DE102015218329A1 - Optische Korrekturanordnung, Projektionsobjektiv mit einer solchen optischen Korrekturanordnung sowie mikrolithografische Apparatur mit einem solchen Projektionsobjektiv - Google Patents

Optische Korrekturanordnung, Projektionsobjektiv mit einer solchen optischen Korrekturanordnung sowie mikrolithografische Apparatur mit einem solchen Projektionsobjektiv Download PDF

Info

Publication number
DE102015218329A1
DE102015218329A1 DE102015218329.7A DE102015218329A DE102015218329A1 DE 102015218329 A1 DE102015218329 A1 DE 102015218329A1 DE 102015218329 A DE102015218329 A DE 102015218329A DE 102015218329 A1 DE102015218329 A1 DE 102015218329A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
correction
optical
arrangement according
optical correction
correction component
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE102015218329.7A
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Holger Walter
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss SMT GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss SMT GmbH filed Critical Carl Zeiss SMT GmbH
Priority to DE102015218329.7A priority Critical patent/DE102015218329A1/de
Priority to KR1020187011256A priority patent/KR102683680B1/ko
Priority to PCT/EP2016/070981 priority patent/WO2017050565A1/de
Priority to CN201680055946.5A priority patent/CN108027502B/zh
Priority to JP2018515780A priority patent/JP6842461B2/ja
Publication of DE102015218329A1 publication Critical patent/DE102015218329A1/de
Priority to US15/913,418 priority patent/US10859815B2/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/0875—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more refracting elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/06—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the phase of light
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/0025—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
    • G02B27/0068—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration having means for controlling the degree of correction, e.g. using phase modulators, movable elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00—Simple or compound lenses
    • G02B3/02—Simple or compound lenses with non-spherical faces
    • G02B3/04—Simple or compound lenses with non-spherical faces with continuous faces that are rotationally symmetrical but deviate from a true sphere, e.g. so called "aspheric" lenses
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/7015—Details of optical elements
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70191—Optical correction elements, filters or phase plates for controlling intensity, wavelength, polarisation, phase or the like
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70308—Optical correction elements, filters or phase plates for manipulating imaging light, e.g. intensity, wavelength, polarisation, phase or image shift
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00—Simple or compound lenses
    • G02B3/0081—Simple or compound lenses having one or more elements with analytic function to create variable power

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
DE102015218329.7A 2015-09-24 2015-09-24 Optische Korrekturanordnung, Projektionsobjektiv mit einer solchen optischen Korrekturanordnung sowie mikrolithografische Apparatur mit einem solchen Projektionsobjektiv Withdrawn DE102015218329A1 (de)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102015218329.7A DE102015218329A1 (de) 2015-09-24 2015-09-24 Optische Korrekturanordnung, Projektionsobjektiv mit einer solchen optischen Korrekturanordnung sowie mikrolithografische Apparatur mit einem solchen Projektionsobjektiv
KR1020187011256A KR102683680B1 (ko) 2015-09-24 2016-09-06 광학 교정 어셈블리, 이러한 광학 교정 어셈블리를 포함하는 투영 오브젝티브 및 이러한 투영 오브젝티브를 포함하는 마이크로리소그래픽 장치
PCT/EP2016/070981 WO2017050565A1 (de) 2015-09-24 2016-09-06 Optische korrekturanordnung, projektionsobjektiv mit einer solchen optischen korrekturanordnung sowie mikrolithografische apparatur mit einem solchen projektionsobjektiv
CN201680055946.5A CN108027502B (zh) 2015-09-24 2016-09-06 光学校正装置，投射物镜，以及微光刻设备
JP2018515780A JP6842461B2 (ja) 2015-09-24 2016-09-06 光学補正構成、そのような光学補正構成を有する投影対物部、およびそのような投影対物部を有するマイクロリソグラフィ装置
US15/913,418 US10859815B2 (en) 2015-09-24 2018-03-06 Optical correction arrangement, projection objective having such an optical correction arrangement and microlithographic apparatus having such a projection objective

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102015218329.7A DE102015218329A1 (de) 2015-09-24 2015-09-24 Optische Korrekturanordnung, Projektionsobjektiv mit einer solchen optischen Korrekturanordnung sowie mikrolithografische Apparatur mit einem solchen Projektionsobjektiv

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102015218329A1 true DE102015218329A1 (de) 2017-03-30

Family

ID=56883789

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102015218329.7A Withdrawn DE102015218329A1 (de) 2015-09-24 2015-09-24 Optische Korrekturanordnung, Projektionsobjektiv mit einer solchen optischen Korrekturanordnung sowie mikrolithografische Apparatur mit einem solchen Projektionsobjektiv

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10859815B2 (enExample)
JP (1) JP6842461B2 (enExample)
KR (1) KR102683680B1 (enExample)
CN (1) CN108027502B (enExample)
DE (1) DE102015218329A1 (enExample)
WO (1) WO2017050565A1 (enExample)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102018201495A1 (de) * 2018-01-31 2019-01-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Abbildendes optisches System für die Mikrolithographie

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107544130B (zh) * 2016-06-29 2020-05-22 佳能株式会社 附接光学系统、图像捕获光学系统和图像捕获装置
NL2024520A (en) 2019-01-17 2020-08-14 Asml Netherlands Bv Target delivery system
JP7178932B2 (ja) * 2019-03-12 2022-11-28 キヤノン株式会社 露光装置、および物品製造方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0851304A2 (en) 1996-12-28 1998-07-01 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus and device manufacturing method
DE102007046419A1 (de) 2006-10-02 2008-04-03 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zum Verbessern der Abbildungseigenschaften eines optischen Systems sowie derartiges optisches System
DE102008043243A1 (de) 2008-10-28 2009-10-29 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie sowie Verfahren zum Verbessern der Abbildungseigenschaften eines Projektionsobjektivs

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10142555A (ja) * 1996-11-06 1998-05-29 Nikon Corp 投影露光装置
JP3303758B2 (ja) * 1996-12-28 2002-07-22 キヤノン株式会社 投影露光装置及びデバイスの製造方法
JP3459773B2 (ja) * 1998-06-24 2003-10-27 キヤノン株式会社 投影露光装置及びデバイスの製造方法
JP2003107311A (ja) * 2001-09-27 2003-04-09 Nikon Corp 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにデバイスの製造方法
JP2003178954A (ja) * 2001-12-12 2003-06-27 Canon Inc 露光装置及びデバイスの製造方法
JP4307140B2 (ja) * 2003-04-25 2009-08-05 キヤノン株式会社 光学素子位置決め装置、それを用いた露光装置、デバイスの製造方法
DE102008043321A1 (de) * 2008-01-17 2009-07-23 Carl Zeiss Smt Ag Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
JP5312058B2 (ja) * 2009-01-19 2013-10-09 キヤノン株式会社 投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法
EP2219077A1 (en) 2009-02-12 2010-08-18 Carl Zeiss SMT AG Projection exposure method, projection exposure system and projection objective
US8159753B2 (en) * 2010-05-28 2012-04-17 Universidad De Guanajuato Optical system with variable field depth
NL2009844A (en) * 2011-12-22 2013-06-26 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method.
DE102012212758A1 (de) * 2012-07-20 2014-01-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Systemkorrektur aus langen Zeitskalen
DE102013204572A1 (de) * 2013-03-15 2014-09-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage mit hochflexiblem Manipulator
DE102013213545A1 (de) * 2013-07-10 2015-01-15 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie
CN103885176B (zh) * 2014-03-20 2016-07-20 中国科学院西安光学精密机械研究所 相位掩膜板及能够调节中间编码图像品质的波前编码成像系统

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0851304A2 (en) 1996-12-28 1998-07-01 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus and device manufacturing method
DE102007046419A1 (de) 2006-10-02 2008-04-03 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zum Verbessern der Abbildungseigenschaften eines optischen Systems sowie derartiges optisches System
DE102008043243A1 (de) 2008-10-28 2009-10-29 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie sowie Verfahren zum Verbessern der Abbildungseigenschaften eines Projektionsobjektivs

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102018201495A1 (de) * 2018-01-31 2019-01-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Abbildendes optisches System für die Mikrolithographie

Also Published As

Publication number Publication date
JP2018534612A (ja) 2018-11-22
KR102683680B1 (ko) 2024-07-11
KR20180058764A (ko) 2018-06-01
US20180196256A1 (en) 2018-07-12
JP6842461B2 (ja) 2021-03-17
CN108027502B (zh) 2021-07-06
CN108027502A (zh) 2018-05-11
WO2017050565A1 (de) 2017-03-30
US10859815B2 (en) 2020-12-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102014118135B4 (de) Ladungsteilchenstrahl-Belichtungsgerät
DE19827603A1 (de) Optisches System, insbesondere Projektions-Belichtungsanlage der Mikrolithographie
EP3323020B1 (de) Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische projektionsbelichtungsanlage
DE102016224202A1 (de) Verfahren zum Modifizieren des Deformationsverhaltens eines deformierbaren Spiegels
DE102015218329A1 (de) Optische Korrekturanordnung, Projektionsobjektiv mit einer solchen optischen Korrekturanordnung sowie mikrolithografische Apparatur mit einem solchen Projektionsobjektiv
WO2021160583A1 (de) Projektionsbelichtungsanlage mit einem thermischen manipulator
DE102015201255A1 (de) Anordnung und Lithographieanlage mit Anordnung
DE102007022895B4 (de) Vorrichtung zum Übertragen von in einer Maske vorgesehenen Strukturen auf ein Substrat
DE102007058158A1 (de) Optisches System mit einer austauschbaren, manipulierbaren Korrekturanordnung zur Reduzierung von Bildfehlern
DE102013204572A1 (de) Projektionsbelichtungsanlage mit hochflexiblem Manipulator
DE102014204523A1 (de) Schwingungskompensiertes optisches system, lithographieanlage und verfahren
WO2008080537A1 (de) Projektionsobjektiv für die lithographie
DE102016006960A1 (de) Optisches System zum Beseitigen von Inhomogenitäten in der Intensitätsverteilung von Laserstrahlung
DE102010027196A1 (de) Optisches System zum Erzeugen eines Linienfokus sowie Vorrichtung zum Behandeln eines Substrats mit einem solchen optischen System
DE102019209610A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen einer Klebeverbindung zwischen einer ersten Komponente und einer zweiten Komponente
DE102014219648A1 (de) Verfahren zum Herstellen eines Spiegelelements
DE102020201098A1 (de) Abbildende Optik
DE102015220144A1 (de) Optisches System und Lithographieanlage
DE102008043243A1 (de) Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie sowie Verfahren zum Verbessern der Abbildungseigenschaften eines Projektionsobjektivs
DE102015211474A1 (de) Aktorvorrichtung für eine lithographieanlage und lithographieanlage
DE102020204426A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Manipulation der Oberflächenform eines optischen Elements
DE102015220498A1 (de) Optisches system und lithographieanlage
EP3323019B1 (de) Verfahren zum herstellen eines spiegels, insbesondere für eine mikrolithographische projektionsbelichtungsanlage
DE102013221386A1 (de) Polarisationskontrolle in projektionsbelichtungsanlagen sowie anordnungen hierfür
DE102008054779A1 (de) Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed
R120 Application withdrawn or ip right abandoned