JP2019064837A

JP2019064837A - 遮熱ガラス

Info

Publication number: JP2019064837A
Application number: JP2016028393A
Authority: JP
Inventors: 剛志角田; Tsuyoshi Tsunoda
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2016-02-17
Filing date: 2016-02-17
Publication date: 2019-04-25
Also published as: WO2017141643A1

Abstract

【課題】遮熱性を有する上、ヘイズ値が有意に抑制された遮熱ガラス。【解決手段】第１および第２の表面を有するガラス板と、前記ガラス板の前記第１の表面に設けられたコーティング膜と、を有する遮熱ガラスであって、前記コーティング膜は、下地層と、該下地層の上部に配置された第１の層および第２の層とを有し、前記第１の層は、前記下地層と前記第２の層との間に配置され、前記第１の層および前記第２の層のいずれか一方は、アンチモンを含む酸化スズを含み、前記第１の層および前記第２の層の他方は、フッ素を含む酸化スズを含み、前記第１の層と前記第２の層の合計厚さは、３４０ｎｍ以上であり、当該遮熱ガラスの前記コーティング膜側の表面において、８μｍ×８μｍの領域で測定される、周波数１μｍ−１〜２μｍ−１の間の平均パワースペクトル密度は、６×１０６ｎｍ４以下である、遮熱ガラス。【選択図】図１

Description

本発明は、コーティング膜を有する遮熱ガラスに関する。

近年の省エネルギー意識の高まりから、建物の窓ガラスおよび車両のガラス部材等に、遮熱性を有する遮熱ガラスを適用する例が増えている。そのような遮熱ガラスは、例えば、ガラス板の一方の表面に遮熱性を有するコーティング膜を設置することにより構成される。

さらに最近では、遮熱ガラスによる遮熱効果に対する要求の高まりを受け、さらなる遮熱性を発揮する遮熱ガラスに対する研究、開発が進められている。

一般に、遮熱ガラスの遮熱性を高めるためには、コーティング膜を多層構造にすることが効果的である。例えば、特許文献１には、下地層の上に、アンチモン含有酸化スズ層およびフッ素含有酸化スズ層の２層で構成された多層コーティング膜を備える遮熱ガラスが記載されている。

特開２００１−１９９７４４号公報

前述のように、ガラス板の上に多層コーティング膜を形成することにより、遮熱ガラスの遮熱性を高めることができるという報告がある。

しかしながら、遮熱ガラスには、遮熱性の他にも、各種特性が要求される場合がある。例えば、遮熱ガラスの適用場所によっては、遮熱ガラスに対して、意匠性や透明性などが要求される場合がある。

しかしながら、特許文献１に記載の遮熱ガラスでは、遮熱性以外の特性について十分に考慮されているとは言い難い。例えば、多層コーティング膜を厚くすればするほど、遮熱性は向上する傾向にあるが、その場合、遮熱ガラスの透明性が低下して、ヘイズ値が上昇してしまう可能性がある。

本発明は、このような背景に鑑みなされたものであり、本発明では、良好な遮熱性を有するとともに、ヘイズ値が有意に抑制された遮熱ガラスを提供することを目的とする。

本発明では、
相互に対向する第１および第２の表面を有するガラス板と、前記ガラス板の前記第１の表面に設けられたコーティング膜と、を有する遮熱ガラスであって、
前記コーティング膜は、下地層と、該下地層の上部に配置された第１の層および第２の層とを有し、前記第１の層は、前記下地層と前記第２の層との間に配置され、
前記第１の層および前記第２の層のいずれか一方は、アンチモンを含む酸化スズを含み、前記第１の層および前記第２の層の他方は、フッ素を含む酸化スズを含み、
前記第１の層と前記第２の層の合計厚さは、３４０ｎｍ以上であり、
当該遮熱ガラスの前記コーティング膜側の表面において、８μｍ×８μｍの領域で測定される、周波数１μｍ^−１〜２μｍ^−１の間の平均パワースペクトル密度は、６×１０^６ｎｍ^４以下である、遮熱ガラスが提供される。

本発明では、良好な遮熱性を有するとともに、ヘイズ値が有意に抑制された遮熱ガラスを提供することができる。

本発明の一実施形態による遮熱ガラスの一構成例を概略的に示した断面図である。遮熱ガラス２および遮熱ガラス７におけるパワースペクトル密度の周波数依存性の評価結果を比較して示したグラフである。各遮熱ガラスにおいて得られた平均Ｐ値とヘイズ値の関係をまとめて示したグラフである。

（本発明の一実施形態による遮熱ガラス）
以下、図１を参照して、本発明の一実施形態について説明する。

図１には、本発明の一実施形態による遮熱ガラス（以下、「第１の遮熱ガラス」と称する）の断面を模式的に示す。

図１に示すように、第１の遮熱ガラス１００は、第１の側１０２および第２の側１０４を有する。また、第１の遮熱ガラス１００は、ガラス板１１０と、コーティング膜１２０とを有する。第１の遮熱ガラス１００の第１の側１０２は、ガラス板１１０の側に対応し、第１の遮熱ガラス１００の第２の側１０４は、コーティング膜１２０の側に対応する。

ガラス板１１０は、第１の表面１１２および第２の表面１１４を有する。コーティング膜１２０は、ガラス板１１０の第１の表面１１２の側に設けられる。

コーティング膜１２０は、下地層１３０と、第１の層１４０と、第２の層１５０とをこの順番に積層することにより構成される。ただし、後述するように、コーティング膜１２０は、そのような３層構造には限られず、４層以上で構成されてもよい。

コーティング膜１２０の下地層１３０は、例えば、酸化ケイ素または酸化スズを含む層を有する。

コーティング膜１２０の第１の層１４０および第２の層１５０は、いずれも酸化スズを含む層で構成される。

第１の層１４０および第２の層１５０のいずれか一方は、アンチモンを含む酸化スズを含み、第１の層１４０および第２の層１５０の他方は、フッ素を含む酸化スズを含む。また、第１の層１４０および第２の層１５０は、酸化スズを５０質量％以上、例えば６０質量％以上含むことが好ましい。

ここで、第１の遮熱ガラス１００は、
第１の層１４０と第２の層１５０の合計厚さが３４０ｎｍ以上であり、
第２の側１０４において、８μｍ×８μｍの領域で測定される、周波数１μｍ^−１〜２μｍ^−１の間の平均パワースペクトル密度（以下、「平均Ｐ値」という）が６×１０^６ｎｍ^４以下である
という特徴を有する。

第１の遮熱ガラス１００では、遮熱性を発揮する第１の層１４０と第２の層１５０の合計厚さが３４０ｎｍ以上と、十分に厚くなっている。従って、第１の遮熱ガラス１００では、十分な遮熱性を発揮することができる。

また、第１の遮熱ガラス１００では、８μｍ×８μｍの領域で測定される平均Ｐ値が６×１０^６ｎｍ^４以下である。この場合、以降に詳しく示すように、第１の遮熱ガラス１００に曇りや濁りが生じることが有意に抑制される。

このような特徴により、第１の遮熱ガラス１００では、良好な遮熱性を示すとともに、ヘイズ値が有意に抑制された遮熱ガラスを提供することができる。

（パワースペクトル密度について）
ここで、本願におけるパワースペクトル密度（ＰＳＤ）の測定方法について説明する。

一般に、遮熱ガラスにおけるコーティング膜の表面は、二次元の平面上に微細な凹凸が分布された形態を有する。これらの凹凸のそれぞれの形態は、座標（ｘ，ｙ）の二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）で表すことができる。

この二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）をフーリエ変換すると、以下の（１）式で表される二次元関数Ｈ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）が得られる：

ここで、ｆ_ｘおよびｆ_ｙは、それぞれｘ方向およびｙ方向の周波数であり、長さの逆数の次元を有する。また、πは円周率、ｉは虚数単位である（詳細は、ＷＯ２０１４／０９７８０７号参照）。

（１）式で表される二次元関数Ｈ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を二乗して得られる関数Ｈ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）は、二次元パワースペクトルとも呼ばれ、この関数は、前述の凹凸の空間周波数分布を表す。二次元パワースペクトルの単位は、（長さ）^６であり、例えばｎｍ^６等で表される。

コーティング膜表面の凹凸は等方的であると考えられるため、二次元パワースペクトルＨ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）は、原点（０，０）からの距離ｆのみに依存する一次元パワースペクトルＩ（ｆ）で表すことができる。まず、二次元パワースペクトルＨ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を（２）式に基づいて極座標で表示する。

ここでθはフーリエ空間中の偏角である。この極座標表示した二次元パワースペクトルの回転平均を（３）式に基づき計算することで、一次元パワースペクトルＩ（ｆ）を求めることができる。

本願におけるパワースペクトル密度（ＰＳＤ）は、この一次元パワースペクトルＩ（ｆ）を評価対象面積（８μｍ×８μｍ）で除したものであり、従って単位は（長さ）^４、例えばｎｍ^４となる。

前記二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）は、例えば、共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、および原子間力顕微鏡のような、表面形状の三次元情報が得られる装置を用いて測定することができる。また、二次元パワースペクトルＨ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）および一次元パワースペクトルＩ（ｆ）は、測定された二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）から、各種解析ソフトウェア等を用いて計算することができる。さらに、計算された一次元パワースペクトルＩ（ｆ）から、パワースペクトル密度（ＰＳＤ）を算出することができる。

あるいは、共焦点顕微鏡、原子間力顕微鏡、干渉顕微鏡、走査型電子顕微鏡、および走査型透過電子顕微鏡など、各種三次元画像解析装置に導入されている三次元画像解析ソフトウェアを使用して、パワースペクトル密度（ＰＳＤ）を算出してもよい。

そのような画像処理ソフトウェアの一例として、例えば、市販のＳＰＩＰ（登録商標）イメージ解析ソフトウェア（ＩｍａｇｅＭｅｔｒｏｌｏｇｙ社）が挙げられる。

本願では、遮熱ガラスのパワースペクトル密度（ＰＳＤ）は、ＳＰＩＰ（登録商標）イメージ解析ソフトウェア（バージョン６．４．２）を使用して評価した。また、得られたＰＳＤ−周波数関係から、平均Ｐ値を算定した。

（遮熱ガラスの遮熱性能について）
次に、遮熱ガラスの遮熱性能について、簡単に説明する。

一般に、遮熱ガラスの遮熱性能は、以下の（４）式で表すことができる：

ＳＣ＝ｇ値／０．８８（４）式

ここで、ｇ値は日射熱取得率であり、遮熱ガラスの一方の側（第１の側）から入射される全太陽熱に対する、他方の側（第２の側）まで直接透過される熱（透過熱）と、遮熱ガラスの内部で吸収され、その後第２の側に放出される熱との総和の割合で表される。また、ＳＣは遮蔽係数である。ｇ値は、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定することができる。

本願では、この遮蔽係数ＳＣを用いて、遮熱ガラスの遮熱性を評価した。

（遮熱ガラスを構成する各部材）
次に、前述のような特徴を有する第１の遮熱ガラス１００を構成する各部材について、より詳しく説明する。

なお、以下の説明では、明確化のため、各部材を表す際に、図１に示した参照符号を使用する。また、説明の簡略化のため、ここでは、一例として、第１の遮熱ガラス１００において、第１の層１４０がアンチモン含有酸化スズを含み、第２の層１５０がフッ素含有酸化スズを含みものと仮定する。

（ガラス板１１０）
ガラス板１１０は、例えば、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、またはアルミノシリケートガラス等で構成されても良い。

また、ガラス板１１０は、透明なものであっても、着色されたものであっても良い。着色されたガラス板１１０の色は、特に限られないが、ガラス板１１０の色は、例えば、緑色または青色等であっても良い。

ガラス板１１０の厚さは、特に限られないが、厚さは、例えば、２ｍｍ〜１２ｍｍの範囲である。ガラス板１１０は、強化されたガラス、特に化学強化されたガラスであれば板厚が薄くできるため好ましい。

（コーティング膜１２０）
（下地層１３０）
下地層１３０は、ガラス板１１０と第１の層１４０の間で、所定の元素が相互に拡散することを抑制する役割、および遮熱ガラス１００の外観上の色を調整する役割を有する。

下地層１３０は、例えば、酸化ケイ素を主体とする層、または酸化スズを主体とする層で構成されてもよい。ここで、本願において「材料Ａを主体とする（層）」とは、対象とする層内に、材料Ａが５０質量％以上含まれることを意味する。

例えば、下地層１３０は、酸化ケイ素（ＳｉＯ_ｘ）または酸化スズ（ＳｎＯ_ｘ）であっても良い。あるいは、下地層１３０は、酸炭化ケイ素（ＳｉＯＣ）で構成されてもよい。

なお、下地層１３０は、必ずしも単一の層で構成される必要はなく、下地層１３０は、２層以上で構成されてもよい。例えば、下地層１３０は、酸化スズと酸化ケイ素の２層で構成されてもよい。

下地層１３０の厚さは、例えば、１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲である。

下地層１３０の設置方法は、特に限られない。下地層１３０は、例えば、物理的蒸着法（例えば真空蒸着法、イオンプレーティング法、およびスパッタリング法等）、化学的蒸着法（例えば熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、および光ＣＶＤ法等）、ならびにイオンビームスパッタリング法等から選定された方法により、構成されてもよい。

（第１の層１４０）
第１の層１４０は、アンチモンを含む酸化スズを有する。例えば、第１の層１４０は、アンチモンを含む酸化スズで構成されてもよい。

第１の層１４０がアンチモン含有酸化スズで構成される場合、第１の層１４０に対するアンチモンの含有量は、例えば、１質量％〜１５質量％の範囲であり、６質量％〜１０質量％の範囲であることが好ましい。ドープ量は、例えばＸＲＦ（蛍光Ｘ線分析）等により測定することができる。

第１の層１４０の厚さは、例えば、５０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であり、１５０ｎｍ〜３５０ｎｍの範囲が好ましく、１７０ｎｍ〜２５０ｎｍの範囲がより好ましい。

第１の層１４０の設置方法は、特に限られない。第１の層１４０は、例えば、物理的蒸着法（例えば真空蒸着法、イオンプレーティング法、およびスパッタリング法等）、化学的蒸着法（例えば熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、および光ＣＶＤ法等）、ならびにイオンビームスパッタリング法等から選定された方法により、構成されてもよい。

（第２の層１５０）
第２の層１５０は、フッ素を含む酸化スズを有する。例えば、第２の層１５０は、フッ素を含む酸化スズで構成されてもよい。

第２の層１５０の厚さは、例えば、５０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であり、１５０ｎｍ〜３５０ｎｍの範囲が好ましく、１７０〜２５０ｎｍの範囲がより好ましい。

なお、前述のように、第１の層１４０と第２の層１５０の合計厚さは、３４０ｎｍ以上であり、３６０ｎｍ〜４２０ｎｍであることが好ましい。

第２の層１５０の設置方法は、特に限られない。第２の層１５０は、例えば、物理的蒸着法（例えば真空蒸着法、イオンプレーティング法、およびスパッタリング法等）、化学的蒸着法（例えば熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、および光ＣＶＤ法等）、ならびにイオンビームスパッタリング法等から選定された方法により、構成されてもよい。

（第１の遮熱ガラス１００）
前述のように、第１の遮熱ガラス１００は、第２の側１０４の８μｍ×８μｍの領域で測定される、周波数１μｍ^−１〜２μｍ^−１の間の平均パワースペクトル密度（平均Ｐ値）が６×１０^６ｎｍ^４以下であるという特徴を有する。

この平均Ｐ値が小さくなるほど、第１の遮熱ガラス１００において測定されるヘイズ値が低下する。平均Ｐ値は、５×１０^６ｎｍ^４以下であることが好ましい。

なお、平均Ｐ値が６×１０^６ｎｍ^４以下の遮熱ガラスは、例えば、
（ｉ）第２の層１５０をＣＶＤ法で成膜する際に、成膜温度を５８０℃以下にすること、および
（ｉｉ）下地層１３０の凹凸をできる限り抑制すること（例えば算術平均粗さＲａ＜１０ｎｍ）、
等により得ることができる。ただし、これら（ｉ）、（ｉｉ）は単なる一例であって、その他の方法でも、平均Ｐ値が６×１０^６ｎｍ^４以下の遮熱ガラスを得ることができる。

第１の遮熱ガラス１００において、ヘイズ値は、例えば、０．８％以下である。ヘイズ値は、０．７％以下であることが好ましい。

また、第１の遮熱ガラス１００において、遮蔽係数は、ＳＣ＜０．６であることが好ましく、特に、ＳＣ＜０．５５であることが好ましい。

ただし、この遮蔽係数ＳＣは、ガラス板１１０の着色有無の状態によって大きく変化し得ることに留意する必要がある。前述の好ましい範囲は、ガラス板１１０が無着色の場合の値である。

以下、本発明の実施例について説明する。なお、以下の記載において、例１〜例４は実施例であり、例５〜例７は比較例である。

（例１）
以下の方法で、遮熱ガラスを製造した。

まず、透明な無着色ガラス板を準備した。次に、このガラス板の表面（第１の表面）にコーティング膜を形成した。コーティング膜の構成は、前述の図１に示すような３層構造とした。

下地層は、ＳｉＯＣ層（目標厚さ５８ｎｍ）とし、常圧のＣＶＤ法により成膜した。成膜後の下地層の算術平均粗さ（Ｒａ）は、約９．３ｎｍであった。

次に、下地層の上に、第１の層を成膜した。第１の層は、アンチモンドープされた酸化スズ層とした。第１の層は、常圧のＣＶＤ法により成膜した。原料ガスとして、モノブチル塩化スズ（ＭＢＴＣ）、水、および三塩化アンチモン（ＳｂＣｌ_３）を気化させた混合ガスを、空気で希釈したものを使用した。第１の層の目標厚さは、１８５ｎｍとした。

次に、第１の層の上に、第２の層を成膜した。第２の層は、フッ素ドープされた酸化スズ層とした。第２の層は、常圧のＣＶＤ法により成膜した。原料ガスとして、モノブチル塩化スズ（ＭＢＴＣ）、水、およびフッ化水素を気化させた混合ガスを、空気で希釈したものを使用した。第２の層の成膜の際のガラス板の温度は約５５０℃とした。

第２の層の目標厚さは、１８２ｎｍとした。従って、第１の層と第２の層の合計厚さは、約３６７ｎｍである。

これにより、遮熱ガラス（以下、遮熱ガラス１と称する）が製造された。

（例２〜例７）
例１と同様の方法により、遮熱ガラス２〜遮熱ガラス７を製造した。ただし、これらの例では、ガラス板の色味、コーティング膜の構成、下地層の表面粗さ、第１の層および第２の層の膜厚、ならびに／または第２の層の成膜温度として、実施例１の場合とは異なる条件を採用した。

以下の表１には、各遮熱ガラス１〜７の製造条件をまとめて示した。

（評価）
前述のように製造された各遮熱ガラスを用いて、以下の評価を行った。

（遮熱性の評価）
各遮熱ガラスについて、ＰｅｒｋｉｎＥｌｍｅｒ製分光光度計Ｌａｍｂｄａ９５０を用いて分光測定し、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠した方法で、遮蔽係数ＳＣを算出した。

なお、この測定は、各遮熱ガラスのガラス板の側（すなわちコーティング膜の反対側）から光を照射して実施した。

以下の表２の「ＳＣ」の欄には、各遮熱ガラスにおいて得られた遮蔽係数ＳＣをまとめて示す。

（平均Ｐ値の評価）
各遮熱ガラスについて、コーティング膜側の表面の８μｍ×８μｍの領域において、パワースペクトル密度（ＰＳＤ）の周波数依存性を評価した。また、得られた結果から、周波数１μｍ^−１〜２μｍ^−１の間の平均パワースペクトル密度（平均Ｐ値）を算定した。

ＰＳＤの周波数依存性の評価は、原子間力顕微鏡を用いて各遮熱ガラスの表面形態を測定した後、これをＳＰＩＰ（登録商標）イメージ解析ソフトウェア（バージョン６．４．２）を使用して解析することにより実施した。また、得られた周波数−ＰＳＤの関係から、平均Ｐ値を算定した。

図２には、一例として、遮熱ガラス２および６におけるＰＳＤの周波数依存性の評価結果を示す。図２において、横軸は周波数であり、縦軸はＰＳＤである。

このような周波数−ＰＳＤの関係から、周波数１μｍ^−１〜２μｍ^−１の領域における平均パワースペクトル密度、すなわち平均Ｐ値が算定される。

前述の表２の「平均Ｐ値」の欄には、各遮熱ガラスにおいて得られた平均Ｐ値の結果をまとめて示した。

（ヘイズ値の評価）
各遮熱ガラスについて、ヘイズメータを用いてヘイズ値を測定した。

前述の表２の「ヘイズ値」の欄には、各遮熱ガラスにおいて得られたヘイズ値をまとめて示した。

（結果）
表２に示すように、遮熱性の評価の結果、遮熱ガラス５では、遮蔽係数ＳＣが０．６４となり、あまり良好な遮熱性が得られないことがわかった。これは、遮熱ガラス５は、他の遮熱ガラスに比べて、第１の層と第２の層の合計厚さが薄いためであると思われる。すなわち、遮熱ガラス５は、第１の層と第２の層の合計厚さが２９０ｎｍしかなく、その結果、十分な遮熱性を発揮することができなかったものと考えられる。従って、遮蔽係数ＳＣが０．６を下回るような十分な遮熱性を得るには、第１の層と第２の層は、少なくとも合計で３４０ｎｍ以上の厚さが必要であると考えられる。

図３には、各遮熱ガラスにおいて得られた、平均Ｐ値とヘイズ値の関係をまとめて示す。図３において、プロットの数字は、遮熱ガラスの番号を表している。

この図３から、平均Ｐ値は、ヘイズ値と正の相関があることがわかる。また、平均Ｐ値が６．０×１０^６ｎｍ^４を超える遮熱ガラス７では、ヘイズ値が０．８％を超え、あまり良好な透明性を有しないことがわかる。これに対して、遮熱ガラス１〜遮熱ガラス４に係る遮熱ガラスでは、平均Ｐ値が６．０×１０^６ｎｍ^４以下、さらには５．０×１０^６ｎｍ^４以下に抑制されており、その結果、ヘイズ値が０．８％以下、さらには０．７以下まで抑制されていることがわかる。

これらの結果から、遮熱ガラス１〜遮熱ガラス４では、良好な遮熱性を発揮するとともに、ヘイズ値が有意に抑制されることが確認された。

１００第１の遮熱ガラス
１０２第１の側
１０４第２の側
１１０ガラス板
１１２第１の表面
１１４第２の表面
１２０コーティング膜
１３０下地層
１４０第１の層
１５０第２の層

Claims

相互に対向する第１および第２の表面を有するガラス板と、前記ガラス板の前記第１の表面に設けられたコーティング膜と、を有する遮熱ガラスであって、
前記コーティング膜は、下地層と、該下地層の上部に配置された第１の層および第２の層とを有し、前記第１の層は、前記下地層と前記第２の層との間に配置され、
前記第１の層および前記第２の層のいずれか一方は、アンチモンを含む酸化スズを含み、前記第１の層および前記第２の層の他方は、フッ素を含む酸化スズを含み、
前記第１の層と前記第２の層の合計厚さは、３４０ｎｍ以上であり、
当該遮熱ガラスの前記コーティング膜側の表面において、８μｍ×８μｍの領域で測定される、周波数１μｍ^−１〜２μｍ^−１の間の平均パワースペクトル密度は、６×１０^６ｎｍ^４以下である、遮熱ガラス。
前記第１の層は、アンチモンを含む酸化スズを含む、請求項１に記載の遮熱ガラス。
前記第１の層におけるアンチモンの含有率は、質量比で１％〜１５％の範囲である、請求項２に記載の遮熱ガラス。
前記下地層は、酸化ケイ素を含む、請求項１乃至３のいずれか一つに記載の遮熱ガラス。
ヘイズ値が０．８％以下である、請求項１乃至４のいずれか一つに記載の遮熱ガラス。
ヘイズが０．７％以下である、請求項１乃至４のいずれか一つに記載の遮熱ガラス。
前記ガラス板は、無色である、請求項１乃至６のいずれか一つに記載の遮熱ガラス。