WO2022114038A1 - 断熱ガラス - Google Patents

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WO2022114038A1
WO2022114038A1 PCT/JP2021/043100 JP2021043100W WO2022114038A1 WO 2022114038 A1 WO2022114038 A1 WO 2022114038A1 JP 2021043100 W JP2021043100 W JP 2021043100W WO 2022114038 A1 WO2022114038 A1 WO 2022114038A1
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layer
glass
infrared reflective
reflective layer
overcoat layer
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PCT/JP2021/043100
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Inventor
淳志 関
あずさ ▲高▼井
Original Assignee
Ａｇｃ株式会社
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B60—VEHICLES IN GENERAL
    • B60J—WINDOWS, WINDSCREENS, NON-FIXED ROOFS, DOORS, OR SIMILAR DEVICES FOR VEHICLES; REMOVABLE EXTERNAL PROTECTIVE COVERINGS SPECIALLY ADAPTED FOR VEHICLES
    • B60J1/00—Windows; Windscreens; Accessories therefor
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions

Definitions

  • the present invention relates to heat insulating glass.
  • Insulated glass having a function of reflecting infrared rays is used in various places such as window glass of buildings and glass members of vehicles (for example, Patent Document 1).
  • the heat insulating glass has an infrared reflective layer installed on the glass substrate. Therefore, when infrared rays such as sunlight are applied to the heat insulating glass from the outside, the infrared rays are reflected by the infrared reflecting layer, and the ingress of heat into the room can be suppressed.
  • the infrared reflective layer has excellent low radiation performance, and in winter, the heat in the room is not released to the outside, and the heating load can be reduced.
  • the surface of the infrared reflective layer contained in the heat insulating glass has appropriate unevenness. Therefore, when an attempt is made to wipe off the dirt adhering to the surface with a cloth or the like, there is a problem that the dirt invades the concave portion and the dirt remains.
  • the protective layer is installed on the infrared reflective layer, the color tone of the reflected color of the heat insulating glass deviates from the desired range, and there is a problem that a reflected color that makes people uncomfortable may occur.
  • the present invention has been made in view of such a background, and in the present invention, when wiped with a cloth or the like, stains are suppressed from entering or remaining in the recesses, and the color tone of the reflected color is suppressed. It is an object of the present invention to provide a heat insulating glass that can be adjusted to a predetermined range.
  • the present invention is a heat insulating glass having a glass substrate.
  • the glass substrate has a first surface and a second surface facing each other.
  • a laminated film is installed on the first surface of the glass substrate.
  • the laminated film is formed from the side close to the glass substrate.
  • Infrared reflective layer and Overcoat layer and Have The infrared reflective layer has an arithmetic average roughness Ra of the surface on the side of the overcoat layer of 9 nm to 24 nm.
  • the overcoat layer is composed of an insulator and is arranged so as to fill the unevenness of the infrared reflective layer, and the arithmetic average roughness Ra of the surface on the side opposite to the infrared reflective layer is less than 7 nm.
  • the overcoat layer provides a heat insulating glass having a refractive index in the range of 1.35 to 1.70 and a maximum thickness in the range of 120 nm to 241 nm.
  • the present invention provides a heat insulating glass that suppresses dirt from entering or remaining in a recess when wiped with a cloth or the like, and can adjust the color tone of the reflected color within a predetermined range. can do.
  • the conventional heat insulating glass has a problem that an infrared reflective layer having irregularities is exposed and dirt easily adheres to the surface.
  • the present invention is a heat insulating glass having a glass substrate.
  • the glass substrate has a first surface and a second surface facing each other.
  • a laminated film is installed on the first surface of the glass substrate.
  • the laminated film is formed from the side close to the glass substrate.
  • Infrared reflective layer and Overcoat layer and Have The infrared reflective layer has an arithmetic average roughness Ra of the surface on the side of the overcoat layer of 9 nm to 24 nm.
  • the overcoat layer is composed of an insulator and is arranged so as to fill the unevenness of the infrared reflective layer, and the arithmetic average roughness Ra of the surface on the side opposite to the infrared reflective layer is less than 7 nm.
  • the overcoat layer provides a heat insulating glass having a refractive index in the range of 1.35 to 1.70 and a maximum thickness in the range of 120 nm to 241 nm.
  • the refractive index of the layer is measured based on the provisions of JIS K7142: 2014.
  • an overcoat layer composed of an insulator is formed on the infrared reflecting layer.
  • This overcoat layer is arranged so as to fill the unevenness of the surface of the infrared reflecting layer. Further, the overcoat layer is configured so that the arithmetic average roughness Ra of the surface is less than 7 nm.
  • the exposed surface of the heat insulating glass becomes a smooth surface, and the problem that dirt invades or remains in the recesses when wiped with a cloth or the like can be significantly suppressed. ..
  • the refractive index of the overcoat layer is adjusted to the range of 1.35 to 1.70.
  • the overcoat layer has a maximum thickness of 120 nm to 241 nm.
  • the arithmetic average roughness Ra of the surface of the infrared reflective layer is adjusted in the range of 9 nm to 24 nm.
  • the overcoat layer is composed of an insulator. This is to suppress the deterioration of the heat insulating property of the heat insulating glass. That is, when the overcoat layer is made of a conductor, the function of reflecting infrared rays is reduced, so that the heat insulating property may be lowered.
  • the heat insulating glass according to the embodiment of the present invention can avoid such a problem.
  • the "insulator” means a material having a sheet resistance of 1000 ⁇ / sq or more.
  • FIG. 1 schematically shows an example of a cross section of a heat insulating glass (hereinafter, referred to as “first glass member”) according to an embodiment of the present invention.
  • the first glass member 100 has a glass substrate 110 and a laminated film 120.
  • the glass substrate 110 has a first surface 112 and a second surface 114 facing each other, and the laminated film 120 is installed on the side of the first surface 112 of the glass substrate 110.
  • the laminated film 120 has an undercoat layer 130, an infrared reflective layer 140, and an overcoat layer 150 in the order of proximity to the glass substrate 110.
  • the undercoat layer 130 is provided to adjust the refractive index of the first glass member 100. Further, the undercoat layer 130 may have a role of suppressing the sodium in the glass substrate 110 from diffusing into the infrared reflective layer 140 and reducing the heat insulating property. However, the undercoat layer 130 is a layer to be installed as needed and is not essential.
  • the infrared reflective layer 140 has a role of reflecting infrared rays incident on the first glass member 100 from the side of the laminated film 120.
  • the first glass member 100 has an overcoat layer 150 on the infrared reflecting layer 140.
  • the overcoat layer 150 is configured to fill the irregularities on the surface of the infrared reflective layer 140. Further, on the surface of the overcoat layer 150, the arithmetic mean roughness Ra is less than 7 nm.
  • the presence of the smooth overcoat layer 150 causes dirt to enter or remain in the recesses when the first glass member 100 is wiped with a cloth or the like. Can be suppressed.
  • the overcoat layer 150 is made of a material having a refractive index in the range of 1.35 to 1.70, and has a maximum thickness in the range of 120 nm to 241 nm. There is. Further, the arithmetic average roughness Ra of the surface of the infrared reflective layer 140 on the side of the overcoat layer 150 is adjusted to be in the range of 9 nm to 24 nm.
  • the reflected color can be adjusted within a predetermined range.
  • the glass substrate 110 is made of, for example, soda lime silicate glass, aluminosilicate glass, borate glass, lithium aluminosilicate glass, quartz glass, borosilicate glass, non-alkali glass, or the like.
  • the thickness of the glass substrate 110 is not particularly limited.
  • the thickness of the glass substrate 110 may be in the range of 4 mm to 8 mm.
  • the thickness of the glass substrate 110 may be 1 mm to 5 mm.
  • the undercoat layer 130 is composed of, for example, a layer containing silicon oxide (SiO 2 ).
  • the undercoat layer 130 may be, for example, an acid silicon carbide layer (SiOC).
  • the undercoat layer 130 may be a laminated film.
  • the undercoat layer 130 may be a multilayer of SiOC and SiO 2 , a multilayer of titanium oxide (TiO 2 ) and SiO 2 , or a multilayer of tin oxide (SnO 2 ) and SiO 2 in the order of proximity to the glass substrate 110. It may be composed of.
  • the amount of silicon contained in the entire undercoat layer 130 is preferably in the range of 10 mol% to 40 mol%.
  • the thickness of the undercoat layer 130 changes depending on the refractive index. For example, when the refractive index is in the range of 1.6 to 1.8, the thickness of the undercoat layer 130 is preferably in the range of 30 nm to 100 nm. When the undercoat layer 130 is a plurality of layers, the refractive index of the undercoat layer 130 is represented by the refractive index as a whole.
  • the material constituting the infrared reflective layer 140 is not particularly limited as long as it has a function of reflecting infrared rays.
  • the infrared reflective layer 140 may be composed of, for example, a layer containing tin oxide.
  • the amount of tin oxide contained in the infrared reflective layer 140 is preferably 80 mol% or more.
  • the infrared reflective layer 140 may be composed of fluorine and / or antimony-doped tin oxide or the like.
  • the content of the dopant is preferably in the range of 0.01 to 0.2 in terms of the mol ratio of the dopant atom / tin atom.
  • the thickness of the infrared reflective layer 140 is preferably 250 nm or more. When the thickness of the infrared reflective layer 140 is 250 nm or more, the heat insulating performance of the heat insulating glass is improved.
  • the thickness of the infrared reflecting layer 140 is more preferably 309 nm or more, and even more preferably 384 nm or more.
  • the thickness of the infrared reflective layer 140 is preferably 787 nm or less.
  • the thickness of the infrared reflecting layer 140 is 787 nm or less, the transparency of the heat insulating glass in the visible light region can be ensured.
  • the thickness of the infrared reflective layer 140 is more preferably 707 nm or less, and further preferably 617 nm or less.
  • the infrared reflective layer 140 has an uneven shape on the side of the overcoat layer 150, the "thickness" varies depending on the location.
  • the "thickness" of the infrared reflective layer 140 represents the minimum thickness of the infrared reflective layer 140 in the measurement region.
  • the "thickness” of the overcoat layer 150 represents the maximum thickness of the overcoat layer 150 in the measurement region.
  • the "thickness" of the infrared reflective layer 140 is represented by the total thickness of the multiple layers. The same applies to the overcoat layer 150.
  • the arithmetic average roughness Ra of the surface of the infrared reflective layer 140 is adjusted to the range of 9 nm to 24 nm.
  • the arithmetic average roughness Ra is preferably in the range of 12 nm to 24 nm.
  • the overcoat layer 150 is made of a material having a refractive index in the range of 1.35 to 1.70.
  • the overcoat layer 150 is composed of an insulator such as a metal oxide. By forming the overcoat layer 150 with an insulator, it is possible to significantly suppress a decrease in the heat insulating property of the first glass member 100.
  • Materials for the overcoat layer 150 include, for example, silica (SiO 2 ), titania (TiO 2 ), zirconia (ZrO 2 ) and the like.
  • the thickness of the overcoat layer 150 is in the range of 120 nm to 241 nm.
  • the thickness of the overcoat layer 150 is preferably 134 nm or more. When the thickness of the overcoat layer 150 is 134 nm or more, it becomes easy to fill the unevenness of the infrared reflective layer 140, and the antifouling property of the heat insulating glass is improved.
  • the thickness of the overcoat layer 150 is more preferably 138 nm or more.
  • the thickness of the overcoat layer 150 is preferably 221 nm or less.
  • the thickness of the overcoat layer 150 is 221 nm or less, the increase in visible light reflectance is suppressed and the aesthetic appearance is improved.
  • the thickness of the overcoat layer 150 is more preferably 194 nm or less.
  • the "thickness" of the overcoat layer 150 represents the maximum thickness of the overcoat layer 150 in the measurement region.
  • the overcoat layer 150 is arranged so as to fill the unevenness on the upper part of the infrared reflecting layer 140.
  • the first glass member 100 has a planar shape. However, this is only an example, and the first glass member 100 may have a curved surface shape.
  • the flat first glass member 100 can be used, for example, for windowpanes of buildings and some vehicles such as buses and trucks.
  • the curved surface-shaped first glass member 100 can be used for, for example, a vehicle in general.
  • the first glass member 100 may be applied to at least one of a front window, a rear window, a side window, and a roof window.
  • the manufacturing method thereof will be described by taking the first glass member 100 shown in FIG. 1 as an example.
  • FIG. 2 schematically shows an example of a flow of a manufacturing method of the first glass member 100 (hereinafter, referred to as “first manufacturing method”).
  • the first manufacturing method is (A) The step of installing the undercoat layer on the first surface of the glass substrate (step S110), (B) In the step of installing the infrared reflective layer on the undercoat layer (step S120), (C) In the step of installing the overcoat layer on the infrared reflective layer (step S130), Have.
  • Step S110 First, the glass substrate 110 is prepared.
  • the type of the glass substrate 110 is not particularly limited.
  • the glass substrate 110 may be a soda lime silicate-based high-transparency glass.
  • the undercoat layer 130 is arranged on the first surface 112 of the glass substrate 110.
  • the undercoat layer 130 can be formed by using various film forming methods such as a chemical vapor deposition (CVD) method, an electron beam vapor deposition method, a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, and a spray method.
  • CVD chemical vapor deposition
  • electron beam vapor deposition method vapor deposition
  • vacuum vapor deposition method vapor deposition
  • sputtering method a spray method.
  • the undercoat layer 130 when the undercoat layer 130 is composed of the silicon oxide layer (SiO 2 ), the undercoat layer 130 may be formed by the atmospheric pressure CVD method.
  • a gas raw material such as monosilane, tetraethoxysilane, and oxygen can be used as the raw material.
  • the raw material gas may be mixed in advance and then conveyed onto the first surface 112 of the glass substrate 110.
  • the raw material gas may be mixed on the first surface 112 of the glass substrate 110.
  • the undercoat layer 130 is composed of an acid silicon carbide layer (SiOC)
  • SiOC acid silicon carbide layer
  • methane, ethylene, and / or acetylene or the like may be added to the raw material gas.
  • Carbon-containing gas may be contained. When such a carbon-containing gas is used, it becomes easy to form a particulate silicon compound together with a film-shaped silicon compound, and the haze rate can be increased.
  • the temperature of the glass substrate 110 when forming the undercoat layer 130 is preferably 500 ° C to 900 ° C. When the temperature of the glass substrate 110 is less than 500 ° C or higher than 900 ° C, the film formation rate tends to decrease.
  • Step S120 Next, the infrared reflective layer 140 is formed on the undercoat layer 130.
  • the infrared reflective layer 140 can be formed by using various film forming methods such as a chemical vapor deposition (CVD) method, an electron beam vapor deposition method, a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, and a spray method.
  • CVD chemical vapor deposition
  • electron beam vapor deposition method vapor deposition
  • vacuum vapor deposition method vapor deposition
  • sputtering method a spray method.
  • the infrared reflective layer 140 may be, for example, fluorine-doped tin oxide (SnO 2 : F), antimonated tin oxide (SnO 2 : Sb), tin-doped indium oxide (In 2 O 3 : Sn), or aluminum. It can be configured using various thin film materials such as doped zinc oxide (ZnO: Al) and gallium-doped zinc oxide (ZnO: Ga).
  • the color tone can be adjusted within a predetermined range by making the surface of the infrared reflective layer relatively rough.
  • the infrared reflective layer 140 is particularly preferably fluorine-doped tin oxide (SnO 2 : F) or antimony-doped tin oxide (SnO 2 : Sb). In this case, the unevenness of the surface of the infrared reflective layer can be increased.
  • the infrared reflective layer 140 is made of, for example, aluminum-doped zinc oxide (ZnO: Al) or gallium-doped zinc oxide (ZnO: Ga), the crystal orientation tends to be aligned and the surface tends to be flat.
  • Tin-doped indium oxide (In 2 O 3 : Sn) has a stronger function of reflecting infrared rays and is often used in a film thickness band of around 100 nm. Therefore, when the infrared reflective layer 140 is composed of tin-doped indium oxide (In 2 O 3 : Sn), it is difficult to adjust the color tone of the reflected color within a predetermined range, and the growth of crystal grains is insufficient. And the surface tends to be flat.
  • the infrared reflective layer 140 when the infrared reflective layer 140 is composed of a fluorine-doped tin oxide layer (SnO 2 : F), the infrared reflective layer 140 may be formed by the atmospheric pressure CVD method. In this case, a mixture of an inorganic or organic tin compound and a fluorine compound is used as a raw material.
  • a fluorine-doped tin oxide layer SnO 2 : F
  • the tin compound examples include monobutyltin trichloride (C 4 H 9 SnCl 3 ) and tin tetrachloride (SnCl 4 ).
  • the tin compound an organic tin compound is particularly preferable.
  • an inorganic tin compound is used as the tin compound, the growth rate of the crystal grains is high and the surface unevenness tends to be severe.
  • fluorine compound examples include hydrogen fluoride and trifluoroacetic acid.
  • the infrared reflective layer 140 when the infrared reflective layer 140 is composed of an antimony-doped tin oxide layer (SnO 2 : Sb), the infrared reflective layer 140 may be formed by the atmospheric pressure CVD method. In this case, a mixture of an inorganic or organic tin compound and an antimony compound is used as a raw material.
  • SnO 2 antimony-doped tin oxide layer
  • an organic tin compound is particularly preferable.
  • an inorganic tin compound is used as the tin compound, the growth rate of the crystal grains is high and the surface unevenness tends to be severe.
  • antimony compound examples include antimony trichloride (SbCl 3 ) and antimony trichloride (SbCl 5 ).
  • antimony trichloride is particularly preferable.
  • antimony trichloride reacts violently with water in the source gas to form particle clusters of antimony trioxide (Sb 2 O 3 ) and antimony pentoxide (Sb 2 O 5 ) in the gas phase. Therefore, by including these particle clusters in the film, the degree of surface unevenness can be controlled.
  • the infrared reflective layer 140 can also be configured by using a plurality of various thin film materials.
  • the infrared reflective layer 140 is preferably configured by using an antimony-doped tin oxide layer (SnO 2 : Sb) and a fluorine-doped tin oxide layer (SnO 2 : F).
  • SnO 2 : Sb antimony-doped tin oxide layer
  • SnO 2 : F fluorine-doped tin oxide layer
  • the raw material gas may be mixed in advance and then conveyed.
  • the raw material gas may be mixed on the surface of the object to be filmed.
  • the raw material may be vaporized into a gaseous state by using a bubbling method, a vaporizer, or the like.
  • the amount of water per 1 mol of tin compound in the raw material gas is preferably 5 to 50 mol.
  • the resistance value of the film to be formed tends to increase, and as a result, the infrared reflection function tends to decrease.
  • the starting point of nucleation is reduced, and as a result, crystal grains are likely to grow large and the surface is likely to be uneven.
  • the amount of water exceeds 50 mol
  • the capacity of the raw material gas increases as the amount of water increases, and the flow velocity of the raw material gas increases, so that the film formation efficiency may decrease.
  • the number of starting points for nucleation increases, and as a result, crystal grains tend to be small and easily grow, and the surface tends to be flat.
  • the amount of oxygen per 1 mol of the tin compound in the raw material gas is preferably more than 0 mol and 40 mol or less, and more preferably 4 to 40 mol. If the amount of oxygen is less than 4 mol, the resistance value of the formed film may increase. On the other hand, if the amount of oxygen exceeds 40 mol, the capacity of the raw material gas increases and the flow velocity of the raw material gas increases, which may reduce the film forming efficiency.
  • the amount of the fluorine compound with respect to 1 mol of the tin compound in the raw material gas is preferably 0.1 to 1.2 mol.
  • the resistance value of the formed film tends to increase.
  • the temperature of the glass substrate 110 when forming the infrared reflective layer 140 is preferably 500 ° C to 650 ° C. If the temperature of the glass is less than 500 ° C., the formation rate of the infrared reflective layer 140 decreases. Further, the rate at which the precursor produced by the decomposition of the raw material gas reacts on the surfaces of the glass substrate 110 and the infrared reflective layer 140 is higher than the rate at which the precursor is diffused on the surfaces of the glass substrate 110 and the infrared reflective layer 140. As a result, more precursors flow into the irregularities on the surface of the glass substrate 110 and the infrared reflective layer 140, and the surface tends to be flat.
  • the film formation is carried out in a state where the viscosity of the glass is low, so that there is a possibility that warpage occurs in the process of lowering the temperature of the glass to room temperature.
  • the rate at which the precursor reacts on the surfaces of the glass substrate 110 and the infrared reflecting layer 140 is higher than the rate at which the precursor diffuses on the surfaces of the glass substrate 110 and the infrared reflecting layer 140. As a result, the precursor does not flow into the irregularities on the surfaces of the glass substrate 110 and the infrared reflective layer 140 so much, and the irregularities on the surface tend to increase.
  • steps S110 and S120 may be carried out by an online method in the process of producing glass with a float facility.
  • the glass substrate manufactured by the float method may be reheated by the offline method to carry out the film formation.
  • Step S130 Next, the overcoat layer 150 is installed on the infrared reflecting layer 140.
  • the overcoat layer 150 is formed by, for example, a wet method.
  • a coating solution for the overcoat layer 150 is prepared.
  • the coating solution contains a precursor of a metal oxide, an organic solvent, and water. Particles and / or solids may also be added to the coating solution.
  • the composition of the particles may be the same as or different from the precursor of the metal oxide.
  • the coating solution is applied onto the infrared reflective layer 140 of the glass substrate 110.
  • the method of application is not particularly limited, and general means such as a spin coating method may be used.
  • the glass substrate 110 on which the coating solution is installed is heat-treated in the atmosphere.
  • the temperature of the heat treatment is, for example, in the range of 80 ° C to 650 ° C.
  • the heating time is, for example, in the range of 5 minutes to 360 minutes.
  • the heat treatment may be carried out using a general device such as a hot air circulation furnace or an IR heater furnace. Further, the overcoat layer 150 may be formed from the coating solution by UV curing treatment, microwave treatment, or the like.
  • the overcoat layer 150 can be formed on the infrared reflecting layer 140.
  • the coating solution may be heated by utilizing the heating step carried out in another step.
  • the first glass member 100 as shown in FIG. 1 described above can be manufactured.
  • the above description is merely an example, and the heat insulating glass portion according to the embodiment of the present invention may be manufactured by another manufacturing method.
  • the first manufacturing method may further include a step of air-cooling strengthening or chemically strengthening the glass substrate 110 (strengthening step).
  • This strengthening step may be carried out in any order, for example, before step S110 or after step S130.
  • the strength of the glass substrate 110 and further the first glass member 100 can be increased.
  • first glass member 100 may be bent after step S130 or the like.
  • a step of bonding another glass substrate to the first glass member 100 may be carried out.
  • Example 2 is an example, and Examples 1, 3, and 4 are comparative examples.
  • Example 1 Insulated glass was manufactured by the following method.
  • a glass substrate with a thickness of 4 mm (soda lime silicate glass: manufactured by AGC Inc.) was prepared.
  • the undercoat layer was a SiOC layer, and a film was formed by the CVD method.
  • Monosilane, ethylene and carbon dioxide were used as the raw material gas, and nitrogen was used as the carrier gas.
  • the target thickness of the undercoat layer was set to 56 nm.
  • the infrared reflective layer was a fluorine-doped tin oxide layer (SnO 2 : F), and a film was formed by a CVD method.
  • Monobutyltin trichloride (MBTC), water, air and trifluoroacetic acid were used as the raw material gas, and nitrogen was used as the carrier gas.
  • the target thickness (minimum thickness) of the infrared reflective layer was set to 310 nm.
  • the overcoat layer was a silica layer (SiO 2 ) and was formed by a wet method.
  • a coating liquid containing alkoxysilane, nitric acid, water, and ethanol was prepared and spin-coated on the infrared reflective layer of the glass substrate. Then, it was held at 600 ° C. for 7 minutes in the atmosphere to form an overcoat layer.
  • the target thickness (maximum thickness) of the overcoat layer was 68 nm.
  • the refractive index of the overcoat layer was 1.45.
  • sample A heat insulating glass
  • Example 2 A glass member was manufactured by the same method as in Example 1.
  • glass having a thickness of 3.2 mm (soda lime silicate glass; manufactured by AGC Inc.) was used as the glass substrate.
  • the thickness of the infrared reflective layer was set to 367 nm, and the thickness of the overcoat layer was set to 140 nm.
  • sample B heat insulating glass
  • Example 3 A glass member was manufactured by the same method as in Example 1. However, in this example 3, the overcoat layer was not installed on the infrared reflecting layer.
  • sample C heat insulating glass
  • Example 4 A glass member was manufactured by the same method as in Example 2. However, in this example 4, the overcoat layer was not installed on the infrared reflecting layer.
  • sample D heat insulating glass
  • Table 1 summarizes the configurations of the laminated films in Samples A to D.
  • the surface roughness of the laminated film of each sample was measured using an atomic force microscope (AFM) device (SPA-400; manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd.).
  • the evaluation region was a region of 2 ⁇ m ⁇ 2 ⁇ m in the substantially central portion of the surface of the laminated film.
  • FIGS. 3 to 6 show profiles of surface irregularities obtained in Samples A to D, respectively.
  • Table 2 summarizes the results of the arithmetic mean roughness Ra of the surface obtained in each sample.
  • the infrared reflective layer of the sample A is formed by the same method and the same thickness as the sample C, the arithmetic average roughness Ra of the surface of the infrared reflective layer in the sample A is 12.0 nm. is expected.
  • the arithmetic average roughness Ra of the surface of the infrared reflective layer in sample B is expected to be 15.6 nm.
  • the haze rate (C light source haze rate) was measured using Samples A to D.
  • the haze rate was evaluated using a haze meter (HZ-2; Suga Test Instruments Co., Ltd.).
  • a spectrophotometer (Lambda 950; manufactured by PerkinElmer Japan Co., Ltd.) was used for the measurement. From the obtained spectrum, the reflectance Rv was determined based on ISO9050: 2003. Further, the color tone of the reflected light was determined based on JIS Z8781-4: 2013. The angle of incidence was 0 °.
  • the heat insulating glass had the configuration shown in FIG. 1 described above, and the refractive index of the overcoat layer was changed to calculate the thickness of the overcoat layer for obtaining the target reflection characteristics.
  • the mixed layer means an uneven layer existing between the infrared reflecting layer and the overcoat layer. That is, in the simulation, it is assumed that the infrared reflective layer and the overcoat layer are flat layers without unevenness, and that an uneven layer (mixed layer) having a predetermined surface roughness exists between them.
  • the material of the mixed layer was assumed to be a mixture of 80% of the constituent material of the infrared reflective layer and 20% of the constituent material of the overcoat layer. This percentage was determined from the ratio of the thickness of the infrared reflective layer to the thickness of the overcoat layer.
  • the target reflection characteristics are as follows: Reflectance Rv ⁇ 12% A * value ⁇ 4 in chromaticity coordinates (L * , a * , b * ) B * value ⁇ -4 in chromaticity coordinates (L * , a * , b * ).
  • the color tone included in the target reflection characteristics is approximately in the blue to purple region.
  • Simulation evaluation II Simulation evaluation I revealed that the thickness of the overcoat layer satisfying the target reflection characteristics is determined by setting the refractive index of the overcoat layer in the range of 1.25 to 1.75.
  • the refractive index of the overcoat layer is determined, and the thickness of each layer contained in the laminated film (referred to as "center thickness") is determined.
  • the color tone (chromaticity coordinates) of the reflected color obtained in this configuration is evaluated. The obtained result is defined as the center C of the distribution.
  • the center thickness of each defined layer is varied within a range of ⁇ 5%, and the color tone (chromaticity coordinates) of the reflected color in each case is evaluated in the same manner. For all the results, the amount of deviation from the center C of the distribution is obtained, and the standard deviation ⁇ of the amount of deviation is calculated.
  • the same evaluation is carried out by changing the refractive index of the overcoat layer.
  • the refractive index of the overcoat layer was changed in the range of 1.25 to 1.75 obtained by the above-mentioned simulation evaluation I. Further, in any of the configurations, the arithmetic average roughness Ra of the mixed layer was set to 12 nm.
  • Table 5 below shows the center thickness of each layer assumed for each refractive index of the overcoat layer.
  • FIG. 7 summarizes the results obtained by the above simulation calculation.
  • the horizontal axis is the refractive index of the overcoat layer, and the vertical axis is the standard deviation ⁇ .
  • the refractive index of the overcoat layer in the range of 1.35 to 1.70 in this way, even if the thickness of each layer constituting the laminated film varies by about ⁇ 5%, the color tone of the heat insulating glass is adjusted. It was found that the fluctuation of the
  • the target reflection characteristics are as follows: Reflectance Rv ⁇ 12% A * value ⁇ 4 in chromaticity coordinates (L * , a * , b * ) B * value ⁇ -4 in chromaticity coordinates (L * , a * , b * ).
  • the color tone included in the target reflection characteristics is approximately in the blue to purple region.
  • Simulation evaluation III revealed that the thickness of the overcoat layer satisfying the target reflection characteristics is determined by setting the surface roughness Ra of the mixed layer to 27 nm or less.
  • the surface roughness of the mixed layer (arithmetic mean roughness Ra) is determined, and the thickness of each layer contained in the laminated film (referred to as "center thickness") is determined.
  • the color tone (chromaticity coordinates) of the reflected color obtained in this configuration is evaluated. The obtained result is defined as the center C of the distribution.
  • the thickness of each defined layer is varied within a range of ⁇ 5%, and the color tone (chromaticity coordinates) of the reflected color in each case is evaluated in the same manner. For all the results, the amount of deviation from the center C of the distribution is obtained, and the standard deviation ⁇ of the amount of deviation is calculated.
  • the same evaluation is carried out by changing the surface roughness of the mixed layer.
  • the arithmetic average roughness Ra of the mixed layer was changed in the range of 0 to 27 obtained by the above-mentioned simulation evaluation III.
  • the refractive index of the overcoat layer was 1.45.
  • Table 8 shows the center thickness of each layer assumed in each arithmetic mean roughness Ra of the mixed layer.
  • FIG. 8 summarizes the results obtained by the above simulation calculation.
  • the horizontal axis is the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the mixed layer
  • the vertical axis is the standard deviation ⁇ .
  • the refractive index of the overcoat layer was set to 1.45. Further, the surface roughness (arithmetic mean roughness Ra) of the mixed layer is fixed at 12 nm, and the thickness of the infrared reflective layer is changed to obtain the target reflection characteristic and transmission characteristic. Was calculated. Other parameters used are shown in Table 9 below. These parameters were fixed.
  • the target reflection and transmission characteristics are as follows: Reflectance Rv ⁇ 12% Transmittance Tv ⁇ 80% A * value ⁇ 4 in the reflection chromaticity coordinates (L * , a * , b * ) B * value ⁇ -4 in the reflection chromaticity coordinates (L * , a * , b * ).
  • the reflected color tone included in the target characteristics is approximately in the blue to purple region.
  • the thickness range of the overcoat layer satisfying the target characteristics at the refractive index of 1.45 exists in the range of the "maximum thickness" of 120 nm to 221 nm. I understood.
  • First glass member 110 Glass substrate 112 First surface 114 Second surface 120 Laminated film 130 Undercoat layer 140 Infrared reflective layer 150 Overcoat layer

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Abstract

ガラス基板を有する断熱ガラスであって、前記ガラス基板は、相互に対向する第１の表面および第２の表面を有し、前記ガラス基板の前記第１の表面には、積層膜が設置され、該積層膜は、前記ガラス基板に近い側から、赤外線反射層と、オーバーコート層と、を有し、前記赤外線反射層は、前記オーバーコート層の側の表面の算術平均粗さＲａが９ｎｍ～２４ｎｍであり、前記オーバーコート層は、絶縁体で構成され、前記赤外線反射層の凹凸を埋めるように配置され、前記赤外線反射層とは反対の側の表面の算術平均粗さＲａが７ｎｍ未満であり、前記オーバーコート層は、１．３５～１．７０の範囲の屈折率を有し、最大厚さが１２０ｎｍ～２４１ｎｍの範囲である、断熱ガラス。

Description

断熱ガラス
　本発明は、断熱ガラスに関する。
　赤外線を反射する機能を有する断熱ガラスは、建物の窓ガラスおよび車両のガラス部材など、様々な場所に利用されている（例えば、特許文献１）。
　断熱ガラスは、ガラス基板の上に設置された赤外線反射層を有する。このため、例えば太陽光などの赤外線が、屋外から断熱ガラスに照射されると、この赤外線反射層により赤外線が反射され、室内への熱の進入を抑制することができる。また、赤外線反射層は優れた低放射性能を有し、冬場においては室内の熱を室外に逃がさず、暖房負荷を低減することができる。
国際公開第２０１６／０９４０１２号
　一般に、断熱ガラスに含まれる赤外線反射層の表面は、相応の凹凸を有する。このため、表面に付着した汚れを布などで拭き取ろうとした場合、逆に凹部に汚れが侵入してしまい、汚れが残留するという問題がある。
　なお、このような問題を抑制するため、赤外線反射層の上に保護層を設置することが考えられる。
　しかしながら、赤外線反射層の上に保護層を設置すると、断熱ガラスの反射色の色調が所望の範囲からずれてしまい、人が不快に感じるような反射色が生じ得るという問題がある。
　本発明は、このような背景に鑑みなされたものであり、本発明では、布などで拭いたときに、汚れが凹部に侵入したり残留したりすることが抑制される上、反射色の色調を所定の範囲に調整することが可能な、断熱ガラスを提供することを目的とする。
　本発明では、ガラス基板を有する断熱ガラスであって、
　前記ガラス基板は、相互に対向する第１の表面および第２の表面を有し、
　前記ガラス基板の前記第１の表面には、積層膜が設置され、
　該積層膜は、前記ガラス基板に近い側から、
　　赤外線反射層と、
　　オーバーコート層と、
　を有し、
　前記赤外線反射層は、前記オーバーコート層の側の表面の算術平均粗さＲａが９ｎｍ～２４ｎｍであり、
　前記オーバーコート層は、絶縁体で構成され、前記赤外線反射層の凹凸を埋めるように配置され、前記赤外線反射層とは反対の側の表面の算術平均粗さＲａが７ｎｍ未満であり、
　前記オーバーコート層は、１．３５～１．７０の範囲の屈折率を有し、最大厚さが１２０ｎｍ～２４１ｎｍの範囲である、断熱ガラスが提供される。
　本発明では、布などで拭いたときに、汚れが凹部に侵入したり残留したりすることが抑制される上、反射色の色調を所定の範囲に調整することが可能な、断熱ガラスを提供することができる。
本発明の一実施形態による断熱ガラスの構成の一例を模式的に示した断面図である。 本発明の一実施形態による断熱ガラスの製造方法の一例を模式的に示したフロー図である。 原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）装置により得られた、サンプルＡの積層膜における表面プロファイルの一例を示した図である。 原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）装置により得られた、サンプルＢの積層膜における表面プロファイルの一例を示した図である。 原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）装置により得られた、サンプルＣの積層膜における表面プロファイルの一例を示した図である。 原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）装置により得られた、サンプルＤの積層膜における表面プロファイルの一例を示した図である。 シミュレーション計算によって得られた、オーバーコート層の屈折率と標準偏差σの関係を示したグラフである。 別のシミュレーション計算によって得られた、混合層の算術平均粗さＲａと標準偏差σの関係を示したグラフである。
　以下、本発明の一実施形態について説明する。
　前述のように、従来の断熱ガラスには、凹凸を有する赤外線反射層が露出されており、表面に汚れが付着し易いという問題がある。
　これに対して、本発明の一実施形態では、ガラス基板を有する断熱ガラスであって、
　前記ガラス基板は、相互に対向する第１の表面および第２の表面を有し、
　前記ガラス基板の前記第１の表面には、積層膜が設置され、
　該積層膜は、前記ガラス基板に近い側から、
　　赤外線反射層と、
　　オーバーコート層と、
　を有し、
　前記赤外線反射層は、前記オーバーコート層の側の表面の算術平均粗さＲａが９ｎｍ～２４ｎｍであり、
　前記オーバーコート層は、絶縁体で構成され、前記赤外線反射層の凹凸を埋めるように配置され、前記赤外線反射層とは反対の側の表面の算術平均粗さＲａが７ｎｍ未満であり、
　前記オーバーコート層は、１．３５～１．７０の範囲の屈折率を有し、最大厚さが１２０ｎｍ～２４１ｎｍの範囲である、断熱ガラスが提供される。
　ここで、本願では、層の屈折率は、ＪＩＳ　Ｋ７１４２：２０１４の規定に基づいて測定される。
　本発明の一実施形態による断熱ガラスでは、赤外線反射層の上に、絶縁体で構成されたオーバーコート層が形成される。このオーバーコート層は、赤外線反射層の表面の凹凸を埋めるように配置される。また、オーバーコート層は、表面の算術平均粗さＲａが７ｎｍ未満となるように構成される。
　従って、本発明の一実施形態では、断熱ガラスの露出面が平滑な表面となり、布などで拭いたときに、汚れが凹部に侵入したり残留したりするという問題を有意に抑制することができる。
　ただし、赤外線反射層の上に、単に平滑なオーバーコート層を配置しただけでは、断熱ガラスの反射色の色調が、所望の範囲からずれてしまい、人が不快に感じるような反射色が生じ得るという問題がある。
　しかしながら、本発明の一実施形態による断熱ガラスは、オーバーコート層の屈折率が１．３５～１．７０の範囲に調整されている。また、本発明の一実施形態による断熱ガラスでは、オーバーコート層は、１２０ｎｍ～２４１ｎｍの最大厚さを有する。さらに、赤外線反射層の表面の算術平均粗さＲａは、９ｎｍ～２４ｎｍの範囲に調整されている。
　本願発明者らの知見によれば、このような赤外線反射層およびオーバーコート層を使用した場合、反射色を所定の範囲に調整することができることが把握されている。
　従って、本発明の一実施形態では、布などで拭いたときに、汚れが凹部に侵入したり残留したりすることが抑制される上、反射色の色調が所定の範囲に調整された、断熱ガラスを提供することができる。
　なお、本発明の一実施形態では、オーバーコート層は、絶縁体で構成される。これは、断熱ガラスの断熱性の低下を抑制するためである。すなわち、オーバーコート層を導電体で構成した場合、赤外線を反射する機能が低下するため、断熱性が低下する可能性がある。しかしながら、本発明の一実施形態による断熱ガラスでは、そのような問題を回避することができる。
　なお、本願において、「絶縁体」とは、シート抵抗が１０００Ω／ｓｑ以上の材料を意味する。
　（本発明の一実施形態による断熱ガラス）
　以下、図１を参照して、本発明の一実施形態による断熱ガラスについて、具体的に説明する。
　図１には、本発明の一実施形態による断熱ガラス（以下、「第１のガラス部材」と称する）の断面の一例を模式的に示す。
　図１に示すように、第１のガラス部材１００は、ガラス基板１１０と、積層膜１２０とを有する。ガラス基板１１０は、相互に対向する第１の表面１１２および第２の表面１１４を有し、積層膜１２０は、ガラス基板１１０の第１の表面１１２の側に設置される。
　積層膜１２０は、ガラス基板１１０に近い順に、アンダーコート層１３０、赤外線反射層１４０、およびオーバーコート層１５０を有する。
　アンダーコート層１３０は、第１のガラス部材１００の屈折率を調整するために設けられる。また、アンダーコート層１３０は、ガラス基板１１０中のナトリウムが赤外線反射層１４０に拡散し、断熱性が低下することを抑制する役割を有してもよい。ただし、アンダーコート層１３０は、必要に応じて設置される層であり、必須ではない。
　一方、赤外線反射層１４０は、第１のガラス部材１００に、積層膜１２０の側から入射される赤外線を反射する役割を有する。
　図１に示すように、第１のガラス部材１００は、赤外線反射層１４０の上に、オーバーコート層１５０を有する。
　オーバーコート層１５０は、赤外線反射層１４０の表面の凹凸を埋めるように構成される。また、オーバーコート層１５０の表面において、算術平均粗さＲａは、７ｎｍ未満である。
　従って、第１のガラス部材１００では、平滑なオーバーコート層１５０の存在により、第１のガラス部材１００を布などで拭いたときに、汚れが凹部に侵入したり、残留したりすることを有意に抑制することができる。
　また、第１のガラス部材１００において、オーバーコート層１５０は、屈折率が１．３５～１．７０の範囲の材料で構成され、最大厚さが１２０ｎｍ～２４１ｎｍの範囲となるように構成されている。また、赤外線反射層１４０は、オーバーコート層１５０の側の表面の算術平均粗さＲａが、９ｎｍ～２４ｎｍの範囲に調整されている。
　このような構成を有する第１のガラス部材１００では、反射色を所定の範囲に調整することができる。
　以下、第１のガラス部材１００に含まれる各構成要素における、その他の特徴について説明する。
　（ガラス基板１１０）
　ガラス基板１１０は、例えば、ソーダライムシリケートガラス、アルミノシリケートガラス、ボレートガラス、リチウムアルミノシリケートガラス、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、または無アルカリガラス等で構成される。
　ガラス基板１１０の厚さは、特に限られない。例えば、第１のガラス部材１００を建築物に利用する場合、ガラス基板１１０の厚さは、４ｍｍ～８ｍｍの範囲であってもよい。一方、第１のガラス部材１００を車両に利用する場合、ガラス基板１１０の厚さは、１ｍｍ～５ｍｍであってもよい。
　（アンダーコート層１３０）
　アンダーコート層１３０は、例えば、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を含む層で構成される。アンダーコート層１３０は、例えば、酸炭化ケイ素層（ＳｉＯＣ）であってもよい。
　また、アンダーコート層１３０は、積層膜であってもよい。例えば、アンダーコート層１３０は、ガラス基板１１０に近い順に、ＳｉＯＣとＳｉＯ２の複層、酸化チタン（ＴｉＯ２）とＳｉＯ２の複層、または酸化スズ（ＳｎＯ２）とＳｉＯ２の複層等で構成されても良い。
　アンダーコート層１３０全体に含まれるケイ素の量は、１０モル％～４０モル％の範囲であることが好ましい。
　アンダーコート層１３０の厚さは、屈折率によって変化する。例えば、屈折率が１．６～１．８の範囲の場合、アンダーコート層１３０の厚さは、３０ｎｍ～１００ｎｍの範囲であることが好ましい。なお、アンダーコート層１３０が複層の場合、アンダーコート層１３０の屈折率は、全体としての屈折率で表される。
　（赤外線反射層１４０）
　赤外線反射層１４０を構成する材料は、赤外線を反射する機能を有する限り、特に限られない。
　赤外線反射層１４０は、例えば、酸化スズを含む層で構成されてもよい。この場合、赤外線反射層１４０に含まれる酸化スズの量は、８０ｍｏｌ％以上であることが好ましい。例えば、赤外線反射層１４０は、フッ素および／またはアンチモンがドープされた酸化スズ等で構成されても良い。この場合、ドーパントの含有量は、ドーパント原子／スズ原子のｍｏｌ比で、０．０１～０．２の範囲であることが好ましい。
　赤外線反射層１４０の厚さは 、２５０ｎｍ以上であることが好ましい。赤外線反射層１４０の厚さが２５０ｎｍ以上である場合、断熱ガラスの断熱性能が向上する。赤外線反射層１４０の厚さは、３０９ｎｍ以上がより好ましく、３８４ｎｍ以上がさらに好ましい。
　一方、赤外線反射層１４０の厚さは 、７８７ｎｍ以下であることが好ましい。赤外線反射層１４０の厚さが７８７ｎｍ以下である場合、断熱ガラスの可視光域における透過性を確保できる。赤外線反射層１４０の厚さは 、７０７ｎｍ以下であることがより好ましく、６１７ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
　なお、赤外線反射層１４０は、オーバーコート層１５０の側に凹凸形状を有するため、「厚さ」は、場所によって異なる。
　そこで、本願では、赤外線反射層１４０の「厚さ」は、測定領域における赤外線反射層１４０の最小厚さを表すものとする。一方、オーバーコート層１５０の「厚さ」は、測定領域におけるオーバーコート層１５０の最大厚さを表すものとする。
　なお、赤外反射層１４０が異種材料の複層で構成される場合、赤外反射層１４０の「厚さ」は、複層の厚さの合計で表される。オーバーコート層１５０についても同様である。
　前述のように、赤外線反射層１４０の表面の算術平均粗さＲａは、９ｎｍ～２４ｎｍの範囲に調整されている。算術平均粗さＲａは、１２ｎｍ～２４ｎｍの範囲であることが好ましい。
　（オーバーコート層１５０）
　前述のように、オーバーコート層１５０は、屈折率が１．３５～１．７０の範囲の材料で構成される。
　また、オーバーコート層１５０は、金属酸化物のような絶縁体で構成される。オーバーコート層１５０を絶縁体で構成することにより、第１のガラス部材１００の断熱性の低下を有意に抑制できる。
　オーバーコート層１５０用の材料には、例えば、シリカ（ＳｉＯ２）、チタニア（ＴｉＯ２）、およびジルコニア（ＺｒＯ２）などが含まれる。
　オーバーコート層１５０の厚さは、１２０ｎｍ～２４１ｎｍの範囲である。
　オーバーコート層１５０の厚さは、１３４ｎｍ以上が好ましい。オーバーコート層１５０の厚さが１３４ｎｍ以上の場合、赤外線反射層１４０の凹凸を埋めやすくなり、断熱ガラスの防汚性が向上する。オーバーコート層１５０の厚さは、１３８ｎｍ以上がより好ましい。
　一方、オーバーコート層１５０の厚さは、２２１ｎｍ以下であることが好ましい。オーバーコート層１５０の厚さが２２１ｎｍ以下の場合、可視光反射率の上昇が抑制され、美観が向上する。オーバーコート層１５０の厚さは、１９４ｎｍ以下であることがより好ましい。
　前述のように、オーバーコート層１５０の「厚さ」は、測定領域におけるオーバーコート層１５０の最大厚さを表す。
　前述のように、オーバーコート層１５０は、赤外線反射層１４０の上部の凹凸を埋めるように配置される。
　なお、図１に示した例では、第１のガラス部材１００は、平面形状を有する。しかしながら、これは単なる一例であって、第１のガラス部材１００は、曲面形状を有してもよい。
　平面形状の第１のガラス部材１００は、例えば、建物の窓ガラス、ならびにバスおよびトラックのような一部の車両等に利用できる。一方、曲面形状の第１のガラス部材１００は、例えば、車両全般に利用できる。例えば、第１のガラス部材１００は、フロントウィンドウ、リアウィンドウ、サイドウィンドウ、およびルーフウィンドウの少なくとも一つに適用されてもよい。
　（本発明の一実施形態による断熱ガラスの製造方法）
　次に、図２を参照して、本発明の一実施形態による断熱ガラスの製造方法の一例について説明する。
　なお、ここでは、一例として、前述の図１に示した第１のガラス部材１００を例に、その製造方法について説明する。
　図２には、第１のガラス部材１００の製造方法（以下、「第１の製造方法」という）のフローの一例を概略的に示す。
　図２に示すように、第１の製造方法は、
　（ａ）ガラス基板の第１の表面に、アンダーコート層を設置するステップ（ステップＳ１１０）と、
　（ｂ）前記アンダーコート層の上に、赤外線反射層を設置するステップ（ステップＳ１２０）と、
　（ｃ）前記赤外線反射層の上に、オーバーコート層を設置するステップ（ステップＳ１３０）と、
　を有する。
　以下、各ステップについて、詳しく説明する。なお、以下の説明では、明確化のため、各部材を表す際に、図１に示した参照符号を使用する。
　（ステップＳ１１０）
　まず、ガラス基板１１０が準備される。
　前述のように、ガラス基板１１０の種類は特に限られない。例えば、ガラス基板１１０は、ソーダライムシリケート系の高透過ガラスであってもよい。
　次に、ガラス基板１１０の第１の表面１１２に、アンダーコート層１３０が配置される。
　アンダーコート層１３０は、化学気相成膜（ＣＶＤ）法、電子ビーム蒸層法、真空蒸着法、スパッタ法、およびスプレー法等、各種成膜方法を用いて形成することができる。
　例えば、アンダーコート層１３０が酸化ケイ素層（ＳｉＯ２）で構成される場合、アンダーコート層１３０は、大気圧ＣＶＤ法によって成膜されてもよい。この場合、原料としては、モノシラン、テトラエトキシシラン、および酸素などのガス原料物質を用いることができる。原料ガスは、予め混合してから、ガラス基板１１０の第１の表面１１２上に搬送してもよい。あるいは、原料ガスは、ガラス基板１１０の第１の表面１１２上で混合してもよい。
　また、例えば、アンダーコート層１３０が酸炭化ケイ素層（ＳｉＯＣ）で構成される場合、アンダーコート層１３０を大気圧ＣＶＤ法によって形成する際に、原料ガスに、メタン、エチレン、および／またはアセチレンなどの炭素含有ガスを含有させてもよい。このような炭素含有ガスを用いた場合、膜状のケイ素化合物とともに、粒子状のケイ素化合物が形成しやすくなり、ヘイズ率を高めることができる。
　アンダーコート層１３０を形成する際のガラス基板１１０の温度は、５００℃～９００℃であることが好ましい。ガラス基板１１０の温度が５００℃未満あるいは９００℃超であると、膜の形成速度が低下しやすくなる。
　（ステップＳ１２０）
　次に、アンダーコート層１３０の上に、赤外線反射層１４０が形成される。
　赤外線反射層１４０は、例えば、化学気相成膜（ＣＶＤ）法、電子ビーム蒸層法、真空蒸着法、スパッタ法、およびスプレー法等、各種成膜方法を用いて形成することができる。
　赤外線反射層１４０は、例えば、フッ素ドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｆ）、アンチモンドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｓｂ）、スズドープされた酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３：Ｓｎ）、またはアルミドープされた酸化亜鉛（ＺｎＯ：Ａｌ）、ガリウムドープされた酸化亜鉛（ＺｎＯ：Ｇａ）等、各種薄膜材料を用いて構成することができる。
　本願では赤外線反射層の表面を比較的粗くすることにより、色調を所定の範囲に調整することができる。赤外線反射層１４０は、特にフッ素ドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｆ）、またはアンチモンドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｓｂ）が好ましい。この場合、赤外線反射層の表面の凹凸を大きくできるからである。
　赤外線反射層１４０が、例えば、アルミドープされた酸化亜鉛（ＺｎＯ：Ａｌ）またはガリウムドープされた酸化亜鉛（ＺｎＯ：Ｇａ）で構成される場合、結晶配向が揃いやすく、表面がフラットになりやすい。
　スズドープされた酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３：Ｓｎ）は、赤外線を反射する機能が比べて強く、１００ｎｍ前後の膜厚帯で使用されることが多い。従って、赤外線反射層１４０がスズドープされた酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３：Ｓｎ）で構成された場合、反射色の色調を所定の範囲に調整することが難しくなる上、結晶粒の成長が不十分になり、表面がフラットになりやすい。
　例えば、赤外線反射層１４０がフッ素ドープされた酸化スズ層（ＳｎＯ２：Ｆ）で構成される場合、赤外線反射層１４０は、大気圧ＣＶＤ法によって成膜されてもよい。この場合、原料として、無機系または有機系のスズ化合物と、フッ素化合物との混合物が使用される。
　スズ化合物としては、モノブチルティントリクロライド（Ｃ４Ｈ９ＳｎＣｌ３）および四塩化スズ（ＳｎＣｌ４）などが挙げられる。スズ化合物としては、特に有機系のスズ化合物が好ましい。スズ化合物として、無機系のスズ化合物を使用した場合、結晶粒の成長速度が速く、表面の凹凸が激しくなりやすい。
　フッ素化合物としては、フッ化水素およびトリフルオロ酢酸などが挙げられる。
　例えば、赤外線反射層１４０がアンチモンドープされた酸化スズ層（ＳｎＯ２：Ｓｂ）で構成される場合、赤外線反射層１４０は、大気圧ＣＶＤ法によって成膜されてもよい。この場合、原料として、無機系または有機系のスズ化合物と、アンチモン化合物との混合物が使用される。
　スズ化合物としては、特に有機系のスズ化合物が好ましい。スズ化合物として、無機系のスズ化合物を使用した場合、結晶粒の成長速度が速く、表面の凹凸が激しくなりやすい。
　アンチモン化合物としては、三塩化アンチモン（ＳｂＣｌ３）および五塩化アンチモン（ＳｂＣｌ５）などが挙げられる。アンチモン化合物としては、特に三塩化アンチモンが好ましい。例えば、三塩化アンチモンは、原料ガス中の水と激しく反応し、気相中で三酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ３）および五酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５）の粒子クラスタを生成する。従って、それらの粒子クラスタを膜に含有させることにより、表面の凹凸の程度を制御することができる。
　赤外線反射層１４０は、各種薄膜材料を複数用いて構成することもできる。赤外線反射層１４０は、アンチモンドープされた酸化スズ層（ＳｎＯ２：Ｓｂ）と、フッ素ドープされた酸化スズ層（ＳｎＯ２：Ｆ）とを用いて構成することが好ましい。特に、アンダーコート層１３０の上に、アンチモンドープされた酸化スズ層（ＳｎＯ２：Ｓｂ）、フッ素ドープされた酸化スズ層（ＳｎＯ２：Ｆ）の順で構成することがより好ましい。
　赤外線反射層１４０の成膜において、原料ガスは、予め混合してから、搬送されてもよい。あるいは、原料ガスは、被成膜対象の表面上で混合してもよい。原料物質が液体の場合は、バブリング法や気化装置などを用いて、原料物質を気化させてガス状としてもよい。
　原料ガス中のスズ化合物１モルに対する水の量は、５～５０モルとすることが好ましい。水の量が５モル未満であると、形成する膜の抵抗値が増大しやすく、結果として赤外線反射機能が低下しやすくなる。また、核生成の起点が少なくなり、結果として結晶粒が大きく成長しやすく、表面の凹凸が激しくなりやすい。
　一方、水の量が５０モル超であると、水の量の増加にともない、原料ガス容量が増大し、原料ガスの流速が高まることにより、着膜効率が低下するおそれがある。また、核生成の起点が多くなり、結果として結晶粒が小さく成長しやすく、表面がフラットになりやすい。
　原料ガスが酸素を含有する場合、原料ガス中のスズ化合物１モルに対する酸素の量は、０モル超、４０モル以下とすることが好ましく、４～４０モルとすることがより好ましい。酸素の量が４モル未満であると、生成する膜の抵抗値が増大する場合がある。一方、酸素の量が４０モル超であると、原料ガス容量が増大し、原料ガスの流速が高まることにより着膜効率が低下するおそれがある。
　赤外線反射層１４０の成膜において、原料ガス中のスズ化合物１モルに対するフッ素化合物の量は、０．１～１．２モルとすることが好ましい。フッ素化合物の量が０．１モル未満である場合や１．２モル超である場合、形成する膜の抵抗値が増大しやすくなる。
　赤外線反射層１４０を形成する際のガラス基板１１０の温度は、５００℃～６５０℃であることが好ましい。ガラスの温度が５００℃未満であると、赤外線反射層１４０の形成速度が低下する。また、原料ガスの分解により生成した前駆体は、ガラス基板１１０および赤外線反射層１４０の表面で反応する速度よりも、ガラス基板１１０および赤外線反射層１４０の表面を拡散する速度の方が大きくなる。その結果、より多くの前駆体がガラス基板１１０および赤外線反射層１４０の表面の凹凸に流れ込み、表面がフラットになる傾向にある。一方、ガラス基板１１０の温度が６５０℃超であると、ガラスの粘性が低い状態で成膜が実施されるため、ガラスが室温まで降温される過程で、反りが生じるおそれがある。また前記前駆体が、ガラス基板１１０および赤外線反射層１４０の表面を拡散する速度よりも、ガラス基板１１０および赤外線反射層１４０の表面で反応する速度の方が大きくなる。その結果、あまり前駆体がガラス基板１１０および赤外線反射層１４０表面の凹凸に流れ込まなくなり、表面の凹凸が大きくなる傾向にある。
　なお、ステップＳ１１０およびステップＳ１２０は、フロート設備でガラスを作製する過程で、オンライン法によって実施されてもよい。あるいは、オフライン法により、フロート法で製造されたガラス基板を再加熱して、成膜を実施してもよい。
　（ステップＳ１３０）
　次に、赤外線反射層１４０の上に、オーバーコート層１５０が設置される。
　オーバーコート層１５０は、例えば、湿式法により形成される。
　この場合、まず、オーバーコート層１５０用のコーティング溶液が調製される。
　コーティング溶液は、金属酸化物の前駆体、有機溶媒、および水を含む。また、コーティング溶液には、粒子および／または固形物が添加されてもよい。粒子の組成は、金属酸化物の前駆体と同じであっても、異なっていてもよい。
　次に、コーティング溶液がガラス基板１１０の赤外線反射層１４０の上に塗布される。
　塗布の方法は、特に限られず、スピンコート法などの一般的な手段が使用されてもよい。
　次に、コーティング溶液が設置されたガラス基板１１０が大気中で加熱処理される。
　加熱処理の温度は、例えば、８０℃～６５０℃の範囲である。また、加熱時間は、例えば、５分～３６０分の範囲である。
　加熱処理は、熱風循環炉またはＩＲヒーター炉等、一般的な装置を用いて実施されてもよい。またＵＶ硬化処理、またはマイクロ波処理等により、コーティング溶液から、オーバーコート層１５０が形成されてもよい。
　これにより、赤外線反射層１４０の上に、オーバーコート層１５０を形成することができる。
　なお、上記加熱処理は、必ずしもこの段階で実施する必要はない。すなわち、別の段階で実施される加熱工程を利用して、コーティング溶液を加熱してもよい。
　このような工程により、前述の図１に示したような、第１のガラス部材１００を製造することができる。
　以上、第１のガラス部材１００を例に、本発明の一実施形態による断熱ガラスの製造方法の一例について説明した。
　しかしながら、上記記載は、単なる一例であって、本発明の一実施形態による断熱ガラス部は、その他の製造方法で製造されてもよい。
　例えば、第１の製造方法には、さらに、ガラス基板１１０を風冷強化あるいは化学強化する工程（強化工程）が含まれても良い。この強化工程は、例えば、ステップＳ１１０の前、またはステップＳ１３０の後など、いかなる順番で実施されてもよい。
　強化工程を実施することにより、ガラス基板１１０、さらには第１のガラス部材１００の強度を高めることができる。
　また、ステップＳ１３０の後などに、第１のガラス部材１００に対して曲げ加工を実施してもよい。あるいは、第１のガラス部材１００から合わせガラスを製造する場合、第１のガラス部材１００に別のガラス基板を貼り合わせる工程が実施されてもよい。
　この他にも各種変更が可能であることは、当業者には明らかである。
　以下、本発明の実施例について説明する。
　なお、以下の記載において、例２は実施例であり、例１、例３および例４は比較例である。
　（例１）
　以下の方法により、断熱ガラスを製造した。
　まず、厚さが４ｍｍのガラス基板（ソーダライムシリケートガラス：ＡＧＣ株式会社製）を準備した。
　次に、このガラス基板の上に、アンダーコート層を形成した。アンダーコート層は、ＳｉＯＣ層とし、ＣＶＤ法により成膜した。原料ガスとして、モノシラン、エチレン、二酸化炭素を使用し、キャリアガスとして窒素を使用した。アンダーコート層の目標厚さは、５６ｎｍとした。
　次に、アンダーコート層の上に、赤外線反射層を形成した。赤外線反射層は、フッ素ドープされた酸化スズ層（ＳｎＯ２：Ｆ）とし、ＣＶＤ法により成膜した。原料ガスとして、モノブチルティントリクロライド（ＭＢＴＣ）、水、空気、トリフルオロ酢酸を使用し、キャリアガスとして窒素を使用した。赤外線反射層の目標厚さ（最小厚さ）は、３１０ｎｍとした。
　次に、赤外線反射層の上に、オーバーコート層を形成した。オーバーコート層は、シリカ層（ＳｉＯ２）とし、湿式法により形成した。
　具体的には、アルコキシシラン、硝酸、水、およびエタノールを含むコーティング液を調製し、これをガラス基板の赤外線反射層上にスピンコートした。その後、大気下、６００℃で７分間保持し、オーバーコート層を形成した。
　オーバーコート層の目標厚さ（最大厚さ）は、６８ｎｍとした。
　オーバーコート層の屈折率は、１．４５であった。
　これにより、断熱ガラス（以下、「サンプルＡ」と称する）が得られた。
　（例２）
　例１と同様の方法により、ガラス部材を製造した。
　ただし、この例２では、ガラス基板として、厚さが３．２ｍｍのガラス（ソーダライムシリケートガラス；ＡＧＣ株式会社製）を使用した。また、赤外線反射層の厚さを３６７ｎｍとし、オーバーコート層の厚さを１４０ｎｍとした。
　これにより、断熱ガラス（以下、「サンプルＢ」と称する）が得られた。
　（例３）
　例１と同様の方法により、ガラス部材を製造した。ただし、この例３では、赤外線反射層の上にオーバーコート層を設置しなかった。
　これにより、断熱ガラス（以下、「サンプルＣ」と称する）が得られた。
　（例４）
　例２と同様の方法により、ガラス部材を製造した。ただし、この例４では、赤外線反射層の上にオーバーコート層を設置しなかった。
　これにより、断熱ガラス（以下、「サンプルＤ」と称する）が得られた。
　以下の表１には、サンプルＡ～サンプルＤにおける積層膜の構成を、まとめて示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 　（評価）
　各サンプルＡ～Ｄを用いて、以下の評価を実施した。
　（表面粗さの測定）
　原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）装置（ＳＰＡ－４００；株式会社日立ハイテクサイエンス社製）を用いて、各サンプルの積層膜の表面粗さを測定した。
　各サンプルにおいて、評価領域は、積層膜の表面の略中央部分における２μｍ×２μｍの領域とした。
　測定結果の一例を、図３～図６に示す。図３～図６には、それぞれ、サンプルＡ～サンプルＤにおいて得られた、表面凹凸のプロファイルを示す。
　また、各サンプルにおいて得られた表面の算術平均粗さＲａの結果を、まとめて表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 　表２から、サンプルＣおよびサンプルＤでは、表面の算術平均粗さＲａは、それぞれ、１２．０ｎｍおよび１５．６ｎｍであった。このような凹凸表面は、布などで拭いたときに、汚れが凹部に侵入したり残留したりする傾向にあると考えられる。
　一方、サンプルＡおよびサンプルＢでは、表面の算術平均粗さＲａは、それぞれ、２．０ｎｍおよび２．４ｎｍであった。従って、サンプルＡでは、サンプルＣに比べて、汚れが凹部に侵入したり残留したりする傾向が有意に抑制されると考えられる。同様に、サンプルＢでは、サンプルＤに比べて、汚れが凹部に侵入したり残留したりする傾向が有意に抑制されると考えられる。
　なお、サンプルＡは、赤外線反射層をサンプルＣと同様の方法および同様の厚さで形成しているため、サンプルＡにおける赤外線反射層の表面の算術平均粗さＲａは、１２．０ｎｍであると予想される。
　同様に、サンプルＢにおける赤外線反射層の表面の算術平均粗さＲａは、１５．６ｎｍであると予想される。
　（ヘイズ率の測定）
　サンプルＡ～サンプルＤを用いて、ヘイズ率（Ｃ光源ヘイズ率）の測定を行った。
　ヘイズ率は、ヘイズメータ（ＨＺ－２；スガ試験機株式会社）を用いて評価した。
　得られた結果を、前述の表２に示す。
　サンプルＡとサンプルＣの比較から、同様の赤外線反射層を含む場合であっても、赤外線反射層の上に、オーバーコート層を設置することにより、ヘイズ率を抑制できることがわかった。同様に、サンプルＢとサンプルＤの比較から、同様の赤外線反射層を含む場合であっても、赤外線反射層の上に、適正なオーバーコート層を設置することにより、ヘイズ率を抑制できることがわかった。
　（反射色の評価）
　サンプルＡ～サンプルＤを用いて、反射率Ｒｖおよび反射光の色調について評価した。
　測定には、分光光度計（Ｌａｍｂｄａ　９５０；株式会社パーキンエルマージャパン社製）を使用した。得られたスペクトルから、ＩＳＯ９０５０：２００３に基づき、反射率Ｒｖを求めた。また、ＪＩＳ　Ｚ８７８１－４：２０１３に基づいて、反射光の色調を求めた。入射角度は、０゜とした。
　得られた結果を、前述の表２に示す。
　サンプルＢでは、サンプルＡ、サンプルＣおよびサンプルＤに比べて、反射率Ｒｖが抑制されることがわかった。また、サンプルＢでは、反射色の色度座標（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）におけるａ＊値が４以下であり、ｂ＊値が－４以下であることが確認された。
　（シミュレーション評価Ｉ）
　次に、断熱ガラスにおける積層膜の構成が反射色の色調に及ぼす影響を、シミュレーションにより評価した。
　断熱ガラスは、前述の図１に示した構成とし、オーバーコート層の屈折率を変化させて、目標とする反射特性を得るためのオーバーコート層の厚さを算出した。
　その他の使用したパラメータを、以下の表３に示す。なお、これらのパラメータは、一定とした。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
 　ここで、混合層とは、赤外線反射層とオーバーコート層の間に存在する凹凸層を意味する。すなわち、シミュレーションでは、赤外線反射層およびオーバーコート層を、凹凸のない平坦層と仮定し、両者の間に、所定の表面粗さを有する凹凸層（混合層）が存在するものと仮定した。
　混合層の材質は、赤外線反射層の構成材料８０％と、オーバーコート層の構成材料２０％との混合物と仮定した。なお、この百分率は、赤外線反射層の厚さとオーバーコート層の厚さの比から定めた。
　なお、目標反射特性は、以下の通りである：
　　反射率Ｒｖ≦１２％
　　色度座標（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）におけるａ＊値≦４
　　色度座標（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）におけるｂ＊値≦－４。
　係る目標反射特性に含まれる色調は、おおよそ青～紫の領域である。
　シミュレーションの結果を、表４に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
 　この結果から、オーバーコート層の屈折率を１．８０以上とした場合、目標反射特性を満たすオーバーコート層を得ることはできないことがわかる。
　一方、オーバーコート層の屈折率が１．２５～１．７５の範囲では、それぞれの屈折率において、目標反射特性を満たすオーバーコート層の厚さ範囲が存在することがわかった。
　（シミュレーション評価ＩＩ）
　シミュレーション評価Ｉにより、オーバーコート層の屈折率を１．２５～１．７５の範囲とすることにより、目標反射特性を満たすオーバーコート層の厚さが定められることがわかった。
　ただし、実際に断熱ガラスを製造する場合、積層膜の各層の厚さに、ある程度のばらつきが生じることは避けられない。そして、各層の厚さにそのようなばらつきが生じると、得られる断熱ガラスにおいて、前述の目標反射特性が満たされなくなる可能性がある。
　そこで、次に、各層の厚さのばらつきが反射色の色調に及ぼす影響を、以下のようなシミュレーションにより評価した。
　まず、オーバーコート層の屈折率を決め、積層膜に含まれる各層の厚さ（「中心厚さ」と称する）を定める。また、この構成において得られる反射色の色調（色度座標）を評価する。得られた結果を分布の中心Ｃとする。
　次に、定められた各層の中心厚さを±５％の範囲で変動させ、それぞれの場合における反射色の色調（色度座標）を同様に評価する。全ての結果に対して、分布の中心Ｃからのずれ量を求め、ずれ量の標準偏差σを算定する。
　同様の評価を、オーバーコート層の屈折率を変えて実施する。
　なお、オーバーコート層の屈折率は、前述のシミュレーション評価Ｉによって得られた１．２５～１．７５の範囲で変化させた。また、いずれの構成においても、混合層の算術平均粗さＲａは、１２ｎｍとした。
　以下の表５には、オーバーコート層の各屈折率において仮定した、それぞれの層の中心厚さを示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
 　図７には、上記のシミュレーション計算によって得られた結果をまとめて示す。
　図７において、横軸は、オーバーコート層の屈折率であり、縦軸は、標準偏差σである。
　この結果から、オーバーコート層の屈折率を、１．３５～１．７０の範囲とした場合、標準偏差σが０．７１以下となり、色調の変動が有意に抑制されることがわかった。
　このように、オーバーコート層の屈折率を１．３５～１．７０の範囲とすることにより、積層膜を構成する各層に±５％程度の厚さのばらつきが生じても、断熱ガラスにおける色調の変動を抑制できることがわかった。
　（シミュレーション評価ＩＩＩ）
　前述の（シミュレーション評価Ｉ）と同様の評価を実施した。
　ただし、この（シミュレーション評価ＩＩＩ）では、オーバーコート層の屈折率を１．４５に固定し、混合層の表面粗さ（算術平均粗さＲａ）を変化させて、目標とする反射特性を得るためのオーバーコート層の厚さを算出した。
　使用したパラメータを、以下の表６に示す。なお、これらのパラメータは、一定とした。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
 　なお、目標反射特性は、以下の通りである：
　　反射率Ｒｖ≦１２％
　　色度座標（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）におけるａ＊値≦４
　　色度座標（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）におけるｂ＊値≦－４。
　係る目標反射特性に含まれる色調は、おおよそ青～紫の領域である。
　シミュレーションの結果を、表７に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
 　この結果から、混合層の表面粗さを２７ｎｍ超とした場合、目標反射特性を満たすオーバーコート層を得ることはできないことがわかる。
　一方、混合層の表面粗さが２７ｎｍ以下では、屈折率１．４５において、目標反射特性を満たすオーバーコート層の厚さ範囲が存在することがわかった。
　（シミュレーション評価ＩＶ）
　シミュレーション評価ＩＩＩにより、混合層の表面粗さＲａを２７ｎｍ以下とすることにより、目標反射特性を満たすオーバーコート層の厚さが定められることがわかった。
　ただし、実際に断熱ガラスを製造する場合、積層膜の各層の厚さに、ある程度のばらつきが生じることは避けられない。そして、各層の厚さにそのようなばらつきが生じると、得られる断熱ガラスにおいて、前述の目標反射特性が満たされなくなる可能性がある。
　そこで、次に、前述の（シミュレーション評価ＩＩ）と同様の手順で、各層の厚さのばらつきが反射色の色調に及ぼす影響を評価した。
　まず、混合層の表面粗さ（算術平均粗さＲａ）を決め、積層膜に含まれる各層の厚さ（「中心厚さ」と称する）を定める。また、この構成において得られる反射色の色調（色度座標）を評価する。得られた結果を分布の中心Ｃとする。
　次に、定められた各層の厚さを±５％の範囲で変動させ、それぞれの場合における反射色の色調（色度座標）を同様に評価する。全ての結果に対して、分布の中心Ｃからのずれ量を求め、ずれ量の標準偏差σを算定する。
　同様の評価を、混合層の表面粗さを変えて実施する。
　なお、混合層の算術平均粗さＲａは、前述のシミュレーション評価ＩＩＩによって得られた０～２７の範囲で変化させた。また、いずれの構成においても、オーバーコート層の屈折率は、１．４５とした。
　以下の表８には、混合層の各算術平均粗さＲａにおいて仮定した、それぞれの層の中心厚さを示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
 　図８には、上記のシミュレーション計算によって得られた結果をまとめて示す。
　図８において、横軸は、混合層の表面の算術平均粗さＲａであり、縦軸は、標準偏差σである。
　この結果から、混合層の表面の算術平均粗さＲａを、９ｎｍ～２４ｎｍの範囲とした場合、標準偏差σが０．７１以下となり、色調の変動が有意に抑制されることがわかった。
　このように、混合層の表面の算術平均粗さＲａを９ｎｍ～２４ｎｍの範囲とすることにより、積層膜を構成する各層に±５％程度の厚さのばらつきが生じても、断熱ガラスにおける色調の変動を抑制できることがわかった。
　（シミュレーション評価Ｖ）
前述の（シミュレーション評価Ｉ）と同様の評価を実施した。
　ただし、この（シミュレーション評価Ｖ）では、オーバーコート層の屈折率を１．４５とした。また、混合層の表面粗さ（算術平均粗さＲａ）を１２ｎｍに固定し、赤外線反射層の厚さを変化させて、目標とする反射特性および透過特性を得るためのオーバーコート層の厚さを算出した。その他の使用したパラメータを、以下の表９に示す。なお、これらのパラメータは、一定とした。
　目標とする反射特性および透過特性は、以下の通りである：
　　反射率Ｒｖ≦１２％
　　透過率Ｔｖ≦８０%
　　反射色度座標（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）におけるａ＊値≦４
　　反射色度座標（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）におけるｂ＊値≦－４。
　係る目標特性に含まれる反射色調は、おおよそ青～紫の領域である。
　シミュレーションの結果を、表１０に示す。
　シミュレーションの結果から、赤外線反射層の「最小厚さ」を７８７ｎｍ超とした場合、目標特性を満たすオーバーコート層を得ることができないことがわかった。
　一方、赤外線反射層の「最小厚さ」が７８７ｎｍ以下では、屈折率１．４５において、目標特性を満たすオーバーコート層の厚さ範囲が、「最大厚さ」１２０ｎｍ～２２１ｎｍの範囲で存在することがわかった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
 　本願は、２０２０年１１月２７日に出願した日本国特許出願第２０２０－１９７５２０号に基づく優先権を主張するものであり、同日本国出願の全内容を本願に参照により援用する。
　１００　　　第１のガラス部材
　１１０　　　ガラス基板
　１１２　　　第１の表面
　１１４　　　第２の表面
　１２０　　　積層膜
　１３０　　　アンダーコート層
　１４０　　　赤外線反射層
　１５０　　　オーバーコート層

Claims (6)

  1. 　ガラス基板を有する断熱ガラスであって、
    　前記ガラス基板は、相互に対向する第１の表面および第２の表面を有し、
    　前記ガラス基板の前記第１の表面には、積層膜が設置され、
    　該積層膜は、前記ガラス基板に近い側から、
    　　赤外線反射層と、
    　　オーバーコート層と、
    　を有し、
    　前記赤外線反射層は、前記オーバーコート層の側の表面の算術平均粗さＲａが９ｎｍ～２４ｎｍであり、
    　前記オーバーコート層は、絶縁体で構成され、前記赤外線反射層の凹凸を埋めるように配置され、前記赤外線反射層とは反対の側の表面の算術平均粗さＲａが７ｎｍ未満であり、
    　前記オーバーコート層は、１．３５～１．７０の範囲の屈折率を有し、最大厚さが１２０ｎｍ～２４１ｎｍの範囲である、断熱ガラス。
  2. 　前記赤外線反射層の最小厚さは、２５０ｎｍ～７８７ｎｍの範囲である、請求項１に記載の断熱ガラス。
  3. 　前記赤外線反射層は、酸化スズを含む、請求項１または２に記載の断熱ガラス。
  4. 　前記オーバーコート層は、金属酸化物を含む、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の断熱ガラス。
  5. 　さらに、前記ガラス基板と前記赤外線反射層との間に、酸化ケイ素を含むアンダーコート層を有する、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の断熱ガラス。
  6. 　車両用のガラス部材であって、
    　当該ガラス部材は、車両のフロントウィンドウ、リアウィンドウ、サイドウィンドウ、およびルーフウィンドウの少なくとも一つに適用され、
    　当該ガラス部材は、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の断熱ガラスを含む、車両用のガラス部材。
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