JP2019032196A - X線分析装置およびそれに用いられるフィルタ管理システム - Google Patents

X線分析装置およびそれに用いられるフィルタ管理システム Download PDF

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【課題】適切な時期にフィルタを交換するためのフィルタ管理システムを備えたX線分析装置を提供する。【解決手段】試料Sが配置される試料配置部と、所定波長範囲のX線を試料Sに出射するX線管11と、試料SからのX線強度を検出するX線検出器22と、X線管11と試料Sとの間に配置され、所定波長範囲のX線における所定ピークのX線強度を減衰させるフィルタ12とを備えるX線分析装置1であって、フィルタ12の交換時期を判定するための閾値を記憶する記憶部44と、試料配置部に管理試料S’が配置されたときに検出された所定ピークのX線強度と閾値とを比較することで、フィルタ12の交換時期情報を通知する制御部41とを備える構成とする。【選択図】図1

Description

本発明は、X線回折装置や蛍光X線分析装置やX線吸収スペクトル測定装置等のX線分析装置およびそれに用いられるフィルタ管理システムに関し、特に、試料に特性X線を照射し、試料によって回折されたX線を検出して試料成分の定性・定量分析を行うX線回折装置に関する。
X線分析装置の一種であるX線回折装置は、X線源から特性X線を粉末試料等の測定対象試料に照射し、粉末試料等から放射される回折X線をゴニオメータに搭載されたX線検出器によって回折角度ごとに検出するものである(例えば特許文献1参照)。これにより、粉末試料等に含まれる結晶成分の定性・定量分析を行っている。
図2は、従来のX線回折装置の一例を示す概略構成図である。X線回折装置101は、X線源部10と、検出部20と、ゴニオメータ30と、X線回折装置101全体の制御を行うコンピュータ140とを備える。
X線源部10は、Fe管球(X線管球)11と、所定厚さ15μmのMnフィルタ12とを備える。Fe管球11は、例えばポイントフォーカスのX線管球であり、筐体を有し、筐体の内部に陽極のターゲットと陰極のフィラメントとが配置されている。これにより、ターゲットとフィラメントとの間に高電圧を印加することで、フィラメントから放射された熱電子をターゲットに衝突させて、ターゲットで発生した一次X線を出射するようになっている。一次X線のエネルギー分布は、ターゲットの材質に応じた特性X線が連続X線に重畳したものとなっている。
そして、ターゲットで発生した一次X線は、厚さ15μmのMnフィルタ12によって、所定ピークとなるFeKβ線(特性X線)の強度が、FeKα線(特性X線)の強度に対して1/100以下となるように減衰される。
検出部20は、検出スリット21と、1個(1ch)の検出素子からなるX線検出器22とを備える。そして、検出素子からX線強度Iがコンピュータ140に出力されるようになっている。
また、検出部20は、ゴニオメータ30の2θ軸に搭載されるとともに、測定対象試料となる粉末試料Sは、ゴニオメータ30のθ軸(試料配置部)に搭載されるようになっており、θ−2θ連動の駆動方法でゴニオメータ30の中心軸を中心として回転されることにより、回折角度ごとにX線強度Iが出力されていくことで、X線回折パターンが得られるようになっている。
コンピュータ140は、CPU(制御部)141と入力装置42と表示装置43とメモリ(記憶部)144とを備える。CPU141が処理する機能をブロック化して説明すると、Fe管球11から特性X線を出射させるX線源制御部41aと、X線検出器22からX線強度Iを取得する取得部41bと、X線強度分布画像(X線回折パターン)を作成するX線強度分布画像作成部41cと、ゴニオメータ30を回転駆動する動作制御部41dとを有する。
このようなX線回折装置101を用いて粉末試料Sを分析する際は、まず始めに、ユーザが粉末試料Sをθ軸上のゴニオメータ30の中心に載置する。そして、Fe管球11から出射された特性X線がMnフィルタ12を介して粉末試料S表面に照射される。このとき、ゴニオメータ30の2θ軸がθ軸に対して2倍の関係を保ちながら連動して回転駆動され、粉末試料Sから放射される回折X線が2θ軸に搭載された検出スリット21とX線検出器22とによって検出される。
そして、ユーザは、作成されたX線回折パターンを観察することにより、粉末試料Sに含まれる元素の種類を特定する。
ところで、Mnフィルタ12の厚さは非常に薄いため、経年劣化等により亀裂が入ると、FeKβ(所定ピーク)のX線強度を減衰させる能力が低下し、X線回折パターン中にFeKβ(所定ピーク)による回折ピークが出現するようになり、これが定性分析時の誤判定等の原因となる。
そのため、ユーザ等はSi粉末試料等の管理試料S’を定期的に測定して、管理試料S’のX線回折パターン中におけるFeKβ線強度IFeKβを目視確認するか、或いは、通常の定性分析時における誤判定で判断していた。
特開2001−349851号公報
しかしながら、上述したようなX線回折装置101では、ユーザがMnフィルタ12の劣化を認識できずに使用を継続することがあった。
そこで、本発明は、適切な時期にフィルタを交換することができるX線分析装置およびそれに用いられるフィルタ管理システムを提供することを目的とする。
上記課題を解決するためになされた本発明のX線分析装置は、試料が配置される試料配置部と、所定波長範囲のX線を試料に出射するX線管と、前記試料からのX線強度を検出するX線検出器と、前記X線管と前記試料との間に配置され、所定波長範囲のX線における所定ピークのX線強度を減衰させるフィルタとを備えるX線分析装置であって、前記フィルタの交換時期を判定するための閾値を記憶する記憶部と、前記試料配置部に管理試料が配置されたときに検出された所定ピークのX線強度と前記閾値とを比較することで、前記フィルタの交換時期情報を通知する制御部とを備えるようにしている。
ここで、「所定波長範囲のX線」とは、X線管のターゲットの材質の種類によって決定されるものとなり、X線管のターゲットの材質の種類は設計者等によって任意に決められる。また、「所定ピーク」も、X線管のターゲットの種類によって任意に決められることになるが、「所定波長範囲のX線」がターゲットの材質に応じた数種類の特性X線が連続X線に重畳したものとなるので、数種類の特性X線の内の回折に邪魔なピーク(FeKβ等)となる。
そして、「管理試料」とは、ユーザ等によって任意に決定される試料であり、例えば、Si粉末試料等となる。
以上のように、本発明のX線分析装置によれば、制御部がフィルタの管理分析を行うことにより、ユーザ等は適切な時期にフィルタを交換することができる。
(他の課題を解決するための手段および効果)
また、上記の発明において、前記制御部は、前記試料配置部に管理試料が配置されたときには、所定ピークのX線強度を前記記憶部に記憶させるようにしてもよい。
このようなX線分析装置によれば、所定ピークのX線強度の履歴から、交換時期を予測して、事前にユーザに通知することができる。
また、上記の発明において、入力操作される入力装置と、前記入力装置からの入力情報に基づいて、所定ピークの種類および前記閾値を設定する設定部とを備えるようにしてもよい。
このようなX線分析装置によれば、ユーザ等は様々なX線管や使用用途において適切な時期にフィルタを交換することができる。
そして、本発明のフィルタ管理システムは、試料が配置される試料配置部と、所定波長範囲のX線を試料に出射するX線管と、前記試料からのX線強度を検出するX線検出器と、前記X線管と前記試料との間に配置され、所定波長範囲のX線における所定ピークのX線強度を減衰させるフィルタとを備えるX線分析装置に用いられるフィルタ管理システムであって、前記フィルタの交換時期を判定するための閾値を記憶する記憶部と、前記試料配置部に管理試料が配置されたときに検出された所定ピークのX線強度と前記閾値とを比較することで、前記フィルタの交換時期情報を通知する制御部とを備えるようにしている。
本発明の実施形態に係るX線回折装置の一例を示す概略構成図。 従来のX線回折装置の一例を示す概略構成図。 FeKβ線の強度変化I(t)を示すグラフ。
以下、本発明の実施形態について図面を用いて説明する。なお、本発明は、以下に説明するような実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の態様が含まれることはいうまでもない。
図1は、本発明の実施形態に係るX線回折装置(X線分析装置)の一例を示す概略構成図である。なお、上述したX線回折装置101と同様のものについては、同じ符号を付すことにより説明を省略する。
X線回折装置1は、X線源部10と、検出部20と、ゴニオメータ30と、X線回折装置1全体の制御を行うコンピュータ40とを備える。
コンピュータ40は、CPU(制御部)41と入力装置42と表示装置43とメモリ(記憶部)44とを備える。CPU41が処理する機能をブロック化して説明すると、Fe管球11から特性X線を出射させるX線源制御部41aと、X線検出器22からX線強度Iを取得する取得部41bと、X線強度分布画像(X線回折パターン)を作成するX線強度分布画像作成部41cと、ゴニオメータ30を回転駆動する動作制御部41dと、Mnフィルタ12の交換時期情報を通知する交換時期情報通知部41eと、閾値Ith’等を設定する設定部41fとを有する。
また、メモリ44は、Mnフィルタ12等の交換時期を判定するための閾値Ith’を記憶するための閾値記憶領域44aと、管理試料S’が配置された時間tとそのときのFeKβ(所定ピーク)等のX線強度I’とを記憶するためのX線強度履歴記憶領域44bとを有する。
X線強度分布画像作成部41cは、入力装置42からの入力信号に基づいて「試料分析モード」に設定されたときには、取得部41bで取得されたX線強度IとX線検出器22の角度との関係を示すX線強度分布画像(X線回折パターン)を作成して表示装置43に表示する制御を行う。なお、「試料分析モード」に設定したときには、ユーザ等は測定対象試料Sをθ軸上のゴニオメータ30の中心に載置することになる。
設定部41fは、入力装置42からの入力信号に基づいて「所定ピークの種類(FeKβ等)」と「閾値Ith’」とを設定する制御を行う。例えば、X線源部10にはFe管球11とMnフィルタ12が用いられているので、ユーザや設計者等は、所定ピークの種類として「FeKβ」と「FeKβの閾値Ith’」とを入力装置42を用いて閾値記憶領域44aに記憶させる。また、X線源部10にCr管球とVフィルタが用いられている場合には、ユーザや設計者等は、所定ピークの種類として「CrKβ」と「CrKβの閾値Ith’」とを入力装置42を用いて閾値記憶領域44aに記憶させることになる。
交換時期情報通知部41eは、入力装置42からの入力信号に基づいて「交換時期検査モード」に設定されたときには、取得部41bからFeKβ線の強度I’を取得してX線強度履歴記憶領域44bに記憶させるとともに、閾値Ith’とFeKβ線の強度I’とを比較することで、Mnフィルタ12の交換時期情報を通知する制御を行う。
例えば、ユーザ等は定期的に管理試料S’の測定を行い、管理試料S’が配置されたときの時間tと、配置時間tに取得されたFeKβ線の強度I’とに基づいて、図3に示すようなFeKβ線の強度変化I(t)’を作成する。これにより、FeKβ線の強度I(t)’が閾値Ith’を超える時期(t+α)を予測して、「あとα時間の試料の測定でMnフィルタが使用不能になります」のような警告メッセージ(交換時期情報)を表示装置43に表示する。なお、「交換時期検査モード」に設定したときには、ユーザ等は管理試料S’をθ軸上のゴニオメータ30の中心に載置することになる。この管理試料S’としては、例えば試料ホルダ等を用いて20mm角程度の大きさの平板状に成形されたSi粉末試料等が挙げられる。
以上のように、本発明のX線回折装置1によれば、コンピュータ40がMnフィルタ12の管理分析を行うことにより、ユーザ等は適切な時期にMnフィルタ12を交換することができる。
<他の実施形態>
(1)上述したX線回折装置1において、検出部20は、検出スリット21と1個(1ch)の検出素子からなるX線検出器22とを備えた構成を示したが、これに代えて、X線強度を検出するN個(例えば1280個)の検出素子が一次元に配列された検出面を有するラインセンサを備えるような構成としてもよい。
(2)上述したX線回折装置1では、Mnフィルタ12が使用不能になる時期を予測して、事前に警告メッセージを表示装置43に表示する構成を示したが、FeKβ線の強度I’が閾値Ith’を超えたときに、「Mnフィルタが使用不能です」との警告メッセージを表示装置43に表示するような構成としてもよい。
(3)上述した実施形態では、本発明をX線回折装置1に適用した場合の構成を示したが、蛍光X線分析装置やX線吸収スペクトル測定装置としてもよいことはもちろんである。
本発明は、X線回折装置や蛍光X線分析装置やX線吸収スペクトル測定装置等のX線分析装置に利用することができる。
1 X線回折装置(X線分析装置)
11 X線管
12 Mnフィルタ
22 X線検出器
41 CPU(制御部)
44 メモリ(記憶部)
S 試料
S’ 管理試料

Claims (4)

  1. 試料が配置される試料配置部と、
    所定波長範囲のX線を試料に出射するX線管と、
    前記試料からのX線強度を検出するX線検出器と、
    前記X線管と前記試料との間に配置され、所定波長範囲のX線における所定ピークのX線強度を減衰させるフィルタとを備えるX線分析装置であって、
    前記フィルタの交換時期を判定するための閾値を記憶する記憶部と、
    前記試料配置部に管理試料が配置されたときに検出された所定ピークのX線強度と前記閾値とを比較することで、前記フィルタの交換時期情報を通知する制御部とを備えることを特徴とするX線分析装置。
  2. 前記制御部は、前記試料配置部に管理試料が配置されたときには、所定ピークのX線強度を前記記憶部に記憶させることを特徴とする請求項1に記載のX線分析装置。
  3. 入力操作される入力装置と、
    前記入力装置からの入力情報に基づいて、所定ピークの種類および前記閾値を設定する設定部とを備えることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のX線分析装置。
  4. 試料が配置される試料配置部と、
    所定波長範囲のX線を試料に出射するX線管と、
    前記試料からのX線強度を検出するX線検出器と、
    前記X線管と前記試料との間に配置され、所定波長範囲のX線における所定ピークのX線強度を減衰させるフィルタとを備えるX線分析装置に用いられるフィルタ管理システムであって、
    前記フィルタの交換時期を判定するための閾値を記憶する記憶部と、
    前記試料配置部に管理試料が配置されたときに検出された所定ピークのX線強度と前記閾値とを比較することで、前記フィルタの交換時期情報を通知する制御部とを備えることを特徴とするフィルタ管理システム。
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002168812A (ja) * 2000-12-05 2002-06-14 Rigaku Industrial Co 蛍光x線分析装置
JP2007109451A (ja) * 2005-10-12 2007-04-26 Komatsu Ltd 極端紫外光源装置の初期アライメント方法
JP2008073424A (ja) * 2006-09-25 2008-04-03 Toshiba Corp X線診断装置
JP2015006433A (ja) * 2014-09-09 2015-01-15 富士フイルム株式会社 放射線撮影管理システム及び放射線撮影管理方法
CN106255901A (zh) * 2014-05-02 2016-12-21 皇家飞利浦有限公司 校准光子探测器的方法、吸收滤波器组件和成像装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002168812A (ja) * 2000-12-05 2002-06-14 Rigaku Industrial Co 蛍光x線分析装置
JP2007109451A (ja) * 2005-10-12 2007-04-26 Komatsu Ltd 極端紫外光源装置の初期アライメント方法
JP2008073424A (ja) * 2006-09-25 2008-04-03 Toshiba Corp X線診断装置
CN106255901A (zh) * 2014-05-02 2016-12-21 皇家飞利浦有限公司 校准光子探测器的方法、吸收滤波器组件和成像装置
JP2015006433A (ja) * 2014-09-09 2015-01-15 富士フイルム株式会社 放射線撮影管理システム及び放射線撮影管理方法

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