JP2019054181A - 半導体パッケージ - Google Patents
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Abstract
【課題】小型化を図ることができる半導体パッケージを提供することである。【解決手段】実施形態の半導体パッケージは、基板と、複数の半導体メモリチップと、コントローラチップと、封止樹脂部とを備えている。前記複数の半導体メモリチップは、前記基板の厚さ方向で互いに積層されている。前記コントローラチップは、前記基板と前記複数の半導体メモリチップとの間、または、前記複数の半導体メモリチップに対して前記基板とは反対側に配置されている。前記封止樹脂部は、前記複数の半導体メモリチップと前記コントローラチップとを封止している。前記複数の半導体メモリチップは、前記複数の半導体メモリチップに含まれる1つ以上の半導体メモリチップを前記基板の厚さ方向に貫通して前記コントローラチップに接続された少なくとも1つの貫通電極を有する。【選択図】図2
Description
本発明の実施形態は、半導体パッケージに関する。
複数の半導体メモリチップがTSV(Through-Silicon Via)によって電気的に接続されたメモリパッケージが知られている。
ところで、近年、複数の半導体メモリチップと、この複数の半導体メモリチップを制御するコントローラチップとが1つのパッケージ内に実装された半導体パッケージが提案されている。このような半導体パッケージは、さらなる小型化が期待されている。
本発明が解決しようとする課題は、小型化を図ることができる半導体パッケージを提供することである。
実施形態の半導体パッケージは、基板と、複数の半導体メモリチップと、コントローラチップと、封止樹脂部とを備えている。前記複数の半導体メモリチップは、前記基板の厚さ方向で互いに積層されている。前記コントローラチップは、前記基板と前記複数の半導体メモリチップとの間、または、前記複数の半導体メモリチップに対して前記基板とは反対側に配置されている。前記封止樹脂部は、前記複数の半導体メモリチップと前記コントローラチップとを封止している。前記複数の半導体メモリチップは、前記複数の半導体メモリチップに含まれる1つ以上の半導体メモリチップを前記基板の厚さ方向に貫通して前記コントローラチップに接続された少なくとも1つの貫通電極を有する。
以下、実施形態の半導体パッケージを、図面を参照して説明する。なお以下の説明では、同一または類似の機能を有する構成に同一の符号を付す。そして、それら構成の重複する説明は省略する場合がある。
ここで、+X方向、−X方向、+Y方向、−Y方向、+Z方向、および−Z方向について先に定義する。+X方向、−X方向、+Y方向、および−Y方向は、例えば、半導体パッケージ1のパッケージ基板40の第1面40aと略平行な方向である。−X方向は、+X方向とは反対方向である。+X方向と−X方向とを区別しない場合は、単に「X方向」と称する。+Y方向および−Y方向は、X方向とは交差する(例えば略直交する)方向である。−Y方向は、+Y方向とは反対方向である。+Y方向と−Y方向とを区別しない場合は、単に「Y方向」と称する。+Z方向および−Z方向は、X方向およびY方向とは交差する(例えば略直交する)方向である。+Z方向および−Z方向は、パッケージ基板40の厚さ方向である。+Z方向と−Z方向とを区別しない場合は、単に「Z方向」と称する。
(第1の実施形態)
図1から図3を参照し、第1の実施形態の半導体パッケージ1について説明する。本実施形態の半導体パッケージ1は、複数のNANDチップ10と、複数のNANDチップ10を制御するコントローラチップ20とが1つのパッケージ内に実装されたSSD(Solid State Drive)であり、いわゆる1パッケージSSD(Single Package SSD)である。半導体パッケージ1は、「記憶装置」または「半導体記憶装置」などと称されてもよい。
図1から図3を参照し、第1の実施形態の半導体パッケージ1について説明する。本実施形態の半導体パッケージ1は、複数のNANDチップ10と、複数のNANDチップ10を制御するコントローラチップ20とが1つのパッケージ内に実装されたSSD(Solid State Drive)であり、いわゆる1パッケージSSD(Single Package SSD)である。半導体パッケージ1は、「記憶装置」または「半導体記憶装置」などと称されてもよい。
図1は、半導体パッケージ1の構成要素を示すブロック図である。半導体パッケージ1は、ホスト機器2に電気的に接続され、ホスト機器2の記憶領域として機能する。ホスト機器2は、例えば、半導体パッケージ1が実装された回路基板B(図2参照)が搭載される情報処理装置である。
図1に示すように、半導体パッケージ1は、複数のNANDチップ10(図1では1つのNANDチップ10のみを示す)と、コントローラチップ20とを有する。
複数のNANDチップ10の各々は、不揮発性メモリチップであり、例えばNAND型フラッシュメモリチップである。NANDチップ10は、「半導体メモリチップ」の一例である。ただし、「半導体メモリチップ」は、NANDチップ10に限定されず、磁気抵抗メモリ(MRAM:Magnetoresistive Random Access Memory)でもよく、他の種類のメモリチップでもよい。
コントローラチップ20は、複数のNANDチップ10を統括的に制御する。コントローラチップ20は、ホスト機器2からのコマンド(例えば、リードコマンド、ライトコマンド、またはイレーズコマンド)に基づいて1つ以上のNANDチップ10と通信を行い、前記コマンドで要求された処理を1つ以上のNANDチップ10に対して実行する。また、コントローラチップ20は、NANDチップ10に書き込まれるデータに関するアドレス変換テーブルの管理、および複数のNANDチップ10の疲弊度の管理などを行う。アドレス変換テーブルは、データの書き込み先の論理アドレスと、データが書き込まれた物理アドレスとが対応付けられたテーブルである。NANDチップ10の疲弊度は、NANDチップ10に含まれるブロック(例えば論理ブロック)に対するデータの書き込み回数、読み出し回数、または消去回数などに基づいて得られる。
コントローラチップ20は、SoC(System on a chip)で構成されている。コントローラチップ20は、例えば、ホストインターフェース21、ホストインターフェースコントローラ22、NANDインターフェース23、NANDコントローラ24、CPU(Central Processing Unit)25、および内部メモリ26を含む。
ホストインターフェース21は、ホスト機器2に電気的に接続される物理層(Phy)を有する。ホストインターフェース21は、例えば、PCIe(PCI Express)、SATA(Serial Advanced Technology Attachment)、SAS(Serial Attached SCSI(Small Computer System Interface))、またはNVMe(NVM Express ;Non-Volatile Memory Host Controller Interface)などに準拠したインターフェースである。ホストインターフェースコントローラ22は、ホストインターフェース21を制御することで、ホスト機器2とコントローラチップ20との間で信号を送受信する。
NANDインターフェース23は、NANDチップ10に電気的に接続された物理層(Phy)を有する。NANDコントローラ24は、NANDインターフェース23を制御することで、NANDチップ10とコントローラチップ20との間で信号を送受信する。
CPU25は、コントローラチップ20の内部メモリ26またはコントローラチップ20の外部に設けられたROM30などに格納されたプログラム(例えばファームウェア)を実行することで、コントローラチップ20の全体(半導体パッケージ1の全体)を制御するハードウェアプロセッサである。CPU25は、「プロセッサ」の一例である。例えば、CPU25は、ホスト機器2からのコマンドに基づき、複数のNANDチップ10に対するデータの書き込み、データの読み出し、およびデータの消去を制御する。なお、コントローラチップ20は、CPU25に代えて、コントローラチップ20の全体(半導体パッケージ1の全体)を制御する回路部(circuitry)Cを有してもよい。回路部Cは、LSI(Large Scale Integration)、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)、FPGA(Field-Programmable Gate Array)などのハードウェアにより実現されてもよい。
内部メモリ26は、コントローラチップ20の内部に設けられた記憶領域である。内部メモリ26は、例えば、SRAM(Static Random Access Memory)により実現されるが、他の種類のメモリチップにより実現されてもよい。
図2は、半導体パッケージ1を示す断面図である。半導体パッケージ1は、上述した構成要素に加えて、パッケージ基板40、複数の電子部品50、封止樹脂部60、および複数の電極70を有する。
パッケージ基板40は、「基板」の一例である。パッケージ基板40には、複数のNANDチップ10およびコントローラチップ20が搭載される。パッケージ基板40は、第1面40aと、第2面40bとを有する。第1面40aは、複数のNANDチップ10およびコントローラチップ20に面する。第2面40bは、第1面40aとは反対側に位置する。第2面40bは、半導体パッケージ1が実装される回路基板Bに面する。
複数のNANDチップ10は、Z方向で互いに積層されている。本願でいう「互いに積層されている」とは、Z方向で複数のNANDチップ10の間に接続電極12に相当する隙間が存在する場合も含む。本実施形態では、複数のNANDチップ10は、Z方向でコントローラチップ20と重なる。複数のNANDチップ10は、コントローラチップ20の上に積層されている。
本実施形態では、複数のNANDチップ10は、NANDチップ10−1、NANDチップ10−2、…、NANDチップ10−N(Nは任意の自然数)を含む。NANDチップ10−1、NANDチップ10−2、…、のNANDチップ10−Nは、この順に、パッケージ基板40から離れている。NANDチップ10−Nは、複数のNANDチップ10のなかでパッケージ基板40から最も離れたNANDチップ10である。複数のNANDチップ10の各々は、「第1半導体メモリチップ」の一例である。
コントローラチップ20は、パッケージ基板40と、複数のNANDチップ10との間に配置されている。コントローラチップ20は、第1面20aと、第2面20bとを有する。第1面20aは、NANDチップ10−1に面する。第2面20bは、第1面20aとは反対側に位置する。第2面20bは、パッケージ基板40に面する。また、コントローラチップ20は、複数の端子27と、複数のバンプ28とを有する。
複数の端子27は、コントローラチップ20の第1面20aに設けられている。複数の端子27は、例えばアレイ状に配置され、X方向およびY方向に並んでいる。「アレイ状に配置」とは、例えば、第1方向と、第1方向とは交差した第2方向とのそれぞれにおいて分散して配置されることを意味する。複数の端子27は、コントローラチップ20の信号ラインに電気的に接続された信号端子27A、コントローラチップ20のグラウンドGに電気的に接続されたグラウンド端子27B、およびコントローラチップ20を介してパッケージ基板40から電源が供給される電源端子27Cを含む。複数の端子27の各々は、後述する貫通電極80と物理的および電気的に接続される。
一方で、複数のバンプ28は、コントローラチップ20の第2面20bに設けられている。複数のバンプ28は、アレイ状に配置され、X方向およびY方向に並んでいる。複数のバンプ28は、パッケージ基板40の第1面40aに設けられた複数のパッド(不図示)に接合されている。コントローラチップ20は、パッケージ基板40の第1面40aにフリップチップ実装されている。本実施形態では、コントローラチップ20は、複数のバンプ28によってパッケージ基板40と電気的に接続されている。
複数の電子部品50は、パッケージ基板40の第1面40aに実装されている。複数の電子部品50は、パッケージ基板40を介してコントローラチップ20と電気的に接続されている。複数の電子部品50は、例えば、コンデンサ51、抵抗52、およびロードスイッチ53を含む。コンデンサ51および抵抗52は、「受動部品」の一例である。
封止樹脂部60は、絶縁性を持つ合成樹脂によって形成されている。封止樹脂部60は、複数のNANDチップ10、コントローラチップ20、および複数の電子部品50を一体に封止している。
複数の電極70は、パッケージ基板40の第2面40bに設けられている。複数の電極70は、半導体パッケージ1の外部接続端子を形成している。複数の電極70は、回路基板Bに設けられた複数のパッド(不図示)に接合される。
次に、複数のNANDチップ10とコントローラチップ20との電気接続構造について説明する。本実施形態では、複数のNANDチップ10は、複数の貫通電極80を有する。各貫通電極80は、例えば、複数のNANDチップ10の各々に設けられた貫通ビア11と、複数のNANDチップ10の間に設けられた接続電極12とを含む。
貫通ビア11は、例えばNANDチップ10をZ方向に貫通した導体部である。例えば、貫通ビア11は、シリコン貫通電極(TSV:Through-Silicon Via)である。なお、貫通ビア11は、NANDチップ10の上方および下方に存在する接続電極12を電気的に接続する構成であれば、NANDチップ10を一定の太さで貫通していなくてもよい。
接続電極12は、複数のNANDチップ10の貫通ビア11の間に挟まれ、複数のNANDチップ10の貫通ビア11同士を電気的に接続する。接続電極12は、例えば、NANDチップ10の表面に設けられたマイクロバンプである。ただし、接続電極12は、複数のNANDチップ10の貫通ビア11同士を電気的に接続できる構成であればよく、大きさ、形状、材質などは特定のものに限定されない。
貫通電極80は、それぞれ接続電極12を有した複数のNANDチップ10がZ方向に積層され、貫通ビア11および接続電極12がZ方向に交互に接続されることで形成されている。これにより、貫通電極80は、複数のNANDチップ10をZ方向に貫通する柱状に形成されている。複数の貫通電極80は、Z方向でコントローラチップ20と重なる領域に設けられている。貫通電極80は、複数のNANDチップ10をZ方向に貫通してコントローラチップ20の端子27に物理的および電気的に接続されている。なお、貫通電極80は、最上位のNANDチップ10−Nを貫通していてもよく、貫通していなくてもよい。本実施形態では、複数の貫通電極80は、コントローラチップ20上にまんべんなく設けられている。コントローラチップ20に接続される貫通電極80は、例えば、NANDチップ10同士のみを接続する貫通電極よりも太いと好ましい。コントローラチップ20とNANDチップ10との間の通信は、比較的高速であり、貫通電極80の抵抗値を下げるためである。なお、貫通電極80の太さは、上記例に限定されない。
複数の貫通電極80は、貫通電極80A、貫通電極80B、および貫通電極80Cを含む。貫通電極80Aは、コントローラチップ20の信号端子27Aに接続されている。例えば、貫通電極80Aは、コントローラチップ20の信号端子27Aを介して、コントローラチップ20のNANDインターフェース23に電気的に接続されている。また、貫通電極80Aは、少なくとも1つのNANDチップ10に含まれる信号線に電気的に接続されている。コントローラチップ20は、貫通電極80Aを介してNANDチップ10と通信する(すなわち信号を送受信する)。コントローラチップ20は、貫通電極80Aを介して、NANDチップ10に対してデータの書き込み、データの読み出し、およびデータの消去を行う。貫通電極80Aは、「第1貫通電極」の一例である。
貫通電極80Bは、コントローラチップ20のグラウンド端子27Bを介して、コントローラチップ20のグラウンドGに電気的に接続されている。貫通電極80Bは、NANDチップ10のグラウンドとコントローラチップ20のグラウンドGとを電気的に接続している。貫通電極80Cは、コントローラチップ20の電源端子27Cに接続されている。コントローラチップ20は、貫通電極80Cを介して、NANDチップ10に電源を供給する。
図3は、半導体パッケージ1の構成要素を示す平面図である。なお、図3では、封止樹脂部60の図示は省略している。複数の電子部品50は、NANDチップ10の近傍に配置されている。例えば、複数の電子部品50は、いくつかの電子部品50Aを含む。図3に示すように、X方向において、電子部品50Aと複数のNANDチップ10に含まれる少なくとも1つのNANDチップ10との間の最短距離L1は、電子部品50Aとパッケージ基板40の縁40cとの間の最短距離L2よりも小さい。なお、電子部品50Aとパッケージ基板40の縁40cとの間の最短距離L2とは、電子部品50Aと、パッケージ基板40の縁40cなかで電子部品50Aに最も近い部分との間の最短距離である。ただし、電子部品50Aの位置は、上記例に限定されるものではない。
以上のような構成によれば、半導体パッケージ1の小型化を図ることができる。すなわち、NANDチップとコントローラチップとがボンディングワイヤおよびパッケージ基板を介して電気的に接続される場合、ボンディングワイヤの結線用の領域が半導体パッケージ内に必要になる。このような結線用の領域が半導体パッケージ内に必要な場合、半導体パッケージのさらなる小型化が難しい場合がある。また、NANDチップおよびコントローラチップがボンディングワイヤによってパッケージ基板に接続される場合、ノイズを受けやすくなる場合がある。
一方で、本実施形態の半導体パッケージ1は、パッケージ基板40と、パッケージ基板40の厚さ方向で互いに積層された複数のNANDチップ10と、パッケージ基板40と複数のNANDチップ10との間に配置されたコントローラチップ20とを備えている。複数のNANDチップ10は、1つ以上のNANDチップ10をZ方向に貫通してコントローラチップ20に接続された少なくとも1つの貫通電極80を有する。このような構成によれば、NANDチップ10とコントローラチップ20とを電気的に接続するボンディングワイヤが不要になる、またはボンディングワイヤの数を減らすことができる。このため、半導体パッケージ1内にボンディングワイヤの結線用の領域を無くすまたは減らすことができる。これにより、半導体パッケージ1の小型化を図ることができる。また、ボンディングワイヤの代わりに貫通電極80を設けた場合、ボンディングワイヤで発生する電気的なロスを減らすことができるため、半導体パッケージ1の低消費電力化を図ることができる。
本実施形態では、複数の貫通電極80は、NANDチップ10の信号線に電気的に接続された貫通電極80Aを含む。コントローラチップ20は、貫通電極80Aを介してNANDチップ10と通信する。このような構成によれば、NANDチップ10とコントローラチップ20とがボンディングワイヤおよびパッケージ基板40を介して電気的に接続される場合と比べて、NANDチップ10とコントローラチップ20との間の通信距離(電気接続距離)を短くすることができ、NANDチップ10とコントローラチップ20との間の信号品位を高めることができる。これにより、より高性能な半導体パッケージ1を提供することができる。
本実施形態では、半導体パッケージ1は、パッケージ基板40に実装され、コントローラチップ20に電気的に接続された電子部品50を備える。X方向において、電子部品50とNANDチップ10との間の最短距離L1は、電子部品50とパッケージ基板40の縁40cとの間の最短距離L2よりも小さい。言い換えると、本実施形態の半導体パッケージ1では、ボンディングワイヤの結線用の領域を気にせず、電子部品50を配置することができる。このため、電子部品50をNANDチップ10およびコントローラチップ20の近傍に配置することができる。このような構成によれば、電子部品50がパッケージ基板40に実装された場合であっても半導体パッケージ1の小型化を図ることができる。また、電子部品50としてコンデンサなどの受動部品が実装された場合、ノイズを除去することで信号品位をより高めることができる。
(第2の実施形態)
次に、第2の実施形態の半導体パッケージ1について説明する。本実施形態は、貫通電極80によって放熱性の向上が図られている点で、第1の実施形態とは異なる。なお以下に説明する以外の構成は、第1の実施形態の構成と略同じである。
次に、第2の実施形態の半導体パッケージ1について説明する。本実施形態は、貫通電極80によって放熱性の向上が図られている点で、第1の実施形態とは異なる。なお以下に説明する以外の構成は、第1の実施形態の構成と略同じである。
図4は、本実施形態の半導体パッケージ1を示す断面図である。本実施形態では、複数の貫通電極80は、例えば、Z方向で全てのNANDチップ10を貫通している。すなわち、複数の貫通電極80は、最上位のNANDチップ10−Nも貫通している。本実施形態では、複数の貫通電極80は、放熱専用に設けられた複数の貫通電極80Dを含む。複数の貫通電極80Dは、コントローラチップ20の信号線に繋がっていない。複数の貫通電極Dは、例えばコントローラチップ20のグラウンドGに接続されている。放熱用の貫通電極Dは、信号伝達用の貫通電極Aに比べて太くてもよい。
図5は、本実施形態の半導体パッケージ1の構成要素を示す平面図である。なお、図5では、封止樹脂部60の図示は省略している。また図5では、説明の便宜上、貫通電極80にはハッチングを付している。本実施形態では、コントローラチップ20は、第1領域R1と、第2領域R2とを有する。第2領域R2は、第1領域R1と比べて、単位面積当たりの発熱量が大きい。
例えば、第1領域R1は、コントローラチップ20の表面のなかで、Z方向で内部メモリ26に重なる領域である。なお、第1領域R1は、上記例に代えて、NANDインターフェース23に重なる領域でもよい。一方で、第2領域R2は、コントローラチップ20の表面のなかで、Z方向でCPU25に重なる領域である。半導体パッケージ1が動作している状態では、CPU25は、内部メモリ26またはNANDインターフェース23に比べて発熱する。このため、第2領域R2は、第1領域R1に比べて熱くなりやすい。
また別の例では、第2領域R2は、コントローラチップ20の表面のなかで、Z方向で回路部Cに重なる領域である。半導体パッケージ1が動作している状態では、回路部Cは、内部メモリ26またはNANDインターフェース23に比べて発熱する。このため、第2領域R2は、第1領域R1に比べて熱くなりやすい。
本実施形態では、複数の貫通電極80(例えば、複数の貫通電極80D)は、コントローラチップ20の第2領域R2に接続されている。複数の貫通電極80は、コントローラチップ20の第2領域R2に対する放熱経路として機能する。例えば、複数の貫通電極80は、コントローラチップ20の第2領域R2の熱を、半導体パッケージ1のなかでコントローラチップ20から離れた領域に伝える。これにより、コントローラチップ20の放熱が促進される。第2領域R2に接続された貫通電極80は、「第2貫通電極」の一例である。
このような構成によれば、第1の実施形態と同様に、半導体パッケージ1の小型化を図ることができる。さらに本実施形態では、コントローラチップ20は、第1領域R1と、第1領域R1と比べて単位面積当たりの発熱量が大きな第2領域R2とを有する。少なくとも1つの貫通電極80は、コントローラチップ20の第2領域R2に接続されている。このような構成によれば、第2領域R2に接続された貫通電極80によって、コントローラチップ20の熱を、コントローラチップ20の外部に効率的に移動させることができる。これにより、半導体パッケージ1の放熱性の向上を図ることができる。
(第2の実施形態の第1変形例)
図6は、第2の実施形態の第1変形例の半導体パッケージ1の構成要素を示す平面図である。なお、図6では、封止樹脂部60の図示は省略している。また図6では、説明の便宜上、貫通電極80にはハッチングを付している。なお以下に説明する以外の構成は、第2の実施形態の構成と略同じである。
図6は、第2の実施形態の第1変形例の半導体パッケージ1の構成要素を示す平面図である。なお、図6では、封止樹脂部60の図示は省略している。また図6では、説明の便宜上、貫通電極80にはハッチングを付している。なお以下に説明する以外の構成は、第2の実施形態の構成と略同じである。
本変形例では、複数の貫通電極80は、第1グループG1の複数の貫通電極80と、第2グループG2の複数の貫通電極80とを含む。第1グループG1の複数の貫通電極80は、第1領域R1に接続されている。例えば、第1グループG1の複数の貫通電極80は、コントローラチップ20の信号線に電気的に接続された貫通電極80Aである。ただし、第1グループG1の複数の貫通電極80の種類は、上記例に限定されない。一方で、第2グループG2の複数の貫通電極80は、第2領域R2に接続されている。第2グループG2の複数の貫通電極80は、例えば、コントローラチップ20のグラウンドGに電気的に接続された放熱用の貫通電極80Dである。ただし、第2グループG2の複数の貫通電極80の種類は、上記例に限定されない。ここで、第2グループG2の複数の貫通電極80の配置密度は、第1グループG1の複数の貫通電極80の配置密度よりも高い。「配置密度が高い」とは、X方向およびY方向に沿う平面において、単位面積に含まれる貫通電極80の本数が多いことを意味する。
このような構成によれば、第1領域R1に比べて高密度に配置された第2グループG2の複数の貫通電極80によって、コントローラチップ20の第2領域R2の熱をコントローラチップ20から離れた領域に効果的に移動させることができる。これにより、半導体パッケージ1の放熱性のさらなる向上を図ることができる。
(第2の実施形態の第2変形例)
図7は、第2の実施形態の第2変形例の半導体パッケージ1を示す平面図である。なお以下に説明する以外の構成は、第2の実施形態の構成と略同じである。
図7は、第2の実施形態の第2変形例の半導体パッケージ1を示す平面図である。なお以下に説明する以外の構成は、第2の実施形態の構成と略同じである。
本変形例では、半導体パッケージ1は、金属製の放熱板90を有する。例えば、放熱板90は、X方向およびY方向に沿う平板状に形成されている。放熱板90は、複数のNANDチップ10に対して、コントローラチップ20とは反対側に配置されている。放熱板90は、封止樹脂部60の外部に露出している。複数の貫通電極80は、コントローラチップ20に接続されている。複数の貫通電極80は、例えば放熱用の貫通電極80Dを含む。複数の貫通電極80は、複数のNANDチップ10を貫通して放熱板90に接続されている。
詳しく述べると、各貫通電極80は、放熱板90と最上位のNANDチップ10−Nとの間に設けられた接続導体12を含む。放熱板90と最上位のNANDチップ10−Nとの間に設けられた接続導体12は、複数のNANDチップ10の間に設けられた接続導体12に対して形状、大きさ、材質が同じでもよく、異なってもよい。接続導体12は、放熱板90とNANDチップ10−Nの貫通ビア11との間に挟まれ、放熱板90とNANDチップ10−Nの貫通ビア11とを互いに熱的に接続している。これにより、コントローラチップ20は、貫通電極80を介して、放熱板90に熱的に接続されている。
このような構成によれば、貫通電極80によって、コントローラチップ20の熱を放熱板90に効果的に移動させることができる。これにより、半導体パッケージ1の放熱性のさらなる向上を図ることができる。
(第3の実施形態)
次に、第3の実施形態の半導体パッケージ1について説明する。本実施形態は、封止樹脂部60に設けられたテストパッド100とコントローラチップ20のテスト端子29とが貫通電極80によって接続された点で、第1の実施形態とは異なる。なお以下に説明する以外の構成は、第1の実施形態の構成と略同じである。
次に、第3の実施形態の半導体パッケージ1について説明する。本実施形態は、封止樹脂部60に設けられたテストパッド100とコントローラチップ20のテスト端子29とが貫通電極80によって接続された点で、第1の実施形態とは異なる。なお以下に説明する以外の構成は、第1の実施形態の構成と略同じである。
図8は、本実施形態の半導体パッケージ1を示す断面図である。本実施形態では、コントローラチップ20は、テスト端子29を有する。「テスト端子」とは、コントローラチップ20が正常に動作するか否かを確認するために、検査用の信号が入力または出力される端子である。テスト端子29は、例えばコントローラチップ20の第1面20aに設けられている。
本実施形態では、半導体パッケージ1は、複数のテストパッド100を有する。詳しく述べると、封止樹脂部60は、主面60aと、周面60bとを有する。主面60aは、パッケージ基板40とは反対側に向いている。周面60bは、主面60aの縁とパッケージ基板40との間に延びている。複数のテストパッド100は、封止樹脂部60の主面60aに設けられている。テストパッド100は、例えば、主面60aに着脱可能に取り付けられた絶縁性のカバー110(シールやラベルなど)によって覆われている。テストパッド100は、封止樹脂部60からカバー110が取り外された場合、封止樹脂部60の外部(すなわち、半導体パッケージ1の外部)に露出される。
本実施形態では、複数の貫通電極80は、テスト端子用の貫通電極80Eを含む。貫通電極80Eは、「第3貫通電極」の一例である。貫通電極80Eは、Z方向で全てのNANDチップ10を貫通し、テストパッド100とコントローラチップ20のテスト端子29とに対してそれぞれ物理的および電気的に接続されている。これにより、テストパッド100は、貫通電極80Eを介して、コントローラチップ20のテスト端子29に電気的に接続されている。このため、検査者は、コントローラチップ20の検査が必要な場合、テストパッド100を利用することで、半導体パッケージ1の外部からコントローラチップ20の検査を行うことができる。
このような構成によれば、第1の実施形態と同様に、半導体パッケージ1の小型化を図ることができる。ここで、複数のNANDチップを含むメモリパッケージと、コントローラチップ20とが別々に回路基板Bに実装されている場合、コントローラチップ20の動作に不具合が生じた場合、回路基板Bからコントローラチップ20を取り外して比較的容易にコントローラチップ20の検査を行うことができる。一方で、複数のNANDチップ10とコントローラチップ20とが1つのパッケージ内に実装されている場合、コントローラチップ20は複数のNANDチップ10と一体に封止樹脂部60によって封止されているため、コントローラチップ20の検査を行うことが困難になる。
しかしながら、本実施形態では、コントローラチップ20は、テスト端子29を有する。少なくとも1つの貫通電極80は、コントローラチップ20のテスト端子29に接続された貫通電極80Eを含む。このような構成によれば、複数のNANDチップ10とコントローラチップ20とが1つのパッケージ内に実装される場合であっても、貫通電極80Eを介してコントローラチップ20のテスト端子29に対して信号を送信または受信することができる。これにより、コントローラチップ20が複数のNANDチップ10と一体に封止樹脂部60によって封止されている場合でも、コントローラチップ20の検査を容易に行うことができる。
(第4の実施形態)
次に、第4の実施形態の半導体パッケージ1について説明する。本実施形態は、テストパッド100がパッケージ基板40を介してコントローラチップ20のテスト端子29に電気的に接続された点で、第3の実施形態とは異なる。なお以下に説明する以外の構成は、第3の実施形態の構成と略同じである。
次に、第4の実施形態の半導体パッケージ1について説明する。本実施形態は、テストパッド100がパッケージ基板40を介してコントローラチップ20のテスト端子29に電気的に接続された点で、第3の実施形態とは異なる。なお以下に説明する以外の構成は、第3の実施形態の構成と略同じである。
図9は、本実施形態の半導体パッケージ1を示す断面図である。本実施形態では、コントローラチップ20のテスト端子29は、コントローラチップ20のバンプ28を介して、パッケージ基板40に電気的に接続されている。
本実施形態では、半導体パッケージ1は、パッド120、テスト端子130、および接続電極140を有する。パッド120は、パッケージ基板40の第1面40aに設けられている。パッド120は、パッケージ基板40の配線層およびコントローラチップ20のバンプ28を介して、コントローラチップ20のテスト端子29に電気的に接続されている。半導体パッケージ1のテスト端子130は、封止樹脂部60の主面60aに設けられている。テスト端子130は、例えば、主面60aに着脱可能に取り付けられた絶縁性のカバー110によって覆われている。テスト端子130は、封止樹脂部60からカバー110が取り外された場合、封止樹脂部60の外部(すなわち、半導体パッケージ1の外部)に露出される。接続電極140は、パッド120とテスト端子130との間に設けられ、パッド120とテスト端子130とを電気的に接続している。本実施形態では、接続電極140は、比較的大きな半田ボールである。例えば、接続電極140の先端は、最上位のNANDチップ10−Nよりも封止樹脂部60の主面60aの近くに位置する。ただし、接続電極140は、上記例に限定されない。
このような構成によれば、第1の実施形態と同様に、半導体パッケージ1の小型化を図ることができる。また本実施形態によれば、第3の実施形態と同様に、複数のNANDチップ10とコントローラチップ20とが1つのパッケージ内に実装された場合であってもコントローラチップ20の検査を容易に行うことができる。すなわち、検査者は、コントローラチップ20の検査が必要な場合、テスト端子130を利用することで、半導体パッケージ1の外部からコントローラチップ20の検査を行うことができる。
(第4の実施形態の第1変形例)
図10は、第4の実施形態の第1変形例の半導体パッケージ1を示す断面図である。なお以下に説明する以外の構成は、上記第4の実施形態の構成と略同じである。本変形例は、第4の実施形態に対して、テスト端子130が設けられていない。本変形例では、コントローラチップ20の検査が必要になった場合に、レーザ加工などによって封止樹脂部60に穴が開けられる、または封止樹脂部60の一部が削られて取り除かれることで、接続電極140の一部が封止樹脂部60の外部に露出する。封止樹脂部60の外部に露出した接続電極140の一部は、テスト端子130の代わりになる。このような構成によっても、第4の実施形態と同様に、コントローラチップ20の検査を容易に行うことができる半導体パッケージ1を提供することができる。
図10は、第4の実施形態の第1変形例の半導体パッケージ1を示す断面図である。なお以下に説明する以外の構成は、上記第4の実施形態の構成と略同じである。本変形例は、第4の実施形態に対して、テスト端子130が設けられていない。本変形例では、コントローラチップ20の検査が必要になった場合に、レーザ加工などによって封止樹脂部60に穴が開けられる、または封止樹脂部60の一部が削られて取り除かれることで、接続電極140の一部が封止樹脂部60の外部に露出する。封止樹脂部60の外部に露出した接続電極140の一部は、テスト端子130の代わりになる。このような構成によっても、第4の実施形態と同様に、コントローラチップ20の検査を容易に行うことができる半導体パッケージ1を提供することができる。
(第4の実施形態の第2変形例)
図11は、第4の実施形態の第2変形例の半導体パッケージ1を示す断面図である。なお以下に説明する以外の構成は、上記第4の実施形態の構成と略同じである。本変形例では、半田ボールによる接続電極140に代えて、柱状の接続電極140Aが設けられている。接続電極140Aは、例えば、レーザ加工などによって封止樹脂部60に穴Hが形成され、穴Hの内部または内面に導電材が設けられることで形成される。このような構成によっても、第4の実施形態と同様に、コントローラチップ20の検査を容易に行うことができる半導体パッケージ1を提供することができる。
図11は、第4の実施形態の第2変形例の半導体パッケージ1を示す断面図である。なお以下に説明する以外の構成は、上記第4の実施形態の構成と略同じである。本変形例では、半田ボールによる接続電極140に代えて、柱状の接続電極140Aが設けられている。接続電極140Aは、例えば、レーザ加工などによって封止樹脂部60に穴Hが形成され、穴Hの内部または内面に導電材が設けられることで形成される。このような構成によっても、第4の実施形態と同様に、コントローラチップ20の検査を容易に行うことができる半導体パッケージ1を提供することができる。
(第5の実施形態)
次に、第5の実施形態の半導体パッケージ1について説明する。本実施形態は、コントローラチップ20が複数のNANDチップ10に対してパッケージ基板40とは反対側に配置された点で、第1の実施形態とは異なる。なお以下に説明する以外の構成は、第1の実施形態の構成と略同じである。
次に、第5の実施形態の半導体パッケージ1について説明する。本実施形態は、コントローラチップ20が複数のNANDチップ10に対してパッケージ基板40とは反対側に配置された点で、第1の実施形態とは異なる。なお以下に説明する以外の構成は、第1の実施形態の構成と略同じである。
図12は、本実施形態の半導体パッケージ1を示す断面図である。本実施形態では、コントローラチップ20は、複数のNANDチップ10に対してパッケージ基板40とは反対側に位置する。詳しく述べると、本実施形態では、複数のNANDチップ10のなかで最下位のNANDチップ10−1は、パッケージ基板40の第1面40aに設けられた複数のパッド(不図示)に接合される複数の接続電極12を有する。
本実施形態では、貫通電極80は、コントローラチップ20と最上位のNANDチップ10−Nとの間に設けられた接続電極12、複数のNANDチップ10の貫通ビア11、複数のNANDチップ10の間に設けられた接続電極12、および最下位のNANDチップ10−1とパッケージ基板40との間に設けられた接続電極12とを含む。貫通電極80は、複数のNANDチップ10をZ方向に沿って貫通してコントローラチップ20の端子27に物理的および電気的に接続されている。コントローラチップ20は、複数の貫通電極80を介して複数のNANDチップ10と電気的に接続されている。また、コントローラチップ20は、複数の貫通電極80を介してパッケージ基板40に電気的に接続されている。
このような構成によっても、第1の実施形態の半導体パッケージ1と同様の効果を得ることができる。なお、本実施形態の構成は、上述した全ての実施形態および変形例と組み合わせて適用可能である。
(参考形態)
次に、参考形態の半導体パッケージ1について説明する。本参考形態は、コントローラチップ20と複数のNANDチップ10とが別々にパッケージ基板40に実装された点で、第4の実施形態とは異なる。なお以下に説明する以外の構成は、第4の実施形態の構成と略同じである。また、本参考形態は、第4の実施形態の第1変形例および第2変形例と組み合わせて適用可能である。
次に、参考形態の半導体パッケージ1について説明する。本参考形態は、コントローラチップ20と複数のNANDチップ10とが別々にパッケージ基板40に実装された点で、第4の実施形態とは異なる。なお以下に説明する以外の構成は、第4の実施形態の構成と略同じである。また、本参考形態は、第4の実施形態の第1変形例および第2変形例と組み合わせて適用可能である。
図13は、本参考形態の半導体パッケージ1を示す断面図である。本参考形態では、コントローラチップ20は、複数のNANDチップ10とはX方向で異なる位置に配置されている。これにより、コントローラチップ20と複数のNANDチップ10とが別々にパッケージ基板40に実装されている。半導体パッケージ1は、第4の実施形態と同様に、パッド120、テスト端子130、および接続電極140を有する。
なお、本参考形態では、コントローラチップ20は、フリップチップ実装に代えて、ボンディングワイヤによってパッケージ基板40に電気的に接続されていてもよい。また、複数のNANDチップ10は、貫通電極80に代えて、ボンディングワイヤによってパッケージ基板40に電気的に接続されていてもよい。
このような構成によれば、第4の実施形態と同様に、複数のNANDチップ10とコントローラチップ20とが1つのパッケージ内に実装される場合であってもコントローラチップ20の検査を容易に行うことができる半導体パッケージ1を提供することができる。
以上、いくつかの実施形態とその変形例、および参考形態について説明したが、実施形態および参考形態は上述した例に限定されない。例えば、半導体パッケージ1は、BGA(Ball Grid Array)タイプのパッケージでもよく、LGA(Land Grid Array)タイプのパッケージでもよい。
以上説明した少なくともひとつの実施形態では、複数の半導体メモリチップは、1つ以上の半導体メモリチップを貫通してコントローラチップに接続された少なくとも1つの貫通電極を有する。このような構成によれば、小型化を図ることができる半導体パッケージを提供することができる。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
1…半導体パッケージ、10…NANDチップ(半導体メモリチップ)、20…コントローラチップ、25…CPU(プロセッサ)、29…テスト端子、40…パッケージ基板、50…電子部品、60…封止樹脂部、80…貫通電極、80A…貫通電極(第1貫通電極)、80D…貫通電極(第2貫通電極)、80E…貫通電極(第3貫通電極)、C…回路部、R1…第1領域、R2…第2領域。
Claims (14)
- 基板と、
前記基板の厚さ方向で互いに積層された複数の半導体メモリチップと、
前記基板と前記複数の半導体メモリチップとの間、または、前記複数の半導体メモリチップに対して前記基板とは反対側に配置されたコントローラチップと、
前記複数の半導体メモリチップと前記コントローラチップとを封止した封止樹脂部と、
を備え、
前記複数の半導体メモリチップは、前記複数の半導体メモリチップに含まれる1つ以上の半導体メモリチップを前記基板の厚さ方向に貫通して前記コントローラチップに接続された少なくとも1つの貫通電極を有する、
半導体パッケージ。 - 前記複数の半導体メモリチップは、第1半導体メモリチップを含み、
前記少なくとも1つの貫通電極は、前記第1半導体メモリチップに電気的に接続された第1貫通電極を含み、
前記コントローラチップは、前記第1貫通電極を介して前記第1半導体メモリチップと通信する、
請求項1に記載の半導体パッケージ。 - 前記基板に実装され、前記封止樹脂部によって封止されるとともに、前記コントローラチップに電気的に接続された電子部品をさらに備え、
前記基板の厚さ方向とは略直交した方向において、前記電子部品と前記複数の半導体メモリチップに含まれる少なくとも1つの半導体メモリチップとの間の最短距離は、前記電子部品と前記基板の縁との間の最短距離よりも小さい、
請求項1に記載の半導体パッケージ。 - 前記コントローラチップは、前記基板と前記複数の半導体メモリチップとの間に配置され、前記基板にフリップチップ実装されている、
請求項1に記載の半導体パッケージ。 - 前記コントローラチップは、第1領域と、前記第1領域と比べて単位面積当たりの発熱量が大きい第2領域とを有し、
前記少なくとも1つの貫通電極は、前記第2領域に接続された第2貫通電極を含む、
請求項4に記載の半導体パッケージ。 - 前記第2貫通電極は、前記コントローラチップのグラウンドに電気的に接続された、
請求項5に記載の半導体パッケージ。 - 前記複数の半導体メモリチップに対して前記コントローラチップとは反対側に配置された放熱板をさらに備え、
前記第2貫通電極は、前記複数の半導体メモリチップを貫通して前記放熱板に接続されている、
請求項6に記載の半導体パッケージ。 - 前記放熱板の少なくとも一部は、前記封止樹脂部の外部に露出している、
請求項7に記載の半導体パッケージ。 - 前記コントローラチップは、プログラムを実行することで前記複数の半導体メモリチップに含まれる少なくとも1つの半導体メモリチップに対するデータの書き込みを制御するプロセッサを含み、
前記少なくとも1つの貫通電極は、前記コントローラチップのなかで前記基板の厚さ方向で前記プロセッサに重なる領域に接続された第2貫通電極を含む、
請求項4に記載の半導体パッケージ。 - 前記コントローラチップは、前記複数の半導体メモリチップに含まれる少なくとも1つの半導体メモリチップに対するデータの書き込みを制御する回路部を含み、
前記少なくとも1つの貫通電極は、前記コントローラチップのなかで前記基板の厚さ方向で前記回路部に重なる領域に接続された第2貫通電極を含む、
請求項4に記載の半導体パッケージ。 - 前記コントローラチップは、第1領域と、前記第1領域と比べて単位面積当たりの発熱量が大きい第2領域とを有し、
前記少なくとも1つの貫通電極は、前記第1領域に接続された第1グループの複数の貫通電極と、前記第2領域に接続された第2グループの複数の貫通電極とを有し、
前記第2グループの複数の貫通電極の配置密度は、前記第1グループの複数の貫通電極の配置密度よりも高い、
請求項4に記載の半導体パッケージ。 - 前記コントローラチップは、テスト端子を有し、
前記少なくとも1つの貫通電極は、前記コントローラチップのテスト端子に接続された第3貫通電極を含む、
請求項4に記載の半導体パッケージ。 - 前記封止樹脂部の表面に設けられたパッドをさらに備え、
前記第3貫通電極は、前記複数の半導体メモリチップを貫通して前記パッドに電気的に接続されている、
請求項12に記載の半導体パッケージ。 - 前記封止樹脂部の表面に設けられたパッドをさらに備え、
前記少なくとも1つの貫通電極は、前記複数の半導体メモリチップを貫通して前記パッドに電気的に接続された第3貫通電極を含む、
請求項4に記載の半導体パッケージ。
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