい。

光源としては、メタルハライドランプ、キセノンランプ、紫外線ＬＥＤランプ、青色ＬＥＤ、白色ＬＥＤランプ、フュージョン社製のＤランプ、Ｖランプ等が挙げられる。また、太陽光の使用も可能である。これらの光源は４０５ｎｍの波長の光であるＨ線を含むが、本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物がこの光を吸収して自身が励起し、ついで励起種が重合開始剤であるオニウム塩に電子を移動して、オニウム塩からラジカル種を発生させることにより、オニウム塩がＨ線に良く感応するラジカル重合の光ラジカル重合開始剤として作用するのではないかと推測している。

また併せて一般式（１）で表されるアントラセン化合物が基底状態の酸素を励起することで一重項酸素を生成し、これがさらに一般式（１）で表されるアントラセン化合物と反応することでエンドパーオキサイドが発生、これが分解することによりラジカルが生じ、ラジカル重合反応を促進させるとともに、酸素を消費することにより酸素阻害を軽減していると推測している。

以上述べてきたように、本発明のアントラセン化合物は、３８０〜４２０ｎｍにピーク波長を有する光を吸収して、オニウム塩系の重合開始剤からのラジカル種の発生を促すだけでなく、系内の酸素と反応し、酸素を消費するとともに、自らもラジカル種を発生し、ラジカル重合開始剤としても働き、ラジカル重合を促進する光ラジカル重合開始剤としての効果を発揮するものである。

（雰囲気）
本発明の光ラジカル重合反応は酸素存在下で光を照射することにより行う。本発明は酸素阻害が低減されているので、実施形態としては酸素存在下で実施することが望ましい。酸素存在下とは、表面をフィルム等で覆うことなく、また積極的に酸素を除去しないということを意味し、窒素ガス、ヘリウムガス等で雰囲気を置換することなく行う等のことを意味する。酸素を積極的に吹き込んでもよい。したがって、雰囲気を置換する装置や置換する為のガスや時間が不要で、コストの削減が期待される。

以下、本発明をより具体的に説明するためにいくつかの実施例を示す。ただし、本発明の範囲はこれら実施例の範囲に限定されるものではない。

＜光ＤＳＣ測定＞
本実施例において、光ＤＳＣ測定は下記のようにして行った。ＤＳＣ測定装置は日立ハイテク社製ＸＤＳＣ−７０００を用い、それに光ＤＳＣ測定用ユニットを装着し光を照射しながらＤＳＣ測定ができるよう設えた。

光照射用の光源は、林時計工業社製ＬＡ−４１０ＵＶを用い、バンドパスフィルターで４０５ｎｍ光または３６５ｎｍ光を取り出してサンプルに照射できるようにした。光源の光はグラスファイバーを用いてサンプル上部まで導けるようにし、光照射開始と同時にＤＳＣ測定ができるよう光源のシャッターをトリガー制御できるようにした。

光ＤＳＣの測定は、サンプルを１ｍｇ程度測定用アルミ製パンの中に精秤し、ＤＳＣ測定部に収めた後に光ＤＳＣユニットを装着した。ＤＳＣの測定部は空気または窒素を１００ｍＬ／分の速度で流通し、測定は空気または窒素雰囲気下で光を照射しながら５分間継続した。一回目の測定後、サンプルはそのままで再度同条件で測定を行い、一回目の測定結果から二回目の測定結果を差し引いた値を当該サンプルの測定結果とした。結果は特に断らない限り光照射後５分間におけるサンプル１ｍｇあたりの総発熱量で比較した。重合反応の進行に伴い発熱するので、総発熱量を測定することにより、重合反応の進行度合いを調べることができる。

また転化率は、トリメチロールプロパントリアクリラート（ＴＭＰＴＡ）（東京化成社製）をアルミ製密閉パンに封入し、ＤＳＣで３０℃から３００℃まで５℃／分速度で昇温する条件で熱分析測定を実施し、得られた発熱ピークの総発熱量を１００％として算出した。

（実施例１）
ラジカル重合性化合物としてトリメチロールプロパントリアクリラート（ＴＭＰＴＡ）（東京化成社製）１００重量部に対し、オニウム塩系光重合開始剤としてイルガキュア２５０（４−イソブチルフェニル−４’−メチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ＢＡＳＦ社製，イルガキュアはＢＡＳＦ社の登録商標）を４．０重量部添加し、さらに光ラジカル重合開始剤として９，１０−ジプロポキシアントラセン（ＤＰＡ）を０．５重量部添加し、光ラジカル重合性組成物を調製した。該光ラジカル重合性組成物１ｍｇを測定用アルミパンの中に精秤し、ＤＳＣ測定部に収めたのち光ＤＳＣユニットを装着した。該サンプルに、２０％以上の酸素を含有する空気を毎分１００ｍｌ／ｍｉｎの速度で流通しながら４０５ｎｍの光を５０ｍＷ／ｃｍ^２の照度で５分間照射した。その時の発熱量は３５８ｍＪ／ｍｇであり、転化率としては６２．８％であった（結果を表１に記載）。

（比較例１）
実施例１と同様の光ラジカル重合性組成物を調整し、サンプルに流通するガスを空気から酸素を含まない窒素に変えて同様に測定を実施した。その結果、その時の発熱量は３５５ｍＪ／ｍｇであり、転化率としては６２．３％であった（結果を表１に記載））。

（比較例２）
光ラジカル重合開始剤の９，１０−ジプロポキシアントラセン（ＤＰＡ）を添加しなかった他は実施例１と同様に測定を実施した。その結果、空気流通時の発熱量は３ｍＪ／ｍｇ未満であり、転化率としては１．０％未満であった（結果を表１に記載）。

（比較例３）
光ラジカル重合開始剤の９，１０−ジプロポキシアントラセン（ＤＰＡ）を添加しなかった他は比較例１と同様に測定を実施した。その結果、酸素を含まない窒素流通時の発熱量は３ｍＪ／ｍｇ未満であり、転化率としては１．０％未満であった（結果を表１に記載）。

（比較例４）
ラジカル重合性化合物としてトリメチロールプロパントリアクリラート（ＴＭＰＴＡ）（東京化成社製）１００重量部に対し、オニウム塩系光重合開始剤としてイルガキュア２５０（ＢＡＳＦ社製，イルガキュアはＢＡＳＦの登録商標）を４．０重量部添加し、９，１０−ジプロポキシアントラセン（ＤＰＡ）を添加せず、光ラジカル重合性組成物を調製した。該光ラジカル重合性組成物１ｍｇを測定用アルミパンの中に精秤し、ＤＳＣ測定部に収めたのち光ＤＳＣユニットを装着した。該サンプルに、２０％以上の酸素を含有する空気を毎分１００ｍｌ／ｍｉｎの速度で流通しながら３６５ｎｍの光を５０ｍＷ／ｃｍ^２の照度で５分間照射した。その結果、空気流通時の発熱量は３ｍＪ／ｍｇ未満であり、転化率としては１．０％未満であった（結果を表１に記載）。

（比較例５）
比較例４と同様の光ラジカル重合性組成物を調整し、サンプルに流通するガスを空気から酸素を含まない窒素に変えて、３６５ｎｍの光を５０ｍＷ／ｃｍ^２の照度で５分間照射し、同様に測定を実施した。その結果、酸素を含まない窒素流通時の発熱量は１９７ｍＪ／ｍｇであり、転化率としては３４．６％であった（結果を表１に記載）。

まず、比較例４と５を比較することから明らかなように、窒素雰囲気下での重合と空気雰囲気（酸素存在下）でのラジカル重合では明らかに転化率の減少がみられ、酸素による重合阻害を受けていることが分かる。

また、比較例３と比較例５を比較することにより明らかなように、照射波長３６５ｎｍではイルガキュア２５０はラジカル重合を開始しているが、４０５ｎｍの光照射ではラジカル重合が開始しておらず、イルガキュア２５０が十分励起されず、開始種であるラジカル種を発生していないことがわかる。空気存在下である比較例２においても同様にラジカル重合は進行していない。

一方、比較例１と比較例３を比較することにより明らかなように、本発明のアントラセン化合物であるＤＰＡを添加する事により、ラジカル重合が進行していることがわかる。この現象は、ＤＰＡが４０５ｎｍの光により励起され、そのエネルギーをイルガキュア２５０に伝播し、励起されたイルガキュア２５０から発生したラジカル種が開始種となり、ラジカル重合が進行するからである。この例は、窒素雰囲気であるが、照射される波長が変わっても、イルガキュア２５０から発生するラジカル種は同じであるので、酸素存在下では酸素阻害を受けるはずである。

しかし、驚くべきことに、実施例１と比較例１を比較することにより明らかなように、本発明の光ラジカル重合開始剤であるＤＰＡの添加により、本来低下すべき重合速度が酸素存在下においても全く低下していないことがわかる。すなわち、酸素阻害がなくなっていることがわかる。

Claims

光ラジカル重合性組成物表面が空気と接触している状況において特定の波長範囲にピーク波長を有する光を照射することにより光ラジカル重合する光ラジカル重合性組成物において、ラジカル重合性化合物、一般式（１）で表されるアントラセン系光ラジカル重合開始剤及びオニウム塩系光重合開始剤を含有することを特徴とする光ラジカル重合性組成物（但し、カチオン重合性化合物は含有しない。）。

（上記一般式（１）において、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ炭素数１から２０のアルキル基、炭素数６から２０のアリール基、炭素数１から２０のアルキル基を有するアルキルカルボニル基、炭素数６から２０のアリール基を有するアリールカルボニル基、炭素数１から２０のアルキル基を有するアルキルオキシカルボニル基又は炭素数６から２０のアリール基を有するアリールオキシカルボニル基を示し、Ｒ^１、Ｒ^２は同一であっても異なっていてもよい。また、Ｘ、Ｙは水素原子又は炭素数１から８のアルキル基を示し、Ｘ、Ｙは同一であっても異なっていてもよい。）
一般式（１）において、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ炭素数１から２０のアルキル基又は炭素数６から２０のアリール基である、請求項１に記載の光ラジカル重合性組成物。
ラジカル重合性化合物が、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステル、フマル酸エステル若しくはスチレン又はそれらのオリゴマーである、請求項１又は２に記載の光ラジカル重合性組成物。
照射する特定の波長範囲にピーク波長を有する光が３８０ｎｍ〜４２０ｎｍの波長範囲にピーク波長を有する光である、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光ラジカル重合性組成物。
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光ラジカル重合性組成物を該光ラジカル重合性組成物表面が空気と接触している状況において、３８０ｎｍ〜４２０ｎｍの波長範囲にピーク波長を有する光を照射することにより光ラジカル重合することを特徴とする、光ラジカル重合方法。
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光ラジカル重合性組成物を該光ラジカル重合性組成物表面が空気と接触している状況において、２００〜３３０ｎｍの波長範囲にピーク波長を有する光と３８０ｎｍ〜４２０ｎｍの波長範囲にピーク波長を有する光を有する光を照射することにより光ラジカル重合することを特徴とする、光ラジカル重合方法。
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光ラジカル重合性組成物を該光ラジカル重合性組成物表面が空気と接触している状況において、３８０ｎｍ〜４２０ｎｍの波長範囲にピーク波長を有する光を有する光を照射した後、２００〜３３０ｎｍの波長範囲にピーク波長を有する光を照射することにより光ラジカル重合することを特徴とする、光ラジカル重合方法。
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光ラジカル重合性組成物を該光ラジカル重合性組成物表面が空気と接触している状況において、３８０ｎｍ〜４２０ｎｍの波長範囲にピーク波長を有する光を有する光を照射するとともに、加熱処理及び/又は赤外線照射処理することを特徴とする、光ラジカル重合方法。
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光ラジカル重合性組成物を該光ラジカル重合性組成物表面が空気と接触している状況において、３８０ｎｍ〜４２０ｎｍの波長範囲にピーク波長を有する光を有する光を照射した後、加熱処理及び/又は赤外線照射処理することを特徴とする、光ラジカル重合方法。
３８０ｎｍ〜４２０ｎｍの波長範囲内にピーク波長を有する光が、３８５ｎｍ、３９５ｎｍ、４０５ｎｍ、４１５ｎｍのいずれかにピーク波長を有する光であることを特徴とする、請求項５乃至９のいずれか一項に記載の光ラジカル重合方法。
３８０ｎｍ〜４２０ｎｍの波長範囲内にピーク波長を有する光が、４０５ｎｍにピーク波長を有する光であることを特徴とする、請求項５乃至９のいずれか一項に記載の光ラジカル重合方法。