JP2019041029A - 真空装置、吸着電源 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、前記交流信号発生器は、位相が180°異なる前記正電圧側測定信号と前記負電圧側測定信号と、同一の位相の前記正電圧側測定信号と前記負電圧側測定信号とを出力できる真空装置である。
本発明は、吸着装置に設けられた第一の電極と第二の電極のうち、いずれか一方の電極に正の吸着電圧を出力し、他方の電極に負の吸着電圧を出力し、前記吸着装置に配置された基板を前記吸着装置に吸着させる吸着電源であって、前記第一の電極と前記第二の電極のうち、前記正の吸着電圧が印加されている電極に交流の正電圧側測定信号を出力し、前記負の吸着電圧が印加されている電極に交流の負電圧側測定信号を出力する交流信号発生器と、前記正電圧側測定信号の電流値と、前記負電圧側測定信号の電流値を測定する測定装置と、を有し、前記交流信号発生器は、前記正電圧側測定信号と前記負電圧側測定信号との間の位相差を変更できるようにされた吸着電源である。
本発明は、前記交流信号発生器は、位相が180°異なる前記正電圧側測定信号と前記負電圧側測定信号と、同一の位相の前記正電圧側測定信号と前記負電圧側測定信号とを出力できる吸着電源である。
基板と吸着装置との間の吸着状態を、基板が吸着されている状態で測定することができるので、測定結果に応じて真空処理の条件を変化させることができる。
測定信号の周波数を変化させて、基板と吸着装置との間のインピーダンスの成分を求めることができる。
吸着装置5の内部には第一、第二の電極211、212が設けられている。第一、第二の電極211,212のうち、いずれか一方の電極には正の吸着電圧が印加され、他方の電極には負の吸着電圧が印加されて吸着装置5の表面に配置された基板6を真空雰囲気中で吸着装置5に吸着させ、処理装置26によって基板6の表面に薄膜形成等の加工を行うことができる。
正電圧側トランス装置13Aの内部には、正電圧側交流電源12Aから交流電流が供給される正電圧側一次巻線14A1と、正電圧側一次巻線14A1と磁気結合された正電圧側二次巻線14A2とが配置されており、正電圧側二次巻線14A2には、正電圧側一次巻線14A1に流れる交流電流によって交流電圧が誘起される。
正電圧側整流平滑回路15Aで生成された吸着電圧は、正電圧側低電圧端子38Aに対して正電圧にされて正の吸着電圧として正電圧側高電圧端子37Aから出力される。また、負電圧側整流平滑回路15Bで生成された吸着電圧は、負電圧側低電圧端子38Bに対して負の吸着電圧として負電圧側高電圧端子37Bから出力される。
第一の出力端子301と第一の電極211との間の電気的接続と、第二の出力端子302と第二の電極212との間は、機械的・電気的に着脱が可能であり、第一の出力端子301と第一の電極211との間と第二の出力端子302と第二の電極212との間を、機械的・電気的に分離させると、基板6が吸着装置5に吸着された状態で、吸着装置5を移動させることができる。
正電圧側信号出力端子36Aと負電圧側信号出力端子36Bとは、交流信号発生器16の内部回路を介して接地電位に接続されており、トランス装置13A、13Bが出力する交流電圧は交流信号発生器16の内部回路には印加されない。
基板6の真空処理は、第一、第二の電極211,212の一方に正の吸着電圧が印加され、他方に負の吸着電圧が印加されて基板6が吸着装置5に吸着された状態で処理装置26によって行われる。
測定装置11には、正電圧側測定端子33Aと、正電圧側低電圧検出端子34Aと、負電圧側測定端子33Bと、負電圧側低電圧検出端子34Bとが設けられている。
また、正電圧側整流平滑回路15Aと負電圧側整流平滑回路15Bの容量を整流平滑容量C1とし、正電圧側高電圧端子37Aと第一の電極211との間の配線と接地電位との間に形成される容量と、負電圧側高電圧端子37Bと第二の電極212との間の配線と接地電位との間に形成される容量とを対接地容量C2とする。
無基板交流電流iac0は正及び負電圧側放電保護抵抗51A、51Bと第一、第二電極側放電保護抵抗521 、522にも流れるが、それら抵抗による電圧降下はここでは無視するものとする。
上記(1)、(2)式において、正電圧側検出抵抗53Aの値と、負電圧側検出抵抗53Bの値は既知であり、また、電圧Vacの値や周波数も既知であるから、正電圧側検出抵抗53Aの両端の電圧値と、負電圧側検出抵抗53Bの両端の電圧値とを測定して、無基板交流電流iac0や有基板交流電流iacSを算出し、基板電極間容量CSを求める、その値から基板6と吸着装置5との間の吸着状態が分かる。
プラズマが形成されるとプラズマは基板6の表面と真空槽25の壁面とに接触する。
プラズマはプラズマ容量CPを有しているものとすると、第一、第二の電極211、212は、基板電極間容量CSとプラズマ容量CPとが直列接続された直列容量CAによってそれぞれ接地電位に接続されることになる。
同位相電流iacAを求め、プラズマ容量CPを求めると、その値からプラズマの状態を知ることができる。
3……吸着電源
5……吸着装置
6……基板
10……直流電圧源
11……測定装置
16……交流信号発生器
211……第一の電極
212……第二の電極
26……処理装置
Claims (4)
- 真空槽と、
前記真空槽の内部に配置され、第一の電極と第二の電極とを有する吸着装置と、
前記第一の電極と前記第二の電極のうち、いずれか一方の電極に正の吸着電圧を出力し、他方の電極に負の吸着電圧を出力し、前記吸着装置に配置された基板を真空雰囲気中で前記吸着装置に吸着させる吸着電源と、
前記真空雰囲気中で前記吸着装置に吸着された前記基板の表面を加工する処理装置と、を有する真空装置であって、
前記吸着電源は、前記第一の電極と前記第二の電極のうち、前記正の吸着電圧が印加されている電極に交流の正電圧側測定信号を出力し、前記負の吸着電圧が印加されている電極に交流の負電圧側測定信号を出力する交流信号発生器と、
前記正電圧側測定信号の電流値と、前記負電圧側測定信号の電流値を測定する測定装置と、
を有し、
前記交流信号発生器は、前記正電圧側測定信号と前記負電圧側測定信号との間の位相差を変更できるようにされた真空装置。 - 前記交流信号発生器は、位相が180°異なる前記正電圧側測定信号と前記負電圧側測定信号と、同一の位相の前記正電圧側測定信号と前記負電圧側測定信号とを出力できる請求項1記載の真空装置。
- 吸着装置に設けられた第一の電極と第二の電極のうち、いずれか一方の電極に正の吸着電圧を出力し、他方の電極に負の吸着電圧を出力し、前記吸着装置に配置された基板を前記吸着装置に吸着させる吸着電源であって、
前記第一の電極と前記第二の電極のうち、前記正の吸着電圧が印加されている電極に交流の正電圧側測定信号を出力し、前記負の吸着電圧が印加されている電極に交流の負電圧側測定信号を出力する交流信号発生器と、
前記正電圧側測定信号の電流値と、前記負電圧側測定信号の電流値を測定する測定装置と、
を有し、
前記交流信号発生器は、前記正電圧側測定信号と前記負電圧側測定信号との間の位相差を変更できるようにされた吸着電源。 - 前記交流信号発生器は、位相が180°異なる前記正電圧側測定信号と前記負電圧側測定信号と、同一の位相の前記正電圧側測定信号と前記負電圧側測定信号とを出力できる請求項3記載の吸着電源。
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