JP2019014762A - ニロチニブ塩酸塩の多形形態 - Google Patents
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Abstract
【課題】ニロチニブ塩酸塩の多形形態を提供すること。【解決手段】ニロチニブ塩酸塩の結晶形態Ｒ５、Ｒ５ａ、Ｒ５ｂおよびＲ６、ならびにそれらを調製するためのプロセス。一実施形態において、本出願は、形態Ｒ５と称され、約６．２７±０．２、１５．４４±０．２、１６．１５±０．２、２４．０７±０．２および２６．１１±０．２°２θにおいてピークを有する粉末Ｘ線回折パターン；約１１．２６±０．２、１２．２４±０．２、１２．５４±０．２０、１８．８１±０．２および２７．９４±０．２°２θにおいてピークを有する粉末Ｘ線回折パターン；図１に実質的に示されるとおりの粉末Ｘ線回折パターン；ならびにこれらの組合せからなる群より選択されるデータによって特徴付けられる結晶性ニロチニブ塩酸塩を提供する。【選択図】なし
Description
序文
本出願は、形態Ｒ５、形態Ｒ５ａ、形態Ｒ５ｂ、形態Ｒ６と称されるニロチニブ塩酸塩の結晶形態およびそれらを調製するためのプロセスを提供する。
本出願は、形態Ｒ５、形態Ｒ５ａ、形態Ｒ５ｂ、形態Ｒ６と称されるニロチニブ塩酸塩の結晶形態およびそれらを調製するためのプロセスを提供する。
発明の背景
採用された名称である「ニロチニブ塩酸塩」を有する薬物化合物は、化学名として４−メチル−Ｎ−［３−（４−メチル−１Ｈ−イミダゾール−１−イル）−５−（トリフルオロメチル）フェニル］−３−［［４−（３−ピリジニル）−２−ピリミジニル］アミノ］−ベンズアミド一塩酸塩を有し、式Ｉによって構造で表される。
採用された名称である「ニロチニブ塩酸塩」を有する薬物化合物は、化学名として４−メチル−Ｎ−［３−（４−メチル−１Ｈ−イミダゾール−１−イル）−５−（トリフルオロメチル）フェニル］−３−［［４−（３−ピリジニル）−２−ピリミジニル］アミノ］−ベンズアミド一塩酸塩を有し、式Ｉによって構造で表される。
ニロチニブ塩酸塩は、ニロチニブ塩酸塩一水和物として承認され、イマチニブを含んだ先行する治療に抵抗性であるかもしくは不耐性の成人患者における慢性期および移行期のフィラデルフィア染色体陽性慢性骨髄性白血病（ＣＭＬ）を処置するためのカプセル剤の形態で商品名Ｔａｓｉｇｎａ（登録商標）を使用して販売されているキナーゼインヒビターである。
国際出願公開第ＷＯ２００７／０１５８７１ Ａ１号は、４−メチル−Ｎ−［３−（４−メチル−１Ｈ−イミダゾール−１−イル）−５−（トリフルオロメチル）フェニル］−３−［［４−（３−ピリジニル）−２−ピリミジニル］アミノ］−ベンズアミドの塩、およびそれらの多形形態、ならびにそれらを調製するためのプロセスを記載し、ここで上記塩は、塩酸塩、塩酸塩一水和物、一リン酸塩、二リン酸塩、硫酸塩、メタンスルホン酸塩（ｍｅｔｈａｎｅｓｕｌｆａｔｅ）、エタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩、クエン酸塩、フマル酸（ｆｕｒｍａｒａｔｅ）塩、マロン酸塩、リンゴ酸塩、酒石酸塩などである。さらに、それはまた、形態Ａおよび形態Ｂと称されるニロチニブ塩酸塩の結晶形態、それらを調製するためのプロセスおよびニロチニブ塩酸塩一水和物を調製するためのプロセスを開示する。
国際出願公開第ＷＯ２００７／０１５８７０ Ａ２号は、形態Ａ、形態Ａ’、形態Ａ’’、形態Ｂ、形態Ｂ’、形態ＳＢ、形態ＳＢ’、形態Ｃ、形態Ｃ’、形態ＳＣ、形態Ｄ、形態ＳＥ、形態Ｂおよび形態Ｄの混合物と称されるニロチニブ塩酸塩の実質的に純粋な結晶形態、ならびにニロチニブ塩酸塩の非晶質形態を記載する。さらに、それはまた、ニロチニブ遊離塩基の実質的に純粋な結晶形態ＡおよびＢ、ならびにニロチニブ硫酸塩の実質
的に純粋な結晶形態ＡおよびＢを開示する。
的に純粋な結晶形態ＡおよびＢを開示する。
国際出願公開第ＷＯ２０１０／０５４０５６ Ａ２号は、形態Ｔ１、Ｔ２、Ｔ３、Ｔ４、Ｔ５、Ｔ６、Ｔ７、Ｔ８、Ｔ９、Ｔ１０、Ｔ１１、Ｔ１２、Ｔ１３、Ｔ１４、Ｔ１５、Ｔ１６、Ｔ１７、Ｔ１８、およびＴ１９と称されるニロチニブ塩酸塩の多形形態を記載する。さらに、それはまた、薬学的に適切な賦形剤と組み合わせたニロチニブ塩酸塩の固体分散物を記載する。
国際出願公開第ＷＯ２０１１／１６３２２２号は、形態Ｔ２０、Ｔ２７、Ｔ２８およびＴ２９と称されるニロチニブ塩酸塩の多形形態を記載する。
国際出願公開第ＷＯ２０１１／０８６５４１ Ａ１号は、５．７０、７．５６、９．８２、１５．０１、１７．３１および２７．６８±０．２°２θにおけるピークを含むＸ線回折パターンを有するニロチニブ塩酸塩一水和物の結晶形態、ならびにそれを調製するためのプロセスを記載する。
国際出願公開第ＷＯ２０１２／０５５３５１ Ａ１号は、４．９８７、８．４３０、１１．３０９、１４．４０３、１７．２１９、１９．２２５および２５．５４４°２θにおけるピークを含むＸ線回折パターンを有するニロチニブ塩酸塩一水和物の結晶形態およびそれを調製するためのプロセスを記載する。
国際出願公開第ＷＯ２０１２／０７００６２ Ａ２号は、約８．６、１１．４、１３．２、１４．３、１５．５、１７．３、１９．２および２５．３±０．２°の２θ角位置を有する粉末Ｘ線回折スペクトルのピークによって特徴付けられるニロチニブ塩酸塩結晶形態Ｈ１、およびそれを調製するためのプロセスを記載する。
米国出願公開第２０１３／０２１０８４７ Ａ１号は、４．３、８．７、９．５、１１．３、１３．２、１４．４、１７．３、１８．６、１９．３、２０．８、２２．２および２５．３°２θ（±０．１°２θ）における粉末Ｘ線回折パターンのピークによって特徴づけられるニロチニブ塩酸塩二水和物を記載する。
ＩＰ．ｃｏｍ Ｊｏｕｒｎａｌ （２０１０）， １０（３Ｂ）， １１は、ニロチニブ塩酸塩の結晶形態Ｔ２４、Ｔ２５、およびＴ２６、ならびにそれらを調製するためのプロセスを記載する。
ＩＰ ｃｏｍ Ｊｏｕｒｎａｌ （２０１０）， １０（１２Ａ）， １８は、形態Ｔ１９およびＴ２０と称されるニロチニブ塩酸塩の結晶形態、ならびにそれらを調製するためのプロセスを記載する。
ＩＰ．ｃｏｍ Ｊｏｕｒｎａｌ （２００９）， ９（１２Ｂ）， １４は、ニロチニブ塩酸塩結晶形態Ｔ２〜Ｔ６、Ｔ９およびＴ１１〜Ｔ１３、ならびにそれらを調製するためのプロセスを記載する。
ＩＰ．ｃｏｍ Ｊｏｕｒｎａｌ （２０１０）， １０（５Ａ）， ２５は、ニロチニブ塩酸塩結晶形態Ｔ５およびそれを調製するためのプロセスを記載する。
ＩＰ．ｃｏｍ Ｊｏｕｒｎａｌ （２０１０）， １０（７Ｂ）， ３は、非晶質形態の４−メチル−Ｎ−［３−（４−メチル−１Ｈ−イミダゾール−１−イル）−５−（トリフルオロメチル）フェニル］−３−［［４−（３−ピリジニル）−２−ピリミジニル］アミノ］ベンズアミド塩を調製するための方法を記載する。
ある薬物またはある薬学的に有用な化合物の新たな多形形態および／または溶媒和物の発見は、標的化された放出プロフィールもしくは他の所望の特徴を有する薬物の薬学的に受容可能な剤形の特徴を改善する機会を提供する。
種々の多形形態に言及する前述の開示にも拘わらず、ニロチニブ塩酸塩の新たな多形形態およびそれらを調製するためのプロセスが必要である。
ＩＰ．ｃｏｍ Ｊｏｕｒｎａｌ （２０１０）， １０（３Ｂ）， １１
ＩＰ．ｃｏｍ Ｊｏｕｒｎａｌ （２０１０）， １０（１２Ａ）， １８
ＩＰ．ｃｏｍ Ｊｏｕｒｎａｌ （２００９）， ９（１２Ｂ）， １４
ＩＰ．ｃｏｍ Ｊｏｕｒｎａｌ （２０１０）， １０（５Ａ）， ２５
ＩＰ．ｃｏｍ Ｊｏｕｒｎａｌ （２０１０）， １０（７Ｂ）， ３
発明の概要
本願は、形態Ｒ５、形態Ｒ５ａ、形態Ｒ５ｂ、形態Ｒ６と称されるニロチニブ塩酸塩の結晶形態、ならびにそれらを調製するためのプロセスを提供する。
本願は、形態Ｒ５、形態Ｒ５ａ、形態Ｒ５ｂ、形態Ｒ６と称されるニロチニブ塩酸塩の結晶形態、ならびにそれらを調製するためのプロセスを提供する。
一実施形態において、本出願は、形態Ｒ５と称され、約６．２７±０．２、１５．４４±０．２、１６．１５±０．２、２４．０７±０．２および２６．１１±０．２°２θにおいてピークを有する粉末Ｘ線回折パターン；約１１．２６±０．２、１２．２４±０．２、１２．５４±０．２０、１８．８１±０．２および２７．９４±０．２°２θにおいてピークを有する粉末Ｘ線回折パターン；図１に実質的に示されるとおりの粉末Ｘ線回折パターン；ならびにこれらの組合せからなる群より選択されるデータによって特徴付けられる結晶性ニロチニブ塩酸塩を提供する。
別の実施形態において、本出願は、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を調製するためのプロセスを包含し、上記プロセスは、
ａ）酢酸中のニロチニブ塩酸塩の溶液を得る工程；
ｂ）炭化水素溶媒および／もしくはエーテル溶媒を上記工程ａ）の溶液に添加する工程；
ｃ）約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；ならびに
ｄ）ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を単離する工程
を包含する。
ａ）酢酸中のニロチニブ塩酸塩の溶液を得る工程；
ｂ）炭化水素溶媒および／もしくはエーテル溶媒を上記工程ａ）の溶液に添加する工程；
ｃ）約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；ならびに
ｄ）ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を単離する工程
を包含する。
別の実施形態において、本出願は、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を調製するためのプロセスを包含し、上記プロセスは、
ａ）酢酸中のニロチニブ塩酸塩の懸濁物を得る工程；
ｂ）上記工程ａ）の懸濁物を約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；ならびに
ｃ）ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を単離する工程
を包含する。
ａ）酢酸中のニロチニブ塩酸塩の懸濁物を得る工程；
ｂ）上記工程ａ）の懸濁物を約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；ならびに
ｃ）ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を単離する工程
を包含する。
一実施形態において、本出願は、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を調製するためのプロセスを包含し、上記プロセスは、
ａ）酢酸およびエーテル溶媒中のニロチニブ塩酸塩のスラリーを得る工程、
ｂ）上記工程ａ）のスラリーを約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；
ｃ）ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を単離する工程
を包含する。
ａ）酢酸およびエーテル溶媒中のニロチニブ塩酸塩のスラリーを得る工程、
ｂ）上記工程ａ）のスラリーを約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；
ｃ）ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を単離する工程
を包含する。
一実施形態において、本出願は、形態Ｒ５ａと称され、約６．２９±０．２、７．３１±０．２、１５．４５±０．２、１６．１８±０．２、２４．１０±０．２および２６．１５±０．２°２θにおいてピークを有する粉末Ｘ線回折パターン；図２に実質的に示されるとおりの粉末Ｘ線回折パターン；ならびにこれらの組合せからなる群より選択されるデータによって特徴付けられる結晶性ニロチニブ塩酸塩を提供する。ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５ａは、約１１．２６±０．２、１２．２５±０．２、１２．５５±０．２、１８．８６±０．２、２７．９８±０．２°２θにおいてさらなるピークを有する粉末Ｘ線回折パターンによってさらに特徴付けられ得る。
別の実施形態において、本出願は、結晶性ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を約４５℃未満の温度で乾燥させる工程を包含する、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５ａを調製するためのプロセスを包含する。
一実施形態において、本出願は、形態Ｒ５ｂと称され、約６．２８±０．２、７．２９±０．２、７．５６±０．２、１５．５４±０．２、１６．０７±０．２および２１．９１±０．２°２θにおいてピークを有する粉末Ｘ線回折パターン；図３に実質的に示されるとおりの粉末Ｘ線回折パターン；ならびにこれらの組合せからなる群より選択されるデータによって特徴付けられる結晶性ニロチニブ塩酸塩を提供する。ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５ｂは、約１１．７２±０．２、１２．４５±０．２、２９．４９±０．２°２θにおいてさらなるピークを有する粉末Ｘ線回折パターンによってさらに特徴付けられ得る。
別の実施形態において、本出願は、結晶性ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５もしくは形態Ｒ５ａを約６０℃〜約８０℃の温度で乾燥させる工程を包含する、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５ｂを調製するためのプロセスを包含する。
一実施形態において、本出願は、形態Ｒ６と称され、約７．５６±０．２、１０．１６±０．２、１２．４２±０．２、２０．３２±０．２および２７．９７±０．２°２θにおいてピークを有する粉末Ｘ線回折パターン；約８．９３±０．２、１１．７６±０．２、１５．５３±０．２、１７．７１±０．２、１９．５７±０．２、２１．７２±０．２および２３．４０±０．２°２θにおいてピークを有する粉末Ｘ線回折パターン；図４に実質的に示されるとおりの粉末Ｘ線回折パターン；図５に実質的に示されるとおりの粉末Ｘ線回折パターン；ならびにこれらの組合せからなる群より選択されるデータによって特
徴付けられる結晶性ニロチニブ塩酸塩を提供する。
徴付けられる結晶性ニロチニブ塩酸塩を提供する。
別の実施形態において、本出願は、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を調製するためのプロセスを包含し、上記プロセスは、
ａ）酢酸中のニロチニブ塩酸塩の溶液を得る工程；
ｂ）炭化水素溶媒および／もしくはエーテル溶媒を上記工程ａ）の溶液に添加する工程；
ｃ）上記工程ｂ）の反応混合物を約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；
ｄ）得られた結晶性化合物を単離する工程；ならびに
ｅ）約１００℃〜約１２０℃の温度で乾燥させて、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を得る工程
を包含する。
ａ）酢酸中のニロチニブ塩酸塩の溶液を得る工程；
ｂ）炭化水素溶媒および／もしくはエーテル溶媒を上記工程ａ）の溶液に添加する工程；
ｃ）上記工程ｂ）の反応混合物を約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；
ｄ）得られた結晶性化合物を単離する工程；ならびに
ｅ）約１００℃〜約１２０℃の温度で乾燥させて、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を得る工程
を包含する。
別の実施形態において、本出願は、結晶性ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５もしくは形態Ｒ５ａもしくは形態Ｒ５ｂを約１００℃〜約１２０℃の温度で乾燥させる工程を包含する、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を調製するためのプロセスを包含する。
一実施形態において、本出願は、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を調製するためのプロセスを包含し、上記プロセスは、
ａ）酢酸中のニロチニブ塩酸塩の懸濁物を得る工程；
ｂ）上記工程ａ）の懸濁物を約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；ならびに
ｃ）得られた結晶性化合物を単離する工程；ならびに
ｄ）約１００℃〜約１２０℃の温度で乾燥させて、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を得る工程
を包含する。
ａ）酢酸中のニロチニブ塩酸塩の懸濁物を得る工程；
ｂ）上記工程ａ）の懸濁物を約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；ならびに
ｃ）得られた結晶性化合物を単離する工程；ならびに
ｄ）約１００℃〜約１２０℃の温度で乾燥させて、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を得る工程
を包含する。
一実施形態において、本出願は、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を調製するためのプロセスを包含し、上記プロセスは、
ａ）酢酸およびエーテル溶媒中のニロチニブ塩酸塩のスラリーを得る工程；
ｂ）上記工程ａ）のスラリーを約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；
ｃ）得られた結晶性化合物を単離する工程；ならびに
ｄ）約１００℃〜約１２０℃の温度で乾燥させて、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を得る工程
を包含する。
ａ）酢酸およびエーテル溶媒中のニロチニブ塩酸塩のスラリーを得る工程；
ｂ）上記工程ａ）のスラリーを約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；
ｃ）得られた結晶性化合物を単離する工程；ならびに
ｄ）約１００℃〜約１２０℃の温度で乾燥させて、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を得る工程
を包含する。
一実施形態において、本出願は、形態Ｒ５、形態Ｒ５ａ、形態Ｒ５ｂもしくは形態Ｒ６と称されるニロチニブ塩酸塩の結晶形態、ならびに少なくとも１種の薬学的に受容可能な賦形剤を含む薬学的組成物を提供する。
例えば、本発明は、以下の項目を提供する。
（項目１）
約６．２７±０．２、１５．４４±０．２、１６．１５±０．２、２４．０７±０．２および２６．１１±０．２°２θにおいてピークを有する粉末Ｘ線回折パターン（ＰＸＲＤ）によって特徴付けられる、ニロチニブ塩酸塩の結晶形態Ｒ５。
（項目２）
約１１．２６±０．２、１２．２４±０．２、１２．５４±０．２０、１８．８１±０．２および２７．９４±０．２°２θにおいてピークを有する粉末Ｘ線回折パターン（ＰＸＲＤ）によってさらに特徴付けられる、項目１に記載のニロチニブ塩酸塩の結晶形態Ｒ５。
（項目３）
図１に実質的に示されるとおりのＰＸＲＤパターンによって特徴付けられる、ニロチニブ塩酸塩の結晶形態Ｒ５。
（項目４）
ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を調製するためのプロセスであって、
ａ）酢酸中のニロチニブ塩酸塩の溶液を得る工程；
ｂ）炭化水素溶媒および／もしくはエーテル溶媒を、工程ａ）の該溶液に添加する工程；
ｃ）約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；ならびに
ｄ）ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を単離する工程
を包含するプロセス。
（項目５）
炭化水素溶媒は、ｎ−ヘプタンである、項目４に記載のプロセス。
（項目６）
エーテル溶媒は、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルである、項目４に記載のプロセス。（項目７）
ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を調製するためのプロセスであって、
ａ）酢酸中のニロチニブ塩酸塩の懸濁物を得る工程；
ｂ）工程ａ）の該懸濁物を、約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；および
ｃ）ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を単離する工程
を包含するプロセス。
（項目８）
ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を調製するためのプロセスであって、
ａ）酢酸およびエーテル溶媒中のニロチニブ塩酸塩のスラリーを得る工程；
ｂ）工程ａ）の該スラリーを約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；
ｃ）ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を単離する工程
を包含するプロセス。
（項目９）
前記エーテル溶媒は、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルである、項目８に記載のプロセス。
（項目１０）
約６．２９±０．２、７．３１±０．２、１５．４５±０．２、１６．１８±０．２、２４．１０±０．２および２６．１５±０．２°２θにおいてピークを有する粉末Ｘ線回折パターンによって特徴付けられる、ニロチニブ塩酸塩の結晶形態Ｒ５ａ。
（項目１１）
約１１．２６±０．２、１２．２５±０．２、１２．５５±０．２、１８．８６±０．２、２７．９８±０．２°２θにおけるピークによってさらに特徴付けられる、項目１０に記載のニロチニブ塩酸塩の結晶形態Ｒ５ａ。
（項目１２）
図２に実質的に示されるとおりのＰＸＲＤパターンによって特徴付けられる、ニロチニブ塩酸塩の結晶形態Ｒ５ａ。
（項目１３）
ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５ａを調製するためのプロセスであって、該結晶性ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を約４５℃未満の温度で乾燥させる工程を包含するプロセス。
（項目１４）
６．２８±０．２、７．２９±０．２、７．５６±０．２、１５．５４±０．２、１６．０７±０．２および２１．９１±０．２°２θにおいてピークを有する粉末Ｘ線回折パターン（ＰＸＲＤ）によって特徴付けられる、ニロチニブ塩酸塩の結晶形態Ｒ５ｂ。
（項目１５）
１１．７２±０．２、１２．４５±０．２、２９．４９±０．２°２θにおいてピークを有する粉末Ｘ線回折パターン（ＰＸＲＤ）によってさらに特徴付けられる、項目１４に記載のニロチニブ塩酸塩の結晶形態Ｒ５ｂ。
（項目１６）
図３に実質的に示されるとおりのＰＸＲＤパターンによって特徴付けられる、ニロチニブ塩酸塩の結晶形態Ｒ５ｂ。
（項目１７）
ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５ｂを調製するためのプロセスであって、該結晶性ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５もしくは形態Ｒ５ａを、約６０℃〜約８０℃の温度で乾燥させる工程を包含するプロセス。
（項目１８）
約７．５６±０．２、１０．１６±０．２、１２．４２±０．２、２０．３２±０．２および２７．９７±０．２°２θにおいてピークを有する粉末Ｘ線回折パターン（ＰＸＲＤ）によって特徴付けられる、ニロチニブ塩酸塩の結晶形態Ｒ６。
（項目１９）
約８．９３±０．２、１１．７６±０．２、１５．５３±０．２、１７．７１±０．２、１９．５７±０．２、２１．７２±０．２および２３．４０±０．２°２θにおいてピークを有する粉末Ｘ線回折パターン（ＰＸＲＤ）によってさらに特徴付けられる、項目１８に記載のニロチニブ塩酸塩の結晶形態Ｒ６。
（項目２０）
図４に実質的に示されるとおりのＰＸＲＤパターンによって特徴付けられる、ニロチニブ塩酸塩の結晶形態Ｒ６。
（項目２１）
図５に実質的に示されるとおりのＰＸＲＤパターンによって特徴付けられる、ニロチニブ塩酸塩の結晶形態Ｒ６。
（項目２２）
ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を調製するためのプロセスであって、
ａ）酢酸中のニロチニブ塩酸塩の溶液を得る工程；
ｂ）炭化水素溶媒および／もしくはエーテル溶媒を工程ａ）の該溶液に添加する工程；
ｃ）工程ｂ）の該反応混合物を約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；
ｄ）得られた結晶性化合物を単離する工程；ならびに
ｅ）約１００℃〜約１２０℃の温度で乾燥させて、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を得る工程
を包含するプロセス。
（項目２３）
炭化水素溶媒は、ｎ−ヘプタンである、項目２２に記載のプロセス。
（項目２４）
エーテル溶媒は、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルである、項目２２に記載のプロセス。
（項目２５）
ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を調製するためのプロセスであって、該結晶性ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５もしくは形態Ｒ５ａもしくは形態Ｒ５ｂを、約１００℃〜約１２０℃の温度で乾燥させる工程を包含するプロセス。
（項目２６）
ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を調製するためのプロセスであって、
ａ）酢酸中のニロチニブ塩酸塩の懸濁物を得る工程；
ｂ）工程ａ）の該懸濁物を約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；ならびに
ｃ）得られた結晶性化合物を単離する工程；ならびに
ｄ）約１００℃〜約１２０℃の温度で乾燥させて、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を得る工程
を包含するプロセス。
（項目２７）
ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を調製するためのプロセスであって、
ａ）酢酸およびエーテル溶媒中のニロチニブ塩酸塩のスラリーを得る工程；
ｂ）工程ａ）の該スラリーを約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；
ｃ）得られた結晶性化合物を単離する工程；ならびに
ｄ）約１００℃〜約１２０℃の温度で乾燥させて、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を得る工程
を包含するプロセス。
（項目２８）
前記エーテル溶媒は、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルである、項目２７に記載のプロセス。
例えば、本発明は、以下の項目を提供する。
（項目１）
約６．２７±０．２、１５．４４±０．２、１６．１５±０．２、２４．０７±０．２および２６．１１±０．２°２θにおいてピークを有する粉末Ｘ線回折パターン（ＰＸＲＤ）によって特徴付けられる、ニロチニブ塩酸塩の結晶形態Ｒ５。
（項目２）
約１１．２６±０．２、１２．２４±０．２、１２．５４±０．２０、１８．８１±０．２および２７．９４±０．２°２θにおいてピークを有する粉末Ｘ線回折パターン（ＰＸＲＤ）によってさらに特徴付けられる、項目１に記載のニロチニブ塩酸塩の結晶形態Ｒ５。
（項目３）
図１に実質的に示されるとおりのＰＸＲＤパターンによって特徴付けられる、ニロチニブ塩酸塩の結晶形態Ｒ５。
（項目４）
ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を調製するためのプロセスであって、
ａ）酢酸中のニロチニブ塩酸塩の溶液を得る工程；
ｂ）炭化水素溶媒および／もしくはエーテル溶媒を、工程ａ）の該溶液に添加する工程；
ｃ）約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；ならびに
ｄ）ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を単離する工程
を包含するプロセス。
（項目５）
炭化水素溶媒は、ｎ−ヘプタンである、項目４に記載のプロセス。
（項目６）
エーテル溶媒は、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルである、項目４に記載のプロセス。（項目７）
ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を調製するためのプロセスであって、
ａ）酢酸中のニロチニブ塩酸塩の懸濁物を得る工程；
ｂ）工程ａ）の該懸濁物を、約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；および
ｃ）ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を単離する工程
を包含するプロセス。
（項目８）
ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を調製するためのプロセスであって、
ａ）酢酸およびエーテル溶媒中のニロチニブ塩酸塩のスラリーを得る工程；
ｂ）工程ａ）の該スラリーを約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；
ｃ）ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を単離する工程
を包含するプロセス。
（項目９）
前記エーテル溶媒は、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルである、項目８に記載のプロセス。
（項目１０）
約６．２９±０．２、７．３１±０．２、１５．４５±０．２、１６．１８±０．２、２４．１０±０．２および２６．１５±０．２°２θにおいてピークを有する粉末Ｘ線回折パターンによって特徴付けられる、ニロチニブ塩酸塩の結晶形態Ｒ５ａ。
（項目１１）
約１１．２６±０．２、１２．２５±０．２、１２．５５±０．２、１８．８６±０．２、２７．９８±０．２°２θにおけるピークによってさらに特徴付けられる、項目１０に記載のニロチニブ塩酸塩の結晶形態Ｒ５ａ。
（項目１２）
図２に実質的に示されるとおりのＰＸＲＤパターンによって特徴付けられる、ニロチニブ塩酸塩の結晶形態Ｒ５ａ。
（項目１３）
ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５ａを調製するためのプロセスであって、該結晶性ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を約４５℃未満の温度で乾燥させる工程を包含するプロセス。
（項目１４）
６．２８±０．２、７．２９±０．２、７．５６±０．２、１５．５４±０．２、１６．０７±０．２および２１．９１±０．２°２θにおいてピークを有する粉末Ｘ線回折パターン（ＰＸＲＤ）によって特徴付けられる、ニロチニブ塩酸塩の結晶形態Ｒ５ｂ。
（項目１５）
１１．７２±０．２、１２．４５±０．２、２９．４９±０．２°２θにおいてピークを有する粉末Ｘ線回折パターン（ＰＸＲＤ）によってさらに特徴付けられる、項目１４に記載のニロチニブ塩酸塩の結晶形態Ｒ５ｂ。
（項目１６）
図３に実質的に示されるとおりのＰＸＲＤパターンによって特徴付けられる、ニロチニブ塩酸塩の結晶形態Ｒ５ｂ。
（項目１７）
ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５ｂを調製するためのプロセスであって、該結晶性ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５もしくは形態Ｒ５ａを、約６０℃〜約８０℃の温度で乾燥させる工程を包含するプロセス。
（項目１８）
約７．５６±０．２、１０．１６±０．２、１２．４２±０．２、２０．３２±０．２および２７．９７±０．２°２θにおいてピークを有する粉末Ｘ線回折パターン（ＰＸＲＤ）によって特徴付けられる、ニロチニブ塩酸塩の結晶形態Ｒ６。
（項目１９）
約８．９３±０．２、１１．７６±０．２、１５．５３±０．２、１７．７１±０．２、１９．５７±０．２、２１．７２±０．２および２３．４０±０．２°２θにおいてピークを有する粉末Ｘ線回折パターン（ＰＸＲＤ）によってさらに特徴付けられる、項目１８に記載のニロチニブ塩酸塩の結晶形態Ｒ６。
（項目２０）
図４に実質的に示されるとおりのＰＸＲＤパターンによって特徴付けられる、ニロチニブ塩酸塩の結晶形態Ｒ６。
（項目２１）
図５に実質的に示されるとおりのＰＸＲＤパターンによって特徴付けられる、ニロチニブ塩酸塩の結晶形態Ｒ６。
（項目２２）
ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を調製するためのプロセスであって、
ａ）酢酸中のニロチニブ塩酸塩の溶液を得る工程；
ｂ）炭化水素溶媒および／もしくはエーテル溶媒を工程ａ）の該溶液に添加する工程；
ｃ）工程ｂ）の該反応混合物を約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；
ｄ）得られた結晶性化合物を単離する工程；ならびに
ｅ）約１００℃〜約１２０℃の温度で乾燥させて、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を得る工程
を包含するプロセス。
（項目２３）
炭化水素溶媒は、ｎ−ヘプタンである、項目２２に記載のプロセス。
（項目２４）
エーテル溶媒は、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルである、項目２２に記載のプロセス。
（項目２５）
ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を調製するためのプロセスであって、該結晶性ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５もしくは形態Ｒ５ａもしくは形態Ｒ５ｂを、約１００℃〜約１２０℃の温度で乾燥させる工程を包含するプロセス。
（項目２６）
ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を調製するためのプロセスであって、
ａ）酢酸中のニロチニブ塩酸塩の懸濁物を得る工程；
ｂ）工程ａ）の該懸濁物を約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；ならびに
ｃ）得られた結晶性化合物を単離する工程；ならびに
ｄ）約１００℃〜約１２０℃の温度で乾燥させて、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を得る工程
を包含するプロセス。
（項目２７）
ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を調製するためのプロセスであって、
ａ）酢酸およびエーテル溶媒中のニロチニブ塩酸塩のスラリーを得る工程；
ｂ）工程ａ）の該スラリーを約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；
ｃ）得られた結晶性化合物を単離する工程；ならびに
ｄ）約１００℃〜約１２０℃の温度で乾燥させて、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を得る工程
を包含するプロセス。
（項目２８）
前記エーテル溶媒は、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルである、項目２７に記載のプロセス。
詳細な説明
本出願は、形態Ｒ５、形態Ｒ５ａ、形態Ｒ５ｂ、形態Ｒ６と称されるニロチニブ塩酸塩の結晶形態、ならびにそれらを調製するためのプロセスを提供する。
本出願は、形態Ｒ５、形態Ｒ５ａ、形態Ｒ５ｂ、形態Ｒ６と称されるニロチニブ塩酸塩の結晶形態、ならびにそれらを調製するためのプロセスを提供する。
一実施形態において、本出願は、形態Ｒ５と称され、約６．２７±０．２、１５．４４±０．２、１６．１５±０．２、２４．０７±０．２および２６．１１±０．２°２θにおいてピークを有する粉末Ｘ線回折パターン；約１１．２６±０．２、１２．２４±０．２、１２．５４±０．２０、１８．８１±０．２および２７．９４±０．２°２θにおいてピークを有する粉末Ｘ線回折パターン；図１に実質的に示されるとおりの粉末Ｘ線回折パターン；ならびにこれらの組合せからなる群より選択されるデータによって特徴付けられる結晶性ニロチニブ塩酸塩を提供する。
別の実施形態において、本出願は、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を調製するためのプロセスを包含し、上記プロセスは、
ａ）酢酸中のニロチニブ塩酸塩の溶液を得る工程；
ｂ）炭化水素溶媒および／もしくはエーテル溶媒を上記工程ａ）の溶液に添加する工程；
ｃ）約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；ならびに
ｄ）ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を単離する工程
を包含する。
ａ）酢酸中のニロチニブ塩酸塩の溶液を得る工程；
ｂ）炭化水素溶媒および／もしくはエーテル溶媒を上記工程ａ）の溶液に添加する工程；
ｃ）約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；ならびに
ｄ）ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を単離する工程
を包含する。
工程ａ）は、酢酸中のニロチニブ塩酸塩の溶液を得る工程を伴う。
工程ａ）に従って溶液を得る工程は、ニロチニブ塩酸塩を酢酸中に溶解させる工程、または酢酸中のニロチニブ塩酸塩の溶液を、上記化合物の調製における最終工程として得る工程を包含する。ニロチニブ塩酸塩は、当該分野で公知のプロセスによって得られる場合がある。上記工程ａ）の溶液は、約０℃から上記溶媒のほぼ還流温度までの範囲に及ぶ任意の温度で、好ましくは約１０℃〜約８０℃で、より好ましくは約２０℃〜約５０℃で、最も好ましくは約２５℃〜約３５℃で提供され得る。
上記溶液は、必要に応じて、活性炭で処理され得、次いで、上記炭素を除去するために濾過され得る。上記溶液は、必要に応じて、紙、ガラス繊維、もしくは他の膜材料、またはセライトのような清澄剤のベッドを通すことによって、濾過され得る。使用される装置、ならびに上記溶液の濃度および温度に依存して、上記濾過装置は、望ましくない結晶化を回避するために、加熱もしくは冷却される必要があり得る。
工程ｂ）は、炭化水素溶媒および／もしくはエーテル溶媒を上記工程ａ）の溶液に添加する工程を伴う。
工程ｂ）において使用され得る上記炭化水素溶媒は、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘプタン、ｎ−ヘキサンなどから選択される。好ましい実施形態において、ｎ−ヘプタンが使用される。上記工程ｂ）において使用され得るエーテル溶媒は、石油エーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルなどから選択される。好ましい実施形態においては、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルが使用される。
一実施形態において、炭化水素溶媒およびエーテル溶媒は、逐次的手法で上記工程ａ）の溶液に添加され得る。例えば、炭化水素溶媒に続いてエーテル溶媒が、またはエーテル溶媒に続いて炭化水素溶媒が、上記工程ａ）の溶液に添加される。
一実施形態において、炭化水素溶媒およびエーテル溶媒の混合物が、上記工程ａ）の溶液に添加され得る。
上記炭化水素溶媒および／もしくはエーテル溶媒、またはこれらの混合物は、上記工程ａ）で得られた溶液に約０℃〜約５０℃の温度で、好ましくは約１０℃〜約４０℃で、より好ましくは約２５℃〜約３５℃で添加され得る。
好ましい実施形態において、炭化水素溶媒に続いてエーテル溶媒が、上記工程ａ）の溶液に約２５℃〜約３５℃の温度で添加される。
必要に応じて、形態Ｒ５もしくはＲ５ａの種晶が、上記工程ｂ）の反応混合物に添加され得る。上記結晶形態Ｒ５の種晶は、本出願で開示されるプロセスに従って得られる場合がある。上記形態Ｒ５の種晶は、炭化水素もしくはエーテル溶媒の添加前に、または炭化水素もしくはエーテル溶媒の添加後に、かつ工程ｃ）に先だって添加され得る。上記種晶添加は、約０℃〜約５０℃の温度で行われ得る。好ましくは、上記種晶添加は、約２５℃〜約３５℃の温度で行われる。一実施形態において、上記工程ｂ）の反応混合物は、上記種晶添加工程後に得られる。
工程ｃ）は、上記工程ｂ）の反応混合物を約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程を伴う。
上記工程ｂ）の反応混合物は、約０℃〜約５０℃の温度で十分な時間にわたって維持される。本明細書で開示される場合、十分な時間は、結晶性ニロチニブ塩酸塩の形成を確実にするために必要とされる時間である。一実施形態において、上記反応混合物は、約３０分〜約７２時間の期間にわたって維持される。
一実施形態において、上記反応混合物は、約１０℃〜約４０℃の温度で、より好ましくは約２５℃〜約３５℃で維持される。
工程ｄ）は、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を単離する工程を伴う。上記結晶性ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５は、それ自体公知の手法で、使用される溶媒に依存して単離され、上記手法としては、重力によるかもしくは吸引／真空による濾過、蒸溜、遠心分離、またはスローエバポレーションなどが挙げられるが、これらに限定されない。一実施形態において、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５は、真空下での濾過および約２５℃〜約３５℃の温度での真空乾燥（ｓｕｃｔｉｏｎ ｄｒｙｉｎｇ）によって、単離され得る。
別の実施形態において、本出願は、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を調製するためのプロセスを包含し、上記プロセスは、
ａ）酢酸中のニロチニブ塩酸塩の懸濁物を得る工程；
ｂ）上記工程ａ）の懸濁物を約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；ならびに
ｃ）ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を単離する工程
を包含する。
ａ）酢酸中のニロチニブ塩酸塩の懸濁物を得る工程；
ｂ）上記工程ａ）の懸濁物を約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；ならびに
ｃ）ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を単離する工程
を包含する。
工程ａ）は、酢酸中のニロチニブ塩酸塩の懸濁物を得る工程を伴う。
上記工程ａ）に従うニロチニブ塩酸塩懸濁物は、ニロチニブ塩酸塩と酢酸とを、約０℃〜約５０℃の温度で、好ましくは約１０℃〜約４０℃で、より好ましくは約２５℃〜約３５℃で合わせることによって得られる場合がある。懸濁物を得るために使用される酢酸の量は、選択される温度範囲に基づいて、ニロチニブ塩酸塩１ｇあたり約１ｍｌ〜約５ｍｌの範囲に及ぶ。
工程ｂ）は、上記工程ａ）の懸濁物を約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程を伴う。
上記工程ａ）の懸濁物は、約０℃〜約５０℃の温度で維持され得る。一実施形態において、上記工程ａ）の懸濁物は、約１０℃〜約４０℃の温度で、より好ましくは約２５℃〜約３５℃で維持される。上記懸濁物は、ニロチニブ塩酸塩を結晶性ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５に変換することを確実にするために十分な時間にわたって維持される。
一実施形態において、上記懸濁物は、約３０分〜約７２時間の期間にわたって維持される。
工程ｃ）は、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を単離する工程を伴う。上記結晶性ニロチニブ塩酸塩は、それ自体公知の手法で、使用される溶媒に依存して単離され、上記手法としては、重力によるかもしくは吸引／真空による濾過、蒸溜、遠心分離、またはスローエバポレーションなどが挙げられるが、これらに限定されない。一実施形態において、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５は、真空下での濾過および約２５℃〜約３５℃の温度での真空乾燥によって単離され得る。
一実施形態において、本出願は、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を調製するためのプロセスを包含し、上記プロセスは、
ａ）酢酸およびエーテル溶媒中のニロチニブ塩酸塩のスラリーを得る工程；
ｂ）上記工程ａ）のスラリーを約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；
ｃ）ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を単離する工程
を包含する。
ａ）酢酸およびエーテル溶媒中のニロチニブ塩酸塩のスラリーを得る工程；
ｂ）上記工程ａ）のスラリーを約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；
ｃ）ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を単離する工程
を包含する。
工程ａ）に従ってスラリーを得る工程は、酢酸およびエーテルをとって、ニロチニブ塩酸塩を添加する工程、またはニロチニブ塩酸塩を酢酸に溶解させて、エーテルを添加する工程を包含する。ニロチニブ塩酸塩は、当該分野で公知のプロセスによって得られる場合がある。上記工程ａ）の反応混合物は、約０℃から上記溶媒のほぼ還流温度までの範囲に及ぶ任意の温度で、好ましくは約１０℃〜約８０℃で、より好ましくは約２０℃〜約５０℃で、最も好ましくは約２５℃〜約３５℃で提供され得る。
上記工程ａ）で使用され得るエーテル溶媒は、石油エーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルなどから選択される。好ましい実施形態においては、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルが使用される。
必要に応じて、形態Ｒ５もしくはＲ５ａの種晶は、上記工程ａ）の反応混合物に添加され得る。上記結晶形態Ｒ５の種晶は、本出願で開示されるプロセスに従って得られる場合がある。上記種晶添加は、約０℃〜約５０℃の温度で行われ得る。好ましくは、上記種晶添加は、約２５℃〜約３５℃の温度で行われる。
工程ｂ）は、上記工程ａ）の反応混合物を約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程を伴う。
上記工程ａ）の反応混合物は、約０℃〜約５０℃の温度で十分な時間にわたって維持さ
れる。本明細書で開示される場合、十分な時間は、結晶性ニロチニブ塩酸塩の形成を確実にするために必要とされる時間である。一実施形態において、上記反応混合物は、約３０分〜約７２時間の期間にわたって維持される。
れる。本明細書で開示される場合、十分な時間は、結晶性ニロチニブ塩酸塩の形成を確実にするために必要とされる時間である。一実施形態において、上記反応混合物は、約３０分〜約７２時間の期間にわたって維持される。
一実施形態において、上記反応混合物は、約１０℃〜約４０℃の温度で、より好ましくは約２５℃〜約３５℃で維持される。
工程ｃ）は、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を単離する工程を伴う。上記結晶性ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５は、それ自体公知の手法で、使用される溶媒に依存して単離され、上記手法としては、重力によるかもしくは吸引／真空による濾過、蒸溜、遠心分離、またはスローエバポレーションなどが挙げられるが、これらに限定されない。一実施形態において、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５は、真空下での濾過、約２５℃〜約３５℃の温度での真空乾燥、および／もしくは約４５℃未満の温度での乾燥によって単離され得る。
一実施形態において、本出願は、形態Ｒ５ａと称され、約６．２９±０．２、７．３１±０．２、１５．４５±０．２、１６．１８±０．２、２４．１０±０．２および２６．１５±０．２°２θにおいてピークを有する粉末Ｘ線回折パターン；図２に実質的に示されるとおりの粉末Ｘ線回折パターン；ならびにこれらの組合せからなる群より選択されるデータによって特徴付けられる結晶性ニロチニブ塩酸塩を提供する。ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５ａは、約１１．２６±０．２、１２．２５±０．２、１２．５５±０．２、１８．８６±０．２、２７．９８±０．２°２θにおいてさらなるピークを有する粉末Ｘ線回折パターンによってさらに特徴付けられ得る。
別の実施形態において、本出願は、結晶性ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を約４５℃未満の温度で乾燥させる工程を包含する、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５ａを調製するためのプロセスを包含する。
上記結晶性ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を乾燥させる工程は、重力オーブン（ｇｒａｖｉｔｙ ｏｖｅｎ）、トレイドライヤー、真空オーブン、Ｂｕｅｃｈｉ（登録商標） Ｒｏｔａｖａｐｏｒ（登録商標）、エアトレイドライヤー、流動床ドライヤー、スピンフラッシュドライヤー、フラッシュドライヤーなどのような任意の装置を使用して、適切に行われ得る。上記乾燥させる工程は、大気圧でもしくは減圧下で、約４５℃未満の温度で行われ得る。一実施形態において、約４５℃未満は、５℃より高くかつ４５℃より低い温度を含む。一実施形態において、上記乾燥させる工程は、約４０℃の温度で、約３５℃の温度で、約３０℃の温度で、および任意の他の適切な温度で行われ得る。上記乾燥させる工程は、所望の品質を得るために必要とされる任意の期間、例えば、約１５分〜数時間、もしくはそれより長い期間にわたって行われ得る。
具体的実施形態において、本出願は、結晶性ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を、真空トレイドライヤーもしくはエアトレイドライヤーを使用することによって、約４５℃未満の温度で乾燥させる工程を包含する、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５ａを調製するためのプロセスを包含する。
一実施形態において、本出願は、形態Ｒ５ｂと称され、約６．２８±０．２、７．２９±０．２、７．５６±０．２、１５．５４±０．２、１６．０７±０．２および２１．９１±０．２°２θにおいてピークを有する粉末Ｘ線回折パターン；図３に実質的に示されるとおりの粉末Ｘ線回折パターン；ならびにこれらの組合せからなる群より選択されるデータによって特徴付けられる結晶性ニロチニブ塩酸塩を提供する。ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５ｂは、約１１．７２±０．２、１２．４５±０．２、２９．４９±０．２°２θにおいてさらなるピークを有する粉末Ｘ線回折パターンによってさらに特徴付けられ得る。
別の実施形態において、本出願は、結晶性ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５もしくは形態Ｒ５ａを約６０℃〜約８０℃の温度で乾燥させる工程を包含する、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５ｂを調製するためのプロセスを包含する。
上記結晶性ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５もしくは形態Ｒ５ａを乾燥させる工程は、重力オーブン、トレイドライヤー、真空オーブン、Ｂｕｅｃｈｉ（登録商標）Ｒｏｔａｖａｐｏｒ（登録商標）、エアトレイドライヤー、流動床ドライヤー、スピンフラッシュドライヤー、フラッシュドライヤーなどのような任意の装置を使用して、適切に行われ得る。一実施形態において、上記乾燥させる工程は、大気圧でもしくは減圧下で行われ得る。一実施形態において、上記乾燥させる工程は、約７５℃の温度で、約７０℃の温度で、もしくは約６５℃の温度で行われ得る。上記乾燥させる工程は、所望の品質を得るための必要とされる任意の期間、例えば、約１５分〜数時間、もしくはそれより長い期間にわたって行われ得る。
具体的実施形態において、本出願は、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５ｂを調製するためのプロセスを包含し、上記プロセスは、上記結晶性ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５もしくは形態Ｒ５ａを、エアトレイドライヤーもしくは真空トレイドライヤーの中で約６０℃〜約８０℃の温度で乾燥させる工程を包含する。好ましくは、上記乾燥させる工程は、約７０℃の温度で行われる。
一実施形態において、本出願は、形態Ｒ６と称され、約７．５６±０．２、１０．１６±０．２、１２．４２±０．２、２０．３２±０．２および２７．９７±０．２°２θにおいてピークを有する粉末Ｘ線回折パターン；約８．９３±０．２、１１．７６±０．２、１５．５３±０．２、１７．７１±０．２、１９．５７±０．２、２１．７２±０．２および２３．４０±０．２°２θにおいてピークを有する粉末Ｘ線回折パターン；図４に実質的に示されるとおりの粉末Ｘ線回折パターン；図５に実質的に示されるとおりの粉末Ｘ線回折パターン；ならびにこれらの組合せからなる群より選択されるデータによって特徴付けられる結晶性ニロチニブ塩酸塩を提供する。
別の実施形態において、本出願は、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を調製するためのプロセスを包含し、上記プロセスは、
ａ）酢酸中のニロチニブ塩酸塩の溶液を得る工程；
ｂ）炭化水素溶媒および／もしくはエーテル溶媒を上記工程ａ）の溶液に添加する工程；
ｃ）上記工程ｂ）の反応混合物を約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；
ｄ）得られた結晶性化合物を単離する工程；ならびに
ｅ）約１００℃〜約１２０℃の温度で乾燥させて、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を得る工程
を包含する。
ａ）酢酸中のニロチニブ塩酸塩の溶液を得る工程；
ｂ）炭化水素溶媒および／もしくはエーテル溶媒を上記工程ａ）の溶液に添加する工程；
ｃ）上記工程ｂ）の反応混合物を約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；
ｄ）得られた結晶性化合物を単離する工程；ならびに
ｅ）約１００℃〜約１２０℃の温度で乾燥させて、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を得る工程
を包含する。
工程ａ）は、酢酸中のニロチニブ塩酸塩の溶液を得る工程を伴う。
工程ａ）に従って溶液を得る工程は、ニロチニブ塩酸塩を酢酸に溶解させる工程、または酢酸中のニロチニブ塩酸塩の溶液を、上記化合物の調製における最終工程として得る工程を包含する。ニロチニブ塩酸塩は、当該分野で公知のプロセスによって得られる場合がある。上記工程ａ）の溶液は、約０℃から上記溶媒のほぼ還流温度までの範囲に及ぶ任意の温度で、好ましくは約１０℃〜約８０℃で、より好ましくは約２０℃〜約５０℃で、最も好ましくは約２５℃〜約３５℃で提供され得る。
上記溶液は、必要に応じて、活性炭で処理され得、次いで、上記炭素を除去するために濾過され得る。上記溶液は、必要に応じて、紙、ガラス繊維、もしくは他の膜材料、またはセライトのような清澄剤のベッドを通過させることによって濾過され得る。使用される装置、ならびに上記溶液の濃度および温度に依存して、上記濾過装置は、望ましくない結晶化を回避するために、加熱もしくは冷却される必要があり得る。
工程ｂ）は、炭化水素溶媒および／もしくはエーテル溶媒を上記工程ａ）の溶液に添加する工程を伴う。
上記工程ｂ）において使用され得る炭化水素溶媒は、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘプタン、ｎ−ヘキサンなどから選択される。好ましい実施形態においては、ｎ−ヘプタンが使用される。上記工程ｂ）において使用され得るエーテル溶媒は、石油エーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルなどから選択される。好ましい実施形態においては、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルが使用される。
一実施形態において、炭化水素溶媒およびエーテル溶媒は、逐次的手法で上記工程ａ）の溶液に添加され得る。例えば、炭化水素溶媒に続いてエーテル溶媒が、またはエーテル溶媒に続いて炭化水素溶媒が、上記工程ａ）の溶液に添加される。
一実施形態において、炭化水素溶媒およびエーテル溶媒の混合物が、上記工程ａ）の溶液に添加され得る。
上記炭化水素溶媒および／もしくはエーテル溶媒またはこれらの混合物は、上記工程ａ）において得られる溶液に約０℃〜約５０℃の温度で、好ましくは約１０℃〜約４０℃で、より好ましくは約２５℃〜約３５℃で添加され得る。
好ましい実施形態において、炭化水素溶媒に続いてエーテル溶媒が、上記工程ａ）の溶液に約２５℃〜約３５℃の温度で添加される。
必要に応じて、形態Ｒ５もしくはＲ５ａの種晶は、上記工程ｂ）の反応混合物に添加され得る。上記結晶形態Ｒ５の種晶は、本出願で開示されるプロセスに従って得られる場合がある。上記形態Ｒ５の種晶は、炭化水素もしくはエーテル溶媒の添加前に、または炭化水素もしくはエーテル溶媒の添加後に、かつ工程ｃ）に先だって添加され得る。上記種晶添加は、約０℃〜約５０℃の温度で行われ得る。好ましくは、上記種晶添加は、約２５℃〜約３５℃の温度で行われる。一実施形態において、上記工程ｂ）の反応混合物は、上記種晶添加工程の後に得られる。
工程ｃ）は、上記工程ｂ）の反応混合物を約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程を伴う。
上記工程ｂ）の反応混合物は、約０℃〜約５０℃の温度で十分な時間にわたって維持される。本明細書で開示される場合、十分な時間は、結晶性ニロチニブ塩酸塩の形成を確実にするために必要とされる時間である。一実施形態において、上記反応混合物は、約３０分〜約７２時間の期間にわたって維持される。
一実施形態において、上記反応混合物は、約１０℃〜約４０℃の温度で、より好ましくは約２５℃〜約３５℃で維持される。
工程ｄ）は、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を単離する工程を伴う。上記結晶性ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５は、それ自体公知の手法で、使用される溶媒に依存して単離され、上記手
法としては、重力によるかもしくは吸引／真空による濾過、蒸溜、遠心分離、またはスローエバポレーションなどが挙げられるが、これらに限定されない。一実施形態において、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５は、真空下での濾過および約２５℃〜約３５℃の温度での真空乾燥、ならびに／または約４５℃未満の温度での乾燥によって単離され得る。
法としては、重力によるかもしくは吸引／真空による濾過、蒸溜、遠心分離、またはスローエバポレーションなどが挙げられるが、これらに限定されない。一実施形態において、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５は、真空下での濾過および約２５℃〜約３５℃の温度での真空乾燥、ならびに／または約４５℃未満の温度での乾燥によって単離され得る。
工程ｅ）は、上記生成物を約１００℃〜約１２０℃の温度で乾燥させて、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を得る工程を伴う。
乾燥させる工程は、重力オーブン、トレイドライヤー、真空オーブン、Ｂｕｅｃｈｉ（登録商標）Ｒｏｔａｖａｐｏｒ（登録商標）、エアトレイドライヤー、流動床ドライヤー、スピンフラッシュドライヤー、フラッシュドライヤーなどのような任意の装置を使用して、適切に行われ得る。一実施形態において、上記乾燥させる工程は、大気圧でもしくは減圧下で行われ得る。一実施形態において、上記乾燥させる工程は、約１２０℃の温度で、約１１５℃の温度で、約１１０℃の温度でもしくは約１０５℃の温度で行われ得る。上記乾燥させる工程は、所望の品質を得るために必要とされる任意の期間、例えば、約１５分〜数時間、もしくはそれより長い期間にわたって行われ得る。
別の実施形態において、本出願は、結晶性ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５もしくは形態Ｒ５ａもしくは形態Ｒ５ｂを約１００℃〜約１２０℃の温度で乾燥させる工程を包含する、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を調製するためのプロセスを包含する。
結晶性ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５もしくは形態Ｒ５ａもしくは形態Ｒ５ｂを乾燥させる工程は、重力オーブン、トレイドライヤー、真空オーブン、Ｂｕｅｃｈｉ（登録商標）Ｒｏｔａｖａｐｏｒ（登録商標）、エアトレイドライヤー、流動床ドライヤー、スピンフラッシュドライヤー、フラッシュドライヤーなどのような任意の装置を使用して、適切に行われ得る。一実施形態において、上記乾燥させる工程は、大気圧でもしくは減圧下で行われ得る。一実施形態において、上記乾燥させる工程は、約１２０℃の温度で、約１１５℃の温度で、約１１０℃の温度でもしくは約１０５℃の温度で行われ得る。上記乾燥させる工程は、所望の品質を得るために必要とされる任意の期間、例えば、約１５分〜数時間、もしくはそれより長い期間にわたって行われ得る。
一実施形態において、本出願は、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を調製するためのプロセスを包含し、上記プロセスは、
ａ）酢酸中のニロチニブ塩酸塩の懸濁物を得る工程；
ｂ）上記工程ａ）の懸濁物を約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；ならびに
ｃ）得られた結晶性化合物を単離する工程；ならびに
ｄ）約１００℃〜約１２０℃の温度で乾燥させて、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を得る工程
を包含する。
ａ）酢酸中のニロチニブ塩酸塩の懸濁物を得る工程；
ｂ）上記工程ａ）の懸濁物を約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；ならびに
ｃ）得られた結晶性化合物を単離する工程；ならびに
ｄ）約１００℃〜約１２０℃の温度で乾燥させて、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を得る工程
を包含する。
工程ａ）は、酢酸中のニロチニブ塩酸塩の懸濁物を得る工程を伴う。
上記工程ａ）に従うニロチニブ塩酸塩懸濁物は、ニロチニブ塩酸塩と酢酸とを、約０℃〜約５０℃の温度で、好ましくは約１０℃〜約４０℃で、より好ましくは約２５℃〜約３５℃で合わせることによって得られる場合がある。懸濁物を得るために使用される酢酸の量は、選択される温度範囲に基づいて、ニロチニブ塩酸塩１ｇあたり約１ｍｌ〜約５ｍｌの範囲に及ぶ。
工程ｂ）は、上記工程ａ）の懸濁物を約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程を伴う。
上記工程ａ）の懸濁物は、約０℃〜約５０℃の温度で維持され得る。一実施形態において、上記工程ａ）の懸濁物は、約１０℃〜約４０℃の温度で、より好ましくは約２５℃〜約３５℃で維持される。上記懸濁物は、ニロチニブ塩酸塩を結晶性ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５に変換することを確実にするために十分な時間にわたって維持される。一実施形態において、上記懸濁物は、約３０分〜約７２時間の期間にわたって維持される。
工程ｃ）は、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を単離する工程を伴う。上記結晶性ニロチニブ塩酸塩は、それ自体公知の手法で、使用される溶媒に依存して単離され、上記手法としては、重力によるかもしくは吸引／真空による濾過、蒸溜、遠心分離、またはスローエバポレーションなどが挙げられるが、これらに限定されない。一実施形態において、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５は、真空下での濾過および約２５℃〜約３５℃の温度での真空乾燥および／または４５℃未満の温度での乾燥によって単離され得る。
工程ｄ）は、上記工程ｃ）の生成物を約１００℃〜約１２０℃の温度で乾燥させて、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を得る工程を伴う。
乾燥させる工程は、重力オーブン、トレイドライヤー、真空オーブン、Ｂｕｅｃｈｉ（登録商標）Ｒｏｔａｖａｐｏｒ（登録商標）、エアトレイドライヤー、流動床ドライヤー、スピンフラッシュドライヤー、フラッシュドライヤーなどのような任意の装置を使用して、適切に行われ得る。一実施形態において、上記乾燥させる工程は、大気圧でもしくは減圧下で行われ得る。一実施形態において、上記乾燥させる工程は、約１２０℃の温度で、約１１５℃の温度で、約１１０℃の温度でもしくは約１０５℃の温度で行われ得る。上記乾燥させる工程は、所望の品質を得るために必要とされる任意の期間、例えば、約１５分〜数時間、もしくはそれより長い期間にわたって行われ得る。
一実施形態において、本出願は、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を調製するためのプロセスを包含し、上記プロセスは、
ａ）酢酸およびエーテル溶媒中のニロチニブ塩酸塩のスラリーを得る工程；
ｂ）上記工程ａ）のスラリーを約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；
ｃ）得られた結晶性化合物を単離する工程；ならびに
ｄ）約１００℃〜約１２０℃の温度で乾燥させて、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を得る工程
を包含する。
ａ）酢酸およびエーテル溶媒中のニロチニブ塩酸塩のスラリーを得る工程；
ｂ）上記工程ａ）のスラリーを約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程；
ｃ）得られた結晶性化合物を単離する工程；ならびに
ｄ）約１００℃〜約１２０℃の温度で乾燥させて、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を得る工程
を包含する。
上記工程ａ）に従ってスラリーを得る工程は、酢酸およびエーテルをとってニロチニブ塩酸塩を添加する工程、またはニロチニブ塩酸塩を酢酸中に溶解させてエーテルを添加する工程を包含する。ニロチニブ塩酸塩は、当該分野で公知のプロセスによって得られる場合がある。上記工程ａ）の反応混合物は、約０℃から上記溶媒のほぼ還流温度までの範囲に及ぶ任意の温度で、好ましくは約１０℃〜約８０℃で、より好ましくは約２０℃〜約５０℃で、最も好ましくは約２５℃〜約３５℃で提供され得る。
上記工程ａ）において使用され得るエーテル溶媒は、石油エーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルなどから選択される。好ましい実施形態においては、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルが使用される。
必要に応じて、形態Ｒ５もしくはＲ５ａの種晶は、上記工程ａ）の反応混合物に添加され得る。上記結晶形態Ｒ５の種晶は、本出願で開示されるプロセスに従って得られる場合がある。上記種晶添加は、約０℃〜約５０℃の温度で行われ得る。好ましくは、上記種晶添加は、約２５℃〜約３５℃の温度で行われる。
工程ｂ）は、上記工程ａ）の反応混合物を約０℃〜約５０℃の温度で維持する工程を伴う。
上記工程ａ）の反応混合物は、約０℃〜約５０℃の温度で十分な時間にわたって維持される。本明細書で開示される場合、十分な時間は、結晶性ニロチニブ塩酸塩の形成を確実にするために必要とされる時間である。一実施形態において、上記反応混合物は、約３０分〜約７２時間の期間にわたって維持される。
一実施形態において、上記反応混合物は、約１０℃〜約４０℃の温度で、より好ましくは約２５℃〜約３５℃で維持される。
工程ｃ）は、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５を単離する工程を伴う。結晶性ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５は、それ自体公知の手法で、使用される溶媒に依存して単離され、上記手法としては、重力によるかもしくは吸引／真空による濾過、蒸溜、遠心分離、またはスローエバポレーションなどが挙げられるが、これらに限定されない。一実施形態において、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５は、真空下での濾過および約２５℃〜約３５℃の温度での真空乾燥および／または約４５℃未満の温度での乾燥によって単離され得る。
工程ｄ）は、上記生成物を約１００℃〜約１２０℃の温度で乾燥させて、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を得る工程を伴う。
乾燥させる工程は、重力オーブン、トレイドライヤー、真空オーブン、Ｂｕｅｃｈｉ（登録商標）Ｒｏｔａｖａｐｏｒ（登録商標）、エアトレイドライヤー、流動床ドライヤー、スピンフラッシュドライヤー、フラッシュドライヤーなどのような任意の装置を使用して、適切に行われ得る。一実施形態において、上記乾燥させる工程は、大気圧でもしくは減圧下で行われ得る。一実施形態において、上記乾燥させる工程は、約１２０℃の温度で、約１１５℃の温度で、約１１０℃の温度でもしくは約１０５℃の温度で行われ得る。上記乾燥させる工程は、所望の品質を得るために必要とされる任意の期間、例えば、約１５分〜数時間、もしくはそれより長い期間にわたって行われ得る。
一実施形態において、本出願は、形態Ｒ５、形態Ｒ５ａ、形態Ｒ５ｂ、Ｒ６と称されるニロチニブ塩酸塩の結晶形態、および少なくとも１種の薬学的に受容可能な賦形剤を含む薬学的組成物を提供する。
薬学的に受容可能な賦形剤としては、適切な表面改変因子（ｓｕｒｆａｃｅ ｍｏｄｉｆｉｅｒ）が挙げられるが、これらに限定されない。このような賦形剤としては、種々のポリマー、低分子量オリゴマー、天然生成物、および界面活性剤が挙げられる。
本発明の形態Ｒ５、形態Ｒ５ａ、形態Ｒ５ｂ、および形態Ｒ６と称されるニロチニブ塩酸塩の結晶形態は、以下の、科学的純度、安定性（例えば、貯蔵安定性、脱水に対する安定性、多形変換に対する安定性）、流動性、溶解性、形態もしくは晶癖、低吸湿性および低い残留溶媒含有量のうちの少なくとも１つから選択される有利な特性を有する。
本出願のある種の具体的局面および実施形態は、以下の実施例を参照してより詳細に説明される。実施例は、例示目的のみで提供されるに過ぎず、本出願の範囲を限定するとはいかなる手法でも解釈されるべきでない。
実施例１：ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５の調製
ニロチニブ塩酸塩（１ｇ）および酢酸（１０ｍｌ）を、丸底フラスコの中に入れ、２５〜３５℃で撹拌して、溶液を得た。ｎ−ヘプタン（５０ｍｌ）を添加し、上記混合物を２５〜３５℃で５時間撹拌した。メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル（１００ｍｌ）を添加し、上記混合物を同じ温度で１８時間撹拌した。その得られた懸濁物を濾過し、吸引乾燥して、標題化合物を得た。
実施例２：ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５の調製
ニロチニブ塩酸塩（５ｇ）および酢酸（５０ｍｌ）を丸底フラスコの中に入れ、２５〜３５℃で撹拌して、溶液を得た。ｎ−ヘプタン（５００ｍｌ）、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル（１００ｍｌ）および種晶材料（０．５ｇの形態Ｒ５）を連続して添加し、上記混合物を２５〜３５℃で撹拌した。メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル（４００ｍｌ）を添加し、上記混合物を同じ温度で約４８時間撹拌した。その得られた懸濁物を濾過し、吸引乾燥して、標題化合物を得た。
実施例３：ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５の調製
ニロチニブ塩酸塩（３ｇ）および酢酸（５ｍｌ）を、丸底フラスコの中に２５〜３５℃で入れ、懸濁物を得た。上記混合物を同じ温度で約２０時間撹拌し、濾過し、吸引乾燥して、標題化合物を得た。
実施例４：ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５ａの調製
ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５（５００ｍｇ）を、エアトレイドライヤーの中で１時間、４０℃の温度で乾燥させて、標題化合物を得た。
実施例５：ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５ａの調製
ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５（５００ｍｇ）を、真空トレイドライヤーの中で１時間、４０℃の温度で乾燥させて、標題化合物を得た。
実施例６：ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５ｂの調製
ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ５ａ（５００ｍｇ）を、エアトレイドライヤーの中で約８時間、７０℃の温度で乾燥させて、標題化合物を得た。
実施例７：ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６の調製
ニロチニブ塩酸塩（５ｇ）および酢酸（５０ｍｌ）を、丸底フラスコの中に入れ、２５〜３５℃で撹拌して溶液を得た。ｎ−ヘプタン（５００ｍｌ）、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル（１００ｍｌ）および種晶材料（０．５ｇの形態Ｒ５）を連続して添加し、上記混合物を２５〜３５℃で撹拌した。メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル（４００ｍｌ）を添加し、上記混合物を、同じ温度で約４８時間維持した。その得られた懸濁物を濾過し、吸引乾燥し、真空トレイドライヤーの中で１時間、４０℃の温度で乾燥させ、真空トレイドライヤーの中で８時間、１００℃の温度でさらに乾燥させて、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を得た。収率：８９％。
実施例８：ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６の調製
ニロチニブ塩酸塩（５ｇ）および酢酸（５０ｍｌ）を、丸底フラスコの中に入れ、２５
〜３５℃で撹拌して溶液を得た。ｎ−ヘプタン（５００ｍｌ）、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル（１００ｍｌ）および種晶材料（０．５ｇの形態Ｒ５）を連続して添加し、上記混合物を２５〜３５℃で撹拌した。メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル（４００ｍｌ）を添加し、上記混合物を同じ温度で約４８時間維持した。得られた懸濁物を濾過し、吸引乾燥し、真空トレイドライヤーの中で１時間、４０℃の温度で乾燥させ、真空トレイドライヤーの中で１４時間、１００℃の温度でさらに乾燥させて、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を得た。
収率：８９．３％； ＰＸＲＤ：図４。
〜３５℃で撹拌して溶液を得た。ｎ−ヘプタン（５００ｍｌ）、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル（１００ｍｌ）および種晶材料（０．５ｇの形態Ｒ５）を連続して添加し、上記混合物を２５〜３５℃で撹拌した。メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル（４００ｍｌ）を添加し、上記混合物を同じ温度で約４８時間維持した。得られた懸濁物を濾過し、吸引乾燥し、真空トレイドライヤーの中で１時間、４０℃の温度で乾燥させ、真空トレイドライヤーの中で１４時間、１００℃の温度でさらに乾燥させて、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を得た。
収率：８９．３％； ＰＸＲＤ：図４。
実施例９：ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６の調製
ニロチニブ塩酸塩（３ｇ）および酢酸（５ｍｌ）を、丸底フラスコの中に２５〜３５℃で入れ、懸濁物を得た。この混合物を、同じ温度で約２０時間撹拌し、濾過し、吸引乾燥した。得られた化合物を、エアトレイドライヤーの中で１時間、４０℃の温度で乾燥させ、エアトレイドライヤーの中で４時間、１００℃の温度でさらに乾燥させて、ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６を得た。
収率：５７．４８％； ＰＸＲＤ：図５。
収率：５７．４８％； ＰＸＲＤ：図５。
実施例１０：ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６の調製
１５．０ｍＬのメチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルおよび５．０ｍＬの酢酸を、丸底フラスコの中に２６℃で入れた。１．０ｇのニロチニブ塩酸塩を上記丸底フラスコの中に入れ、２３時間、２６℃で撹拌した。この材料を、吸引ポンプを使用して濾過し、５分間乾燥した。その得られた物質を、エアトレイドライヤー上で１１０℃で６時間乾燥させて、標題化合物を得た。
収率：９５％。
収率：９５％。
実施例１１：ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６の調製
１５．０ｇのニロチニブ塩酸塩および７５ｍＬの酢酸を、丸底フラスコの中に３０℃で入れ、１５分間撹拌した。７５．０ｍＬのｎ−ヘプタンおよび３０．０ｍＬのメチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルを上記フラスコに加えた。上記フラスコに、０．７５ｇのＲ５材料（上記実施例のうちのいずれかで調製されたとおり）を種晶添加し、５分間撹拌した。２７０ｍＬのメチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルを５分間にわたって添加し、その内容物を、１５時間にわたって３０℃で撹拌した。上記材料を、吸引ポンプを使用して濾過し、３０ｍＬのメチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルで洗浄した。上記材料を、２５メッシュシーブを通して選り分けて、エアトレイドライヤーの中で１１０℃で６時間乾燥させて、標題化合物を得た。
収率：７３％
収率：７３％
実施例１２：ニロチニブ塩酸塩形態Ｒ６の調製
３７５ｍＬのメチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルおよび１２５ｍＬの酢酸を、丸底フラスコの中で２７℃で入れた。２５．０ｇのニロチニブ塩酸塩を上記フラスコの中に入れ、２４時間、２７℃で撹拌しながら維持した。上記材料を、吸引ポンプを使用して２７℃で濾過した。上記材料を、２５メッシュシーブを通して選り分けて、エアトレイドライヤーの中で１１０℃で６時間乾燥させて、標題化合物を得た。
収量：１９．５ｇ
収量：１９．５ｇ
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