JP2018528302A - ペルフルオロエーテル安定化量子ドット - Google Patents
ペルフルオロエーテル安定化量子ドット Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018528302A JP2018528302A JP2018507695A JP2018507695A JP2018528302A JP 2018528302 A JP2018528302 A JP 2018528302A JP 2018507695 A JP2018507695 A JP 2018507695A JP 2018507695 A JP2018507695 A JP 2018507695A JP 2018528302 A JP2018528302 A JP 2018528302A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ligand
- group
- shell
- composite particle
- quantum dot
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- UJMWVICAENGCRF-UHFFFAOYSA-N oxygen difluoride Chemical compound FOF UJMWVICAENGCRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 16
- 229920001774 Perfluoroether Polymers 0.000 title claims abstract description 11
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 title claims description 108
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 claims abstract description 65
- 239000011246 composite particle Substances 0.000 claims abstract description 51
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims abstract description 47
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 60
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 50
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 47
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 45
- -1 thiol compound Chemical class 0.000 claims description 36
- GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N Indium phosphide Chemical compound [In]#P GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 claims description 32
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 29
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 27
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 24
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims description 23
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 22
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims description 22
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 21
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 19
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 19
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 claims description 18
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 18
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 18
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N (fluoren-9-ylideneamino) n-naphthalen-1-ylcarbamate Chemical compound C12=CC=CC=C2C2=CC=CC=C2C1=NOC(=O)NC1=CC=CC2=CC=CC=C12 PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 16
- 229920005596 polymer binder Polymers 0.000 claims description 14
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 claims description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 13
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 13
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 11
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 10
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 claims description 10
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 6
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 5
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 claims description 4
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims description 4
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 claims description 4
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims description 4
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 3
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 claims description 3
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229920001973 fluoroelastomer Polymers 0.000 claims description 3
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GVGCUCJTUSOZKP-UHFFFAOYSA-N nitrogen trifluoride Chemical class FN(F)F GVGCUCJTUSOZKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 3
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 claims description 3
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 claims description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 3
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 claims description 3
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 claims description 3
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 claims 1
- 238000007342 radical addition reaction Methods 0.000 claims 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims 1
- 239000011257 shell material Substances 0.000 description 85
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 65
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 63
- 239000000463 material Substances 0.000 description 52
- 239000010408 film Substances 0.000 description 43
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 40
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 description 24
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 22
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 22
- 239000002159 nanocrystal Substances 0.000 description 22
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 21
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 16
- 230000012010 growth Effects 0.000 description 15
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 15
- 239000001301 oxygen Chemical group 0.000 description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 14
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 14
- 238000006862 quantum yield reaction Methods 0.000 description 13
- PGFXOWRDDHCDTE-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene oxide Chemical compound FC(F)(F)C1(F)OC1(F)F PGFXOWRDDHCDTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 9
- HZXMRANICFIONG-UHFFFAOYSA-N gallium phosphide Chemical compound [Ga]#P HZXMRANICFIONG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- MARUHZGHZWCEQU-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-2h-tetrazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NNN=N1 MARUHZGHZWCEQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910005540 GaP Inorganic materials 0.000 description 8
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 8
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 8
- 238000002390 rotary evaporation Methods 0.000 description 8
- IHGSAQHSAGRWNI-UHFFFAOYSA-N 1-(4-bromophenyl)-2,2,2-trifluoroethanone Chemical compound FC(F)(F)C(=O)C1=CC=C(Br)C=C1 IHGSAQHSAGRWNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 7
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 7
- 125000004404 heteroalkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 7
- SKJCKYVIQGBWTN-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxyphenyl) methanesulfonate Chemical compound CS(=O)(=O)OC1=CC=C(O)C=C1 SKJCKYVIQGBWTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QDCPNGVVOWVKJG-VAWYXSNFSA-N 2-[(e)-dodec-1-enyl]butanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCC\C=C\C(C(O)=O)CC(O)=O QDCPNGVVOWVKJG-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 6
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical group 0.000 description 6
- 229910052717 sulfur Chemical group 0.000 description 6
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 5
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 5
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 5
- 150000003346 selenoethers Chemical class 0.000 description 5
- 239000004054 semiconductor nanocrystal Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- YBNMDCCMCLUHBL-UHFFFAOYSA-N (2,5-dioxopyrrolidin-1-yl) 4-pyren-1-ylbutanoate Chemical compound C=1C=C(C2=C34)C=CC3=CC=CC4=CC=C2C=1CCCC(=O)ON1C(=O)CCC1=O YBNMDCCMCLUHBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 229910017115 AlSb Inorganic materials 0.000 description 4
- VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N Allylamine Chemical compound NCC=C VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910005542 GaSb Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 4
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 4
- AZUPEYZKABXNLR-UHFFFAOYSA-N magnesium;selenium(2-) Chemical compound [Mg+2].[Se-2] AZUPEYZKABXNLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AQZYBQIAUSKCCS-UHFFFAOYSA-N perfluorotripentylamine Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)N(C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F AQZYBQIAUSKCCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000006596 Alder-ene reaction Methods 0.000 description 3
- 229910015894 BeTe Inorganic materials 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N allyl bromide Chemical compound BrCC=C BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 238000006664 bond formation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 3
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N indium antimonide Chemical compound [Sb]#[In] WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 3
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 230000000269 nucleophilic effect Effects 0.000 description 3
- 239000013110 organic ligand Substances 0.000 description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 3
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical group 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052950 sphalerite Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011593 sulfur Chemical group 0.000 description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- OCGWQDWYSQAFTO-UHFFFAOYSA-N tellanylidenelead Chemical compound [Pb]=[Te] OCGWQDWYSQAFTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- CQGDBBBZCJYDRY-UHFFFAOYSA-N 1-methoxyanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2OC CQGDBBBZCJYDRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxyprop-1-ene Chemical compound C=CCOCC=C ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021589 Copper(I) bromide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- 229910005829 GeS Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910005866 GeSe Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910005900 GeTe Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910004262 HgTe Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000673 Indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 2
- 229910017680 MgTe Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910002665 PbTe Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910005642 SnTe Inorganic materials 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 2
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical group 0.000 description 2
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052800 carbon group element Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N indium arsenide Chemical compound [In]#[As] RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004702 methyl esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 2
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 2
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 2
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 2
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 2
- 150000004772 tellurides Chemical class 0.000 description 2
- NJRXVEJTAYWCQJ-UHFFFAOYSA-N thiomalic acid Chemical compound OC(=O)CC(S)C(O)=O NJRXVEJTAYWCQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N zinc oxide Inorganic materials [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVWPNDVAQBNQBG-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9-icosafluorononane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F UVWPNDVAQBNQBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LOJJTTDNNWYSGX-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluoro-4-(1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutoxy)butane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)OC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F LOJJTTDNNWYSGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRNQOBXRHWPGE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,4a,5,5,6,6,7,7,8,8a-heptadecafluoro-8-(trifluoromethyl)naphthalene Chemical compound FC1(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C2(F)C(C(F)(F)F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C21F LWRNQOBXRHWPGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKQMZZOTFNLAQJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluorocyclobutane Chemical compound FC1(F)CCC1(F)F AKQMZZOTFNLAQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHZPVNGMSDDSQX-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoro-2-(trifluoromethyl)cyclobutane Chemical compound FC(F)(F)C1(F)CCC1(F)F DHZPVNGMSDDSQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVFAVJDEPNXAME-UHFFFAOYSA-N 1,4-dimethylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(C)=CC=C2C DVFAVJDEPNXAME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloroanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2Cl BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXBLVCZKDOZZOJ-UHFFFAOYSA-N 2,3-Dihydrothiophene Chemical compound C1CC=CS1 OXBLVCZKDOZZOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical group N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 2-butoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCCCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKKQLOUBFINSIB-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2,2-triphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 CKKQLOUBFINSIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOJAHTBCSGPSOR-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2,3-triphenylpropan-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(C=1C=CC=CC=1)(O)CC1=CC=CC=C1 YOJAHTBCSGPSOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRRQSCPPOIUNGX-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2-bis(4-methoxyphenyl)ethanone Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(O)C(=O)C1=CC=C(OC)C=C1 LRRQSCPPOIUNGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZCDMINQJLGWEP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2-diphenylpent-4-en-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(CC=C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 RZCDMINQJLGWEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIVXVZXROTWKIH-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2-diphenylpropan-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 DIVXVZXROTWKIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJFUEPJVIFJOOU-UHFFFAOYSA-N 2-perfluorobutyltetrahydrofuran Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C1CCCO1 CJFUEPJVIFJOOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMRDPCUYKKPMFC-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-2,2,5,5-tetramethylhexan-3-one Chemical compound CC(C)(C)C(O)C(=O)C(C)(C)C YMRDPCUYKKPMFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOLRSQPSJGXRNJ-UHFFFAOYSA-N 4-nitrobenzyl bromide Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C(CBr)C=C1 VOLRSQPSJGXRNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004813 CaTe Inorganic materials 0.000 description 1
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021593 Copper(I) fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021595 Copper(I) iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGFPUTOTEJOSAY-UHFFFAOYSA-N FC1=C([Ti])C(F)=CC=C1N1C=CC=C1 Chemical class FC1=C([Ti])C(F)=CC=C1N1C=CC=C1 ZGFPUTOTEJOSAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910005335 FePt Inorganic materials 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical group [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFOXEOLGJPJZAA-UHFFFAOYSA-N [(2,6-dimethoxybenzoyl)-(2,4,4-trimethylpentyl)phosphoryl]-(2,6-dimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(CC(C)CC(C)(C)C)C(=O)C1=C(OC)C=CC=C1OC LFOXEOLGJPJZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFBMOBFQBJZBMV-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphanyl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C IFBMOBFQBJZBMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 229920006397 acrylic thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 125000002015 acyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005937 allylation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229920013822 aminosilicone Polymers 0.000 description 1
- 230000003698 anagen phase Effects 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 1
- LHMRXAIRPKSGDE-UHFFFAOYSA-N benzo[a]anthracene-7,12-dione Chemical compound C1=CC2=CC=CC=C2C2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O LHMRXAIRPKSGDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000499 benzofuranyl group Chemical group O1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 125000001164 benzothiazolyl group Chemical group S1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Chemical group 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052795 boron group element Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005587 carbonate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052798 chalcogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000000366 colloid method Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 description 1
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001849 group 12 element Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052981 lead sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940056932 lead sulfide Drugs 0.000 description 1
- VSQYNPJPULBZKU-UHFFFAOYSA-N mercury xenon Chemical compound [Xe].[Hg] VSQYNPJPULBZKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910001512 metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Substances [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002868 norbornyl group Chemical group C12(CCC(CC1)C2)* 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 238000006384 oligomerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000037361 pathway Effects 0.000 description 1
- 229950008618 perfluamine Drugs 0.000 description 1
- 229950011087 perflunafene Drugs 0.000 description 1
- UWEYRJFJVCLAGH-IJWZVTFUSA-N perfluorodecalin Chemical compound FC1(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)[C@@]2(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)[C@@]21F UWEYRJFJVCLAGH-IJWZVTFUSA-N 0.000 description 1
- BPHQIXJDBIHMLT-UHFFFAOYSA-N perfluorodecane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F BPHQIXJDBIHMLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005005 perfluorohexyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- YVBBRRALBYAZBM-UHFFFAOYSA-N perfluorooctane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F YVBBRRALBYAZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005007 perfluorooctyl group Chemical group FC(C(C(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 1
- QKENRHXGDUPTEM-UHFFFAOYSA-N perfluorophenanthrene Chemical compound FC1(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C2(F)C3(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C3(F)C(F)(F)C(F)(F)C21F QKENRHXGDUPTEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVZRBWKZFJCCIB-UHFFFAOYSA-N perfluorotributylamine Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)N(C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F RVZRBWKZFJCCIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAJLKEVKNDUJBG-UHFFFAOYSA-N perfluorotripropylamine Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)N(C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F JAJLKEVKNDUJBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 238000005424 photoluminescence Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052696 pnictogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052699 polonium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- KOUKXHPPRFNWPP-UHFFFAOYSA-N pyrazine-2,5-dicarboxylic acid;hydrate Chemical compound O.OC(=O)C1=CN=C(C(O)=O)C=N1 KOUKXHPPRFNWPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 description 1
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- GGYFMLJDMAMTAB-UHFFFAOYSA-N selanylidenelead Chemical compound [Pb]=[Se] GGYFMLJDMAMTAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000007614 solvation Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L succinate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCC([O-])=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- XSOKHXFFCGXDJZ-UHFFFAOYSA-N telluride(2-) Chemical compound [Te-2] XSOKHXFFCGXDJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical group [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000335 thiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000007970 thio esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N urea group Chemical group NC(=O)N XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N urethane group Chemical group NC(=O)OCC JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/02—Use of particular materials as binders, particle coatings or suspension media therefor
- C09K11/025—Use of particular materials as binders, particle coatings or suspension media therefor non-luminescent particle coatings or suspension media
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B27/08—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/36—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/04—Interconnection of layers
- B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C319/00—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
- C07C319/14—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of sulfides
- C07C319/18—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of sulfides by addition of thiols to unsaturated compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C327/00—Thiocarboxylic acids
- C07C327/20—Esters of monothiocarboxylic acids
- C07C327/28—Esters of monothiocarboxylic acids having sulfur atoms of esterified thiocarboxyl groups bound to carbon atoms of hydrocarbon radicals substituted by singly-bound oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K9/00—Use of pretreated ingredients
- C08K9/04—Ingredients treated with organic substances
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/02—Use of particular materials as binders, particle coatings or suspension media therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/08—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
- C09K11/56—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing sulfur
- C09K11/562—Chalcogenides
- C09K11/565—Chalcogenides with zinc cadmium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/08—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
- C09K11/70—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing phosphorus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/08—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
- C09K11/70—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing phosphorus
- C09K11/701—Chalcogenides
- C09K11/703—Chalcogenides with zinc or cadmium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/08—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
- C09K11/88—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing selenium, tellurium or unspecified chalcogen elements
- C09K11/881—Chalcogenides
- C09K11/883—Chalcogenides with zinc or cadmium
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/12—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
- H05B33/14—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of the electroluminescent material, or by the simultaneous addition of the electroluminescent material in or onto the light source
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/12—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
- H05B33/20—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of the material in which the electroluminescent material is embedded
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2250/00—Layers arrangement
- B32B2250/02—2 layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2250/00—Layers arrangement
- B32B2250/24—All layers being polymeric
- B32B2250/244—All polymers belonging to those covered by group B32B27/36
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2250/00—Layers arrangement
- B32B2250/40—Symmetrical or sandwich layers, e.g. ABA, ABCBA, ABCCBA
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2255/00—Coating on the layer surface
- B32B2255/10—Coating on the layer surface on synthetic resin layer or on natural or synthetic rubber layer
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2255/00—Coating on the layer surface
- B32B2255/26—Polymeric coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
- B32B2307/422—Luminescent, fluorescent, phosphorescent
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2457/00—Electrical equipment
- B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
- B32B2457/202—LCD, i.e. liquid crystal displays
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y20/00—Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/0001—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems
- G02B6/0011—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems the light guides being planar or of plate-like form
- G02B6/0033—Means for improving the coupling-out of light from the light guide
- G02B6/005—Means for improving the coupling-out of light from the light guide provided by one optical element, or plurality thereof, placed on the light output side of the light guide
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/0001—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems
- G02B6/0096—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems the lights guides being of the hollow type
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/1336—Illuminating devices
- G02F1/133614—Illuminating devices using photoluminescence, e.g. phosphors illuminated by UV or blue light
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/1336—Illuminating devices
- G02F1/133615—Edge-illuminating devices, i.e. illuminating from the side
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2202/00—Materials and properties
- G02F2202/36—Micro- or nanomaterials
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/70—Nanostructure
- Y10S977/773—Nanoparticle, i.e. structure having three dimensions of 100 nm or less
- Y10S977/774—Exhibiting three-dimensional carrier confinement, e.g. quantum dots
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/70—Nanostructure
- Y10S977/813—Of specified inorganic semiconductor composition, e.g. periodic table group IV-VI compositions
- Y10S977/815—Group III-V based compounds, e.g. AlaGabIncNxPyAsz
- Y10S977/818—III-P based compounds, e.g. AlxGayIn2P
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/70—Nanostructure
- Y10S977/813—Of specified inorganic semiconductor composition, e.g. periodic table group IV-VI compositions
- Y10S977/824—Group II-VI nonoxide compounds, e.g. CdxMnyTe
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/84—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
- Y10S977/89—Deposition of materials, e.g. coating, cvd, or ald
- Y10S977/892—Liquid phase deposition
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/902—Specified use of nanostructure
- Y10S977/932—Specified use of nanostructure for electronic or optoelectronic application
- Y10S977/949—Radiation emitter using nanostructure
- Y10S977/95—Electromagnetic energy
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Luminescent Compositions (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
Description
量子ドット広色域化フィルム(QDEF)は、LCDディスプレイ用光源として使用される。QDEFにおいて赤色及び緑色量子ドットは、青色LEDと共に光源として使用され、全領域の色を与える。これは、典型的なLCDディスプレイの色域を改善する点、及びOLEDディスプレイと比べエネルギー消費を低く保つ点において有利である。
一態様では、本開示は、蛍光性半導体のコア/シェル型ナノ粒子(好ましくは、ナノ結晶)と、そのコア/シェル型ナノ粒子外側の表面に結び付いたフッ素化リガンドと、を含む、複合粒子であって、上記リガンドが式
Rf−[X1−R2−X2−R3(L)n]m
[式中、
Rfは、ペルフルオロエーテル基であり、
R2は、アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、及びアラルキレンを含むヒドロカルビル基であり、
R3は、アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、及びアラルキレンを含むヒドロカルビル基であり、
X1は、−CH2−O−、−O−、−CO2−、−CONR1−又は−SO2NR1−(式中、R1は、H若しくはC1〜C4アルキルである。)であり、
X2は、共有結合、−S−、−O−又は−NR1−、−CO2−、−CONR1−若しくは−SO2NR1−(式中、R1は、H若しくはC1〜C4アルキルである。)であり、
nは少なくとも1であり、
mは1又は2であり、
Lは、−CO2H、−SH、−P(O)(OH)2、−P(O)OH、−NH2−OH及び−SO3Hから選択されるリガンド基である。]である、複合粒子を提供する。いくつかの好ましい実施形態では、式Iのリガンドは少なくとも2つのLリガンド基を有する。
用語「アルキル」は、アルカンの基である一価の基を指し、直鎖、分枝鎖、及び環式のアルキル基である基を含み、これには非置換及び置換両方のアルキル基が含まれる。別段の指示がない限り、アルキル基は、典型的には、1〜30個の炭素原子を含む。いくつかの実施形態では、アルキル基は1〜20個の炭素原子、1〜10個の炭素原子、1〜6個の炭素原子、1〜4個の炭素原子、又は1〜3個の炭素原子を含む。本明細書で使用する場合、「アルキル」の例としては、メチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、n−ペンチル、イソブチル、t−ブチル、イソプロピル、n−オクチル、n−ヘプチル、エチルヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、アダマンチル、及びノルボルニルなどが挙げられるが、これらに限定されない。別段の指示がない限り、アルキル基は、一価であっても、又は多価であってもよい。
本開示は、化学線によって励起された際に蛍光発光し得る蛍光性半導体のナノ粒子を含む複合粒子、を提供する。複合粒子は、光学ディスプレイにおける使用のための、被覆及びフィルムに使用し得る。
R5−R4(L1)n III
[式中、
R5はC2〜C30の炭素原子を有する(ヘテロ)ヒドロカルビル基であり、
R4は、アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、及びアラルキレンを含むヒドロカルビル基であり、
nは少なくとも1であり、
L1は、−CO2H、−OH、−SH、−P(O)(OH)2、−P(O)OH、−NH2及び−SO3Hを含むリガンド基である。]である。
Rf−[X1−R2−X2−R3(L)n]m
[式中、
Rfは、ペルフルオロエーテル基であり、
R2は、アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、及びアラルキレンを含むヒドロカルビル基であり、
R3は、アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、及びアラルキレンを含むヒドロカルビル基であり、
X1は、−CH2−O−、−O−、−S−、−CO2−、−CONR1−又は−SO2NR1−(式中、R1は、H若しくはC1〜C4アルキルである。)であり、
X2は、共有結合、−S−、−O−又は−NR1−、−CO2−、−CONR1−若しくは−SO2NR1−(式中、R1は、H若しくはC1〜C4アルキルである。)であり、
nは少なくとも1であり、
mは1又は2であり、
Lは、−CO2H、−SH、−P(O)(OH)2、−P(O)OH、−NH2−OH及び−SO3Hから選択されるリガンド基である。]のフルオロエーテルリガンドである。
CaF2a+1−(O−CbF2b)c−(一価の場合)、又は
−CaF2a−(O−CbF2b)c−(二価の場合)
[式中、aは少なくとも1、好ましくは1〜10、より好ましくは2〜6であり、
bは少なくとも1、好ましくは1〜10、より好ましくは2〜6であり、及びcは1〜30の数であってもよい。]である。
Rf’−CF2O(CF2O)q(C2F4O)rCF2−、Rf’−(CF2)3O(C4F8O)r(CF2)3−、Rf’−CF2O(C2F4O)rCF2−及びRf’−CF(CF3)(OCF2CF(CF3))sOCtF2tO(CF(CF3)CF2O)sCF(CF3)−[式中、Rf’は、F又はペルフルオロアルキル基であり、qは、0〜50、1〜50、3〜30、3〜15、又は3〜10の平均値を有し、rは、0〜50、3〜30、3〜15、又は3〜10の平均値を有し、sは、0〜50、1〜50、3〜30、3〜15、又は3〜10の平均値を有し、(r+s)の合計が、1〜50又は4〜40の平均値を有し、(q+r)の合計が0より大きく、及びtが、2〜6の整数である。]が挙げられるが、これらに限定されない。
リガンドは、Rf−CO2CH3などのペルフルオロエーテルエステルから調製してよい。
Rf−[CO2CH3]m+H2N−R2−X2−R3(L)n→I
Rf−[CO2CH3]m+HO−R2−X2−R3(L)n→I
Rf−[CO2CH3]m+HS−R2−X2−R3(L)n→I
Rf−[CO2CH3]m→Rf−[CONHCH2CH=CH2]m→
Rf−[CONH−CH2CH2−CH2−S−R3(L)n]m
により官能化することができる。
Rf−[CO2CH3]m→Rf−[X1−R2−SH]m
Rf−[X1−R2−SH]m+CH2=CH−R3(L)n→Rf−[X1−R2−SCH2CH2−R3(L)n]mにより更に官能化することができる。
Rf−[CO2CH3]m→Rf−[CH2−OH]m→Rf−[CH2−O−CH2CH=CH2]m→
Rf−[CH2−O−CH2CH2−CH2−S−R3(L)n]m
により官能化され得る末端不飽和物[式中、mは1又は2である。]を提供することができる。
Rf−[CO−F]m→Rf−CF2−O−→Rf−[CF2−O−CH2CH=CH2]m→
Rf−[CF2−O−CH2CH2−CH2−S−R3(L)n]m
又は、
Rf−[CF2−O−]m+Y−R2−X2−R3(L)n→I
第1のバリア層と、第2のバリア層と、第1のバリア層と第2のバリア層との間の量子ドット層と、を含み、
量子ドット層が、バインダーマトリックス中に分散した量子ドットを含む、
量子ドットフィルム物品である。
透過率%は、Byk HazeGuard Plus(Columbia,Maryland)を使用して測定した。
メチルエステルF(CF(CF3)CF2O)aCF(CF3)C(O)OCH3[式中、変数aは約6の平均値を有する。]を、その記載が参照により本明細書に組み込まれる、米国特許第3,250,808号(Mooreら)に記載の方法に従って、ジグリム溶媒中で、ヘキサフルオロプロピレンオキサイドの金属フルオライド開始オリゴマー化により調製した。蒸留により生成物の精製を行い、低沸点の構成成分を除去した。
アリルエーテルF(CF(CF3)CF2O)aCF(CF3)CH2OCH2CHCH2[式中、変数aは約6の平均値を有する。]を、水素化ホウ素ナトリウムによる、調製実施例1のメチルエステルからのアルコールへの還元、続いて、その記載が参照により本明細書に組み込まれる、米国特許公開第2014−0287248号(Flynnら)に記載の方法に従って、アリルブロマイドでアリル化することにより、調製した。
冷却管が取り付けられたフラスコに、調製実施例1のメチルエステル(200g、150mmol)及びアリルアミン(13.2g、231mmol)を入れた。得られた2相懸濁液を、80℃に保たれた油浴中にて撹拌しながら加熱した。30分以内で、2相懸濁液は透明溶液に変化した。3時間の加熱後、溶液を冷却し、その後150mLのPF−5052で希釈した。この溶液を、100mLの水性1M HClで3回洗浄した。フッ素化相をNa2SO4で乾燥させ、濾過し、減圧下で濃縮して、ほぼ定量的な収率で、透明な粘稠液体を得た。
冷却管が取り付けられたフラスコに、実施例1のポリマー(100g、80.0mmol)、エチルアセテート(400mL)、メルカプトコハク酸(18g、120mmol)及びVazo−67(2.3g、12mmol)を入れた。15分間、N2を液体全体にわたってバブリングすることにより、混合物から酸素を除去した。次に溶液を加熱還流させ、一晩にわたって攪拌した。減圧下でロータリーエバポレーションにより溶媒を除去し、生成物を300mLのPF−5052中に溶解した。溶液を350mLの、5:2のイソプロパノール:水の混合物(体積基準)で3回洗浄した。減圧下でロータリーエバポレーションにより溶媒を除去し、108.5gの淡黄色ろう状固形物(97%収率)を得た。
冷却管が取り付けられたフラスコに、調製実施例2のポリマー(5.0g、3.5mmol)、エチルアセテート(20mL)、メルカプトコハク酸(0.79g、5.3mmol)及びVazo−67(100mg、0.53mmol)を入れた。15分間、N2を液体全体にわたってバブリングすることにより、混合物から酸素を除去した。次に溶液を加熱還流させ、一晩にわたって攪拌した。減圧下でロータリーエバポレーションにより溶媒を除去し、生成物を50mLのPF−5052中に溶解した。溶液を70mLの、5:2のイソプロパノール:水の混合物(体積基準)で3回洗浄した。減圧下でロータリーエバポレーションにより溶媒を除去し、4.5gの透明で粘稠な油を得た。
冷却管が取り付けられたフラスコに、調製実施例2のポリマー(20.0g、14.0mmol)、エチルアセテート(50mL)、Novec 7100(30mL)、チオ酢酸(1.60g、21.0mmol)及びVazo−67(400mg、2.1mmol)を入れた。15分間、N2を液体全体にわたってバブリングすることにより、混合物から酸素を除去した。次に溶液を還流状態にて加熱し、一晩にわたって攪拌した。減圧下でロータリーエバポレーションにより溶媒を除去し、生成物を100mLのPF−5052中に溶解した。溶液を140mLの、5:2のイソプロパノール:水の混合物(体積基準)で3回洗浄した。減圧下でロータリーエバポレーションにより溶媒を除去し、19gの透明な油を得た。
冷却管が取り付けられたフラスコに、実施例4のポリマー(15.0g、10.5mmol)、Novec 7100(20mL)、メタノール(10mmol)及びp−トルエンスルホン酸(2.0g、10.5mmol)を入れた。溶液を一晩にわたって還流状態にて加熱した。減圧下でロータリーエバポレーションにより溶媒を除去し、生成物を50mLのPF−5052中に溶解した。溶液を50mLのイソプロパノールで3回洗浄した。減圧下でロータリーエバポレーションにより溶媒を除去し、14gの透明な油を得た。
不活性雰囲気のグローブボックス中で、1000mLの丸底フラスコに、20.4gの実施例2のHFPO誘導コハク酸ポリマー、93.0gのKrytox1506、及び374mLの緑色成長溶液を入れた。フラスコにオーバーヘッド攪拌機を取り付け、80℃に保たれているホットプレート上に置いた。混合物を3時間、強く撹拌し、その後、一晩放冷して2層に分液した。量子ドットの橙色−緑色は、完全に、下方の全フッ素化相に移った。透明な最上層を除去し、全フッ素化層を150mLのヘプタンで4回洗浄した。各洗浄は、激しい攪拌の10分間、続いて層を完全に分液するための2〜12時間によった。全4回の洗浄の後、残ったヘプタンを低圧で除去した。油を5マイクロメートルのシリンジフィルターに通して濾過し、低いヘイズ値及び約60の光学密度(OD)を有する橙色/緑色の油、を得た。
不活性雰囲気のグローブボックス中で、250mLの丸底フラスコに、9.83gの実施例2のHFPO誘導コハク酸ポリマー、24.6mLのKrytox1506、60mLの緑色成長溶液及び60mLの赤色成長溶液を入れた。フラスコにオーバーヘッド攪拌機を取り付け、80℃に保たれているホットプレート上に置いた。混合物を、2時間強く撹拌し、その後、一晩放冷して2層に分液した。量子ドットの橙色−褐色は、完全に、下方の全フッ素化相に移った。透明な最上層を除去し、全フッ素化層を50mLのヘプタンで4回洗浄した。各洗浄は、激しい攪拌の10分間、続いて層を完全に分液するための2〜12時間によった。全4回の洗浄の後、残ったヘプタンを低圧で除去し、低いヘイズ値及び約40の光学密度(OD)を有する橙色/褐色油を得た。量子収率測定において、約10μLの溶液を4mLのKrytox1506中に希釈した。
20gの実施例3のポリマーと、40gのFC−70と、の混合物を、窒素バブリングを使用して脱気し、次に不活性雰囲気のグローブボックス中に置いた。250mLの丸底フラスコに、15mLの上記溶液及び120mLの緑色成長溶液を入れた。フラスコにオーバーヘッド攪拌機を取り付け、80℃に保たれているホットプレート上に置いた。混合物を1時間、強く撹拌し、放冷して2層に分液した。無色の最上層を除去し、最下部のフッ素化層を30mLのヘプタンで、各洗浄中に5分間攪拌しながら、2回洗浄した。残ったヘプタンを低圧下で除去し、約80のODを有する透明な橙色−緑色油、を得た。
不活性雰囲気のグローブボックス中で、バイアル瓶に、0.4mLの実施例5のポリマー、0.4mLのPF−5052、及び2.0mLの緑色成長溶液を入れた。バイアル瓶を80℃に保たれたホットプレート上に置き、2相混合物を15分間攪拌した。放冷後、透明な最上層を除去し、25のODを有する全フッ素化分散体、を得た。
不活性雰囲気のグローブボックス中で、バイアル瓶に、2mLの緑色InP成長溶液、40mgのドデセニルコハク酸、及び80mgのラウリン酸を入れた。得られた溶液を、80℃に保たれているホットプレート上で2時間攪拌した。冷却後、24μLの本溶液を、量子収率測定のために4mLのヘプタンで希釈した。
不活性雰囲気のグローブボックス中で、バイアル瓶に、1mLの緑色InP成長溶液、1mLの赤色InP成長溶液、40mgのドデセニルコハク酸、及び80mgのラウリン酸を入れた。得られた溶液を、80℃に保たれているホットプレート上で2時間攪拌した。冷却後、24μLの本溶液を、量子収率測定のために4mLのヘプタンで希釈した。
アクリレートマトリックス配合物(溶液Bと称される。)を調製するために、表3に示す構成成分を共に添加し、20秒間電子レンジ内で加熱し、次に、一晩振とう器上に置いて、均等に混合した。
以下の手順は、溶液Bを、表4に示す配合の溶液Cに置き換えたことを除いて、実施例11の手順と同一とした。
Claims (34)
- 蛍光性コア/シェル型ナノ粒子と、前記ナノ粒子の表面に結合したフルオロエーテルリガンドと、を含み、
前記フルオロエーテルリガンドが、式
Rf−[X1−R2−X2−R3(L)n]m
[式中、
Rfは、ペルフルオロエーテル基であり、
R2は、アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、及びアラルキレンを含むヒドロカルビル基であり、
R3は、アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、及びアラルキレンを含むヒドロカルビル基であり、
X1は、−CH2−O−、−O−、−S−、−CO2−、−CONR1−又は−SO2NR1−(式中、R1は、H若しくはC1〜C4アルキルである。)であり、
X2は、共有結合、−S−、−O−又は−NR1−、−CO2−、−CONR1−若しくは−SO2NR1−(式中、R1は、H若しくはC1〜C4アルキルである。)であり、
nは少なくとも1であり、
mは1又は2であり、
Lは、−CO2H、−SH、−P(O)(OH)2、−P(O)OH、−NH2−OH及び−SO3Hから選択されるリガンド基である。]である、複合粒子。 - 少なくとも2つのL基が存在する、請求項1に記載の複合粒子。
- mが1であり、少なくとも2つのL基が存在する、請求項1に記載の複合粒子。
- mが2であり、少なくとも2つのL基が存在する、請求項1に記載の複合粒子。
- R2が、C1〜C20のアルキレン、又はアリーレンである、請求項1に記載の複合粒子。
- Rfが、式CaF2a+1−(O−CbF2b)c−[式中、aは少なくとも1であり、bは少なくとも1であり、cは1〜10の数であってもよい。]である、請求項1に記載の複合粒子。
- Rfが、式CaF2a−(O−CbF2b)c−[式中、aは少なくとも1であり、bは少なくとも1であり、cは1〜10の数であってもよい。]である、請求項1に記載の複合粒子。
- 下付き文字a及びbの各々が、1〜6である、請求項6に記載の複合粒子。
- Rfが、−(CpF2p)−、−(CpF2pO)−、−(CF(Z))−、−(CF(Z)O)−、−(CF(Z)CpF2pO)−、−(CpF2pCF(Z)O)−、−(CF2CF(Z)O)−[式中、pは1〜10の整数であり、Zはフッ素原子、ペルフルオロアルキル基、ペルフルオロエーテル基、窒素含有ペルフルオロアルキル基、ペルフルオロポリエーテル基又はペルフルオロアルコキシ基である。]の群から選択される全フッ素化繰り返し単位を有するペルフルオロポリエーテルである、請求項1に記載の複合粒子。
- 前記ナノ粒子の表面に結合した式
R5−R4(L1)n III
[式中、
R5は、C2〜C30の炭素原子を有する(ヘテロ)ヒドロカルビル基であり、
R4は、アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、及びアラルキレンを含むヒドロカルビル基であり、
nは少なくとも1であり、
L1はリガンド基である。]の非フルオロケミカルリガンドを更に含む、請求項1に記載の複合粒子。 - 前記リガンドが、式
Rf−X1−R2−S−CH(CO2H)CH2CO2H
[式中、
Rfは、ペルフルオロエーテル基であり、
R2は、アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、及びアラルキレンを含むヒドロカルビル基であり、
X1は、−CH2−O−、−O−、−S−、−CO2−、−CONR1−又は−SO2NR1−(式中、R1は、H若しくはC1〜C4アルキルである。)である。]である、請求項1に記載の複合粒子。 - 流体キャリアを更に含む、請求項1に記載の複合粒子。
- 前記流体キャリアが、ペルフルオロアルカン又はペルフルオロシクロアルカン、ペルフルオロアミン、ペルフルオロエーテル、ペルフルオロポリエーテル、及びハイドロフルオロカーボンから選択される、請求項12に記載の複合粒子。
- 1mLの溶液あたり1cmの経路長により、440nmの吸光度で、少なくとも10の光学密度を有する、請求項12に記載の複合粒子。
- 前記リガンドが、式
HS−R3(X)n
のチオールの、式
Rf−[X1−R2−CH=CH2]m
[式中、
Rfは、ペルフルオロエーテル基であり、
X1は、−CH2−O−、−O−、−S−、−CO2−、−CONR1−又は−SO2NR1−(式中、R1は、H若しくはC1〜C4アルキルである。)であり、
R2は、アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、及びアラルキレンを含むヒドロカルビル基であり、
R3は、アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、及びアラルキレンを含むヒドロカルビル基であり、
nは少なくとも1であり、
Lは、−CO2H、−SH、−P(O)(OH)2、−P(O)OH、−NH2−OH及び−SO3Hから選択されるリガンド基である。]のオレフィンへのフリーラジカル付加によって調製される、請求項1に記載の複合粒子。 - HS−CH2CO2H、HS−CH2CH2CO2H、HS−(CH2)10CO2H、HS−CH(CO2H)CH2CO2H、HS−CH2CH2NH2、HS−CH2CH(OH)CH2OH、HS−CH2CH2CO2CH2CH(OH)CH2OH、HS−CH2CH2CH2SO3H、HS−Ph−CO2H、HS−Ph−NH2から選択される、請求項15に記載のチオール化合物。
- 前記リガンドが、
式
Rf−[Q−R2−Y]m
の化合物と、式
H−X1−R3(L)n
[式中、
Rfは、ペルフルオロエーテル基であり、
R2は、アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、及びアラルキレンを含むヒドロカルビル基であり、
R3は、アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、及びアラルキレンを含むヒドロカルビル基であり、
Lは、−CO2H、−SH、−P(O)(OH)2、−P(O)OH、−NH2−OH及び−SO3Hから選択されるリガンド基であり、
nは少なくとも1であり、
Lは、−CO2H、−SH、−P(O)(OH)2、−P(O)OH、−NH2−OH及び−SO3Hから選択されるリガンド基であり、
Yはハライド、トシレート、又はアセテートから選択される脱離基である。]の化合物と、の反応により調製される、請求項1に記載の複合粒子。 - 前記コアがInP、CdS、又はCdSeを含む、請求項1〜17のいずれか一項に記載の複合粒子。
- 前記シェルが、マグネシウム含有化合物又は亜鉛含有化合物を含む、請求項1〜17のいずれか一項に記載の複合粒子。
- 前記シェルが多層化シェルである、請求項1〜17のいずれか一項に記載の複合粒子。
- 前記多層化シェルが、前記コアをオーバーコートする内側シェルを含み、前記内側シェルがセレン化亜鉛及び硫化亜鉛を含む、請求項20に記載の複合粒子。
- 前記多層化シェルが、前記内側シェルをオーバーコートする外側シェルを含み、前記外側シェルが硫化亜鉛又はMgSを含む、請求項20に記載の複合粒子。
- 蛍光性半導体のコア/シェル型ナノ粒子であって、
InPのコア、
前記コアをオーバーコートする内側シェルであって、セレン化亜鉛及び硫化亜鉛を含む、内側シェル、及び、
前記内側シェルをオーバーコートする外側シェルであって、硫化亜鉛を含む、外側シェル、を含む、蛍光性半導体のコア/シェル型ナノ粒子と、
前記ナノ粒子外側の表面に結合したフッ素化リガンドと、を含み、
前記フッ素化リガンドが、式
Rf−[X1−R2−X2−R3(L)n]m
[式中、
Rfは、ペルフルオロエーテル基であり、
R2は、アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、及びアラルキレンを含むヒドロカルビル基であり、
R3は、アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、及びアラルキレンを含むヒドロカルビル基であり、
X1は、−CH2−O−、−O−、−S−、−CO2−、−CONR1−又は−SO2NR1−(式中、R1は、H若しくはC1〜C4アルキルである。)であり、
X2は、共有結合、−S−、−O−又は−NR1−、−CO2−、−CONR1−若しくは−SO2NR1−(式中、R1は、H若しくはC1〜C4アルキルである。)であり、
nは少なくとも1であり、
mは1又は2であり、
Lは、−CO2H、−SH、−P(O)(OH)2、−P(O)OH、−NH2−OH及び−SO3Hから選択されるリガンド基である。]である、請求項1に記載の複合粒子。 - 前記リガンド官能性粒子が、流体キャリア中に更に分散された、請求項1〜17のいずれか一項に記載の複合粒子。
- 請求項1〜17のいずれか一項に記載の複合粒子、及びポリマーバインダーを含む、組成物。
- 前記バインダーが、ポリシロキサン、フルオロエラストマー、ポリアミド、ポリイミド、カプロラクトン、カプロラクタム、ポリウレタン、ポリビニルアルコール、ポリビニルクロライド、ポリビニルアセテート、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリアクリルアミド、及びポリメタクリルアミドを含む、実施形態25に記載の組成物。
- ポリマーマトリックスバインダー中に分散された、請求項25に記載の複合粒子を含む量子ドット層を備え、前記層が2つのバリアフィルムの間にある、物品。
- 前記量子ドット層(ドット、任意による液体キャリア及びポリマーバインダー)の総重量に基づいて、0.1重量%〜1重量%のリガンド官能性粒子を含む、請求項27に記載の物品。
- 2つのバリアフィルムの間に量子ドット層を備え、前記量子ドット層がポリマーバインダー中に請求項1〜17に記載の複合粒子を含む、物品。
- 前記複合粒子が、ポリマーバインダー中に分散されたフッ素化流体キャリアを更に含む、請求項29に記載の物品。
- フッ素化キャリア流体中に請求項1〜17のいずれか一項に記載の複合粒子を含む、分散体。
- 前記フッ素化キャリア流体が、ペルフルオロアルカン又はペルフルオロシクロアルカン、ペルフルオロアミン、ペルフルオロエーテル、ペルフルオロポリエーテル、及びハイドロフルオロカーボンから選択される、請求項31に記載の分散体。
- 第1のバリア層と、第2のバリア層と、前記第1のバリア層と前記第2のバリア層との間の量子ドット層と、を含み、
前記量子ドット層が、請求項1〜17のいずれか一項に記載の複合粒子を含み、前記複合粒子がフッ素化液体キャリアの液滴中に分散されており、前記液滴がポリマー樹脂マトリックス中に分散された、
量子ドットフィルム物品。 - 前記量子ドット層が、フッ素化キャリア液体中にリガンド官能性量子ドットの分散された液滴を含む、請求項33に記載の量子ドットフィルム物品。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201562206932P | 2015-08-19 | 2015-08-19 | |
US62/206,932 | 2015-08-19 | ||
US201562209508P | 2015-08-25 | 2015-08-25 | |
US62/209,508 | 2015-08-25 | ||
PCT/US2016/046283 WO2017030857A1 (en) | 2015-08-19 | 2016-08-10 | Perfluoroether-stabilized quantum dots |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018528302A true JP2018528302A (ja) | 2018-09-27 |
JP2018528302A5 JP2018528302A5 (ja) | 2019-09-26 |
Family
ID=56738234
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018507695A Pending JP2018528302A (ja) | 2015-08-19 | 2016-08-10 | ペルフルオロエーテル安定化量子ドット |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10767108B2 (ja) |
EP (1) | EP3337872A1 (ja) |
JP (1) | JP2018528302A (ja) |
KR (1) | KR20180042285A (ja) |
CN (1) | CN107922832B (ja) |
WO (1) | WO2017030857A1 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020095629A1 (ja) * | 2018-11-06 | 2020-05-14 | 信越化学工業株式会社 | 樹脂組成物、波長変換材料、波長変換フィルム、led素子、バックライトユニット及び画像表示装置 |
JP2020522397A (ja) * | 2017-07-11 | 2020-07-30 | ティーシーエル テクノロジー グループ コーポレーションTCL Technology Group Corporation | 量子ドット及び量子ドットの製造方法 |
WO2020241112A1 (ja) * | 2019-05-27 | 2020-12-03 | 信越化学工業株式会社 | 量子ドット、量子ドット組成物、波長変換材料、波長変換フィルム、バックライトユニット及び画像表示装置 |
WO2021200277A1 (ja) * | 2020-03-31 | 2021-10-07 | 住友化学株式会社 | 硬化性樹脂組成物及び表示装置 |
KR102604931B1 (ko) | 2022-11-30 | 2023-11-22 | 재단법인 철원플라즈마 산업기술연구원 | 양자점 소재의 표면 개질 방법 및 이를 활용하는 led조명용 양자점 광학부재 |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017117160A1 (en) * | 2015-12-31 | 2017-07-06 | 3M Innovative Properties Company | Article comprising particles with quantum dots |
WO2017116820A1 (en) | 2015-12-31 | 2017-07-06 | 3M Innovative Properties Company | Curable quantum dot compositions and articles |
US11898744B2 (en) * | 2016-09-13 | 2024-02-13 | Sic Technology Co. Ltd | Quantum structure thin film and quantum structure light-emitting module including the same |
US10745569B2 (en) * | 2016-10-23 | 2020-08-18 | Sepideh Pourhashem | Anti-corrosion nanocomposite coating |
WO2018167645A1 (en) * | 2017-03-14 | 2018-09-20 | 3M Innovative Properties Company | Additive stabilized composite nanoparticles |
US20190044034A1 (en) * | 2017-08-07 | 2019-02-07 | Sabic Global Technologies B.V. | Stable quantum dot extrusion film |
CN109651597B (zh) * | 2017-10-11 | 2022-03-01 | Tcl科技集团股份有限公司 | 一种颗粒、有机配体、复合物材料及其制备方法与应用 |
EP3681961B1 (en) | 2017-10-27 | 2023-12-27 | Shoei Chemical Inc. | Application of polyfunctional ligands for improving performance and stability of quantum dot inks |
WO2020132309A1 (en) | 2018-12-21 | 2020-06-25 | Honeywell International Inc. | Solvent compositions containing 1,2,2-trifluoro-1-trifluoromethylcyclobutane (tfmcb) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002332477A (ja) * | 2001-01-18 | 2002-11-22 | Mitsubishi Chemicals Corp | フッ化アルキル配位子を結合してなる半導体超微粒子、及びこれを含有する薄膜状成形体 |
US20050117868A1 (en) * | 2003-12-01 | 2005-06-02 | Gang Chen | Polymeric compositions comprising quantum dots, optical devices comprising these compositions and methods for preparing same |
WO2009051337A1 (en) * | 2007-10-18 | 2009-04-23 | Korea Research Institute Of Bioscience And Biotechnology | Perfluorocarbon nano-emulsion containing quantum dot nanoparticles and method for preparing the same |
US20110110867A1 (en) * | 2008-06-21 | 2011-05-12 | Korea Research Institute Of Bioscience And Biotechnology | Multimodal imaging method using nano-emulsion comprising optical nano-particles and perfluorocarbons |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3250808A (en) | 1963-10-31 | 1966-05-10 | Du Pont | Fluorocarbon ethers derived from hexafluoropropylene epoxide |
KR101032672B1 (ko) | 2002-09-05 | 2011-05-06 | 나노시스, 인크. | 나노구조로의 전하 이동 또는 나노구조로부터의 전하 이동을 용이하게 하는 유기종 |
WO2005022120A2 (en) | 2003-03-11 | 2005-03-10 | Nanosys, Inc. | Process for producing nanocrystals and nanocrystals produced thereby |
US7018713B2 (en) | 2003-04-02 | 2006-03-28 | 3M Innovative Properties Company | Flexible high-temperature ultrabarrier |
TWI406890B (zh) | 2004-06-08 | 2013-09-01 | Sandisk Corp | 奈米結構之沉積後包封:併入該包封體之組成物、裝置及系統 |
KR101571576B1 (ko) | 2008-02-07 | 2015-11-24 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 구조화된 필름을 구비한 중공형 백라이트 |
EP2344417B1 (en) | 2008-10-03 | 2017-01-04 | Life Technologies Corporation | Nanocrystals with functional ligands |
WO2010126606A2 (en) | 2009-05-01 | 2010-11-04 | Nanosys, Inc. | Functionalized matrixes for dispersion of nanostructures |
WO2012134629A1 (en) | 2011-04-01 | 2012-10-04 | Qd Vision, Inc. | Quantum dots, method, and devices |
EP2780426B1 (en) | 2011-11-15 | 2016-05-04 | 3M Innovative Properties Company | Fluorinated coatings with lubricious additive |
US20140079912A1 (en) | 2012-09-17 | 2014-03-20 | The Boeing Company | Ir absorbing coatings comprisiing fluorinated nanoparticles |
CN105814169B (zh) | 2013-12-17 | 2018-05-25 | 3M创新有限公司 | 包含丙二酸衍生物的复合纳米粒子 |
KR20160099650A (ko) | 2013-12-20 | 2016-08-22 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 에지 침입이 개선된 양자점 물품 |
JP6427876B2 (ja) | 2013-12-27 | 2018-11-28 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、硬化膜、発光素子および発光層の形成方法 |
US10421899B2 (en) | 2014-03-10 | 2019-09-24 | 3M Innovative Properties Company | Composite nanoparticles including a thiol-substituted silicone |
WO2015153148A1 (en) | 2014-04-02 | 2015-10-08 | 3M Innovative Properties Company | Composite nanoparticles including a thioether ligand |
EP3221421B1 (en) | 2014-11-17 | 2019-06-26 | 3M Innovative Properties Company | Quantum dot article with thiol-alkene matrix |
WO2016168048A1 (en) | 2015-04-16 | 2016-10-20 | 3M Innovative Properties Company | Quantum dot article with thiol-alkene-epoxy matrix |
EP3283294A1 (en) | 2015-04-16 | 2018-02-21 | 3M Innovative Properties Company | Quantum dot article with thiol-epoxy matrix |
-
2016
- 2016-08-10 WO PCT/US2016/046283 patent/WO2017030857A1/en active Application Filing
- 2016-08-10 US US15/745,749 patent/US10767108B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2016-08-10 JP JP2018507695A patent/JP2018528302A/ja active Pending
- 2016-08-10 EP EP16753786.9A patent/EP3337872A1/en not_active Withdrawn
- 2016-08-10 CN CN201680047837.9A patent/CN107922832B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2016-08-10 KR KR1020187007040A patent/KR20180042285A/ko unknown
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002332477A (ja) * | 2001-01-18 | 2002-11-22 | Mitsubishi Chemicals Corp | フッ化アルキル配位子を結合してなる半導体超微粒子、及びこれを含有する薄膜状成形体 |
US20050117868A1 (en) * | 2003-12-01 | 2005-06-02 | Gang Chen | Polymeric compositions comprising quantum dots, optical devices comprising these compositions and methods for preparing same |
WO2009051337A1 (en) * | 2007-10-18 | 2009-04-23 | Korea Research Institute Of Bioscience And Biotechnology | Perfluorocarbon nano-emulsion containing quantum dot nanoparticles and method for preparing the same |
US20110110867A1 (en) * | 2008-06-21 | 2011-05-12 | Korea Research Institute Of Bioscience And Biotechnology | Multimodal imaging method using nano-emulsion comprising optical nano-particles and perfluorocarbons |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
ADVANCED MATERIALS, vol. 15, no. 12, JPN6020036373, 2003, pages 971 - 974, ISSN: 0004492235 * |
JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY B, vol. 108, no. 41, JPN6020036375, 2004, pages 15969 - 15975, ISSN: 0004492236 * |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020522397A (ja) * | 2017-07-11 | 2020-07-30 | ティーシーエル テクノロジー グループ コーポレーションTCL Technology Group Corporation | 量子ドット及び量子ドットの製造方法 |
WO2020095629A1 (ja) * | 2018-11-06 | 2020-05-14 | 信越化学工業株式会社 | 樹脂組成物、波長変換材料、波長変換フィルム、led素子、バックライトユニット及び画像表示装置 |
JP2020075971A (ja) * | 2018-11-06 | 2020-05-21 | 信越化学工業株式会社 | 樹脂組成物、波長変換材料、波長変換フィルム、led素子、バックライトユニット及び画像表示装置 |
US11749785B2 (en) | 2018-11-06 | 2023-09-05 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Resin composition, wavelength conversion material, wavelength conversion film, LED device, backlight unit, and image display apparatus |
WO2020241112A1 (ja) * | 2019-05-27 | 2020-12-03 | 信越化学工業株式会社 | 量子ドット、量子ドット組成物、波長変換材料、波長変換フィルム、バックライトユニット及び画像表示装置 |
JP2020193249A (ja) * | 2019-05-27 | 2020-12-03 | 信越化学工業株式会社 | 量子ドット、量子ドット組成物、波長変換材料、波長変換フィルム、バックライトユニット及び画像表示装置 |
US11835815B2 (en) | 2019-05-27 | 2023-12-05 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Quantum dot, quantum dot composition, wavelength conversion material, wavelength conversion film, backlight unit and image display device |
WO2021200277A1 (ja) * | 2020-03-31 | 2021-10-07 | 住友化学株式会社 | 硬化性樹脂組成物及び表示装置 |
KR102604931B1 (ko) | 2022-11-30 | 2023-11-22 | 재단법인 철원플라즈마 산업기술연구원 | 양자점 소재의 표면 개질 방법 및 이를 활용하는 led조명용 양자점 광학부재 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3337872A1 (en) | 2018-06-27 |
CN107922832B (zh) | 2021-05-25 |
WO2017030857A1 (en) | 2017-02-23 |
CN107922832A (zh) | 2018-04-17 |
KR20180042285A (ko) | 2018-04-25 |
US10767108B2 (en) | 2020-09-08 |
US20180208835A1 (en) | 2018-07-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2018528302A (ja) | ペルフルオロエーテル安定化量子ドット | |
JP6161838B2 (ja) | チオエーテルリガンドを含む複合ナノ粒子 | |
EP3480276B1 (en) | Quantum dot composition, quantum dot polymer composite, and layered structures and electronic devices including the same | |
JP7169308B2 (ja) | 樹脂フィルムにおける改善された量子ドットの信頼性のためのチオール化親水性リガンド | |
JP6600640B2 (ja) | チオール置換シリコーンを含む複合ナノ粒子 | |
CN108699433B (zh) | 具有稳定含氟化合物共聚物的量子点 | |
CN108884385B (zh) | 具有稳定化含氟化合物试剂的量子点 | |
EP3898885B1 (en) | Small molecule passivation of quantum dots for increased quantum yield | |
KR102006378B1 (ko) | 광학 필름용 조성물 및 이를 포함하는 광학 필름 | |
JP2018529832A (ja) | 添加剤安定化複合ナノ粒子 | |
JP3932866B2 (ja) | 重合性液体組成物 | |
KR20230074177A (ko) | 펜던트 가용화 모이어티를 갖는 열적으로 안정된 폴리티올 리간드 | |
JP2018529811A (ja) | 添加剤安定化複合ナノ粒子 | |
JP4750051B2 (ja) | 光学部材用架橋樹脂組成物及び光学部材 | |
KR102712540B1 (ko) | 양자점, 이를 포함한 조성물 또는 복합체, 그리고 이를 포함한 전자 소자 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190813 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190813 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200520 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200929 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20201228 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20210511 |