JP2019099885A - 蒸着装置、蒸着方法及び制御板 - Google Patents

Abstract

【課題】膜厚均一性が高く、かつシャドーが少ない蒸着膜が形成されるように設計され、大型の基板に対しても良好な蒸着を行うことができる蒸着装置、このような蒸着装置を用いた蒸着方法、及びこのような蒸着を可能とする制御板を提供する。【解決手段】直線状に配置され、蒸着材を噴射する複数の噴射ノズル１３ａ〜ｄを有する蒸着源１１を備え、複数の噴射ノズル１３ａ〜ｄが、対向する向きに傾斜している開口面を有する一対の内側噴射ノズル１３ａ，１３ｂ、及び一対の内側噴射ノズル１３ａ，１３ｂの外側に夫々配置され、外側に向かって傾斜している開口面を有する一対の外側噴射ノズル１３ｃ，１３ｄを含み、蒸着源１１が、一対の内側噴射ノズル１３ａ，１３ｂ間に配置され、噴射される蒸着材の分布を制御する制御板１８をさらに有する蒸着装置１０。【選択図】図１

Description

本発明は、蒸着装置、蒸着方法及び制御板に関する。

ディスプレイパネルや太陽電池等の金属電極配線、有機ＥＬ層、半導体層、その他の有機材料薄膜や無機材料薄膜等は、真空蒸着法等の蒸着によって形成されることがある。蒸着は、通常、坩堝内の蒸着材を加熱することにより、蒸着材を気化させ、気化した蒸着材を基板表面に向けて噴射し、この基板表面に蒸着材を堆積させることにより行われる。基板表面に堆積された蒸着材が、薄膜を形成する。また、蒸着の際には、所定形状を有するマスクにより基材表面を被覆しておくことで、パターニングされた蒸着膜を形成することができる。このような蒸着を行う蒸着装置は、通常、蒸着材を収容する坩堝等が内部に配置され、気化した蒸着材を噴射する噴射ノズルを有する蒸着源と、基板を固定する基板固定部とを備える。

ここで、大型の基板に対応した蒸着を行うためには、図６に示すように、用いる噴射ノズル３１の数を増やすことが考えられる。噴射ノズル３１の数を増やすことで、大型の基板Ｘに対しても、膜厚均一性の高い蒸着膜を形成することができる。なお、図６中に模式的に示す曲線Ｐは、各噴射ノズル３１による蒸着量の分布を示す曲線である。しかし、複数の噴射ノズル３１を有する蒸着装置３０を用いた場合、特に基板Ｘの端部において、離れた位置の噴射ノズル３１から噴射される蒸着材が、基板表面に対して小さい角度で到達することとなる。このような部分においては、図７に示すように、マスクＹで被覆された部分にまで蒸着材が進入しやすくなる。このような場合、蒸着膜Ｚにおいて、シャドーＳといわれる蒸着材が薄く積層された領域が大きくなる。このため、このような従来の蒸着装置３０の場合、微細な成膜パターンを得ることが困難である。これに対し、噴射ノズルを少なくし、かつ噴射ノズルを端に配置しない構成とすることで、蒸着材が基板表面に対して到達する角度を大きくすることができる。しかしこの場合、大型の基板に対して、膜厚均一性の高い蒸着膜を形成することが困難になる。

このような中、得られる蒸着膜の膜厚均一性を高め、かつシャドーを少なくするために、傾斜した噴射ノズルを有する蒸着装置や、このような蒸着装置を用いる蒸着方法が提案されている（特許文献１、２参照）。また、噴射される蒸着材の基材に到達する角度を制限する制限板を設けた蒸着装置も提案されている（特許文献３、４参照）。

特開２０１４−７７１９３号公報 特開２０１６−１２５０９１号公報 特開２０１７−１４６１６号公報 国際公開第２０１４／１１９４５２号

しかし、上記従来の傾斜した噴射ノズルや制限板を有する蒸着装置やこれを用いた蒸着方法においても、得られる蒸着膜の膜厚均一性及びシャドーに関して十分に改善されているとはいえず、大型の基板に対して良好な蒸着を行うことができない。

本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであり、その目的は、膜厚均一性が高く、かつシャドーが少ない蒸着膜が形成されるように設計され、大型の基板に対しても良好な蒸着を行うことができる蒸着装置、このような蒸着装置を用いた蒸着方法、及びこのような蒸着を可能とする制御板を提供することである。

上記課題を解決するためになされた本発明は、直線状に配置され、蒸着材を噴射する複数の噴射ノズルを有する蒸着源を備え、上記複数の噴射ノズルが、対向する向きに傾斜している開口面を有する一対の内側噴射ノズル、及び上記一対の内側噴射ノズルの外側にそれぞれ配置され、外側に向かって傾斜している開口面を有する一対の外側噴射ノズルを含み、上記蒸着源が、上記一対の内側噴射ノズル間に配置され、噴射される蒸着材の分布を制御する制御板をさらに有する蒸着装置である。

上記制御板の上記複数の噴射ノズルの各開口面の法線を含む切断面における断面形状が、Ｙ字状又はＴ字状であることが好ましい。

上記制御板が、上記噴射される蒸着材の分布を調整可能に構成されていることが好ましい。

上記一対の内側噴射ノズルの開口面の中心点間の距離Ｌ_１が、３００ｍｍ以上４００ｍｍ以下、上記一対の内側噴射ノズルのうちの一方の開口面の中心と、この内側噴射ノズルの外側に配置される外側噴射ノズルの開口面の中心との間の距離Ｌ_２が、４０ｍｍ以上１２０ｍｍ以下、上記一対の内側噴射ノズルの開口面の傾斜角θ_１が、３０°以上４５°以下、上記一対の外側噴射ノズルの開口面の傾斜角θ_２が、５０°以上７０°以下であることが好ましい。

上記課題を解決するためになされた別の本発明は、当該蒸着装置を用いて蒸着を行う工程を備える蒸着方法である。

上記課題を解決するためになされた別の本発明は、蒸着装置の噴射ノズルから噴射される蒸着材の分布を制御する制御板であって、断面形状が、Ｙ字状又はＴ字状である制御板である。

本発明によれば、膜厚均一性が高く、かつシャドーが少ない蒸着膜が形成されるように設計され、大型の基板に対しても良好な蒸着を行うことができる蒸着装置、このような蒸着装置を用いた蒸着方法、及びこのような蒸着を可能とする制御板を提供することができる。

図１は、本発明の一実施形態に係る蒸着装置を示す模式的側面図である。 図２は、図１の蒸着装置の蒸着源を示す模式的平面図である。 図３（ａ）は、図１の蒸着装置に備わる制御板を示す模式的側面図であり、図３（ｂ）は、その模式的平面図である。 図４は、図３の制御板とは異なる実施形態に係る制御板を示す模式的側面図である。 図５は、実施例における測定結果を示すグラフである。 図６は、従来の蒸着装置の一例を示す模式図である。 図７は、従来の蒸着装置を用いた場合の蒸着膜の状態を示す模式図である。

以下、適宜図面を参照にしつつ、本発明の一実施形態に係る蒸着装置及び蒸着方法について詳説する。

＜蒸着装置＞
図１の蒸着装置１０は、蒸着源１１及び基板固定部１２を備える。なお、蒸着装置１０は、適切な真空度が維持される真空チャンバ（図示しない）内に配置される。真空チャンバには、真空チャンバ内の気体を排出させて、真空チャンバ内の圧力を低下させる真空ポンプ、真空チャンバ内に一定の気体を注入して、真空チャンバ内の圧力を上昇させるベンティング手段などが備えられていてよい。

蒸着源１１は、気化した蒸着材を噴射する複数の噴射ノズル１３（１３ａ〜１３ｄ）を有する。蒸着源１１は、固体状の蒸着材を収容し、加熱により蒸着材を気化させ、気化した蒸着材を複数の噴射ノズル１３から噴射するように構成されている。蒸着源１１は、例えば蒸着材収容室１４と拡散室１５とが連設された構成とすることができる。拡散室１５の上面１５Ａに、複数の噴射ノズル１３が配置される。なお、通常、拡散室１５の上面１５Ａが水平となるように、拡散室１５は配置される。

蒸着材収容室１４内には、坩堝（図示しない）が配置され、この坩堝内に固体状の蒸着材が収納される。気化した坩堝内の蒸着材は、蒸着材収容室１４から拡散室１５に移動する。坩堝には、気化効率を考慮し、蒸着材と共に、熱的及び化学的に安定しており、かつ蒸着材よりも熱伝導率の高い粒状の伝熱媒体が収納されていてもよい。あるいは、粒状の伝熱媒体と、この伝熱媒体を被覆する蒸着材とで構成される複合材を坩堝に収納してもよい。また、坩堝の周囲には、加熱手段としてのヒータ等（図示しない）が配置される。加熱手段により坩堝中の蒸着材が加熱され、蒸着材が気化する。

なお、蒸着源１１においては、加熱手段や、図示しない蒸着材の流路に設けられたバルブ等により、蒸着材の放出量を制御可能に構成されている。

基板固定部１２は、複数の噴射ノズル１３と平行な向きに、基板Ｘを固定する。すなわち、基板固定部１２は、複数の噴射ノズル１３と対向するように基板Ｘを固定する。基板固定部１２は、基板Ｘを着脱可能に固定する。基板固定部１２は、基板Ｘを移動可能に固定してもよい。基板固定部１２は、従来公知の蒸着装置に備わる基板固定部と同様のものとすることができる。なお、基板Ｘにおいて、複数の噴射ノズル１３と対向する側の面（図１における下面）には、所定形状のパターンを有する蒸着用のマスク（図示しない）が設けられる。

基板Ｘと複数の噴射ノズル１３とが平行とは、基板Ｘと、複数の噴射ノズル１３が配置された面１５Ａ（拡散室１５の上面１５Ａ）とが平行な状態であってよい。あるいは、基板Ｘと、複数の噴射ノズル１３における各開口面（１６ａ〜１６ｄ）の中心を結ぶ直線（図１における直線Ｍ）とが、平行な状態であってよい。

なお、基板Ｘの複数の噴射ノズル１３からの距離の下限としては、４００ｍｍが好ましく、４５０ｍｍがより好ましい。この距離を上記下限以上とすることで、蒸着領域を十分に広げることができる。一方、この距離の上限としては、６００ｍｍが好ましく、５５０ｍｍがより好ましい。この距離を上記上限以下とすることで、蒸着材の利用効率を高めることができる。なお、この距離は、各噴射ノズル１３の開口面１６ａ〜１６ｄの中心を結ぶ直線Ｍと、基板Ｘにおける蒸着面（図１における下側の面）との間の距離とすることができる。

蒸着源１１と基板Ｘとは、互いに相対的に移動しながら蒸着を行うことができる。例えば、基板Ｘが固定された場合、蒸着源１１が図１における紙面の法線方向に移動するよう構成される。また、蒸着源１１が固定された場合、基板Ｘが図１における紙面の法線方向に移動するように構成される。

複数の噴射ノズル１３（１３ａ〜１３ｄ）は、直線状（直線上）に配置されている。すなわち、基板Ｘ及び拡散室１５の上面１５Ａの法線方向視において、複数の噴射ノズル１３（１３ａ〜１３ｄ）は、直線上に位置している（図２参照）。複数の噴射ノズル１３は、拡散室１５の上面１５Ａにそれぞれ上向きに設けられる。複数の噴射ノズル１３は、一対の内側噴射ノズル１３ａ、１３ｂ及び一対の外側噴射ノズル１３ｃ、１３ｄの４つの噴射ノズルから構成される。

一対の内側噴射ノズル１３ａ、１３ｂは、線対称に配置されている。各内側噴射ノズル１３ａ、１３ｂは、対向する向きに傾斜している開口面１６ａ、１６ｂを有する。すなわち、これらの開口面１６ａ、１６ｂは、内側に向かって傾斜している。図１において左側に配置されている内側噴射ノズル１３ａの開口面１６ａは、右側を向くように傾斜している。一方、図１において右側に配置されている内側噴射ノズル１３ｂの開口面１６ｂは、左側を向くように傾斜している。各内側噴射ノズル１３ａ、１３ｂは、円柱形状の途中が折れた、側面視で略Ｌ字状の形状を有する。但し、例えば内側噴射ノズル１３ａ、１３ｂとして、円柱形状のノズルを斜めに設けてもよい。

内側噴射ノズル１３ａ、１３ｂの開口面１６ａ、１６ｂは、円形状を有する。開口面１６ａ、１６ｂは、内側噴射ノズル１３ａ、１３ｂの先端部分（出口側部分）における軸（内側噴射ノズル１３ｂの先端部分の軸１７ｂのみ図示）に対して垂直に形成されている。

一対の外側噴射ノズル１３ｃ、１３ｄは、一対の内側噴射ノズル１３ａ、１３ｂの外側にそれぞれ配置されている。すなわち、図１において左側の外側噴射ノズル１３ｃは、左側の内側噴射ノズル１３ａのさらに左側に配置されている。一方、右側の外側噴射ノズル１３ｄは、右側の内側噴射ノズル１３ｂのさらに右側に配置されている。一対の外側噴射ノズル１３ｃ、１３ｄは、線対称に配置されている。各外側噴射ノズル１３ｃ、１３ｄは、外側に向かって傾斜している開口面１６ｃ、１６ｄを有する。図１において左側に配置されている外側噴射ノズル１３ｃの開口面１６ｃは、左側を向くように傾斜している。一方、図１において右側に配置されている外側噴射ノズル１３ｄの開口面１６ｄは、右側を向くように傾斜している。各外側噴射ノズル１３ｃ、１３ｄは、円柱形状の途中が折れた、側面視で略Ｌ字状の形状を有する。但し、例えば外側噴射ノズル１３ｃ、１３ｄとして、円柱形状のノズルを斜めに設けてもよい。

外側噴射ノズル１３ｃ、１３ｄの開口面１６ｃ、１６ｄは、円形状を有する。開口面１６ｃ、１６ｄは、外側噴射ノズル１３ｃ、１３ｄの先端部分（出口側部分）における軸（外側噴射ノズル１３ｄの先端部分の軸１７ｄのみ図示）に対して垂直に形成されている。なお、各噴射ノズル１３（１３ａ〜１３ｄ）の開口面１６ａ〜１６ｄの中心は直線Ｍ上にあることとする。

一対の内側噴射ノズル１３ａ、１３ｂの開口面１６ａ、１６ｂの中心点間の距離Ｌ_１としては特に限定されないが、３００ｍｍ以上４００ｍｍ以下が好ましい。

一対の内側噴射ノズル１３ａ、１３ｂのうちの一方の開口面１６ａ、１６ｂの中心と、この内側噴射ノズル１３ａ、１３ｂの外側に配置される外側噴射ノズル１３ｃ、１３ｄの開口面１６ｃ、１６ｄの中心との間の距離Ｌ_２としては特に限定されないが、４０ｍｍ以上１２０ｍｍ以下が好ましい。なお、この距離Ｌ_２は、具体的には、左側の内側噴射ノズル１３ａの開口面１６ａの中心と左側の外側噴射ノズル１３ｃの開口面１６ｃの中心との間の距離、及び右側の内側噴射ノズル１３ｂの開口面１６ｂの中心と右側の外側噴射ノズル１３ｄの開口面１６ｄの中心との間の距離である。

各内側噴射ノズル１３ａ、１３ｂの開口面１６ａ、１６ｂの傾斜角θ_１としては特に限定されず、０°超９０°未満の範囲で適宜設定されるが、３０°以上４５°以下が好ましい。また、各外側噴射ノズル１３ｃ、１３ｄの開口面１６ｃ、１６ｄの傾斜角θ_２も特に限定されず、０°超９０°未満の範囲で適宜設定されるが、５０°以上７０°以下であることが好ましい。

なお、噴射ノズル１３ａ〜１３ｄの開口面１６ａ〜１６ｄの傾斜角θ_１、θ_２とは、水平面（例えば、拡散室１５の上面１５Ａ、又は基板Ｘの蒸着面）を基準とした各開口面１６ａ〜１６ｄの角度をいう。但し、本実施形態の蒸着装置１０においては、鉛直方向（例えば、拡散室１５Ａの上面１５Ａ、又は基板Ｘの蒸着面の法線方向）に対する噴射ノズル１３ａ〜１３ｄの先端部分の軸（図１においては、軸１７ｂ、１７ｄのみ図示）の傾斜角度θ_１’、θ_２’と一致する。

上記距離Ｌ_１、Ｌ_２及び傾斜角θ_１、θ_２を上記範囲とすることで、形成される蒸着膜の膜均一性をより高め、また、シャドーをより少なくすることができる。さらに、蒸着材の利用効率を高めることもできる。

各開口面１３ａ〜１３ｄの大きさとしては特に限定されず、全て同一であってもよく、異なっていてもよい。但し、一対の内側噴射ノズル１３ａ、１３ｂの開口面１６ａ、１６ｂの大きさが等しいことが好ましく、また、一対の外側噴射ノズル１３ｃ、１３ｄの開口面１６ｃ、１６ｄの大きさが等しいことが好ましい。

蒸着源１３は、拡散室１５の上面１５Ａ上に配置される制御板１８をさらに有する。制御板１８は、一対の内側噴射ノズル１３ａ、１３ｂ間に配置され、噴射される蒸着材の分布を制御する。具体的には、制御板１８は、一対の内側噴射ノズル１３ａ、１３ｂの中間位置に配置されている。すなわち、一対の内側噴射ノズル１３ａ、１３ｂは、制御板１８を基準として対称に配置されている。同様に、一対の外側噴射ノズル１３ｃ、１３ｄは、制御板１８を基準として対称に配置されている。

制御板１８の断面形状は、Ｙ字状である。なお、この断面は、複数の噴射ノズル１３の各開口面１６ａ〜１６ｄの法線を含む切断面における断面である。すなわち、図２における矢線視の断面である。また、この断面形状は、図３（ａ）に示した制御板１８の側面形状と一致する。制御板１８の断面形状は、左右対称の形状を有する。

制御板１８は、拡散室１５の上面１５Ａに対して垂直に立設する垂直部１８ａと、この垂直部１８ａの先端から、２つに分かれ、各内側噴射ノズル１３ａ、１３ｂ側に傾斜してそれぞれ延びる一対の傾斜部１８ｂとを有する（図３（ａ）参照）。垂直部１８ａは、平板である。また、２つの傾斜部１８ｂも、それぞれ平板である。各傾斜部１８ｂの傾斜角は、調整可能に構成されていてよい。また、制御板１８は、平面視において長方形状を有する（図３（ｂ）参照）。

制御板１８のサイズとしては特に限定されず、各噴射ノズルの間隔などに応じて適宜設定される。例えば、制御板１８の高さｈとしては、５０ｍｍ以上２００ｍｍ以下とすることができる。また、制御板１８の幅Ｗとしては、５０ｍｍ以上２００ｍｍ以下とすることができる。制御板１８の長さＬとしては、１００ｍｍ以上５００ｍｍ以下とすることができる。

以下、この制御板１８の役割について、各噴射ノズル１３の蒸着領域と共に説明する。各噴射ノズル１３において、蒸着材は、開口面１６（１６ａ〜１６ｄ）に対して垂直方向（噴射ノズル１３の軸方向）に主に放射され、実質的に開口面１６の真横よりも前方に噴射される。内側噴射ノズル１３ａ、ｌ３ｂは内側に向かって傾斜しており、最も噴射量の多い正面方向には、制御板１８が配置されている。そのため、内側噴射ノズル１３ａ、１３ｂから噴射される蒸着材の多くは制御板１８により遮断される。また、本実施形態においては、側面視（図１の状態）において、内側噴射ノズル１３ａ、１３ｂの開口面１６ａ、１６ｂの中心と、制御板１８の先端とを通る直線１９ａ、１９ｂ上に、実質的に基板Ｘの中心Ｑが位置するように基板Ｘの位置等が調整されている。なお、上記中心Ｑは、側面視における基板Ｘの中心、すなわち基板Ｘの中心線である。そのため、左側の内側噴射ノズル１３ａによる基板Ｘの表面における蒸着領域は、基板Ｘの中心Ｑより左側の領域Ｒａとなる。一方、右側の内側噴射ノズル１３ｂによる基板Ｘの表面における蒸着領域は、基板Ｘの中心Ｑより右側の領域Ｒｂとなる。また、これらの内側噴射ノズル１３ａ、１３ｂによる基板Ｘ表面への蒸着材の到達量（蒸着量）の分布は、基板Ｘの中心Ｑに近づくほど多くなり、端にいくにつれて少なくなる。なお、図１における曲線Ｐａ〜Ｐｄは、各噴射ノズル１３ａ〜１３ｄの蒸着量の分布を模式的に表す曲線である。

一方、外側噴射ノズル１３ｃ、１３ｄは外側に向かって傾斜している。また、本実施形態においては、外側噴射ノズル１３ｃ、１３ｄの開口面１６ｃ、１６ｄを延長した直線上に、実質的に基板Ｘの中心Ｑが位置するように基板Ｘの位置等が調整されている。そのため、左側の外側噴射ノズル１３ｃによる基板Ｘの表面における蒸着領域は、基板Ｘの中心Ｑより左側の領域Ｒｃとなる。一方、右側の外側噴射ノズル１３ｄによる基板Ｘの表面における蒸着領域は、基板Ｘの中心Ｑより右側の領域Ｒｄとなる。また、これらの外側噴射ノズル１３ｃ、１３ｄによる基板Ｘ表面への蒸着材の到達量（蒸着量）の分布は、基板Ｘの中心Ｑに近づくほど少なくなり、比較的外側に分布のピークを有することとなる。

このように、基板Ｘの中心Ｑを基準とした右側及び左側の領域それぞれにおいて、内側噴射ノズル１３ａ、１３ｂによる蒸着量の分布は、中心Ｑ側にピークを有し、外側噴射ノズル１３ｃ、１３ｄによる蒸着量の分布は、比較的外側にピークを有することとなる。従って、当該蒸着装置１０によれば、これらの４つの噴射ノズル１３ａ〜１３ｄによって、基材Ｘ表面に、広い範囲にわたって膜厚均一性の高い蒸着膜を形成することができる。

また、当該蒸着装置１０においては、図１に示されるように、噴射ノズル１３ａ〜１３ｄのそれぞれの蒸着領域は、好ましくは実質的に基板Ｘの中心Ｑを跨がないように構成されている。すなわち、左側の内側噴射ノズル１３ａ及び外側噴射ノズル１３ｃから噴射される蒸着材は、基板Ｘの右側端部にまで到達し難い構成とされている。同様に、右側の内側噴射ノズル１３ｂ及び外側噴射ノズル１３ｄから噴射される蒸着材は、基板Ｘの左側端部にまで到達し難い構成とされている。このように、当該蒸着装置１０においては、各噴射ノズル１３ａ〜１３ｄの開口面１６ａ〜１６ｄを所定向きに傾斜させ、かつ制御板を設けることにより、各噴射ノズル１３ａ〜１３ｄから噴射される蒸着材が、基板Ｘ表面に対して小さい角度で到達し難くなっている。従って、当該蒸着装置１０によれば、形成される蒸着膜のシャドーを少なくすることができる。

なお、制御板１８は、噴射される蒸着材の分布を調整可能に構成されていることが好ましい。上述のように、この制御板１８により、内側噴射ノズル１３ａ、１３ｂから噴射される蒸着材の一部を遮断し、基材Ｘの中心Ｑ近傍における蒸着量の分布を制御している。しかし、基板Ｘの中心Ｑ近傍において、左側の内側噴射ノズル１３ａによって形成される左側の蒸着膜の膜厚と、右側の内側噴射ノズル１３ｂによって形成される右側の蒸着膜の膜厚とにずれが生じる場合がある。また、左側の内側噴射ノズル１３ａによって形成される左側の蒸着膜と、右側の内側噴射ノズル１３ｂによって形成される右側の蒸着膜とが重なり合う場合や、逆に左側の蒸着膜と右側の蒸着膜との間に隙間が生じる場合も考えられる。このような場合、予め、制御板１８の調整により、各内側噴射ノズル１３ａ、１３ｂの蒸着領域や中心Ｑ近傍の蒸着量を調整することで、得られる蒸着膜の膜厚均一性を高めることができる。

なお、蒸着材の分布を調整可能に構成された制御板１８としては、例えば制御板１８の左右の傾斜部１８ｂの傾斜角度や長さをそれぞれ調整できる構成のものが挙げられる。また、左右の傾斜部１８ｂの先端部分の形状や面積が可変に構成されている場合、各内側噴射ノズル１３ａ、１３ｂによる中心Ｑ近傍の蒸着量を調整することができる。

＜蒸着方法＞
本発明の一実施形態に係る蒸着方法は、当該蒸着装置１０を用いて蒸着を行う工程を備える。

当該蒸着方法は、当該蒸着装置１０を用いること以外は従来公知の蒸着方法と同様に行うことができる。当該蒸着方法によれば、膜厚均一性が高く、かつシャドーが少ない蒸着膜を形成することができ、大型の基板Ｘに対して良好な蒸着を行うことができる。当該蒸着方法によれば、例えば幅９００ｍｍ以上、より具体的には９２５ｍｍの範囲にわたり、膜厚均一性が高く、かつシャドーが少ない蒸着膜を形成することができる。当該蒸着装置及び当該蒸着方法によって得られる蒸着膜の膜厚の変動幅は、例えば±３％以内、さらには±１％以内である。

＜他の実施形態＞
本発明は上述した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲でその構成を変更することもできる。例えば、上記実施の形態では、制御板の断面形状は、Ｙ字状としたが、この形状に限定されるものではない。例えば図４に示すように、断面形状がＴ字状である制御板２０であっても同様の効果が得られる。制御板２０は、垂直部２０ａと、この垂直部２０ａの先端に水平に設けられる水平部２０ｂとを有する。垂直部２０ａ及び水平部２０ｂは、それぞれ平板である。その他、制御板は、噴射される蒸着材の分布を制御可能であればその形状は任意であり、例えば平板状（Ｉ字状の断面形状）の制御板を配置してもよい。但し、断面形状がＹ字状又はＴ字状の制御板を用いることで、制御板が大型化することを抑制しつつ、良好な蒸着材の分布制御性を発揮することができる。また、傾斜部又は水平部の角度が可変に構成された、Ｔ字状又はＹ字状に自由に変更可能な制御板であってもよい。

また、上記実施の形態においては、複数の噴射ノズルが、２つの内側噴射ノズル及び２つの外側噴射ノズルの合計４つの噴射ノズルからなる構成としたが、５つ以上の噴射ノズルを有するものであってもよい。例えば、図１に示したような、２つの内側噴射ノズル、２つの外側噴射ノズル及び１つの制御板の組み合わせを横に複数並べた構成を有する蒸着装置であってもよい。このような蒸着装置によれば、より大型の基板への蒸着も可能となる。

以下、実施例を挙げて、本発明の内容をより具体的に説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

＜実施例１＞
図１に記載した構造を有する蒸着装置により、幅９２５ｍｍの基板に対して真空蒸着を行った。なお、Ｌ_１＝３６０ｍｍ、Ｌ_２＝６０ｍｍ、θ_１＝３５°、θ_２＝６５°、及び噴射ノズルと基板との距離５００ｍｍとした。また、制御板は、高さｈが１２０ｍｍ、幅Ｗが１２０ｍｍ、長さＬが２９７ｍｍの断面形状がＹ字状のものを用いた。

［評価］
得られた蒸着膜の膜厚を分光エリプソメーター（Ｈｏｒｉｂａ社の「ＵＶＩＳＥＬ Ｍ２００−ＶＩＳ−ＡＧ−２００Ｓ」）を用いて測定した。測定結果を示したグラフを図３に示す。

図５に示されるように、実施例１によれば、基板前面にわたり膜厚均一性の高い蒸着膜を形成することができた。実施例１で得られた蒸着膜の膜厚の変動幅は、±０．７９％であった。また、シャドーも十分に小さいものであった。

本発明の蒸着装置及び蒸着方法は、ディスプレイパネルや太陽電池等の金属電極配線、半導体層、有機ＥＬ層、その他の有機材料薄膜や無機材料薄膜等の成膜に好適に用いることができる。

１０ 蒸着装置
１１ 蒸着源
１２ 基板固定部
１３ 噴射ノズル
１３ａ、１３ｂ 内側噴射ノズル
１３ｃ、１３ｄ 外側噴射ノズル
１４ 蒸着材収容室
１５ 拡散室
１５Ａ 拡散室の上面
１６（１６ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６ｄ） 開口面
１７ｂ 内側噴射ノズルの先端部分における軸
１７ｄ 外側噴射ノズルの先端部分における軸
１８ 制御板
１８ａ 垂直部
１８ｂ 傾斜部
１９ａ、１９ｂ 内側噴射ノズルの開口面の中心と制御板の先端とを通る直線
２０ 制御板
２０ａ 垂直部
２０ｂ 水平部
Ｘ 基板
Ｙ マスク
Ｚ 蒸着膜
Ｍ 複数の噴射ノズルにおける各開口面の中心を結ぶ直線
Ｐ、Ｐａ、Ｐｂ、Ｐｃ、Ｐｄ 各噴射ノズルの蒸着量の分布を表す曲線
Ｑ 基板表面の中心
Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ、Ｒｄ 各噴射ノズルの蒸着流域
Ｓ シャドー
Ｌ_１ 一対の内側噴射ノズルの開口面の中心点間の距離
Ｌ_２ 一対の内側噴射ノズルのうちの一方の開口面の中心と、この内側噴射ノズルの外側に配置される外側噴射ノズルの開口面の中心との間の距離
θ_１ 内側噴射ノズルの開口面の傾斜角
θ_２ 外側噴射ノズルの開口面の傾斜角
θ_１’ 内側噴射ノズルの先端部分の軸の傾斜角
θ_２’ 外側噴射ノズルの先端部分の軸の傾斜角

Claims (6)

1. 直線状に配置され、蒸着材を噴射する複数の噴射ノズルを有する蒸着源を備え、
   上記複数の噴射ノズルが、
   対向する向きに傾斜している開口面を有する一対の内側噴射ノズル、及び
   上記一対の内側噴射ノズルの外側にそれぞれ配置され、外側に向かって傾斜している開口面を有する一対の外側噴射ノズル
   を含み、
   上記蒸着源が、上記一対の内側噴射ノズル間に配置され、噴射される蒸着材の分布を制御する制御板をさらに有する蒸着装置。
2. 上記制御板の上記複数の噴射ノズルの各開口面の法線を含む切断面における断面形状が、Ｙ字状又はＴ字状である請求項１に記載の蒸着装置。
3. 上記制御板が、上記噴射される蒸着材の分布を調整可能に構成されている請求項１又は請求項２に記載の蒸着装置。
4. 上記一対の内側噴射ノズルの開口面の中心点間の距離Ｌ_１が、３００ｍｍ以上４００ｍｍ以下、
   上記一対の内側噴射ノズルのうちの一方の開口面の中心と、この内側噴射ノズルの外側に配置される外側噴射ノズルの開口面の中心との間の距離Ｌ_２が、４０ｍｍ以上１２０ｍｍ以下、
   上記一対の内側噴射ノズルの開口面の傾斜角θ_１が、３０°以上４５°以下、
   上記一対の外側噴射ノズルの開口面の傾斜角θ_２が、５０°以上７０°以下である請求項１、請求項２又は請求項３に記載の蒸着装置。
5. 請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の蒸着装置を用いて蒸着を行う工程を備える蒸着方法。
6. 蒸着装置の噴射ノズルから噴射される蒸着材の分布を制御する制御板であって、
   断面形状が、Ｙ字状又はＴ字状である制御板。
   
   

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