JP2019026900A - 蒸着マスク用基材、蒸着マスク用基材の製造方法、蒸着マスクの製造方法、および、表示装置の製造方法 - Google Patents
蒸着マスク用基材、蒸着マスク用基材の製造方法、蒸着マスクの製造方法、および、表示装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019026900A JP2019026900A JP2017148589A JP2017148589A JP2019026900A JP 2019026900 A JP2019026900 A JP 2019026900A JP 2017148589 A JP2017148589 A JP 2017148589A JP 2017148589 A JP2017148589 A JP 2017148589A JP 2019026900 A JP2019026900 A JP 2019026900A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal plate
- vapor deposition
- inclusions
- inclusion
- deposition mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims abstract description 166
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 105
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 69
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 64
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 372
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 372
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 76
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims description 61
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 44
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 34
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 34
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 33
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 33
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical group [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 claims description 27
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 19
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 9
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims description 5
- UGKDIUIOSMUOAW-UHFFFAOYSA-N iron nickel Chemical compound [Fe].[Ni] UGKDIUIOSMUOAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 42
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 37
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 18
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 16
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 16
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 14
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 11
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 10
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 10
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 8
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 8
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 7
- 238000013461 design Methods 0.000 description 6
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000011161 development Methods 0.000 description 5
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000005097 cold rolling Methods 0.000 description 3
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 3
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 238000005098 hot rolling Methods 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 241000224489 Amoeba Species 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 241000976924 Inca Species 0.000 description 1
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000468086 Pentapetes Species 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- -1 aluminum compound Chemical class 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000010731 rolling oil Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Metal Rolling (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
Description
図1および図2を参照して、蒸着マスク用基材の構成を説明する。
図1が示すように、蒸着マスク用基材10は、鉄‐ニッケル系合金製の金属板11のエッチングによって複数の貫通孔を有した蒸着マスクを製造するために用いられる金属板11を備えている。本実施形態における蒸着マスク用基材10は、1枚の金属板11のみを備える構成として具体化されているが、1枚の金属板11に加えて、金属板11に貼り合わせられた樹脂層を備える構成でもよいし、2枚の金属板と2枚の金属板に挟まれる樹脂層とから構成されてもよい。金属板11の厚さTは、15μm以上40μm以下である。金属板11は、表面11Fと裏面11Rとを含んでいる。
金属板11の主成分は、鉄‐ニッケル系合金であり、例えば、34質量%以上50質量%以下のニッケルと、鉄とを含む鉄‐ニッケル合金、すなわちインバー材であることが好ましい。
介在物12は、上述した脱酸処理において、金属板11を形成するための母材に含まれる酸素などと脱酸剤との反応によって生成される反応生成物である。あるいは、介在物は、未反応の脱酸剤である。こうした反応生成物あるいは脱酸剤の大部分は、母材から金属板11を製造する過程において母材から取り除かれる。一方で、反応生成物あるいは脱酸剤の一部は、金属板11中に介在物12として残される。上述したように、介在物12は、金属板11の表面11F、および、金属板11の内部に分散している。すなわち、一部の介在物12は、金属板11の表面11Fに露出している。また、一部の介在物12が、金属板11のなかで蒸着マスクが備えるマスク孔が形成される領域に位置することもある。
図3を参照して蒸着マスクを備えるマスク装置の構成を説明する。
図3が示すように、マスク装置20は、メインフレーム21と、複数の蒸着マスク22とを備えている。メインフレーム21は、複数の蒸着マスク22を支持する枠板状を有し、蒸着を行うための蒸着装置に取り付けられる。メインフレーム21は、各蒸着マスク22が取り付けられる部位のほぼ全体にわたり、メインフレーム21を貫通するメインフレーム孔21Hを有している。
図4から図7を参照して、蒸着マスク用基材10の製造方法を説明する。上述したように、本実施形態の蒸着マスク用基材10は金属板11から構成される。そのため、以下では、金属板11の製造方法を説明する。
図8から図16を参照して蒸着マスク22の製造方法を説明する。図8から図14では、図示の便宜上、金属板11に対して1つのマスク孔が形成されるように図示しているが、実際には、複数のマスク孔が金属板11に対して同時に形成される。
図16が示すように、金属板11の表面11Fと対向する平面視において、各マスク孔11cは、圧延方向DRに沿って延びる長方形状を有している。言い換えれば、各マスク孔11cの長手方向が、圧延方向DRと平行な方向である。複数のマスク孔11cは、圧延方向DRに沿って等間隔で並び、かつ、幅方向DWに沿って等間隔で並んでいる。複数のマスク孔11cは、金属板11の表面11Fにおいて矩形格子状に並んでいる。
図17を参照して、表示装置の製造方法を説明する。
表示装置の製造方法は、板形成工程と、マスク形成工程と、蒸着工程とを含んでいる。板形成工程は、上述した金属板11を形成する工程である。マスク形成工程は、上述した蒸着マスク22を形成する工程である。蒸着工程は、蒸着マスク22を用いた蒸着によって蒸着対象に複数の層を形成する工程である。以下、図17を用いて、蒸着工程に用いられる蒸着装置の一例とともに、蒸着工程について説明する。
[金属板の製造]
36質量%のニッケルを含む鉄‐ニッケル合金を準備し、鋳造工程によって鉄‐ニッケル合金製の母材を形成した。鋳造工程では、溶融した状態の鉄‐ニッケル合金に脱酸剤を加えた後、脱酸剤から生じた介在物の一部を取り除きながら、200μmの厚さを有する母材を得た。
実施例1から実施例4、比較例1および比較例2の各々の金属板において、金属板の表面に位置する介在物の測定を行った。各金属板の表面を走査型電子顕微鏡(JSM−7001F、日本電子(株)製)を用いて撮像し、1mm2の領域であって、互いに異なる領域である100個の領域に対応するSEM画像において、最大寸法が1μm以上である介在物の個数を目視にて計数した。また、各介在物を楕円近似することによって、介在物における長軸の長さ、短軸の長さ、および、平均寸法を算出した。なお、介在物における長軸の長さが、介在物の最大寸法である。さらに、SEM画像に基づいて、各介在物の面積を算出した。
表1から表3を参照して、介在物の測定結果を説明する。
実施例1から実施例4の各々の金属板、および、比較例1および比較例2の各々の金属板について、介在物の密度、平均寸法の平均値、および、最大寸法の最大値を算出した。各金属板における介在物の密度、平均寸法の平均値、および、最大寸法の最大値は、下記の表1に示す通りであった。
実施例1から実施例4、比較例1、および、比較例2の各々の金属板を用いて、上述した配置工程、露光工程、現像工程、および、エッチング工程を経て、複数のマスク孔が形成された蒸着マスクを製造した。配置工程では、ネガ型のレジスト材料を含むドライフィルムレジストを金属板に貼り付けることでレジスト層を形成した。マスク孔の設計寸法において、金属板の表面と対向する平面視での圧延方向に沿う長さを40μmとし、幅方向に沿う長さを40μmとした。
Claims (8)
- 鉄‐ニッケル系合金製の金属板のエッチングによって複数の貫通孔を有した蒸着マスクを製造するために用いられる前記金属板を備える蒸着マスク用基材であって、
前記金属板は、前記金属板の表面および前記金属板の内部に介在物を含み、
前記金属板の厚さは、15μm以上40μm以下であり、
前記表面と対向する平面視において、前記介在物の最大寸法は、10μm以下であり、
前記平面視において前記最大寸法が1μm以上である前記介在物の密度は、2.0個/mm2以下である
蒸着マスク用基材。 - 複数の前記介在物のなかで、マグネシウムが主成分である前記介在物が第1介在物であり、
前記最大寸法が1μm以上である前記第1介在物の密度は、前記介在物の密度に対して50%以上である
請求項1に記載の蒸着マスク用基材。 - 前記最大寸法が1μm以上である全ての前記介在物における原子の総質量において、マグネシウムの割合がアルミニウムの割合よりも大きい
請求項2に記載の蒸着マスク用基材。 - 単位領域において、前記最大寸法が1μm以上である前記第1介在物における前記平面視での総面積が、前記最大寸法が1μm以上である全ての前記介在物における前記平面視での総面積の45%以上である
請求項2または3に記載の蒸着マスク用基材。 - 複数の前記介在物のなかで、アルミニウムが主成分である前記介在物が第2介在物であり、
単位領域において、前記最大寸法が1μm以上である前記第2介在物における前記平面視での総面積が、前記最大寸法が1μm以上である全ての前記介在物における前記平面視での総面積の25%以下である
請求項2から4のいずれか一項に記載の蒸着マスク用基材。 - 鉄‐ニッケル系合金製の金属板のエッチングによって複数の貫通孔を有した蒸着マスクを製造するために用いられる前記金属板を備えた蒸着マスク用基材の製造方法であって、
介在物を含む鉄‐ニッケル系合金製の母材を圧延して、前記金属板の表面および前記金属板の内部に前記介在物を含む前記金属板を形成する圧延工程と、
前記圧延工程によって形成された前記金属板を焼鈍する加熱工程とを含み、
前記圧延工程は、
前記金属板の厚さが15μm以上40μm以下であり、前記表面と対向する平面視において、前記介在物の最大寸法が10μm以下であり、かつ、前記平面視において前記最大寸法が1μm以上である前記介在物の密度が、2.0個/mm2以下となるように、前記母材を圧延する
蒸着マスク用基材の製造方法。 - 鉄‐ニッケル系合金製の金属板のエッチングによって複数の貫通孔を有した蒸着マスクを製造する蒸着マスクの製造方法であって、
介在物を含む鉄‐ニッケル系合金製の母材の圧延によって、前記金属板の表面および前記金属板の内部に前記介在物を含む前記金属板を形成する板形成工程と、
前記金属板の前記表面にレジストマスクを形成し、前記レジストマスクを用いたエッチングによって前記貫通孔を形成するエッチング工程と、を含み、
前記板形成工程は、
前記金属板の厚さが、15μm以上40μm以下であり、
前記表面と対向する平面視において、前記介在物の最大寸法が、10μm以下であり、
前記平面視において前記最大寸法が1μm以上である前記介在物の密度が、2.0個/mm2以下となる金属板を形成する
蒸着マスクの製造方法。 - 鉄‐ニッケル系合金製の金属板のエッチングによって製造された蒸着マスクであって、複数の貫通孔を有した前記蒸着マスクを用いて形成される複数の層を備える表示装置の製造方法であって、
介在物を含む鉄‐ニッケル系合金製の母材の圧延によって、前記金属板の表面および前記金属板の内部に前記介在物を含む前記金属板を形成する板形成工程と、
前記金属板の前記表面にレジストマスクを形成し、前記レジストマスクを用いたエッチングによって前記貫通孔を形成することによって前記蒸着マスクを形成するマスク形成工程と、
前記蒸着マスクを用いた蒸着によって蒸着対象に複数の前記層を形成する蒸着工程と、を含み、
前記板形成工程は、
前記金属板の厚さが、15μm以上40μm以下であり、
前記表面と対向する平面視において、前記介在物の最大寸法が、10μm以下であり、
前記平面視における前記最大寸法が1μm以上である前記介在物の密度が、2.0個/mm2以下である金属板を形成する
表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017148589A JP6879109B2 (ja) | 2017-07-31 | 2017-07-31 | 蒸着マスク用基材、蒸着マスク用基材の製造方法、蒸着マスクの製造方法、および、表示装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017148589A JP6879109B2 (ja) | 2017-07-31 | 2017-07-31 | 蒸着マスク用基材、蒸着マスク用基材の製造方法、蒸着マスクの製造方法、および、表示装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019026900A true JP2019026900A (ja) | 2019-02-21 |
JP6879109B2 JP6879109B2 (ja) | 2021-06-02 |
Family
ID=65477648
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017148589A Active JP6879109B2 (ja) | 2017-07-31 | 2017-07-31 | 蒸着マスク用基材、蒸着マスク用基材の製造方法、蒸着マスクの製造方法、および、表示装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6879109B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112934964A (zh) * | 2021-01-25 | 2021-06-11 | 太原理工大学 | 一种物理气相沉积与激光能场辅助的金属复合带轧制方法 |
WO2023191594A1 (ko) * | 2022-03-31 | 2023-10-05 | 스템코 주식회사 | 금속판과 이를 활용한 증착 마스크 및 그 제조 방법 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003027188A (ja) * | 2001-07-19 | 2003-01-29 | Sumitomo Metal Ind Ltd | シャド−マスク用インバ−合金とその製造法 |
JP2005195771A (ja) * | 2004-01-06 | 2005-07-21 | Hitachi Metals Ltd | シートディスプレイ用基板 |
JP2015168847A (ja) * | 2014-03-06 | 2015-09-28 | 大日本印刷株式会社 | 金属板、金属板の製造方法、および金属板を用いて蒸着マスクを製造する方法 |
WO2017014016A1 (ja) * | 2015-07-17 | 2017-01-26 | 凸版印刷株式会社 | メタルマスク用基材の製造方法、蒸着用メタルマスクの製造方法、メタルマスク用基材、および、蒸着用メタルマスク |
WO2017014172A1 (ja) * | 2015-07-17 | 2017-01-26 | 凸版印刷株式会社 | 蒸着用メタルマスク基材、蒸着用メタルマスク、蒸着用メタルマスク基材の製造方法、および、蒸着用メタルマスクの製造方法 |
-
2017
- 2017-07-31 JP JP2017148589A patent/JP6879109B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003027188A (ja) * | 2001-07-19 | 2003-01-29 | Sumitomo Metal Ind Ltd | シャド−マスク用インバ−合金とその製造法 |
JP2005195771A (ja) * | 2004-01-06 | 2005-07-21 | Hitachi Metals Ltd | シートディスプレイ用基板 |
JP2015168847A (ja) * | 2014-03-06 | 2015-09-28 | 大日本印刷株式会社 | 金属板、金属板の製造方法、および金属板を用いて蒸着マスクを製造する方法 |
WO2017014016A1 (ja) * | 2015-07-17 | 2017-01-26 | 凸版印刷株式会社 | メタルマスク用基材の製造方法、蒸着用メタルマスクの製造方法、メタルマスク用基材、および、蒸着用メタルマスク |
WO2017014172A1 (ja) * | 2015-07-17 | 2017-01-26 | 凸版印刷株式会社 | 蒸着用メタルマスク基材、蒸着用メタルマスク、蒸着用メタルマスク基材の製造方法、および、蒸着用メタルマスクの製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112934964A (zh) * | 2021-01-25 | 2021-06-11 | 太原理工大学 | 一种物理气相沉积与激光能场辅助的金属复合带轧制方法 |
WO2023191594A1 (ko) * | 2022-03-31 | 2023-10-05 | 스템코 주식회사 | 금속판과 이를 활용한 증착 마스크 및 그 제조 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6879109B2 (ja) | 2021-06-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6792829B2 (ja) | 蒸着マスクを製造するための金属板及び金属板の製造方法並びに蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスクを備える蒸着マスク装置 | |
TWI634227B (zh) | 金屬遮罩用基材的製造方法、蒸鍍用金屬遮罩的製造方法 | |
JP6264523B1 (ja) | 蒸着用メタルマスク、蒸着用メタルマスクの製造方法、および、蒸着用メタルマスク形成基材 | |
CN105637110B (zh) | 金属板、金属板的制造方法、和使用金属板制造蒸镀掩模的方法 | |
JP6879109B2 (ja) | 蒸着マスク用基材、蒸着マスク用基材の製造方法、蒸着マスクの製造方法、および、表示装置の製造方法 | |
US11667983B2 (en) | Method for manufacturing metal plate | |
JPWO2017057621A1 (ja) | 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法および金属板 | |
JP2020045571A (ja) | 蒸着マスク | |
US11732361B2 (en) | Metal plate for manufacturing deposition mask, method for manufacturing metal plate, deposition mask and method for manufacturing deposition mask | |
US20230017083A1 (en) | Method for preparing high-flatness metal foil suitable for making metal mask | |
CN114535580A (zh) | 一种适合制作金属掩模版的高平整度金属箔材制备方法 | |
CN113909494A (zh) | 用于金属掩膜板的金属箔材的制备方法及金属掩膜板的制备方法 | |
JP2015028194A (ja) | 成膜マスクの製造方法、成膜マスク及びタッチパネル基板 | |
CN114433847A (zh) | 一种高洁净金属箔材制备方法以及金属掩模版条制备方法 | |
JP2016196675A (ja) | 蒸着マスク製造方法 | |
JP2016130348A (ja) | 蒸着マスクの製造方法、及び有機半導体素子の製造方法 | |
JP7478359B2 (ja) | 蒸着マスクを製造するための金属板及び金属板の製造方法並びに蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスクを備える蒸着マスク装置 | |
KR20200082919A (ko) | 마스크 및 이의 제조 방법 | |
JPS61223188A (ja) | エツチング時のスジむらの発生を抑制したシヤドウマスク用鉄−ニツケル系合金 | |
JP2020026543A (ja) | 蒸着マスクの製造方法 | |
JP7327693B2 (ja) | 蒸着マスク基材、蒸着マスク基材の検査方法、蒸着マスクの製造方法、および、表示装置の製造方法 | |
JPS6056053A (ja) | シャドウマスク用素材 | |
JP2017137582A (ja) | 樹脂層付金属マスク | |
JP2001015407A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
KR20070100767A (ko) | 저융점 합금 석출에 의해 하나 이상의 활성 물질을전송하는 제조 장치를 위한 처리 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200619 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210310 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210330 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210412 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6879109 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R157 | Certificate of patent or utility model (correction) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R157 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |