WO2018003619A1 - 遮熱ガラス部材および遮熱ガラス部材の製造方法 - Google Patents

遮熱ガラス部材および遮熱ガラス部材の製造方法 Download PDF

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WO2018003619A1
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glass plate
heat
glass member
glass
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PCT/JP2017/022816
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English (en)
French (fr)
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啓明 岩岡
弘朋 河原
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旭硝子株式会社
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material

Definitions

  • the present invention relates to a thermal barrier glass member and a method for manufacturing the thermal barrier glass member.
  • Multi-layer glass is constructed by laminating two glass plates to each other via an air layer. In the multi-layer glass, heat transfer from one glass plate to the other glass plate is suppressed due to the presence of the internal air layer, so that the heat shielding performance can be improved.
  • multi-layer glass is known as a heat-shielding glass member having a heat-shielding property.
  • the multi-layer glass requires a material cost of at least two glass plates, and there is a problem that an increase in manufacturing cost and price cannot be avoided.
  • the present invention has been made in view of such a background, and in the present invention, compared to conventional multilayer glass, a heat-shielding glass member that can be provided at a low manufacturing cost at a low cost, and such It aims at providing the manufacturing method of a thermal-insulation glass member.
  • a heat-shielding glass member having a single glass plate having a first surface and a second surface facing each other,
  • the thermal barrier glass member is Having a first layer on the first surface side of the glass plate, and having a third layer on the second surface side of the glass plate; Further, a second layer is provided between the glass plate and the first layer and / or between the glass plate and the third layer, provided that the second layer may be omitted.
  • the first layer is made of a material selected from metal nitride or dielectric oxide
  • the second layer is made of a material selected from metal nitride, chromium oxide, or antimony-doped tin oxide (SnO 2 : Sb)
  • the third layer includes at least one of metal nitride, indium tin oxide (ITO), zinc oxide doped with at least one of aluminum, gallium, and boron (ZnO: Al, Ga, B), or fluorine and antimony.
  • a method for producing a heat-shielding glass member (1) forming a first layer on the first surface of the glass plate during the manufacturing process of the glass plate; (2) After the production of the glass plate, forming a third layer on the second surface opposite to the first surface of the glass plate;
  • the first layer is made of tin oxide (SnO 2 : F, Sb) doped with at least one of fluorine and antimony, and the third layer is made of metal nitride or dielectric oxide.
  • the first layer is made of titanium oxide (TiO 2 ), and the third layer is made of metal nitride, indium tin oxide (ITO), or aluminum, gallium and boron.
  • a manufacturing method comprising at least one doped zinc oxide (ZnO: Al, Ga, B) or tin oxide doped with at least one of fluorine and antimony (SnO 2 : F, Sb) .
  • thermo insulation glass member (Heat-shielding glass member according to one embodiment of the present invention) First, with reference to FIG. 1, the thermal insulation glass member by one Embodiment of this invention is demonstrated.
  • FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view of a heat shield glass member (hereinafter referred to as “first heat shield glass member”) according to an embodiment of the present invention.
  • the first thermal barrier glass member 100 has a first side 102 and a second side 104.
  • the first heat insulating glass member 100 includes a glass plate 110, a first layer 130, a second layer 140, and a third layer 150.
  • the glass plate 110 has a first surface 112 and a second surface 114.
  • the first layer 130 and the second layer 140 are arranged on the glass plate 110 first surface 112 side, and the third layer 150 is arranged on the glass plate 110 second surface 114 side. Therefore, the side with the first layer 130 becomes the first side 102 of the first thermal barrier glass member 100, and the side with the third layer 150 becomes the second side 104 of the first thermal barrier glass member 100. It becomes.
  • the first layer 130 has a role of reflecting the heat incident on the first side 102 of the first thermal barrier glass member 100 mainly by solar heat or the like.
  • the second layer 140 mainly has a role of absorbing heat that has entered the inside of the first heat insulating glass member 100 without being reflected by the first layer 130.
  • the third layer 150 mainly radiates heat accumulated in the inside of the first thermal barrier glass member 100 (particularly the second layer 140) from the second side 104 of the first thermal barrier glass member 100. It has the role which suppresses being done.
  • the first layer 130, the second layer 140, and the third layer 150 are also referred to as a heat reflection layer 130, a heat absorption layer 140, and a low radiation layer 150, respectively.
  • the first side 102 is the outside (outdoor side) and the second side 104 is the inside (room). (Inner side) and applied.
  • the heat absorbing layer 140 a part of the heat not reflected by the heat reflecting layer 130 is absorbed by the second layer 140, that is, the heat absorbing layer 140.
  • the heat absorption layer 140 and the glass plate 110 are suppressed from being emitted to the second side 104 by the third layer 150, that is, the low radiation layer 150.
  • the first heat shield glass member 100 can obtain a significant heat shield effect.
  • the visible light transmittance measured in accordance with ISO 9050: 2003 is Tv (%), and solar radiation is obtained.
  • Tv the visible light transmittance measured in accordance with ISO 9050: 2003
  • SC the shielding coefficient SC
  • the solar heat acquisition rate g value is the heat (transmitted heat) directly transmitted to the second side with respect to the total solar heat incident from one side of the heat shielding glass member, and the inside of the heat shielding glass member. It is expressed as a percentage of the sum of heat absorbed and then released to the second side.
  • the shielding coefficient SC is an index representing the heat shielding performance of the heat shielding glass member. It can be said that the smaller the value, the higher the heat shielding performance of the heat shielding glass member.
  • the shielding coefficient SC is 0.35 or less, which is sufficiently small, so that a sufficient heat-shielding property can be obtained.
  • the visible light transmittance Tv is 25% or more, and a heat shield glass member having high permeability can be obtained.
  • the amount of heat radiated from the second side 104 can be significantly suppressed.
  • the 1st thermal insulation glass member 100 does not have two glass plates like the conventional multilayer glass. Therefore, in the 1st heat insulation glass member 100, it becomes possible to provide a heat insulation glass member cheaply with the manufacturing cost lower than before.
  • each member which comprises the 1st thermal insulation glass member 100 which has the above characteristics is demonstrated in detail.
  • the reference numerals shown in FIG. 1 are used to represent each member for the sake of clarity.
  • the glass plate 110 may be made of, for example, soda lime glass, borosilicate glass, alkali-free glass, aluminosilicate glass, or the like.
  • the thickness of the glass plate 110 is not particularly limited, but the thickness is, for example, in the range of 2 mm to 12 mm.
  • the glass plate 110 may be tempered glass, particularly chemically tempered glass.
  • the glass plate 110 may be transparent or colored.
  • the color of the glass plate 110 is not particularly limited, but the glass plate 110 may be, for example, green or blue.
  • the glass plate 110 When the glass plate 110 is made of colored glass, it can be expected that the glass plate 110 itself functions as a heat absorbing member. Therefore, in that case, the second layer 140 may be omitted (such a configuration will be described later). However, both the colored glass plate 110 and the second layer 140 may exist.
  • the first layer 130 that is, the heat reflecting layer 130, is preferably configured so that Re is 20% or more.
  • Re means energy reflectivity based on ISO 9050: 2003.
  • the heat reflecting layer 130 is made of metal nitride or dielectric oxide.
  • metal nitride examples include titanium nitride (TiN), zirconium nitride (ZrN), and chromium nitride (CrN).
  • dielectric oxide examples include a high refractive index material such as titanium oxide (TiO 2 ).
  • high refractive index means a refractive index of 2 or more.
  • the thickness of the heat reflecting layer 130 is, for example, in the range of 5 nm to 40 nm.
  • the thickness of the heat reflecting layer 130 is, for example, in the range of 10 nm to 50 nm.
  • the heat reflection layer 130 may be, for example, a vacuum deposition method, an ion plating method, a sputtering method, a chemical vapor deposition (CVD) method (a thermal CVD method, a plasma CVD method, and a photo CVD method), an ion beam sputtering method, or the like.
  • the film may be formed by a conventional film forming method.
  • the heat reflection layer 130 may be formed by an on-line CVD method.
  • on-line means a method of forming a layer on the surface of the glass plate during the manufacturing process of the glass plate. More specifically, when the glass plate is manufactured, the glass ribbon is moved on the molten tin bath and then slowly cooled to manufacture the glass plate continuously. In the film forming method), the heat reflecting layer 130 is formed on the upper surface of the glass ribbon during the movement of the glass ribbon. That is, in the “online (film formation method)”, the manufacturing process of the glass plate 110 and the film formation process of the heat reflecting layer 130 are continuously performed.
  • the heat reflection layer 130 is preferably titanium oxide (TiO 2 ).
  • film forming method other than “online (film forming method)” may be particularly referred to as “offline (film forming method)”.
  • the second layer 140 that is, the heat absorption layer 140, is preferably configured such that the energy transmittance Te measured according to ISO 9050: 2003 is 45% or less.
  • the heat absorption layer 140 is made of metal nitride, chromium oxide, or antimony-doped tin oxide (SnO 2 : Sb).
  • metal nitride examples include titanium nitride (TiN), zirconium nitride (ZrN), and chromium nitride (CrN).
  • the thickness of the heat absorption layer 140 is, for example, in the range of 1 nm to 40 nm.
  • the thickness of the heat absorption layer 140 is, for example, in the range of 1 nm to 10 nm.
  • the thickness of the heat absorption layer 140 is, for example, in the range of 10 nm to 320 nm.
  • the heat absorption layer 140 is, for example, a vacuum deposition method, an ion plating method, a sputtering method, a chemical vapor deposition (CVD) method (thermal CVD method, plasma CVD method, and photo CVD method), an ion beam sputtering method, or the like.
  • the film may be formed by a conventional film forming method.
  • the heat absorption layer 140 may be formed by an online CVD method.
  • the heat absorption layer 140 is preferably antimony-doped tin oxide (SnO 2 : Sb).
  • the heat absorption layer 140 may be omitted.
  • the third layer 150 that is, the low emission layer 150 is preferably configured such that the hemispherical emissivity En is 0.2 or less.
  • the hemispherical emissivity En means an emissivity according to ISO10292.
  • the low emission layer 150 includes at least one of metal nitride, indium tin oxide (ITO), zinc oxide doped with at least one of aluminum, gallium, and boron (ZnO: Al, Ga, B), or fluorine and antimony.
  • ITO indium tin oxide
  • ZnO zinc oxide doped with at least one of aluminum, gallium, and boron
  • fluorine and antimony One is composed of doped tin oxide (SnO2: F, Sb).
  • metal nitride examples include titanium nitride (TiN), zirconium nitride (ZrN), and chromium nitride (CrN).
  • the thickness of the low emission layer 150 is, for example, in the range of 10 nm to 40 nm.
  • the thickness of the low emission layer 150 is, for example, in the range of 50 nm to 300 nm.
  • the thickness of the low emission layer 150 is, for example, in the range of 180 nm to 470 nm.
  • the low radiation layer 150 may be, for example, a vacuum deposition method, an ion plating method, a sputtering method, a chemical vapor deposition (CVD) method (thermal CVD method, plasma CVD method, and photo CVD method), an ion beam sputtering method, or the like.
  • the film may be formed by a conventional film forming method.
  • the low radiation layer 150 may be formed by an on-line CVD method.
  • the low emission layer 150 is made of fluorine-doped tin oxide (SnO 2 : F) or antimony-doped tin oxide (SnO 2 : Sb). Preferably there is.
  • the first thermal barrier glass member 100 has a visible light transmittance Tv of 25% or more measured from the first side 102 toward the second side 104.
  • the visible light transmittance Tv is preferably 30% or more.
  • the first thermal barrier glass member 100 has a thermal barrier coefficient SC measured from the first side 102 toward the second side 104 of 0.35 or less.
  • the thermal insulation coefficient SC is preferably 0.33 or less.
  • the first heat-insulating glass member 100 having such characteristics can exhibit a sufficiently appropriate heat-insulating property when applied to a window glass of a building.
  • the first heat-insulating glass member 100 may have the following characteristics.
  • the first heat-shielding glass member 100 has a larger value among the visible light reflectances measured from the first side 102 and the second side 104 as the first visible light reflection.
  • Rv 1 is preferably less than 40% and Rv 2 is preferably less than 30%.
  • the visible light reflectance measured from the first side 102 is normally the first visible light reflectance Rv 1 (%), and the visible light measured from the second side 104 is used.
  • the reflectance is the second visible light reflectance Rv 2 (%).
  • the first heat shield glass member 100 may further include a color tone correction film for correcting the color tone of the first heat shield glass member 100 to a desired color.
  • the color correction film is formed on the first layer 130 (on the side opposite to the second layer 140), between the first layer 130 and the second layer 140, and between the second layer 140 and the glass plate 110. , Between the glass plate 110 and the third layer 150, and above the third layer 150 (on the side opposite to the glass plate 110).
  • the color tone correction film is, for example, a film mainly composed of silicon nitride, and may further contain boron, titanium, aluminum, zirconium, and / or hafnium.
  • the expression “having XX as a main component” means containing 50% or more of XX.
  • the color tone correction film may be, for example, a single film made of silicon oxide, silicon carbide, or silicon nitride, or a mixed film thereof.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of another heat shield glass member (hereinafter referred to as “second heat shield glass member”) according to an embodiment of the present invention.
  • the second thermal barrier glass member 200 has a first side 202 and a second side 204.
  • the second heat insulating glass member 200 includes a glass plate 210, a first layer 230, a second layer 240, and a third layer 250.
  • the glass plate 210 has a first surface 212 and a second surface 214.
  • the first layer 230 is disposed on the glass plate 210 first surface 212 side
  • the second layer 240 and the third layer 250 are disposed on the glass plate 210 second surface 214 side. Therefore, the side with the first layer 230 becomes the first side 202 of the second thermal barrier glass member 200, and the side with the third layer 250 becomes the second side 204 of the second thermal barrier glass member 200. It becomes.
  • the first layer 230 has the same characteristics as the first layer 130 in the first heat-shielding glass member 100 described above. Therefore, the first layer 230 is also referred to as a heat reflecting layer 230.
  • the second layer 240 has the same characteristics as the second layer 140 in the first heat-shielding glass member 100 described above. Therefore, the second layer 240 is also referred to as a heat absorption layer 240. Note that the second layer 240 can be omitted.
  • the third layer 250 has the same characteristics as those of the third layer 150 in the first heat-shielding glass member 100 described above. Therefore, the third layer 250 is also referred to as a low emission layer 250.
  • the visible light transmittance measured in accordance with ISO 9050: 2003 in the direction from the first side 202 to the second side 204 is Tv (%), and solar heat
  • the acquisition rate is g value and the SC represented by the above equation (1) is the shielding coefficient SC
  • the visible light transmittance Tv is 30% or more, and the heat shielding coefficient SC is 0.33 or less.
  • the effect similar to the 1st thermal insulation glass member 100 ie, the effect that the amount of heat radiated from the 2nd side 204 is suppressed significantly, can be acquired. .
  • a heat insulation glass member can be provided cheaply with the manufacturing cost lower than before.
  • the second heat insulating glass member 200 colored glass may be used as the glass plate 210. In that case, the heat absorption effect is obtained by the glass plate 210 itself.
  • FIG. 3 shows a schematic cross-sectional view of still another heat shield glass member (hereinafter referred to as “third heat shield glass member”) according to an embodiment of the present invention.
  • the third thermal barrier glass member 300 has a first side 302 and a second side 304.
  • the third heat insulating glass member 300 includes a glass plate 310, a first layer 330, and a third layer 350.
  • the glass plate 310 has a first surface 312 and a second surface 314.
  • the first layer 330 is disposed on the glass plate 310 first surface 312 side
  • the third layer 350 is disposed on the glass plate 310 second surface 314 side. Therefore, the side with the first layer 330 becomes the first side 302 of the third thermal barrier glass member 300, and the side with the third layer 350 becomes the second side 304 of the third thermal barrier glass member 300. It becomes.
  • the first layer 330 has characteristics similar to those of the first layer 130 in the first thermal barrier glass member 100 and the first layer 230 in the second thermal barrier glass member 200 described above. Accordingly, the first layer 330 is also referred to as a heat reflecting layer 330.
  • the third layer 350 has the same characteristics as the third layer 150 in the first thermal barrier glass member 100 and the third layer 250 in the second thermal barrier glass member 200 described above. Therefore, the third layer 350 is also referred to as a low emission layer 350.
  • the glass plate 310 is made of colored glass. For this reason, the glass plate 310 itself functions as a heat absorbing member.
  • the energy transmittance Te of the glass plate 310 measured in accordance with ISO 9050: 2003 when converted to a thickness of 5 mm may be 55% or less.
  • the visible light transmittance measured in accordance with ISO 9050: 2003 in the direction from the first side 302 to the second side 304 is Tv (%), and solar heat is applied.
  • the acquisition rate is g value and the SC represented by the above equation (1) is the shielding coefficient SC
  • the visible light transmittance Tv is 30% or more
  • the heat shielding coefficient SC is 0.33 or less.
  • the effect similar to the 1st and 2nd heat insulation glass members 100 and 200 ie, the effect that the heat quantity radiated
  • a heat insulation glass member can be provided cheaply with the manufacturing cost lower than before.
  • the second layer 140 is disposed only on the first side 102 of the first thermal barrier glass member 100.
  • the second layer 140 may also be disposed on the second side 104 of the first thermal barrier glass member 100.
  • the second layer is omitted.
  • the second layer may be disposed between the glass plate 310 and the first layer 330 and between the glass plate 310 and the third layer 350, respectively. .
  • the second layer 140 is omitted in the first heat-shielding glass member 100
  • the target heat-shielding glass member has the above-described configuration, and the visible light transmittance Tv (%) and the shielding coefficient SC measured from either one of the above conditions satisfy the above conditions.
  • a heat insulating glass member is determined to be a heat insulating glass member according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 schematically shows a flow of a method for manufacturing a heat-shielding glass member (hereinafter simply referred to as “method for manufacturing a heat-shielding glass member”) according to an embodiment of the present invention.
  • the manufacturing method of this thermal insulation glass member is as follows. (1) A step of forming a first layer on the first surface of the glass plate during the manufacturing step of the glass plate (step S110); (2) After the production of the glass plate, a step of forming a third layer on the second surface opposite to the first surface of the glass plate (step S120); Have
  • Step S110 forms a low radiation layer
  • Step S120 forms a heat reflecting layer (hereinafter referred to as “Case A”);
  • Case B There is a mode (hereinafter referred to as “case B”) in which a heat reflecting layer is formed in step S110 of (1) and a low radiation layer is formed in step S120 of (2).
  • a low emission layer is formed as the first layer.
  • the first layer is formed by an online film formation method.
  • the online film formation method may be, for example, an online CVD method.
  • a CVD film forming apparatus is installed on the upper part of the tin bath for forming the glass ribbon or the slow cooling furnace for gradually cooling the glass ribbon.
  • the first layer is formed on the upper surface of the glass ribbon. Also good.
  • the first layer is formed of, for example, tin oxide doped with fluorine (SnO 2 : F), tin oxide doped with antimony (SnO 2 : Sb), or tin oxide doped with fluorine and antimony (SnO 2 : F, Sb).
  • the first layer may be a stack of tin oxide (SnO 2 : F) doped with fluorine and tin oxide (SnO 2 : Sb) doped with antimony.
  • the thickness of the first layer is, for example, in the range of 180 nm to 470 nm.
  • the second layer may be formed by an online film formation method.
  • a glass plate having at least a two-layer film of the second layer and the first layer is manufactured on the first surface.
  • the second layer is selected from materials that function as the heat absorption layer described above.
  • the second layer may be tin oxide doped with antimony (SnO 2 : Sb).
  • the thickness of the second layer is, for example, in the range of 180 nm to 470 nm.
  • the glass plate to be manufactured may be a transparent glass plate or a colored glass plate.
  • a third layer is formed as a heat reflecting layer on the second surface of the glass plate.
  • the third layer may be formed by any method.
  • the third layer is formed by vacuum deposition, ion plating, sputtering, chemical vapor deposition (CVD) (thermal CVD, plasma CVD, and photo CVD), ion beam sputtering, and the like.
  • the film may be formed by a conventional film forming method.
  • the third layer may be made of metal nitride or dielectric oxide.
  • Examples of the metal nitride include titanium nitride (TiN), zirconium nitride (ZrN), and chromium nitride (CrN).
  • Examples of the dielectric oxide include a high refractive index material such as titanium oxide (TiO 2 ).
  • the thickness of the third layer is, for example, in the range of 5 nm to 40 nm.
  • the thickness of the third layer is, for example, in the range of 10 nm to 50 nm.
  • the second layer may be formed before the third layer is formed.
  • a glass plate having at least a two-layered film of the second layer and the third layer is manufactured on the second surface of the glass plate.
  • the second layer may be, for example, a vacuum deposition method, an ion plating method, a sputtering method, a chemical vapor deposition (CVD) method (thermal CVD method, plasma CVD method, and photo CVD method), an ion beam sputtering method, etc.
  • the film may be formed by a conventional film forming method.
  • the second layer is selected from materials that function as the heat absorption layer described above.
  • the second layer may be composed of metal nitride, chromium oxide, or antimony-doped tin oxide (SnO 2 : Sb).
  • metal nitride examples include titanium nitride (TiN), zirconium nitride (ZrN), and chromium nitride (CrN).
  • the thickness of the second layer is, for example, in the range of 5 nm to 40 nm.
  • a heat-shielding glass member having a low radiation layer formed by an on-line film forming method on one side and a heat reflecting layer formed by an off-line film forming method on the other side. Can be manufactured.
  • the method for manufacturing a heat-shielding glass member may further include a step of forming a color tone correction film in step S110 and / or step S120.
  • the visible light transmittance measured in accordance with ISO 9050: 2003 is Tv (%)
  • the solar heat acquisition rate is g value
  • the visible light transmittance Tv is preferably 30% or more
  • the heat shielding coefficient SC is preferably 0.33 or less.
  • the amount of heat radiated from the side of the first layer when the heat shielding glass member is used with the side of the third layer of the heat shielding glass member as the outdoor side and the side of the I layer as the indoor side. Can be significantly suppressed.
  • the larger value among the visible light reflectances measured from the first layer side and the third layer side is set to the first value.
  • Rv 1 (%) is set and the smaller value is the second visible light reflectance Rv 2 (%)
  • Rv 1 may be less than 40% and Rv 2 may be less than 30%. preferable.
  • a heat reflecting layer is formed as the first layer in step S110.
  • the first layer is formed by an online film formation method.
  • the online film formation method may be, for example, an online CVD method.
  • a CVD film forming apparatus is installed on the upper part of the tin bath for forming the glass ribbon or the slow cooling furnace for gradually cooling the glass ribbon.
  • the first layer is formed on the upper surface of the glass ribbon. Also good.
  • the first layer is made of, for example, titanium oxide (TiO 2 ).
  • the thickness of the first layer is, for example, in the range of 10 nm to 50 nm.
  • the second layer may be formed by an online film formation method.
  • a glass plate having at least a two-layer film of the second layer and the first layer is manufactured on the first surface.
  • the second layer is selected from materials that function as the heat absorption layer described above.
  • the second layer may be tin oxide doped with antimony (SnO 2 : Sb).
  • the thickness of the second layer is, for example, in the range of 50 nm to 320 nm.
  • the glass plate to be manufactured may be a transparent glass plate or a colored glass plate.
  • a third layer is formed as a low radiation layer on the second surface of the glass plate.
  • the third layer may be formed by any method.
  • the third layer is formed by vacuum deposition, ion plating, sputtering, chemical vapor deposition (CVD) (thermal CVD, plasma CVD, and photo CVD), ion beam sputtering, and the like.
  • the film may be formed by a conventional film forming method.
  • the third layer is made of, for example, metal nitride, indium tin oxide (ITO), aluminum oxide, zinc oxide doped with at least one of gallium and boron (ZnO: Al, Ga, B), or at least fluorine and antimony
  • ITO indium tin oxide
  • ZnO aluminum oxide
  • ZnO gallium and boron
  • fluorine and antimony One is composed of doped tin oxide (SnO2: F, Sb).
  • the third layer may be a stack of tin oxide (SnO 2 : F) doped with fluorine and tin oxide (SnO 2 : Sb) doped with antimony.
  • metal nitride examples include titanium nitride (TiN), zirconium nitride (ZrN), and chromium nitride (CrN).
  • the thickness of the third layer is, for example, in the range of 10 nm to 40 nm.
  • the thickness of the third layer is, for example, in the range of 50 nm to 300 nm.
  • the thickness of the third layer is, for example, in the range of 180 nm to 470 nm.
  • the second layer may be formed before the third layer is formed.
  • a glass plate having at least a two-layered film of the second layer and the third layer is manufactured on the second surface of the glass plate.
  • the second layer may be, for example, a vacuum deposition method, an ion plating method, a sputtering method, a chemical vapor deposition (CVD) method (thermal CVD method, plasma CVD method, and photo CVD method), an ion beam sputtering method, etc.
  • the film may be formed by a conventional film forming method.
  • the second layer is selected from materials that function as the heat absorption layer described above.
  • the second layer may be composed of metal nitride, chromium oxide, or antimony-doped tin oxide (SnO 2 : Sb).
  • metal nitride examples include titanium nitride (TiN), zirconium nitride (ZrN), and chromium nitride (CrN).
  • the thickness of the second layer is, for example, in the range of 5 nm to 40 nm.
  • a heat-shielding glass member having a heat reflecting layer formed by an on-line film forming method on one side and a low radiation layer formed by an off-line film forming method on the other side. can be manufactured.
  • the method for manufacturing a heat-shielding glass member may further include a step of forming a color tone correction film in step S110 and / or step S120.
  • the visible light transmittance measured in accordance with ISO 9050: 2003 is Tv (%)
  • the solar heat gain is g value
  • the visible light transmittance Tv is preferably 30% or more
  • the heat shielding coefficient SC is preferably 0.33 or less.
  • the amount of heat radiated from the side of the third layer when the heat shielding glass member is used with the side of the first layer of the heat shielding glass member as the outdoor side and the side of the third layer as the indoor side. Can be significantly suppressed.
  • the larger value among the visible light reflectances measured from the first layer side and the third layer side is set to the first value.
  • Rv 1 (%) is set and the smaller value is the second visible light reflectance Rv 2 (%)
  • Rv 1 may be less than 40% and Rv 2 may be less than 30%. preferable.
  • Examples 1 to 8 are Examples, and Examples 9 to 19 are Comparative Examples.
  • Example 1 The heat insulation glass member was manufactured with the following method.
  • each layer was formed in the order of the first color tone correction film and the low radiation layer on the surface of the glass ribbon by an online film forming method.
  • the first color tone correction film was SiOC (target thickness 55 nm).
  • the low emission layer was fluorine-doped tin oxide (SnO 2 : F) (target thickness 320 nm).
  • a transparent glass plate (thickness 6 mm) having a first color correction film and a low radiation layer on one surface (referred to as “first surface”) was manufactured.
  • each layer is formed in the order of the second color correction film, the heat reflection layer, and the third color correction film on the surface of the glass plate in contact with the tin bath (referred to as “second surface”) by sputtering. did.
  • the heat reflective layer was a TiN layer (target thickness 28 nm).
  • the second color tone correction film was SiAlN (target thickness 25 nm)
  • the third color tone correction film was SiAlN (target thickness 8 nm).
  • heat insulating glass member according to Example 1 a heat insulating glass member (hereinafter referred to as “heat insulating glass member according to Example 1”) was manufactured.
  • Example 2 In the same manner as in Example 1, the heat insulating glass member according to Example 2 was produced.
  • the thickness of the glass plate was 8 mm. Further, on the second surface of the glass plate, a second color tone correction film (SiAlN: target thickness 20 nm), a heat reflection layer (TiN: target thickness 28 nm), and a third color tone correction film (SiAlN: target thickness). Each layer was formed in the order of 10 nm).
  • Example 3 A heat shield glass member according to Example 3 was produced in the same manner as in Example 1.
  • Example 3 a glass plate colored green was used as the glass plate.
  • the energy transmittance Te of this glass plate is 41%.
  • a second color tone correction film SiAlN: target thickness 21 nm
  • a heat reflection layer TiN: target thickness 21 nm
  • a third color tone correction film SiAlN: target thickness
  • Example 4 A heat shield glass member according to Example 4 was produced in the same manner as in Example 3.
  • Example 4 on the second surface of the glass plate, the second color tone correction film (SiAlN: target thickness 21 nm), the heat reflection layer (TiN: target thickness 21 nm), and the third color tone correction film ( Each layer was formed in the order of SiAlN: target thickness 18 nm).
  • Example 5 A heat shield glass member according to Example 5 was produced in the same manner as in Example 3.
  • a second color tone correction film SiAlN: target thickness 21 nm
  • a heat reflection layer TiN: target thickness 18 nm
  • a third color tone correction film SiAlN: target thickness
  • Example 6 A heat shield glass member according to Example 6 was produced in the same manner as in Example 3.
  • Example 6 a glass plate colored 10 mm in thickness and green was used as the glass plate.
  • the energy transmittance Te of this glass plate is 28%.
  • Example 7 In the same manner as in Example 3, the heat insulating glass member according to Example 7 was produced.
  • Example 7 a heat reflection layer (TiO 2 : target thickness 40 nm) was formed on the first surface of the glass plate by an on-line CVD method.
  • a first color tone correction film SiAlN: target thickness 9 nm
  • a low radiation layer TiN: target thickness 14 nm
  • a second color tone correction film SiAlN
  • Target thickness 39 nm Target thickness 39 nm
  • the energy transmittance Te of the glass plate is 41%.
  • Example 8 A heat shield glass member according to Example 8 was produced in the same manner as in Example 7.
  • the thickness of the colored glass plate was 8 mm.
  • the energy transmittance Te of this glass plate is 34%.
  • a first color tone correction film SiAlN: target thickness 5 nm
  • a low radiation layer TiN: target thickness 9 nm
  • a second color tone correction film SiAlN: target thickness
  • Example 9 The heat insulation glass member was manufactured with the following method.
  • a color tone correction film, a low radiation layer, and a heat reflection layer were formed in this order on the surface of the glass ribbon by an online film formation method.
  • the color tone correction film was made of SiOC (target thickness 55 nm).
  • the low emission layer was fluorine-doped tin oxide (SnO 2 : F) (target thickness 320 nm). Further, the heat reflecting layer was TiO 2 (target thickness 40 nm).
  • a green-colored glass plate (thickness 10 mm) having a color tone correction film, a low radiation layer, and a heat reflection layer on one surface (referred to as “first surface”) was manufactured. Note that no film was formed on the surface of the glass plate in contact with the tin bath (second surface).
  • heat insulating glass member according to Example 9 a heat insulating glass member (hereinafter referred to as “heat insulating glass member according to Example 9”) was manufactured.
  • Example 10 A heat shield glass member according to Example 10 was produced in the same manner as in Example 9.
  • Example 10 a heat reflecting layer (TiO 2 ) (target thickness 40 nm), a color tone correction film (SiOC) (target thickness 55 nm), and a low radiation layer (SnO 2 ) are formed on the first surface of the glass plate. : F) Each layer was formed in the order of (target thickness 320 nm).
  • Example 11 In the same manner as in Example 9, the heat insulating glass member according to Example 11 was produced.
  • Example 11 a color tone correction film (SiOC) (target thickness 55 nm), a low radiation layer (SnO 2 : F) (target thickness 320 nm), and a heat reflection layer (target thickness 55 nm) are formed on the first surface of the glass plate. Each layer was formed in the order of TiO 2 ) (target thickness 40 nm).
  • Example 12 The heat insulation glass member was manufactured with the following method.
  • a color correction film and a low radiation layer were formed in this order on the surface of the glass ribbon by an online film formation method.
  • the color tone correction film was made of SiOC (target thickness 55 nm).
  • the low emission layer was fluorine-doped tin oxide (SnO 2 : F) (target thickness 320 nm).
  • a transparent glass plate having a color tone correction film and a low radiation layer on one surface (referred to as “first surface”) was manufactured. Note that no film was formed on the surface of the glass plate in contact with the tin bath (second surface).
  • heat insulating glass member according to Example 12 a heat insulating glass member (hereinafter referred to as “heat insulating glass member according to Example 12”) was manufactured.
  • Example 13 In the same manner as in Example 12, the heat insulating glass member according to Example 13 was produced.
  • Example 15 a glass plate colored in green was used as the glass plate.
  • Example 14 A heat shield glass member according to Example 14 was produced in the same manner as in Example 13.
  • Example 14 only the heat reflection layer (TiO 2 ) (target thickness 40 nm) was formed on the surface of the glass ribbon by online CVD.
  • heat insulating glass member according to Example 14 a heat insulating glass member (hereinafter referred to as “heat insulating glass member according to Example 14”) was manufactured.
  • Example 15 A heat shield glass member according to Example 15 was produced in the same manner as in Example 12.
  • Example 15 the color correction film and the low radiation layer were formed in this order on the first surface of the glass plate.
  • the color tone correction film was made of SiOC (target thickness 55 nm).
  • the low emission layer was antimony-doped tin oxide (SnO 2 : Sb) (target thickness 320 nm).
  • Example 16 In the same manner as in Example 15, the heat insulating glass member according to Example 16 was produced.
  • Example 16 a glass plate colored in green was produced instead of the transparent glass plate.
  • Example 17 In the same manner as in Example 13, the heat insulating glass member according to Example 17 was produced.
  • Example 17 a color tone correction film, a low radiation layer, and a heat reflection layer were formed in this order on the surface of the glass ribbon by an on-line CVD method.
  • the color tone correction film was made of SiOC (target thickness 55 nm).
  • the low emission layer was antimony-doped tin oxide (SnO 2 : Sb) (target thickness 260 nm).
  • the heat reflecting layer was TiO 2 (target thickness 40 nm).
  • a transparent glass plate having dimensions of 300 mm in length, 300 mm in width, and 6 mm in thickness was prepared. Moreover, each layer was formed in order of the 1st color tone correction film
  • the first color tone correction film was SiN (target thickness 4 nm).
  • the heat absorption layer was TiN (target thickness 27 nm), and the second color tone correction film was SiN (target thickness 8 nm).
  • heat insulating glass member according to Example 18 a heat insulating glass member (hereinafter referred to as “heat insulating glass member according to Example 18”) was manufactured.
  • Table 1 below collectively shows the configurations of the heat-shielding glass members according to Examples 1 to 18.
  • a spectrophotometer (U4100: manufactured by Hitachi, Ltd.) was used for the measurement of the visible light transmittance Tv (%) and the solar heat gain rate g value, and the light wavelength was in the range of 300 nm to 2500 nm. The measurement was carried out according to ISO 9050: 2003.
  • the shielding coefficient SC was obtained from the obtained solar heat gain rate g value.
  • first visible light reflectance Rv 1 (%) and second visible light reflectance Rv 2 (%) were evaluated using each heat-shielding glass member.
  • the first visible light reflectance Rv 1 (%) is, ISO 9050: conforms to 2003, out of the visible reflection measured from the side of the first surface and a second surface of the glass plate, large Means the value of.
  • the second visible light reflectance Rv 2 (%) is the smaller of the visible light reflectances measured from the first surface side and the second surface side of the glass plate in accordance with ISO 9050: 2003. Means the value of
  • the shielding coefficient SC is less than 0.33 and has good heat-shielding properties.
  • all of the shielding coefficients SC exceed 0.35, indicating that a very good heat-shielding property cannot be obtained.
  • the heat shielding glass members according to Examples 1 to 8 exhibited good heat shielding properties even though a single glass plate was used. From this, it was found that the heat-insulating glass member according to the embodiment of the present invention can provide the heat-insulating glass member at a lower manufacturing cost than before.

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Abstract

第１の表面および第２の表面を有する単一のガラス板を有する遮熱ガラス部材において、当該遮熱ガラス部材は、ガラス板の第１の表面側に第１の層を有し、第２の表面側に第３の層を有し、さらにガラス板と第１の層の間、および／または前記ガラス板と第３の層の間に、第２の層を有し、ただし前記第２の層は省略されても良く、第１の層の側から測定された可視光透過率Ｔｖが２５％以上であり、遮熱係数ＳＣが０．３５以下である。

Description

遮熱ガラス部材および遮熱ガラス部材の製造方法
　本発明は、遮熱ガラス部材および遮熱ガラス部材の製造方法に関する。
　近年の省エネルギー意識の高まりから、建物の窓ガラス等に複層ガラスを適用する例が増えている。複層ガラスは、２枚のガラス板を空気層を介して相互に積層することにより構成される。複層ガラスでは、内部の空気層の存在により、一方のガラス板から他方のガラス板への熱伝達が抑制されるため、遮熱性能を高めることができる。
特開２０１５－５１１５７０号
　前述のように、遮熱性を有する遮熱ガラス部材として、複層ガラスが知られている。
　しかしながら、複層ガラスを構成するには２枚のガラス板が必要となる。このため、複層ガラスには、少なくともガラス板２枚分の材料コストが必要となり、製造コストおよび価格の上昇が避けられないという問題がある。
　今後、環境問題に対処するため、遮熱ガラス部材を広く普及させていくためには、複層ガラスに比べてより安価に導入することができる遮熱ガラス部材が必要になるものと予想される。
　本発明は、このような背景に鑑みなされたものであり、本発明では、従来の複層ガラスに比べて、低い製造コストで安価に提供することが可能な遮熱ガラス部材、およびそのような遮熱ガラス部材の製造方法を提供することを目的とする。
　本発明では、相互に対向する第１の表面および第２の表面を有する単一のガラス板を有する遮熱ガラス部材であって、
　当該遮熱ガラス部材は、
　前記ガラス板の前記第１の表面側に、第１の層を有し、前記ガラス板の前記第２の表面側に、第３の層を有し、
　さらに、前記ガラス板と前記第１の層の間、および／または前記ガラス板と前記第３の層の間に、第２の層を有し、ただし前記第２の層は省略されても良く、
　前記第１の層は、金属窒化物または誘電体酸化物から選定された材料で構成され、
　前記第２の層は、金属窒化物、酸化クロム、またはアンチモンドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｓｂから選定された材料で構成され、
　前記第３の層は、金属窒化物、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、アルミニウム、ガリウムおよびボロンの少なくとも一つがドープされた酸化亜鉛（ＺｎＯ：Ａｌ，Ｇａ，Ｂ）、またはフッ素およびアンチモンの少なくとも一つがドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｆ，Ｓｂ）から選定された材料で構成され、
　当該遮熱ガラス部材の前記第１の層の側から、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定された可視光透過率をＴｖ（％）とし、日射熱取得率をｇ値とし、以下の（１）式で表されるＳＣを遮蔽係数としたとき、
 
　　　ＳＣ＝ｇ値／０．８８　　　（１）式
 
　可視光透過率Ｔｖが２５％以上であり、遮熱係数ＳＣが０．３５以下である、遮熱ガラス部材が提供される。
　また、本発明では、遮熱ガラス部材の製造方法であって、
（１）ガラス板の製造工程中に、前記ガラス板の第１の表面に、第Ｉの層を形成する工程と、
（２）前記ガラス板の製造後に、前記ガラス板の前記第１の表面とは反対の第２の表面に、第ＩＩＩの層を形成する工程と、
　を有し、
　（Ａ）前記第Ｉの層は、フッ素およびアンチモンの少なくとも一つがドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｆ，Ｓｂ）で構成され、前記第ＩＩＩの層は、金属窒化物もしくは誘電体酸化物で構成され、または
　（Ｂ）前記第Ｉの層は、酸化チタン（ＴｉＯ２）で構成され、前記第ＩＩＩの層は、金属窒化物、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、またはアルミニウム、ガリウムおよびボロンの少なくとも一つがドープされた酸化亜鉛（ＺｎＯ：Ａｌ，Ｇａ，Ｂ）、またはフッ素およびアンチモンの少なくとも一つがドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｆ，Ｓｂ）で構成される、製造方法が提供される。
　本発明では、従来の複層ガラスに比べて、低い製造コストで安価に提供することが可能な遮熱ガラス部材、およびそのような遮熱ガラス部材の製造方法を提供することができる。
本発明の一実施形態による遮熱ガラス部材の断面を概略的に示した図である。 本発明の一実施形態による別の遮熱ガラス部材の断面を概略的に示した図である。 本発明の一実施形態によるさらに別の遮熱ガラス部材の断面を概略的に示した図である。 本発明の一実施形態による遮熱ガラス部材の製造方法のフローを模式的に示した図である。
　以下、図面を参照して、本発明の一実施形態について説明する。
　（本発明の一実施形態による遮熱ガラス部材）
　まず、図１を参照して、本発明の一実施形態による遮熱ガラス部材について説明する。
　図１には、本発明の一実施形態による遮熱ガラス部材（以下、「第１の遮熱ガラス部材」という）の概略的な断面図を示す。
　図１に示すように、第１の遮熱ガラス部材１００は、第１の側１０２および第２の側１０４を有する。また、第１の遮熱ガラス部材１００は、ガラス板１１０と、第１の層１３０と、第２の層１４０と、第３の層１５０と、を有する。
　ガラス板１１０は、第１の表面１１２および第２の表面１１４を有する。第１の層１３０および第２の層１４０は、ガラス板１１０第１の表面１１２の側に配置され、第３の層１５０は、ガラス板１１０第２の表面１１４の側に配置される。従って、第１の層１３０のある側が、第１の遮熱ガラス部材１００の第１の側１０２となり、第３の層１５０のある側が、第１の遮熱ガラス部材１００の第２の側１０４となる。
　第１の層１３０は、主として、太陽熱などにより第１の遮熱ガラス部材１００の第１の側１０２に入射する熱を反射する役割を有する。
　第２の層１４０は、主として、第１の層１３０によって反射されずに第１の遮熱ガラス部材１００の内部に進入した熱を吸収する役割を有する。
　第３の層１５０は、主として、第１の遮熱ガラス部材１００の内部（特に第２の層１４０）に蓄積された熱が、第１の遮熱ガラス部材１００の第２の側１０４から放射されることを抑制する役割を有する。
　なお、本願では、以降、第１の層１３０、第２の層１４０、および第３の層１５０を、それぞれ、熱反射層１３０、熱吸収層１４０、および低放射層１５０とも称する。
　このような構成の第１の遮熱ガラス部材１００は、実際に建物の窓ガラス等に使用される場合、第１の側１０２が外側（屋外側）となり、第２の側１０４が内側（室内側）となるようにして適用される。
　この場合、第１の遮熱ガラス部材１００の第１の側１０２から太陽熱が入射されると、太陽熱の一部は、第１の層１３０、すなわち熱反射層１３０によって、外部に反射される。
　また、熱反射層１３０によって反射されなかった熱の一部は、第２の層１４０、すなわち熱吸収層１４０によって吸収される。
　さらに、熱吸収層１４０およびガラス板１１０に吸収された熱の一部は、第３の層１５０、すなわち低放射層１５０によって、第２の側１０４への放射が抑制される。
　その結果、第１の遮熱ガラス部材１００では、有意な遮熱効果を得ることができる。
　例えば、第１の遮熱ガラス部材１００では、第１の側１０２から第２の側１０４に向かう方向において、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定された可視光透過率をＴｖ（％）とし、日射熱取得率をｇ値とし、以下の（１）式で表されるＳＣを遮蔽係数ＳＣとしたとき、
 
　　　ＳＣ＝ｇ値／０．８８　　　（１）式
 
可視光透過率Ｔｖが２５％以上であり、遮熱係数ＳＣが０．３５以下である。
　ここで、日射熱取得率ｇ値は、遮熱ガラス部材の一方の側から入射される全太陽熱に対する、第２の側まで直接透過される熱（透過熱）と、遮熱ガラス部材の内部で吸収され、その後第２の側に放出される熱との総和の割合で表される。また、遮蔽係数ＳＣは、遮熱ガラス部材の遮熱性能を表す一指標であり、この値が小さいほど、遮熱ガラス部材の遮熱性能は高いと言える。
　第１の遮熱ガラス部材１００では、遮蔽係数ＳＣが０．３５以下であり、十分に小さくなっており、このため十分な遮熱性を得ることができる。
　また、第１の遮熱ガラス部材１００では、可視光透過率Ｔｖが２５％以上であり、透過性の高い遮熱ガラス部材を得ることができる。
　このように、第１の遮熱ガラス部材１００では、第２の側１０４から放射される熱量を、有意に抑制することができる。
　また、第１の遮熱ガラス部材１００は、従来の複層ガラスのような２枚のガラス板を有しない。従って、第１の遮熱ガラス部材１００では、従来よりも低い製造コストで安価に、遮熱ガラス部材を提供することが可能となる。
　なお、図１に示した第１の遮熱ガラス部材１００の構成において、熱吸収層１４０は省略しても良い。
　（遮熱ガラス部材を構成する各部材）
　次に、前述のような特徴を有する第１の遮熱ガラス部材１００を構成する各部材について、より詳しく説明する。なお、以下の説明では、明確化のため、各部材を表す際に、図１に示した参照符号を使用する。
　（ガラス板１１０）
　ガラス板１１０は、例えば、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、アルミノシリケートガラス等で構成されても良い。
　ガラス板１１０の厚さは、特に限られないが、厚さは、例えば、２ｍｍ～１２ｍｍの範囲である。
　ガラス板１１０は、強化されたガラス、特に化学強化されたガラスであっても良い。
　また、ガラス板１１０は、透明なものであっても、着色されたものであっても良い。ガラス板１１０の色は、特に限られないが、ガラス板１１０は、例えば、緑色または青色等であっても良い。
　ガラス板１１０が着色ガラスで構成される場合、ガラス板１１０自身が熱吸収部材として機能することが期待できる。従って、その場合、第２の層１４０は、省略しても良い（そのような構成については、後述する）。ただし、着色されたガラス板１１０と第２の層１４０の双方が存在しても良い。
　また、ガラス板１１０として着色ガラスを使用する場合、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定される、厚さ５ｍｍに換算した際のガラス板１１０のエネルギー透過率Ｔｅは、５５％以下であっても良い。
　（熱反射層１３０）
　第１の層１３０、すなわち熱反射層１３０は、Ｒｅが２０％以上となるように構成されることが好ましい。
　ここで、Ｒｅとは、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠したエネルギー反射率を意味する。
　例えば、熱反射層１３０は、金属窒化物または誘電体酸化物で構成される。
　金属窒化物としては、例えば、窒化チタン（ＴｉＮ）、窒化ジルコニウム（ＺｒＮ）、および窒化クロム（ＣｒＮ）などが挙げられる。
　また、誘電体酸化物としては、高屈折率材料、例えば酸化チタン（ＴｉＯ２）が挙げられる。ここで、「高屈折率」とは、２以上の屈折率を言う。
　熱反射層１３０が金属窒化物で構成される場合、熱反射層１３０の厚さは、例えば、５ｎｍ～４０ｎｍの範囲である。一方、熱反射層１３０が酸化チタンで構成される場合、熱反射層１３０の厚さは、例えば、１０ｎｍ～５０ｎｍの範囲である。
　熱反射層１３０は、例えば、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、化学気相成膜（ＣＶＤ）法（熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、および光ＣＶＤ法）、およびイオンビームスパッタリング法など、従来の成膜方法により成膜されても良い。
　例えば、熱反射層１３０は、オンラインのＣＶＤ法により、形成されても良い。
　ここで、「オンライン（の成膜法）」とは、ガラス板の製造過程中に、ガラス板の表面に層を成膜する方法を意味する。より具体的には、ガラス板の製造の際には、ガラスリボンが溶融スズ浴の上を移動した後、徐冷されることで、連続的にガラス板が製造されるが、「オンライン（の成膜法）」では、このガラスリボンの移動中に、ガラスリボンの上面に、熱反射層１３０が成膜される。すなわち、「オンライン（の成膜法）」では、ガラス板１１０の製造工程と熱反射層１３０の成膜工程が連続的に実施される。
　熱反射層１３０がオンラインの成膜法で成膜される場合、熱反射層１３０は、酸化チタン（ＴｉＯ２）であることが好ましい。
　なお、「オンライン（の成膜法）」以外の成膜法を、特に「オフライン（の成膜法）」と称する場合がある。
　（熱吸収層１４０）
　第２の層１４０、すなわち熱吸収層１４０は、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定されるエネルギー透過率Ｔｅが４５％以下となるように構成されることが好ましい。
　例えば、熱吸収層１４０は、金属窒化物、酸化クロム、またはアンチモンドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｓｂ）で構成される。
　金属窒化物としては、例えば、窒化チタン（ＴｉＮ）、窒化ジルコニウム（ＺｒＮ）、および窒化クロム（ＣｒＮ）などが挙げられる。
　熱吸収層１４０が金属窒化物で構成される場合、熱吸収層１４０の厚さは、例えば、１ｎｍ～４０ｎｍの範囲である。一方、熱吸収層１４０が酸化クロムで構成される場合、熱吸収層１４０の厚さは、例えば、１ｎｍ～１０ｎｍの範囲である。また、熱吸収層１４０がアンチモンドープされた酸化スズで構成される場合、熱熱吸収層１４０の厚さは、例えば、１０ｎｍ～３２０ｎｍの範囲である。
　熱吸収層１４０は、例えば、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、化学気相成膜（ＣＶＤ）法（熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、および光ＣＶＤ法）、およびイオンビームスパッタリング法など、従来の成膜方法により成膜されても良い。
　例えば、熱吸収層１４０は、オンラインのＣＶＤ法により、形成されても良い。熱吸収層１４０がオンラインの成膜法で成膜される場合、熱吸収層１４０は、アンチモンドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｓｂ）であることが好ましい。
　なお、前述のように、第１の遮熱ガラス部材１００において、熱吸収層１４０が存在しなくても所定の特性が得られる場合、熱吸収層１４０は省略しても良い。
　（低放射層１５０）
　第３の層１５０、すなわち低放射層１５０は、半球放射率Ｅｎが０．２以下となるように構成されることが好ましい。
　ここで、半球放射率Ｅｎとは、ＩＳＯ１０２９２に準拠した放射率を意味する。
　例えば、低放射層１５０は、金属窒化物、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、アルミニウム、ガリウムおよびボロンの少なくとも一つがドープされた酸化亜鉛（ＺｎＯ：Ａｌ，Ｇａ，Ｂ）、またはフッ素およびアンチモンの少なくとも一つがドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｆ，Ｓｂ）で構成される。
　金属窒化物としては、例えば、窒化チタン（ＴｉＮ）、窒化ジルコニウム（ＺｒＮ）、および窒化クロム（ＣｒＮ）などが挙げられる。
　低放射層１５０が金属窒化物で構成される場合、低放射層１５０の厚さは、例えば、１０ｎｍ～４０ｎｍの範囲である。一方、低放射層１５０が酸化亜鉛またはＩＴＯで構成される場合、低放射層１５０の厚さは、例えば、５０ｎｍ～３００ｎｍの範囲である。また、低放射層１５０が酸化スズで構成される場合、低放射層１５０の厚さは、例えば、１８０ｎｍ～４７０ｎｍの範囲である。
　低放射層１５０は、例えば、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、化学気相成膜（ＣＶＤ）法（熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、および光ＣＶＤ法）、およびイオンビームスパッタリング法など、従来の成膜方法により成膜されても良い。
　例えば、低放射層１５０は、オンラインのＣＶＤ法により、形成されても良い。低放射層１５０がオンラインの成膜法で成膜される場合、低放射層１５０は、フッ素ドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｆ）、またはアンチモンドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｓｂ）であることが好ましい。
　（第１の遮熱ガラス部材１００）
　前述のように、第１の遮熱ガラス部材１００は、第１の側１０２から第２の側１０４に向かって測定される可視光透過率Ｔｖが２５％以上である。可視光透過率Ｔｖは、３０％以上であることが好ましい。
　また、第１の遮熱ガラス部材１００は、第１の側１０２から第２の側１０４に向かって測定される遮熱係数ＳＣが０．３５以下である。遮熱係数ＳＣは、０．３３以下であることが好ましい。
　このような特性を有する第１の遮熱ガラス部材１００は、建造物の窓ガラスに適用した際に、十分に適正な遮熱性を発揮することができる。
　以上に加えて、第１の遮熱ガラス部材１００は、以下のような特性を有しても良い。
　（第１可視光反射率Ｒｖ１および第２可視光反射率Ｒｖ２）
　第１の遮熱ガラス部材１００は、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して、第１の側１０２および第２の側１０４から測定された可視光反射率のうち、大きい方の値を第１可視光反射率Ｒｖ１（％）とし、小さい方の値を第２可視光反射率Ｒｖ２（％）としたとき、Ｒｖ１は４０％未満であり、Ｒｖ２は３０％未満であることが好ましい。
　なお、図１に示した構成では、通常、第１の側１０２から測定された可視光反射率が第１可視光反射率Ｒｖ１（％）となり、第２の側１０４から測定された可視光反射率が第２可視光反射率Ｒｖ２（％）となる。
　（色調補正膜）
　第１の遮熱ガラス部材１００は、さらに、該第１の遮熱ガラス部材１００の色調を、所望の色に補正するための色調補正膜を有しても良い。
　色調補正膜は、例えば、第１の層１３０の上部（第２の層１４０とは反対の側）、第１の層１３０と第２の層１４０の間、第２の層１４０とガラス板１１０の間、ガラス板１１０と第３の層１５０の間、および第３の層１５０の上部（ガラス板１１０とは反対の側）等、いずれの位置に設置されても良い。
　色調補正膜は、例えば、窒化ケイ素を主成分とする膜で、さらにボロン、チタン、アルミニウム、ジルコニウム、および／またはハフニウムなどを含んでも良い。ここで、「○○を主成分とする」と言う表現は、○○を５０％以上含むことをいう。あるいは、色調補正膜は、例えば、酸化ケイ素、炭化ケイ素、もしくは窒化ケイ素のいずれかで構成された単一膜、またはこれらの混合膜であっても良い。
　（本発明の一実施形態による別の遮熱ガラス部材）
　次に、図２を参照して、本発明の一実施形態による別の遮熱ガラス部材について説明する。
　図２には、本発明の一実施形態による別の遮熱ガラス部材（以下、「第２の遮熱ガラス部材」という）の概略的な断面図を示す。
　図２に示すように、第２の遮熱ガラス部材２００は、第１の側２０２および第２の側２０４を有する。また、第２の遮熱ガラス部材２００は、ガラス板２１０と、第１の層２３０と、第２の層２４０と、第３の層２５０と、を有する。
　ガラス板２１０は、第１の表面２１２および第２の表面２１４を有する。第１の層２３０は、ガラス板２１０第１の表面２１２の側に配置され、第２の層２４０および第３の層２５０は、ガラス板２１０第２の表面２１４の側に配置される。従って、第１の層２３０のある側が、第２の遮熱ガラス部材２００の第１の側２０２となり、第３の層２５０のある側が、第２の遮熱ガラス部材２００の第２の側２０４となる。
　第１の層２３０は、前述の第１の遮熱ガラス部材１００における第１の層１３０と同様の特徴を有する。従って、第１の層２３０は、熱反射層２３０とも称される。
　第２の層２４０は、前述の第１の遮熱ガラス部材１００における第２の層１４０と同様の特徴を有する。従って、第２の層２４０は、熱吸収層２４０とも称される。なお、第２の層２４０は、省略することができる。
　第３の層２５０は、前述の第１の遮熱ガラス部材１００における第３の層１５０と同様の特徴を有する。従って、第３の層２５０は、低放射層２５０とも称される。
　第２の遮熱ガラス部材２００においても、第１の側２０２から第２の側２０４に向かう方向において、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定された可視光透過率をＴｖ（％）とし、日射熱取得率をｇ値とし、前述の（１）式で表されるＳＣを遮蔽係数ＳＣとしたとき、
　可視光透過率Ｔｖは３０％以上であり、遮熱係数ＳＣは０．３３以下である。
　従って、第２の遮熱ガラス部材２００においても、第１の遮熱ガラス部材１００と同様の効果、すなわち第２の側２０４から放射される熱量が有意に抑制されるという効果を得ることができる。また、第２の遮熱ガラス部材２００においても、従来よりも低い製造コストで安価に、遮熱ガラス部材を提供することができる。
　なお、第２の遮熱ガラス部材２００において、ガラス板２１０として、着色ガラスを使用しても良い。その場合、ガラス板２１０自身により熱吸収効果が得られる。
　（本発明の一実施形態によるさらに別の遮熱ガラス部材）
　次に、図３を参照して、本発明の一実施形態によるさらに別の遮熱ガラス部材について説明する。
　図３には、本発明の一実施形態によるさらに別の遮熱ガラス部材（以下、「第３の遮熱ガラス部材」という）の概略的な断面図を示す。
　図３に示すように、第３の遮熱ガラス部材３００は、第１の側３０２および第２の側３０４を有する。また、第３の遮熱ガラス部材３００は、ガラス板３１０と、第１の層３３０と、第３の層３５０と、を有する。
　ガラス板３１０は、第１の表面３１２および第２の表面３１４を有する。第１の層３３０は、ガラス板３１０第１の表面３１２の側に配置され、第３の層３５０は、ガラス板３１０第２の表面３１４の側に配置される。従って、第１の層３３０のある側が、第３の遮熱ガラス部材３００の第１の側３０２となり、第３の層３５０のある側が、第３の遮熱ガラス部材３００の第２の側３０４となる。
　第１の層３３０は、前述の第１の遮熱ガラス部材１００における第１の層１３０、および第２の遮熱ガラス部材２００における第１の層２３０と同様の特徴を有する。従って、第１の層３３０は、熱反射層３３０とも称される。
　第３の層３５０は、前述の第１の遮熱ガラス部材１００における第３の層１５０、および第２の遮熱ガラス部材２００における第３の層２５０と同様の特徴を有する。従って、第３の層３５０は、低放射層３５０とも称される。
　第３の遮熱ガラス部材３００においては、前述の第１の遮熱ガラス部材１００における第２の層１４０、および第２の遮熱ガラス部材２００における第２の層２４０のような、熱吸収層は、存在しない。
　ただし、第３の遮熱ガラス部材３００では、ガラス板３１０が着色ガラスで構成される。このため、ガラス板３１０自身が、熱吸収部材として機能する。
　例えば、ガラス板３１０において、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定される、厚さ５ｍｍに換算した際のガラス板３１０のエネルギー透過率Ｔｅは、５５％以下であっても良い。
　第３の遮熱ガラス部材３００においても、第１の側３０２から第２の側３０４に向かう方向において、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定された可視光透過率をＴｖ（％）とし、日射熱取得率をｇ値とし、前述の（１）式で表されるＳＣを遮蔽係数ＳＣとしたとき、
　可視光透過率Ｔｖは３０％以上であり、遮熱係数ＳＣは０．３３以下である。
　従って、第３の遮熱ガラス部材３００においても、第１および第２の遮熱ガラス部材１００、２００と同様の効果、すなわち第２の側３０４から放射される熱量が有意に抑制されるという効果を得ることができる。また、第３の遮熱ガラス部材３００においても、従来よりも低い製造コストで安価に、遮熱ガラス部材を提供することができる。
　以上、第１～第３の遮熱ガラス部材１００、２００、３００を例に、本発明の一実施形態およびその特徴について説明した。
　ただし、本発明は、これらの実施態様に限られるものではなく、当業者には、第１～第３の遮熱ガラス部材１００、２００、３００において、各種変更が可能であることは明らかである。
　例えば、図１に示した第１の遮熱ガラス部材１００では、第２の層１４０は、第１の遮熱ガラス部材１００の第１の側１０２にのみ、配置されている。しかしながら、第１の遮熱ガラス部材１００の第２の側１０４にも、第２の層１４０が配置されても良い。
　また、図３に示した第３の遮熱ガラス部材３００では、第２の層は、省略されている。しかしながら、第３の遮熱ガラス部材３００において、ガラス板３１０と第１の層３３０の間、およびガラス板３１０と第３の層３５０の間のそれぞれに、第２の層が配置されても良い。
　なお、本願に記載の遮熱ガラス部材において、外観のみからは、いずれの側が第１の側または第２の側に対応するかを判断することが難しい場合がある。
　例えば、第１の遮熱ガラス部材１００において、第２の層１４０が省略された構成では、ガラス板１１０のそれぞれの表面１１２、１１４には、単一の層しか存在しない場合がある。そのような場合、層の数による第１の側１０２／第２の側１０４の判断は難しい。
　従って、実際には、対象とする遮熱ガラス部材が前述のような構成を有し、さらにいずれか一方の側から測定した可視光透過率Ｔｖ（％）および遮蔽係数ＳＣが上記条件を満たす場合、そのような遮熱ガラス部材は、本発明の一実施形態による遮熱ガラス部材であると判断される。
　（本発明の一実施形態による遮熱ガラス部材の製造方法）
　次に、図４を参照して、本発明の一実施形態による遮熱ガラス部材の製造方法の一例について説明する。
　図４には、本発明の一実施形態による遮熱ガラス部材の製造方法（以下、単に「遮熱ガラス部材の製造方法」という）のフローを模式的に示す。
　図４に示すように、この遮熱ガラス部材の製造方法は、
（１）ガラス板の製造工程中に、前記ガラス板の第１の表面に、第Ｉの層を形成する工程（工程Ｓ１１０）と、
（２）前記ガラス板の製造後に、前記ガラス板の前記第１の表面とは反対の第２の表面に、第ＩＩＩの層を形成する工程（工程Ｓ１２０）と、
　を有する。
　なお、本遮熱ガラス部材の製造方法には、大別して、
　　（１）の工程Ｓ１１０において、低放射層を形成し、（２）の工程Ｓ１２０において、熱反射層を形成する態様（以下、「ケースＡ」）という）と、
　　（１）の工程Ｓ１１０において、熱反射層を形成し、（２）の工程Ｓ１２０において、低放射層を形成する態様（以下、「ケースＢ」）という）と
　が存在する。
　以下、それぞれの態様について説明する。
　（ケースＡ）
　（工程Ｓ１１０）
　ケースＡの場合、工程Ｓ１１０において、第Ｉの層として低放射層が形成される。また、この工程Ｓ１１０では、第Ｉの層は、オンラインの成膜法により形成される。オンラインの成膜法は、例えばオンラインＣＶＤ法であっても良い。
　この場合、ガラスリボンを形成するスズ浴、またはこのガラスリボンを徐冷する徐冷炉の上部に、ＣＶＤ成膜装置が設置され、ここで、ガラスリボンの上面に、第Ｉの層が成膜されても良い。
　第Ｉの層は、例えば、フッ素がドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｆ）、アンチモンがドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｓｂ）、またはフッ素およびアンチモンがドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｆ，Ｓｂ）で構成される。あるいは、第Ｉの層は、フッ素がドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｆ）と、アンチモンがドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｓｂ）の積層体であっても良い。
　第Ｉの層の厚さは、例えば、１８０ｎｍ～４７０ｎｍの範囲である。
　また、第Ｉの層を成膜する前に、オンラインの成膜法により、第ＩＩの層を成膜しても良い。この場合、第１の表面に、第ＩＩの層および第Ｉの層の、少なくとも２層構造の膜を有するガラス板が製造される。
　第ＩＩの層は、前述の熱吸収層として機能する材料から選定される。例えば、第ＩＩの層は、アンチモンがドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｓｂ）であっても良い。
　第ＩＩの層の厚さは、例えば、１８０ｎｍ～４７０ｎｍの範囲である。
　なお、製造されるガラス板は、透明ガラス板であっても、着色されたガラス板であっても良い。
　（工程Ｓ１２０）
　次に、ガラス板の第２の表面に、熱反射層として、第ＩＩＩの層が形成される。
　第ＩＩＩの層は、いかなる方法で形成されても良い。例えば、第ＩＩＩの層は、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、化学気相成膜（ＣＶＤ）法（熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、および光ＣＶＤ法）、およびイオンビームスパッタリング法など、従来の成膜方法により成膜されても良い。
　第ＩＩＩの層は、金属窒化物または誘電体酸化物で構成されても良い。
　金属窒化物としては、例えば、窒化チタン（ＴｉＮ）、窒化ジルコニウム（ＺｒＮ）、および窒化クロム（ＣｒＮ）などが挙げられる。また、誘電体酸化物としては、高屈折率材料、例えば酸化チタン（ＴｉＯ２）が挙げられる。
　第ＩＩＩの層が金属窒化物で構成される場合、第ＩＩＩの層の厚さは、例えば、５ｎｍ～４０ｎｍの範囲である。一方、第ＩＩＩの層が酸化チタンで構成される場合、第ＩＩＩの層の厚さは、例えば、１０ｎｍ～５０ｎｍの範囲である。
　また、第ＩＩＩの層を成膜する前に、第ＩＩの層を成膜しても良い。この場合、ガラス板の第２の表面に、第ＩＩの層および第ＩＩＩの層の、少なくとも２層構造の膜を有するガラス板が製造される。
　第ＩＩの層は、例えば、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、化学気相成膜（ＣＶＤ）法（熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、および光ＣＶＤ法）、およびイオンビームスパッタリング法など、従来の成膜方法により成膜されても良い。
　第ＩＩの層は、前述の熱吸収層として機能する材料から選定される。例えば、第ＩＩの層は、金属窒化物、酸化クロム、またはアンチモンドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｓｂ）で構成されても良い。
　金属窒化物としては、例えば、窒化チタン（ＴｉＮ）、窒化ジルコニウム（ＺｒＮ）、および窒化クロム（ＣｒＮ）などが挙げられる。
　第ＩＩの層の厚さは、例えば、５ｎｍ～４０ｎｍの範囲である。
　以上の工程により、一方の側に、オンラインの成膜法で形成された低放射層を有し、他方の側に、オフラインの成膜法で形成された熱反射層を有する遮熱ガラス部材を製造することができる。
　なお、上記説明では触れなかったが、本遮熱ガラス部材の製造方法は、さらに、工程Ｓ１１０および／または工程Ｓ１２０において、色調補正膜を成膜する工程を有しても良い。
　このような方法で製造された遮熱ガラス部材において、
遮熱ガラス部材の第ＩＩＩの層の側から、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定された可視光透過率をＴｖ（％）とし、日射熱取得率をｇ値とし、前述の（１）式で表されるＳＣを遮蔽係数としたとき、
　可視光透過率Ｔｖは、３０％以上であり、遮熱係数ＳＣは、０．３３以下であることが好ましい。
　この場合、遮熱ガラス部材の第ＩＩＩの層の側を屋外側とし、第Ｉの層の側を屋内側として遮熱ガラス部材を使用した際に、第Ｉの層の側から放射される熱量を、有意に抑制することができる。
　また、製造された遮熱ガラス部材において、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して、第Ｉの層の側および第ＩＩＩの層の側から測定された可視光反射率のうち、大きい方の値を第１可視光反射率Ｒｖ１（％）とし、小さい方の値を第２可視光反射率Ｒｖ２（％）としたとき、Ｒｖ１は４０％未満であり、Ｒｖ２は３０％未満であることが好ましい。
　（ケースＢ）
　（工程Ｓ１１０）
　ケースＢの場合、工程Ｓ１１０において、第Ｉの層として熱反射層が形成される。また、この工程Ｓ１１０では、第Ｉの層は、オンラインの成膜法により形成される。オンラインの成膜法は、例えばオンラインＣＶＤ法であっても良い。
　この場合、ガラスリボンを形成するスズ浴、またはこのガラスリボンを徐冷する徐冷炉の上部に、ＣＶＤ成膜装置が設置され、ここで、ガラスリボンの上面に、第Ｉの層が成膜されても良い。
　第Ｉの層は、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ２）で構成される。
　第Ｉの層の厚さは、例えば、１０ｎｍ～５０ｎｍの範囲である。
　また、第Ｉの層を成膜する前に、オンラインの成膜法により、第ＩＩの層を成膜しても良い。この場合、第１の表面に、第ＩＩの層および第Ｉの層の、少なくとも２層構造の膜を有するガラス板が製造される。
　第ＩＩの層は、前述の熱吸収層として機能する材料から選定される。例えば、第ＩＩの層は、アンチモンがドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｓｂ）であっても良い。
　第ＩＩの層の厚さは、例えば、５０ｎｍ～３２０ｎｍの範囲である。
　なお、製造されるガラス板は、透明ガラス板であっても、着色されたガラス板であっても良い。
　（工程Ｓ１２０）
　次に、ガラス板の第２の表面に、低放射層として、第ＩＩＩの層が形成される。
　第ＩＩＩの層は、いかなる方法で形成されても良い。例えば、第ＩＩＩの層は、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、化学気相成膜（ＣＶＤ）法（熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、および光ＣＶＤ法）、およびイオンビームスパッタリング法など、従来の成膜方法により成膜されても良い。
　第ＩＩＩの層は、例えば、金属窒化物、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、アルミニウム、ガリウムおよびボロンの少なくとも一つがドープされた酸化亜鉛（ＺｎＯ：Ａｌ，Ｇａ，Ｂ）、またはフッ素およびアンチモンの少なくとも一つがドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｆ，Ｓｂ）で構成される。あるいは、第ＩＩＩの層は、フッ素がドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｆ）と、アンチモンがドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｓｂ）の積層体であっても良い。
　金属窒化物としては、例えば、窒化チタン（ＴｉＮ）、窒化ジルコニウム（ＺｒＮ）、および窒化クロム（ＣｒＮ）などが挙げられる。
　第ＩＩＩの層が金属窒化物で構成される場合、第ＩＩＩの層の厚さは、例えば、１０ｎｍ～４０ｎｍの範囲である。一方、第ＩＩＩの層が酸化亜鉛またはＩＴＯで構成される場合、第ＩＩＩの層の厚さは、例えば、５０ｎｍ～３００ｎｍの範囲である。また、第ＩＩＩの層が酸化スズで構成される場合、第ＩＩＩの層の厚さは、例えば、１８０ｎｍ～４７０ｎｍの範囲である。
　また、第ＩＩＩの層を成膜する前に、第ＩＩの層を成膜しても良い。この場合、ガラス板の第２の表面に、第ＩＩの層および第ＩＩＩの層の、少なくとも２層構造の膜を有するガラス板が製造される。
　第ＩＩの層は、例えば、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、化学気相成膜（ＣＶＤ）法（熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、および光ＣＶＤ法）、およびイオンビームスパッタリング法など、従来の成膜方法により成膜されても良い。
　第ＩＩの層は、前述の熱吸収層として機能する材料から選定される。例えば、第ＩＩの層は、金属窒化物、酸化クロム、またはアンチモンドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｓｂ）で構成されても良い。
　金属窒化物としては、例えば、窒化チタン（ＴｉＮ）、窒化ジルコニウム（ＺｒＮ）、および窒化クロム（ＣｒＮ）などが挙げられる。
　第ＩＩの層の厚さは、例えば、５ｎｍ～４０ｎｍの範囲である。
　以上の工程により、一方の側に、オンラインの成膜法で形成された熱反射層を有し、他方の側に、オフラインの成膜法で形成された低放射層を有する遮熱ガラス部材を製造することができる。
　なお、上記説明では触れなかったが、本遮熱ガラス部材の製造方法は、さらに、工程Ｓ１１０および／または工程Ｓ１２０において、色調補正膜を成膜する工程を有しても良い。
　このような方法で製造された遮熱ガラス部材において、
遮熱ガラス部材の第Ｉの層の側から、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定された可視光透過率をＴｖ（％）とし、日射熱取得率をｇ値とし、前述の（１）式で表されるＳＣを遮蔽係数としたとき、
　可視光透過率Ｔｖは、３０％以上であり、遮熱係数ＳＣは、０．３３以下であることが好ましい。
　この場合、遮熱ガラス部材の第Ｉの層の側を屋外側とし、第ＩＩＩの層の側を屋内側として遮熱ガラス部材を使用した際に、第ＩＩＩの層の側から放射される熱量を、有意に抑制することができる。
　また、製造された遮熱ガラス部材において、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して、第Ｉの層の側および第ＩＩＩの層の側から測定された可視光反射率のうち、大きい方の値を第１可視光反射率Ｒｖ１（％）とし、小さい方の値を第２可視光反射率Ｒｖ２（％）としたとき、Ｒｖ１は４０％未満であり、Ｒｖ２は３０％未満であることが好ましい。
　以下、本発明の実施例について説明する。なお、以下の記載において、例１～例８は実施例であり、例９～例１９は比較例である。
　（例１）
　以下の方法で、遮熱ガラス部材を製造した。
　まず、オンラインの成膜法により、ガラスリボンの表面に、第１色調補正膜および低放射層の順に各層を形成した。第１色調補正膜は、ＳｉＯＣ（目標厚さ５５ｎｍ）とした。また、低放射層は、フッ素ドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｆ）（目標厚さ３２０ｎｍ）とした。
　これにより、一方の表面（「第１の表面」と称する）に、第１色調補正膜および低放射層を有する、透明なガラス板（厚さ６ｍｍ）が製造された。
　次に、ガラス板のスズ浴と接していた表面（「第２の表面」と称する）に、スパッタリング法により、第２色調補正膜、熱反射層、および第３色調補正膜の順に各層を形成した。
　熱反射層は、ＴｉＮ層（目標厚さ２８ｎｍ）とした。また、第２色調補正膜は、ＳｉＡｌＮ（目標厚さ２５ｎｍ）とし、第３色調補正膜は、ＳｉＡｌＮ（目標厚さ８ｎｍ）とした。
　これにより、遮熱ガラス部材（以下、「例１に係る遮熱ガラス部材」と称する）が製造された。
　（例２）
　例１と同様の方法により、例２に係る遮熱ガラス部材を製造した。
　ただし、この例２では、ガラス板の厚さを８ｍｍとした。また、ガラス板の第２の表面には、第２色調補正膜（ＳｉＡｌＮ：目標厚さ２０ｎｍ）、熱反射層（ＴｉＮ：目標厚さ２８ｎｍ）、および第３色調補正膜（ＳｉＡｌＮ：目標厚さ１０ｎｍ）の順に各層を形成した。
　（例３）
　例１と同様の方法により、例３に係る遮熱ガラス部材を製造した。
　ただし、この例３では、ガラス板として、緑色に着色されたガラス板を使用した。このガラス板のエネルギー透過率Ｔｅは、４１％である。
　また、ガラス板の第２の表面には、第２色調補正膜（ＳｉＡｌＮ：目標厚さ２１ｎｍ）、熱反射層（ＴｉＮ：目標厚さ２１ｎｍ）、および第３色調補正膜（ＳｉＡｌＮ：目標厚さ３５ｎｍ）の順に各層を形成した。
　（例４）
　例３と同様の方法により、例４に係る遮熱ガラス部材を製造した。
　ただし、この例４では、ガラス板の第２の表面には、第２色調補正膜（ＳｉＡｌＮ：目標厚さ２１ｎｍ）、熱反射層（ＴｉＮ：目標厚さ２１ｎｍ）、および第３色調補正膜（ＳｉＡｌＮ：目標厚さ１８ｎｍ）の順に各層を形成した。
　（例５）
　例３と同様の方法により、例５に係る遮熱ガラス部材を製造した。
　ただし、この例５では、ガラス板として、厚さ８ｍｍの緑色に着色されたガラス板を使用した。このガラス板のエネルギー透過率Ｔｅは、３４％である。
　また、ガラス板の第２の側には、第２色調補正膜（ＳｉＡｌＮ：目標厚さ２１ｎｍ）、熱反射層（ＴｉＮ：目標厚さ１８ｎｍ）、および第３色調補正膜（ＳｉＡｌＮ：目標厚さ２１ｎｍ）の順に各層を形成した。
　（例６）
　例３と同様の方法により、例６に係る遮熱ガラス部材を製造した。
　ただし、この例６では、ガラス板として、厚さ１０ｍｍの緑色に着色されたガラス板を使用した。このガラス板のエネルギー透過率Ｔｅは、２８％である。
　また、ガラス板の第２の表面には、熱反射層（ＴｉＯ２：目標厚さ４０ｎｍ）のみを形成した（色調補正膜なし）。
　（例７）
　例３と同様の方法により、例７に係る遮熱ガラス部材を製造した。
　ただし、この例７では、オンラインのＣＶＤ法により、ガラス板の第１の表面に、熱反射層（ＴｉＯ２：目標厚さ４０ｎｍ）を形成した。
　また、ガラス板の第２の表面には、スパッタリング法により、第１色調補正膜（ＳｉＡｌＮ：目標厚さ９ｎｍ）、低放射層（ＴｉＮ：目標厚さ１４ｎｍ）、および第２色調補正膜（ＳｉＡｌＮ：目標厚さ３９ｎｍ）の順に各層を形成した。
　ガラス板のエネルギー透過率Ｔｅは、４１％である。
　（例８）
　例７と同様の方法により、例８に係る遮熱ガラス部材を製造した。
　ただし、この例８では、着色ガラス板の厚さを８ｍｍとした。このガラス板のエネルギー透過率Ｔｅは、３４％である。
　また、ガラス板の第２の表面には、第１色調補正膜（ＳｉＡｌＮ：目標厚さ５ｎｍ）、低放射層（ＴｉＮ：目標厚さ９ｎｍ）、および第２色調補正膜（ＳｉＡｌＮ：目標厚さ３０ｎｍ）の順に各層を形成した。
　（例９）
　以下の方法で、遮熱ガラス部材を製造した。
　オンラインの成膜法により、ガラスリボンの表面に、色調補正膜、低放射層、および熱反射層を、この順に形成した。
　色調補正膜は、ＳｉＯＣ（目標厚さ５５ｎｍ）とした。また、低放射層は、フッ素ドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｆ）（目標厚さ３２０ｎｍ）とした。さらに、熱反射層は、ＴｉＯ２（目標厚さ４０ｎｍ）とした。
　これにより、一方の表面（「第１の表面」と称する）に、色調補正膜、低放射層、および熱反射層を有する、緑色に着色されたガラス板（厚さ１０ｍｍ）が製造された。なお、ガラス板のスズ浴と接していた表面（第２の表面）には、いかなる膜も成膜しなかった。
　これにより、遮熱ガラス部材（以下、「例９に係る遮熱ガラス部材」と称する）が製造された。
　（例１０）
　例９と同様の方法により、例１０に係る遮熱ガラス部材を製造した。
　ただし、この例１０では、ガラス板の第１の表面に、熱反射層（ＴｉＯ２）（目標厚さ４０ｎｍ）、色調補正膜（ＳｉＯＣ）（目標厚さ５５ｎｍ）、および低放射層（ＳｎＯ２：Ｆ）（目標厚さ３２０ｎｍ）の順に各層を形成した。
　（例１１）
　例９と同様の方法により、例１１に係る遮熱ガラス部材を製造した。
　ただし、この例１１では、ガラス板の第１の表面に、色調補正膜（ＳｉＯＣ）（目標厚さ５５ｎｍ）、低放射層（ＳｎＯ２：Ｆ）（目標厚さ３２０ｎｍ）、および熱反射層（ＴｉＯ２）（目標厚さ４０ｎｍ）の順に各層を形成した。
　（例１２）
　以下の方法で、遮熱ガラス部材を製造した。
　オンラインの成膜法により、ガラスリボンの表面に、色調補正膜および低放射層を、この順に形成した。
　色調補正膜は、ＳｉＯＣ（目標厚さ５５ｎｍ）とした。また、低放射層は、フッ素ドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｆ）（目標厚さ３２０ｎｍ）とした。
　これにより、一方の表面（「第１の表面」と称する）に、色調補正膜および低放射層を有する、透明なガラス板（厚さ６ｍｍ）が製造された。なお、ガラス板のスズ浴と接していた表面（第２の表面）には、いかなる膜も成膜しなかった。
　これにより、遮熱ガラス部材（以下、「例１２に係る遮熱ガラス部材」と称する）が製造された。
　（例１３）
　例１２と同様の方法により、例１３に係る遮熱ガラス部材を製造した。
　ただし、この例１５では、ガラス板として、緑色に着色されたガラス板を使用した。
　（例１４）
　例１３と同様の方法により、例１４に係る遮熱ガラス部材を製造した。
　ただし、この例１４では、オンラインのＣＶＤ法により、ガラスリボンの表面に、熱反射層（ＴｉＯ２）（目標厚さ４０ｎｍ）のみを形成した。
　これにより、遮熱ガラス部材（以下、「例１４に係る遮熱ガラス部材」と称する）が製造された。
　（例１５）
　例１２と同様の方法により、例１５に係る遮熱ガラス部材を製造した。
　ただし、この例１５では、ガラス板の第１の表面に、色調補正膜および低放射層を、この順に形成した。色調補正膜は、ＳｉＯＣ（目標厚さ５５ｎｍ）とした。また、低放射層は、アンチモンドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｓｂ）（目標厚さ３２０ｎｍ）とした。
　（例１６）
　例１５と同様の方法により、例１６に係る遮熱ガラス部材を製造した。
　ただし、この例１６では、透明ガラス板の代わりに、緑色に着色されたガラス板を製造した。
　（例１７）
　例１３と同様の方法により、例１７に係る遮熱ガラス部材を製造した。
　ただし、この例１７では、オンラインのＣＶＤ法により、ガラスリボンの表面に、色調補正膜、低放射層、および熱反射層を、この順に形成した。色調補正膜は、ＳｉＯＣ（目標厚さ５５ｎｍ）とした。また、低放射層は、アンチモンドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｓｂ）（目標厚さ２６０ｎｍ）とした。さらに、熱反射層は、ＴｉＯ２（目標厚さ４０ｎｍ）とした。
　（例１８）
　以下の方法で、遮熱ガラス部材を製造した。
　まず、縦３００ｍｍ×横３００ｍｍ×厚さ６ｍｍの寸法を有する透明ガラス板を準備した。また、スパッタリング法により、この透明ガラス板の第１の表面に、第１色調補正膜、熱吸収層、および第２色調補正膜の順に各層を形成した。
　第１色調補正膜は、ＳｉＮ（目標厚さ４ｎｍ）とした。また、熱吸収層は、ＴｉＮ（目標厚さ２７ｎｍ）とし、第２色調補正膜は、ＳｉＮ（目標厚さ８ｎｍ）とした。
　なお、透明ガラス板の第２の表面には、いかなる層も形成しなかった。
　これにより、遮熱ガラス部材（以下、「例１８に係る遮熱ガラス部材」と称する）が製造された。
　以下の表１には、例１～例１８に係る遮熱ガラス部材の構成をまとめて示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 　（評価）
　（可視光透過率Ｔｖ（％）および遮蔽係数ＳＣの評価）
　各遮熱ガラス部材を用いて、可視光透過率Ｔｖ（％）、および前述の（１）式で表される遮蔽係数ＳＣの評価を行った。
　可視光透過率Ｔｖ（％）および日射熱取得率ｇ値の測定には、分光光度計（Ｕ４１００：日立製作所製）を使用し、光の波長は、３００ｎｍ～２５００ｎｍの範囲とした。測定は、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して実施した。
　なお、例１～例６、および例９－例１８に係る遮熱ガラス部材においては、ガラス板の第２の表面の側から、反対側の表面に向かう方向において、測定を行った。これに対して、例５、および例７－例８に係る遮熱ガラス部材においては、ガラス板の第１の表面の側から、反対側の表面に向かって測定を行った。
　得られた日射熱取得率ｇ値から、遮蔽係数ＳＣを求めた。
　（第１可視光反射率Ｒｖ１（％）および第２可視光反射率Ｒｖ２（％）の評価）
　前述の分光光度計を用いて、各遮熱ガラス部材を用いて、第１可視光反射率Ｒｖ１（％）および第２可視光反射率Ｒｖ２（％）の評価を行った。
　ここで、第１可視光反射率Ｒｖ１（％）は、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して、ガラス板の第１の表面および第２の表面の側から測定された可視光反射率のうち、大きい方の値を意味する。また、第２可視光反射率Ｒｖ２（％）は、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して、ガラス板の第１の表面および第２の表面の側から測定された可視光反射率のうち、小さい方の値を意味する。
　（結果）
　評価結果をまとめて、以下の表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 　表２に示すように、例１～例８に係る遮熱ガラス部材では、遮蔽係数ＳＣは、いずれも０．３３を下回り、良好な遮熱性を有することがわかる。これに対して、例９～例１８に係る遮熱ガラス部材では、遮蔽係数ＳＣは、いずれも０．３５を超えており、あまり良好な遮熱性は得られないことがわかる。
　また、例１～例８に係る遮熱ガラス部材は、いずれも、可視光透過率Ｔｖ（％）が２５％以上となっており、適正な透過性を有することがわかる。
　このように、例１～例８に係る遮熱ガラス部材では、単一のガラス板を使用しているにも関わらず、良好な遮熱性を発揮することが確認された。このことから、本発明の一実施形態による遮熱ガラス部材では、従来よりも低い製造コストで安価に、遮熱ガラス部材を提供することができることがわかった。
　本願は２０１６年６月２９日に出願した日本国特許出願２０１６－１２９４０５号に基づく優先権を主張するものであり同日本国出願の全内容を本願に参照により援用する。
　１００　　　第１の遮熱ガラス部材
　１０２　　　第１の側
　１０４　　　第２の側
　１１０　　　ガラス板
　１１２　　　第１の表面
　１１４　　　第２の表面
　１３０　　　第１の層
　１４０　　　第２の層
　１５０　　　第３の層
　２００　　　第２の遮熱ガラス部材
　２０２　　　第１の側
　２０４　　　第２の側
　２１０　　　ガラス板
　２１２　　　第１の表面
　２１４　　　第２の表面
　２３０　　　第１の層
　２４０　　　第２の層
　２５０　　　第３の層
　３００　　　第３の遮熱ガラス部材
　３０２　　　第１の側
　３０４　　　第２の側
　３１０　　　ガラス板
　３１２　　　第１の表面
　３１４　　　第２の表面
　３３０　　　第１の層
　３５０　　　第３の層

Claims (18)

  1. 　相互に対向する第１の表面および第２の表面を有する単一のガラス板を有する遮熱ガラス部材であって、
    　当該遮熱ガラス部材は、
    　前記ガラス板の前記第１の表面側に、第１の層を有し、前記ガラス板の前記第２の表面側に、第３の層を有し、
    　さらに、前記ガラス板と前記第１の層の間、および／または前記ガラス板と前記第３の層の間に、第２の層を有し、ただし前記第２の層は省略されても良く、
    　前記第１の層は、金属窒化物または誘電体酸化物から選定された材料で構成され、
    　前記第２の層は、金属窒化物、酸化クロム、またはアンチモンドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｓｂから選定された材料で構成され、
    　前記第３の層は、金属窒化物、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、アルミニウム、ガリウムおよびボロンの少なくとも一つがドープされた酸化亜鉛（ＺｎＯ：Ａｌ，Ｇａ，Ｂ）、またはフッ素およびアンチモンの少なくとも一つがドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｆ，Ｓｂ）から選定された材料で構成され、
    　当該遮熱ガラス部材の前記第１の層の側から、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定された可視光透過率をＴｖ（％）とし、日射熱取得率をｇ値とし、以下の（１）式で表されるＳＣを遮蔽係数としたとき、
     
    　　　ＳＣ＝ｇ値／０．８８　　　（１）式
     
    　可視光透過率Ｔｖが２５％以上であり、遮熱係数ＳＣが０．３５以下である、遮熱ガラス部材。
  2. 　前記ガラス板は、透明ガラスである、請求項１に記載の遮熱ガラス部材。
  3. 　前記ガラス板は、着色されている、請求項１に記載の遮熱ガラス部材。
  4. 　前記ガラス板は、５ｍｍの厚さに換算したとき、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して得られるエネルギー透過率Ｔｅが５５％以下である、請求項３に記載の遮熱ガラス部材。
  5. 　前記第１の層は、ＴｉＮ、ＺｒＮ、ＣｒＮ、またはＴｉＯ２で構成される、請求項１乃至４のいずれか一つに記載の遮熱ガラス部材。
  6. 　前記第１の層は、５ｎｍ～４０ｎｍの範囲の厚さを有する、請求項１乃至５のいずれか一つに記載の遮熱ガラス部材。
  7. 　前記第２の層は、ＴｉＮまたはアンチモンドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｓｂ）で構成される、請求項１乃至６のいずれか一つに記載の遮熱ガラス部材。
  8. 　前記第３の層は、ＴｉＮ、フッ素ドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｆ）、またはアンチモンドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｓｂ）で構成される、請求項１乃至７のいずれか一つに記載の遮熱ガラス部材。
  9. 　前記第３の層は、１８０ｎｍ～４７０ｎｍの範囲の厚さを有する、請求項１乃至８のいずれか一つに記載の遮熱ガラス部材。
  10. 　ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して、前記第１の層の側および前記第３の層の側から測定された可視光反射率のうち、大きい方の値を第１可視光反射率Ｒｖ１（％）とし、小さい方の値を第２可視光反射率Ｒｖ２（％）としたとき、Ｒｖ１は４０％未満であり、Ｒｖ２は３０％未満である、請求項１乃至９のいずれか一つに記載の遮熱ガラス部材。
  11. 　遮熱ガラス部材の製造方法であって、
    （１）ガラス板の製造工程中に、前記ガラス板の第１の表面に、第Ｉの層を形成する工程と、
    （２）前記ガラス板の製造後に、前記ガラス板の前記第１の表面とは反対の第２の表面に、第ＩＩＩの層を形成する工程と、
    　を有し、
    　（Ａ）前記第Ｉの層は、フッ素およびアンチモンの少なくとも一つがドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｆ，Ｓｂ）で構成され、前記第ＩＩＩの層は、金属窒化物もしくは誘電体酸化物で構成され、または
    　（Ｂ）前記第Ｉの層は、酸化チタン（ＴｉＯ２）で構成され、前記第ＩＩＩの層は、金属窒化物、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、またはアルミニウム、ガリウムおよびボロンの少なくとも一つがドープされた酸化亜鉛（ＺｎＯ：Ａｌ，Ｇａ，Ｂ）、またはフッ素およびアンチモンの少なくとも一つがドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｆ，Ｓｂ）で構成される、製造方法。
  12. 　前記（Ａ）の場合、
    　前記（２）の工程の後に、前記第ＩＩＩの層の側から、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定された可視光透過率をＴｖ（％）とし、日射熱取得率をｇ値とし、以下の（１）式で表される値を遮蔽係数ＳＣとしたとき、
     
    　　　ＳＣ＝ｇ値／０．８８　　　（１）式
     
    　Ｔｖが２５％以上であり、ＳＣが０．３５以下である、請求項１１に記載の製造方法。
  13. 　前記（Ｂ）の場合、
    　前記（２）の工程の後に、前記第Ｉの層の側から、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定された可視光透過率をＴｖ（％）とし、日射熱取得率をｇ値とし、以下の（１）式で表される値を遮蔽係数ＳＣとしたとき、
     
    　　　ＳＣ＝ｇ値／０．８８　　　（１）式
     
    　Ｔｖが２５％以上であり、ＳＣが０．３５以下である、請求項１１に記載の製造方法。
  14. 　前記ガラス板は、透明ガラス板である、請求項１１乃至１３のいずれか一つに記載の製造方法。
  15. 　前記ガラス板は、着色ガラス板である、請求項１１乃至１３のいずれか一つに記載の製造方法。
  16. 　前記（１）の工程は、さらに、前記第Ｉの層を成膜する前に、前記ガラス板の前記第１の表面に、第ＩＩの層を成膜する工程を有し、
    　前記第ＩＩの層は、アンチモンがドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｓｂ）で構成される、請求項１１乃至１５のいずれか一つに記載の製造方法。
  17. 　前記（２）の工程は、さらに、前記第ＩＩＩの層を成膜する前に、前記ガラス板の前記第２の表面に、第ＩＶの層を成膜する工程を有し、
    　前記第ＩＶの層は、金属窒化物、酸化クロム、またはアンチモンドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｓｂ）で構成される、請求項１１乃至１６のいずれか一つに記載の製造方法。
  18. 　前記（２）の工程後に、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して、前記ガラス板の前記第Ｉの層の側および前記第ＩＩＩの層の側から測定された可視光反射率のうち、大きい方の値を第１可視光反射率Ｒｖ１（％）とし、小さい方の値を第２可視光反射率Ｒｖ２（％）としたとき、Ｒｖ１は４０％未満であり、Ｒｖ２は３０％未満である、請求項１１乃至１７のいずれか一つに記載の製造方法。
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