JP2019091841A - 電子回路基板 - Google Patents

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Abstract

【課題】フレキシブル基板部の柔軟性を高めること。【解決手段】絶縁性の絶縁体11及び導電性の回路パターン12を有し、かつ、実装した電子部品30を回路パターン12に対して電気的に接続させる硬質の複数のリジッド基板部10と、絶縁性の絶縁体21を有すると共に、複数のリジッド基板部10の内の少なくとも2つにおけるそれぞれの回路パターン12に対して電気的に接続される導電性の回路パターン22を有し、自らの回路パターン22との電気的な接続が成されるリジッド基板部10に対して一体化させた軟質の少なくとも1つのフレキシブル基板部20と、を備え、フレキシブル基板部20の絶縁体21には、フレキシブル基板部20の回路パターン22が積層されていない場所に貫通孔21aを設けること。【選択図】図4

Description

本発明は、電子回路基板に関する。
従来、電子回路基板としては、硬質のリジッド基板部と軟質のフレキシブル基板部とを一体化したものが知られている。リジッド基板部においては、硬質の絶縁体と回路パターンとが層状に配置されている。また、フレキシブル基板部においては、軟質の絶縁体と回路パターンとが層状に配置されている。この種の電子回路基板については、例えば、下記の特許文献1及び2に開示されている。この特許文献1及び2に記載の電子回路基板は、2つのリジッド基板部とその間に配置されたフレキシブル基板部とを有しており、フレキシブル基板部を介して2つのリジッド基板部の間を屈曲させることができる。
特開2017−22184号公報 特開2017−22809号公報
ところで、従来の電子回路基板においては、2つのリジッド基板部の回路パターン同士をフレキシブル基板部の回路パターンで電気的に接続している。故に、フレキシブル基板部においては、軟質の柔軟性を有する導電体が回路パターンに用いられており、積層方向に見た全体の面積に対する回路パターンの占める割合が大きいほど柔軟性が高くなる。しかしながら、電子回路基板においては、複数の導電部を張り巡らせた回路パターンが形成されており、その導電部間の絶縁性を確保するべく、導電部同士が距離(沿面距離)を空けて配置されている。よって、フレキシブル基板部は、回路パターンの導電部の間に大きな距離を取らなければならないものほど、積層方向に見た全体の面積に対する回路パターンの占める割合が小さくなるので、柔軟性を高め難い。
そこで、本発明は、フレキシブル基板部の柔軟性を高め得る電子回路基板を提供することを、その目的とする。
上記目的を達成する為、本発明は、絶縁性の絶縁体及び導電性の回路パターンを有し、かつ、実装した電子部品を前記回路パターンに対して電気的に接続させる硬質の複数のリジッド基板部と、絶縁性の絶縁体を有すると共に、複数の前記リジッド基板部の内の少なくとも2つにおけるそれぞれの前記回路パターンに対して電気的に接続される導電性の回路パターンを有し、自らの前記回路パターンとの電気的な接続が成される前記リジッド基板部に対して一体化させた軟質の少なくとも1つのフレキシブル基板部と、を備え、前記フレキシブル基板部の前記絶縁体には、前記フレキシブル基板部の前記回路パターンが積層されていない場所に貫通孔を設けることを特徴としている。
ここで、前記リジッド基板部と前記フレキシブル基板部は、硬質の絶縁層及び軟質の絶縁層が積層された絶縁基材と前記絶縁基材に設けた軟質の導電基材とを有する回路基板中間体を元にして形成されたものであり、前記フレキシブル基板部は、自らを成す軟質の前記絶縁層と当該軟質の絶縁層に設けた前記導電基材とを残して前記回路基板中間体から切除された残存部で形成され、前記リジッド基板部の前記絶縁体は、硬質の前記絶縁層と軟質の前記絶縁層とで形成され、前記リジッド基板部と前記フレキシブル基板部のそれぞれの前記回路パターンは、前記導電基材で形成され、前記フレキシブル基板部の前記絶縁体は、軟質の前記絶縁層で形成されることが望ましい。
また、前記フレキシブル基板部の前記回路パターンは、圧延銅箔で形成することが望ましい。
また、前記貫通孔が収容箱の収容室の開口を向くように前記リジッド基板部と前記フレキシブル基板部とが前記収容室に収容されている場合、前記貫通孔は、前記収容室に充填する充填剤の注入口として利用することが望ましい。
本発明に係る電子回路基板は、フレキシブル基板部に貫通孔を設けることで、フレキシブル基板部の回路パターンにおける導電部の間の距離(沿面距離等)を確保しつつ、このフレキシブル基板部の柔軟性を高めることができる。従って、この電子回路基板は、フレキシブル基板部を介した2つのリジッド基板部の間の屈曲が容易なものとなり、その折り曲げに伴う耐久性の低下を抑えることができる。
図1は、実施形態の電子回路基板を示す斜視図である。 図2は、実施形態の電子回路基板を別角度から見た斜視図である。 図3は、実施形態の電子回路基板を示す正面図である。 図4は、実施形態の電子回路基板を示す背面図である。 図5は、回路基板中間体について説明する斜視図である。 図6は、電子回路基板と収容箱とから成る電子部品ユニットの分解斜視図である。 図7は、電子回路基板の収容室への収容状態を示す斜視図であって、充填剤の注入前の状態を表している。 図8は、電子回路基板の収容室への収容状態を示す斜視図であって、充填剤の注入後の状態を表している。 図9は、電子部品ユニットを示す斜視図である。
以下に、本発明に係る電子回路基板の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。尚、この実施形態によりこの発明が限定されるものではない。
[実施形態]
本発明に係る電子回路基板の実施形態の1つを図1から図9に基づいて説明する。
図1から図4の符号1は、本実施形態の電子回路基板を示す。ここで示す電子回路基板1は、電子部品30が実装される前の所謂プリント配線板(PWB:Printed Wiring Board)を例として挙げる。但し、本実施形態は、電子部品30が実装された所謂プリント回路板(PCB:Printed Circuit Board)を除外するものではない。
電子回路基板1は、硬質の複数のリジッド基板部10と軟質の少なくとも1つのフレキシブル基板部20とを備える(図1から図4)。この電子回路基板1には、実装対象の電子部品30が実装される(図1から図4)。
リジッド基板部10は、層状に配置された絶縁性の絶縁体11と導電性の回路パターン12とを有する(図4)。
絶縁体11は、絶縁性材料で形成する。この例示の絶縁体11は、更に複数層に分かれている。例えば、絶縁体11は、図示しないが、硬質の1つのコア層とコア層よりも軟質の複数のプリプレグ層とを備える。コア層は、例えば、エポキシ樹脂、ガラスエポキシ樹脂、紙エポキシ樹脂、セラミックス等の絶縁性材料で形成する。一方、プリプレグ層は、例えば、繊維状補強材(ガラスクロス、炭素繊維等)に熱硬化性樹脂(硬化剤等の添加物を混合したエポキシなど)を均等に含浸させた後、加熱又は乾燥して半硬化状態にされている。故に、プリプレグ層は、コア層よりも軟質であり、柔軟性を持っている。
回路パターン12は、導電性材料を用いて、例えば、エッチング加工等で形成する。この例示の回路パターン12は、銅箔(特に、電解銅箔よりも柔軟性に優れる圧延銅箔)で形成している。回路パターン12は、複数の導電部12aが張り巡らされたものであり(図4)、その導電部12a毎に各々対応させた電子部品30が電気的に接続される。尚、本図の回路パターン12は、図示の便宜上、一部の導電部12aのみを示している。
このリジッド基板部10は、例えば、コア層のそれぞれの平面に回路パターン12が各々配置され、その双方に対して回路パターン12と回路パターン12が配置されていないコア層の平面とを覆うように内層側のプリプレグ層が積層されている。更に、このリジッド基板部10は、そのそれぞれの内層側のプリプレグ層におけるコア層側とは逆側の平面に別の回路パターン12が各々配置され、その双方に対して回路パターン12と回路パターン12が配置されていないプリプレグ層の平面とを覆うように外層側の別のプリプレグ層が積層されている。また更に、このリジッド基板部10は、そのそれぞれの外層側のプリプレグ層におけるコア層側とは逆側の平面に更に別の回路パターン12が各々配置されている。このように、リジッド基板部10は、複数層(コア層、プリプレグ層)の絶縁体11と層毎に分けられた複数の回路パターン12とによる多層構造となっている。このリジッド基板部10においては、複数の電子部品30が双方の平面に実装されることによって、それぞれの回路パターン12に対して、対応する電子部品30が電気的に接続される。
ここで、この例示の電子部品30は、リジッド基板部10のそれぞれの平面に実装する。ここで云う電子部品30とは、例えば、リレー、ヒューズ等の回路保護部品、コンデンサ、抵抗、トランジスタ、IPS(Intelligent Power Switch)、コネクタ、端子金具、電子制御ユニット(所謂ECU:Electronic Control Unit)、各種センサ素子、LED(Light Emitting Diode)素子、スピーカなどのことを指している。
フレキシブル基板部20は、層状に配置された絶縁性の絶縁体21と導電性の回路パターン22とを有する(図4)。
絶縁体21は、リジッド基板部10の絶縁体11よりも軟質であり、柔軟性を持っている。よって、この絶縁体21は、リジッド基板部10の絶縁体11よりも軟質の絶縁性材料で形成する。
回路パターン22は、導電性材料を用いて、例えば、エッチング加工等で形成する。この例示の回路パターン22は、銅箔(特に、電解銅箔よりも柔軟性に優れる圧延銅箔)で形成している。回路パターン22は、複数の導電部22aが張り巡らされたものである(図4)。この例示の回路パターン22は、複数のリジッド基板部10の内の少なくとも2つにおけるそれぞれの回路パターン12に対して電気的に接続するためのものである。この回路パターン22においては、それぞれの導電部22aが2つのリジッド基板部10のそれぞれの回路パターン12の導電部12aに対して電気的に接続されている。つまり、この例示の回路パターン22は、一方のリジッド基板部10の回路パターン12と他方のリジッド基板部10の回路パターン12とを電気的に繋ぐ接続導体の役目を担っている。
このフレキシブル基板部20は、柔軟性に優れる圧延銅箔で回路パターン22が形成されているので、積層方向に見た全体の面積に対する回路パターン22の占める割合が大きいほど(言うなれば銅箔率が高いほど)、柔軟性が高くなる。換言するならば、このフレキシブル基板部20は、積層方向に見た全体の面積に対する絶縁体21の占める割合が小さいほど、柔軟性が高くなる。
本実施形態の電子回路基板1は、高電圧回路が形成された高電圧回路領域Vhと、高電圧回路よりも低い低電圧回路が形成された低電圧回路領域Vlと、に大別される(図3及び図4)。ここでは、それぞれのリジッド基板部10とフレキシブル基板部20が各々高電圧回路領域Vhと低電圧回路領域Vlとに区分けされている。電子回路基板1においては、高電圧回路領域Vhにおけるそれぞれのリジッド基板部10とフレキシブル基板部20とが互いに電気的に接続され、かつ、低電圧回路領域Vlにおけるそれぞれのリジッド基板部10とフレキシブル基板部20とが互いに電気的に接続されている。
ここで、同層の回路パターン12,22における導電部12a,22a同士は、その相互間の絶縁性を確保するべく、低電圧回路領域Vlよりも高電圧回路領域Vhで相互間の距離(沿面距離)を大きくしておくことが望ましい。よって、フレキシブル基板部20では、高電圧回路領域Vhでの導電部22a同士の沿面距離を低電圧回路領域Vlでの導電部22a同士の沿面距離よりも大きく取っている。つまり、このフレキシブル基板部20では、低電圧回路領域Vlと比べて、高電圧回路領域Vhの銅箔率が低くなっている。また、このフレキシブル基板部20においては、高電圧回路領域Vhの導電部22aと低電圧回路領域Vlの導電部22aとの間の沿面距離も絶縁性を確保するべく大きくしておくことが望ましい。故に、このフレキシブル基板部20は、高電圧回路が形成されることによって、銅箔率が低くなる。
更に、フレキシブル基板部20は、低電圧回路領域Vlであっても、その導電部22aの数量(つまり、回路の数量)如何で導電部22aの間の隙間が大きくなってしまう可能性がある。この場合、フレキシブル基板部20は、更なる銅箔率の低下を引き起こす。
このように、フレキシブル基板部20は、回路パターン22の導電部22aの間に大きな距離を取らなければならないものほど、銅箔率が低くなる。つまり、フレキシブル基板部20は、回路パターン22の導電部22aの間に大きな距離を取らなければならないものほど、積層方向に見た全体の面積に対する絶縁体21の占める割合が大きくなる。よって、フレキシブル基板部20は、回路パターン22の導電部22aの間に大きな距離を取らなければならないものほど、柔軟性を高め難くなってしまう。
そこで、本実施形態において、フレキシブル基板部20の絶縁体21には、回路パターン22が積層されていない場所(つまり、積層方向に見て回路パターン22が配置されていない場所)に貫通孔21aを設ける(図1から図4)。
その貫通孔21aは、周縁の導電部22aの絶縁性を確保し得る範囲内で最も大きくなるように形成することが望ましい。ここでは、矩形の貫通孔21aを複数箇所に設けている。これにより、フレキシブル基板部20は、銅箔率が高くなり、かつ、積層方向に見た全体の面積に対する絶縁体21の占める割合が小さくなる。よって、本実施形態の電子回路基板1は、回路パターン22における導電部22aの間の距離(沿面距離等)を確保しつつ、フレキシブル基板部20の柔軟性を高めることができる。
具体的に、この例示のフレキシブル基板部20は、高電圧回路領域Vhと低電圧回路領域Vlとに区分けされている。よって、貫通孔21aは、このフレキシブル基板部20の高電圧回路領域Vhにおける絶縁体21の回路パターン22が積層されていない場所に少なくとも形成する。これにより、この電子回路基板1は、高電圧回路領域Vhの回路パターン22における導電部22aの間の沿面距離を確保しつつ、フレキシブル基板部20の高電圧回路領域Vhでの柔軟性を高めることができる。更に、この例示では、フレキシブル基板部20の低電圧回路領域Vlにおける絶縁体21の回路パターン22が積層されていない場所にも、貫通孔21aを形成している。この低電圧回路領域Vlにおいては、例えば、貫通孔21aの形成が可能な広さを有しており、かつ、貫通孔21aを形成してもその周縁の導電部22aの絶縁性を確保することができる場所にのみ貫通孔21aを形成する。これにより、この電子回路基板1は、フレキシブル基板部20の低電圧回路領域Vlでの柔軟性を高めることもできるので、フレキシブル基板部20を全体に亘って柔軟なものとすることができる。
ところで、この電子回路基板1においては、リジッド基板部10とフレキシブル基板部20とを一体化している。例えば、リジッド基板部10とフレキシブル基板部20は、回路パターン12,22同士の電気的な接続が成されるもの同士を一体化する。その一体化の手法は、如何様なものであってもよい。例えば、電子回路基板1は、リジッド基板部10とフレキシブル基板部20とを各々別体品として形成し、これらを互いにコネクタ接続、溶着(回路パターン12,22同士の溶接を含む)、螺子止め等で組み付けて一体化してもよい。
この例示のリジッド基板部10とフレキシブル基板部20は、硬質の絶縁層及びこれよりも軟質の絶縁層が積層された絶縁基材と当該絶縁基材に設けた軟質の導電基材とを有する回路基板中間体1Aを元にして形成することで、互いに一体化させる(図5)。本図では、回路パターン12,22やスルーホール等の図示を省略している。
絶縁基材とは、リジッド基板部10の絶縁体11とフレキシブル基板部20の絶縁体21の元となる部位である。この絶縁基材は、1つの硬質の絶縁層と複数の軟質の絶縁層とを備える。2つのリジッド基板部10のそれぞれの絶縁体11は、その1つの硬質の絶縁層と複数の軟質の絶縁層とで形成される。フレキシブル基板部20の絶縁体21は、1つの軟質の絶縁層で形成される。硬質の絶縁層は、2つのリジッド基板部10におけるそれぞれの絶縁体11のコア層として形成される。一方、複数の軟質の絶縁層は、それぞれが2つのリジッド基板部10におけるそれぞれの絶縁体11の複数のプリプレグ層として各々形成されると共に、その内の1つがフレキシブル基板部20の絶縁体21として形成される。
導電基材とは、リジッド基板部10の回路パターン12とフレキシブル基板部20の回路パターン22の元となる部位である。回路基板中間体1Aにおいては、軟質の導電基材が複数層形成されている。その複数の導電基材は、それぞれが2つのリジッド基板部10におけるそれぞれの回路パターン12として各々形成されると共に、その内の1つがフレキシブル基板部20の回路パターン22として形成される。
この回路基板中間体1Aは、フレキシブル基板部20を成す軟質の絶縁層とこの絶縁層に設けた導電基材とが残るように切除部1Aを切除することによって、電子回路基板1として形成される(図5)。その切除部1Aには、フレキシブル基板部20の構成要素とならない硬質の絶縁層と軟質の絶縁層と導電基材とが含まれている。つまり、フレキシブル基板部20は、自らを成す軟質の絶縁層と当該絶縁層に設けた導電基材とを残して回路基板中間体1Aから切除された残存部で形成される。
ここで、貫通孔21aは、回路基板中間体1Aの状態で予め形成しておいてもよく、また、切除部1Aが取り除かれた後で形成してもよい。前者の場合には、略矩形に形成された回路基板中間体1Aから矩形の外形で且つ矩形の貫通孔21aが形成された1つの切除部1A又は複数の矩形の切除部1Aが取り除かれる。後者の場合には、略矩形に形成された回路基板中間体1Aから1つの矩形の切除部1Aが取り除かれる。図5の例示では、前者で且つ複数の矩形の切除部1Aが取り除かれる場合を表している。このようにして形成された電子回路基板1においては、2つの略矩形のリジッド基板部10の間に矩形のフレキシブル基板部20が一体となった状態で配置され、かつ、フレキシブル基板部20に矩形の貫通孔21aが設けられている。
本実施形態の電子回路基板1は、フレキシブル基板部20を境にしてL字状に屈曲させ、その折り曲げた状態で収容箱110の収容室110aに収容する(図6から図8)。
収容箱110は、収容部材111とカバー部材112とを備える(図6)。収容部材111は、収容室110aが形成された主体となる部材である。この例示の収容部材111は、一端が閉塞された角筒状に成形されており、その内方の空間を収容室110aとして利用する。この収容部材111には、収容室110aに連通する矩形の開口111aが形成されている(図6から図8)。電子回路基板1は、その開口111aから収容室110aに収容する。カバー部材112は、その収容室110aの開口111aを塞ぐ部材である。このカバー部材112は、矩形に形成されており、開口111aを塞いだ状態で収容部材111に固定される。
ここでは、電子回路基板1が収容箱110に収められた状態のものを電子部品ユニット100と称する(図9)。この電子部品ユニット100においては、電子回路基板1の絶縁性や防湿性、強度等を確保するために、電子回路基板1が収容された収容室110aに充填剤を充填することによって、収容室110aに封止体120を形成する(図8)。充填剤には、例えば、熱硬化性樹脂等のような充填後に硬化させることができる材料を用いることが望ましい。電子回路基板1(リジッド基板部10とフレキシブル基板部20)は、貫通孔21aが開口111aを向くように収容室110aに収容する(図7)。この場合、その貫通孔21aは、収容室110aに充填する充填剤の注入口として利用することができる。よって、本実施形態の電子回路基板1は、自らに充填剤を充填するための専用の注入口を自らに又は収容箱110に設ける必要がないので、電子部品ユニット100の体格の小型化や省スペース化を図ることができる。
以上示したように、本実施形態の電子回路基板1は、フレキシブル基板部20に貫通孔21aを設けることで、フレキシブル基板部20の回路パターン22における導電部22aの間の距離(沿面距離等)を確保しつつ、このフレキシブル基板部20の柔軟性を高めることができる。従って、この電子回路基板1は、フレキシブル基板部20を介した2つのリジッド基板部10の間の屈曲が容易なものとなり、その折り曲げに伴う耐久性の低下を抑えることができる。更に、本実施形態の電子回路基板1は、フレキシブル基板部20の貫通孔21aを充填剤の注入口に利用することもできるので、電子部品ユニット100の体格の小型化や省スペース化を図ることができる。
1 電子回路基板
1A 回路基板中間体
1A 切除部
10 リジッド基板部
11 絶縁体
12 回路パターン
20 フレキシブル基板部
21 絶縁体
21a 貫通孔
22 回路パターン
30 電子部品
110 収容箱
110a 収容室
111a 開口

Claims (4)

  1. 絶縁性の絶縁体及び導電性の回路パターンを有し、かつ、実装した電子部品を前記回路パターンに対して電気的に接続させる硬質の複数のリジッド基板部と、
    絶縁性の絶縁体を有すると共に、複数の前記リジッド基板部の内の少なくとも2つにおけるそれぞれの前記回路パターンに対して電気的に接続される導電性の回路パターンを有し、自らの前記回路パターンとの電気的な接続が成される前記リジッド基板部に対して一体化させた軟質の少なくとも1つのフレキシブル基板部と、
    を備え、
    前記フレキシブル基板部の前記絶縁体には、前記フレキシブル基板部の前記回路パターンが積層されていない場所に貫通孔を設けることを特徴とした電子回路基板。
  2. 前記リジッド基板部と前記フレキシブル基板部は、硬質の絶縁層及び軟質の絶縁層が積層された絶縁基材と前記絶縁基材に設けた軟質の導電基材とを有する回路基板中間体を元にして形成されたものであり、
    前記フレキシブル基板部は、自らを成す軟質の前記絶縁層と当該軟質の絶縁層に設けた前記導電基材とを残して前記回路基板中間体から切除された残存部で形成され、
    前記リジッド基板部の前記絶縁体は、硬質の前記絶縁層と軟質の前記絶縁層とで形成され、
    前記リジッド基板部と前記フレキシブル基板部のそれぞれの前記回路パターンは、前記導電基材で形成され、
    前記フレキシブル基板部の前記絶縁体は、軟質の前記絶縁層で形成されることを特徴とした請求項1に記載の電子回路基板。
  3. 前記フレキシブル基板部の前記回路パターンは、圧延銅箔で形成することを特徴とした請求項1又は2に記載の電子回路基板。
  4. 前記貫通孔が収容箱の収容室の開口を向くように前記リジッド基板部と前記フレキシブル基板部とが前記収容室に収容されている場合、前記貫通孔は、前記収容室に充填する充填剤の注入口として利用することを特徴とした請求項1,2又は3に記載の電子回路基板。
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