JP2018534612A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2018534612A5
JP2018534612A5 JP2018515780A JP2018515780A JP2018534612A5 JP 2018534612 A5 JP2018534612 A5 JP 2018534612A5 JP 2018515780 A JP2018515780 A JP 2018515780A JP 2018515780 A JP2018515780 A JP 2018515780A JP 2018534612 A5 JP2018534612 A5 JP 2018534612A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
correction
optical
optical correction
manipulator
configuration
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2018515780A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2018534612A (ja
JP6842461B2 (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE102015218329.7A external-priority patent/DE102015218329A1/de
Application filed filed Critical
Publication of JP2018534612A publication Critical patent/JP2018534612A/ja
Publication of JP2018534612A5 publication Critical patent/JP2018534612A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6842461B2 publication Critical patent/JP6842461B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2018515780A 2015-09-24 2016-09-06 光学補正構成、そのような光学補正構成を有する投影対物部、およびそのような投影対物部を有するマイクロリソグラフィ装置 Active JP6842461B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102015218329.7A DE102015218329A1 (de) 2015-09-24 2015-09-24 Optische Korrekturanordnung, Projektionsobjektiv mit einer solchen optischen Korrekturanordnung sowie mikrolithografische Apparatur mit einem solchen Projektionsobjektiv
DE102015218329.7 2015-09-24
PCT/EP2016/070981 WO2017050565A1 (de) 2015-09-24 2016-09-06 Optische korrekturanordnung, projektionsobjektiv mit einer solchen optischen korrekturanordnung sowie mikrolithografische apparatur mit einem solchen projektionsobjektiv

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2018534612A JP2018534612A (ja) 2018-11-22
JP2018534612A5 true JP2018534612A5 (enExample) 2019-10-17
JP6842461B2 JP6842461B2 (ja) 2021-03-17

Family

ID=56883789

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018515780A Active JP6842461B2 (ja) 2015-09-24 2016-09-06 光学補正構成、そのような光学補正構成を有する投影対物部、およびそのような投影対物部を有するマイクロリソグラフィ装置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10859815B2 (enExample)
JP (1) JP6842461B2 (enExample)
KR (1) KR102683680B1 (enExample)
CN (1) CN108027502B (enExample)
DE (1) DE102015218329A1 (enExample)
WO (1) WO2017050565A1 (enExample)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107544130B (zh) * 2016-06-29 2020-05-22 佳能株式会社 附接光学系统、图像捕获光学系统和图像捕获装置
DE102018201495A1 (de) * 2018-01-31 2019-01-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Abbildendes optisches System für die Mikrolithographie
NL2024520A (en) * 2019-01-17 2020-08-14 Asml Netherlands Bv Target delivery system
JP7178932B2 (ja) 2019-03-12 2022-11-28 キヤノン株式会社 露光装置、および物品製造方法

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10142555A (ja) * 1996-11-06 1998-05-29 Nikon Corp 投影露光装置
EP0851304B1 (en) 1996-12-28 2004-03-17 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus and device manufacturing method
JP3303758B2 (ja) * 1996-12-28 2002-07-22 キヤノン株式会社 投影露光装置及びデバイスの製造方法
JP3459773B2 (ja) * 1998-06-24 2003-10-27 キヤノン株式会社 投影露光装置及びデバイスの製造方法
JP2003107311A (ja) * 2001-09-27 2003-04-09 Nikon Corp 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにデバイスの製造方法
JP2003178954A (ja) * 2001-12-12 2003-06-27 Canon Inc 露光装置及びデバイスの製造方法
JP4307140B2 (ja) * 2003-04-25 2009-08-05 キヤノン株式会社 光学素子位置決め装置、それを用いた露光装置、デバイスの製造方法
WO2008040494A1 (en) 2006-10-02 2008-04-10 Carl Zeiss Smt Ag Method for improving the imaging properties of an optical system, and such an optical system
DE102008043321A1 (de) * 2008-01-17 2009-07-23 Carl Zeiss Smt Ag Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102008043243A1 (de) 2008-10-28 2009-10-29 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie sowie Verfahren zum Verbessern der Abbildungseigenschaften eines Projektionsobjektivs
JP5312058B2 (ja) * 2009-01-19 2013-10-09 キヤノン株式会社 投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法
EP2219077A1 (en) * 2009-02-12 2010-08-18 Carl Zeiss SMT AG Projection exposure method, projection exposure system and projection objective
US8159753B2 (en) * 2010-05-28 2012-04-17 Universidad De Guanajuato Optical system with variable field depth
NL2009844A (en) * 2011-12-22 2013-06-26 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method.
DE102012212758A1 (de) * 2012-07-20 2014-01-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Systemkorrektur aus langen Zeitskalen
DE102013204572A1 (de) * 2013-03-15 2014-09-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage mit hochflexiblem Manipulator
DE102013213545A1 (de) * 2013-07-10 2015-01-15 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie
CN103885176B (zh) * 2014-03-20 2016-07-20 中国科学院西安光学精密机械研究所 相位掩膜板及能够调节中间编码图像品质的波前编码成像系统

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2018534612A5 (enExample)
MX2022003299A (es) Estabilizacion de imagenes opticas con motor de bobina de voz para mover el sensor de imagenes.
EP3012676A3 (en) Miniature lens driving apparatus
EP4485046A3 (en) Linear ball guided voice coil motor for folded optic
EA201591209A1 (ru) Устройство и способ для изготовления объемного объекта посредством литографии с повышенным пространственным разрешением
EP4571397A3 (en) Lens moving apparatus
JP2015035003A5 (ja) レンズ駆動装置、カメラモジュール及びカメラ
JP2017227850A5 (enExample)
RU2016117262A (ru) Устройство привода вибрационного типа, устройство двухмерного привода, устройство коррекции размытости изображения, сменный объектив, устройство захвата изображения и автоматический предметный столик
JP2009222899A5 (enExample)
JP2003295249A5 (enExample)
JP2016520951A5 (enExample)
JP2015031792A5 (enExample)
JP2010032975A5 (enExample)
JP2018106071A5 (enExample)
JP2015141389A (ja) レンズ駆動装置
JP2016122049A5 (enExample)
JP2013097168A5 (enExample)
TW200925815A (en) Reactive force processing device
EP3106716A3 (en) Manipulation apparatus
JP2013140309A5 (enExample)
JP6842461B2 (ja) 光学補正構成、そのような光学補正構成を有する投影対物部、およびそのような投影対物部を有するマイクロリソグラフィ装置
JP2013219089A5 (enExample)
JP2014103171A5 (enExample)
TWI615650B (zh) 雙鏡頭模組