JP2018518383A5

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Publication number: JP2018518383A5
Application number: JP2017551187A
Authority: JP
Filing date: 2016-04-01
Publication date: 2019-05-16
Anticipated expiration: 2036-04-01

Description

本発明の範囲及び趣旨から逸脱することなく、本発明の予測可能な修正及び変更が当業者には明らかであろう。本発明は、例示目的のために本出願において説明された実施形態に限定されるべきではない。本開示の実施態様の一部を以下の［項目１］−［項目１３］に記載する。
［項目１］
剥離表面被覆基材であって、
ケイ素化合物を含む粒子を、少なくとも１つの流体噴射口から金属表面に対して送達して、前記金属表面に前記ケイ素化合物を埋め込んで、ケイ素化合物層を形成することと、
前記ケイ素化合物層を水性フルオロポリマー分散体で被覆して、フルオロポリマー層を形成し、それにより多層化物品を形成することであって、前記水性フルオロポリマー分散体が、（ｉ）改質剤及び（ｉｉ）フッ素化ポリマーを含み、前記フッ素化ポリマーが、（ａ）炭素−炭素二重結合を形成可能である部分フッ素化ポリマー、（ｂ）官能化フッ素化ポリマー、及び（ｃ）これらの組み合わせのうちの少なくとも１つを含む、形成することと、
前記多層化物品を焼結して、前記剥離表面被覆基材を形成することと、を含む方法によって製造される、剥離表面被覆基材。
［項目２］
前記改質剤が、カップリング剤、活性化剤、及びこれらの組み合わせから選択される、項目１に記載の剥離表面被覆基材。
［項目３］
前記活性化剤が、塩基、アミン含有化合物、ヒドロキシル含有化合物、及びこれらの組み合わせから選択される、項目２に記載の剥離表面被覆基材。
［項目４］
前記水性フルオロポリマー分散体が、前記フッ素化ポリマーに対して０．１〜５０％の前記改質剤を含む、項目１に記載の剥離表面被覆基材。
［項目５］
剥離表面被覆基材であって、
ケイ素化合物を含む粒子を、少なくとも１つの流体噴射口から金属表面に対して送達して、前記金属表面に前記ケイ素化合物を埋め込んで、ケイ素化合物層を形成することと、
前記ケイ素化合物層を、カップリング剤を含むコーティングで被覆して、カップリング剤層を形成することと、
前記カップリング剤層を水性フルオロポリマー分散体で被覆して、フルオロポリマー層を形成し、それにより多層化物品を形成することであって、前記水性フルオロポリマー分散体が、フッ素化ポリマーを含み、前記フッ素化ポリマーが、（ａ）炭素−炭素二重結合を形成可能である部分フッ素化ポリマー、（ｂ）官能化フッ素化ポリマー、及び（ｃ）これらの組み合わせのうちの少なくとも１つを含む、形成することと、
前記多層化物品を焼結して、前記剥離表面被覆基材を形成することと、を含む方法によって製造される、剥離表面被覆基材。
［項目６］
前記カップリング剤が、シラン、チタネート、ジルコネート、及びこれらの組み合わせのうちの少なくとも１つを含む、項目２又は５に記載の剥離表面被覆基材。
［項目７］
前記カップリング剤が、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、及びこれらの組み合わせのうちの少なくとも１つを含む、項目２又は５に記載の剥離表面被覆基材。
［項目８］
前記カップリング剤が、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、テトラメチルジビニルシラザン、３−アミノプロピルトリ−メトキシシラン、及びこれらの組み合わせのうちの少なくとも１つを含む、項目２又は５に記載の剥離表面被覆基材。
［項目９］
前記水性分散体が、バインダーを実質的に含まない、項目１又は５に記載の剥離表面被覆基材。
［項目１０］
前記ケイ素化合物が、非晶質シリカ、ケイ酸、二酸化ケイ素、及びこれらの組み合わせのうちの少なくとも１つを含む、項目１又は５に記載の剥離表面被覆基材。
［項目１１］
前記水性フルオロポリマー分散体が、前記フッ素化ポリマーのシェルと全フッ素化ポリマーのコアとを有する、フルオロポリマーのコア−シェル粒子を含む、項目１又は５に記載の剥離表面被覆基材。
［項目１２］
前記官能化フッ素化ポリマーが、（ａ）−ＣＯＸ基（式中、ＸはＯＨ、ＯＮａ、ＯＫ、ＮＨ _２、Ｆ、又はＣｌである）、（ｂ）−ＳＯ _２Ｘ（式中、ＸはＯＨ、ＯＮａ、ＯＫ、ＮＨ _２、Ｆ、又はＣｌである）、（ｃ）−ＣＨ _２ＯＳＯ _２Ｙ（式中、Ｙ＝ＯＨ、ＯＮａ、又はＯＫである）、（ｄ）−ＣＨ _２ＯＨ、（ｅ）リン酸基、（ｆ）−ＣＮ、（ｇ）Ｂｒ、Ｉ、及びＣｌから選択されるハロゲン、並びに（ｈ）これらの組み合わせのうちの少なくとも１つを含む、項目１又は５に記載の剥離表面被覆基材。
［項目１３］
前記粒子が、前記ケイ素化合物を含む外面を有する研磨粒子を含む、項目１又は５に記載の剥離表面被覆基材。

Claims

剥離表面被覆基材であって、
ケイ素化合物を含む粒子を、少なくとも１つの流体噴射口から金属表面に対して送達して、前記金属表面に前記ケイ素化合物を埋め込んで、ケイ素化合物層を形成することと、
前記ケイ素化合物層を水性フルオロポリマー分散体で被覆して、フルオロポリマー層を形成し、それにより多層化物品を形成することであって、前記水性フルオロポリマー分散体が、（ｉ）改質剤及び（ｉｉ）フッ素化ポリマーを含み、前記フッ素化ポリマーが、（ａ）炭素−炭素二重結合を形成可能である部分フッ素化ポリマー、（ｂ）官能化フッ素化ポリマー、及び（ｃ）これらの組み合わせのうちの少なくとも１つを含む、形成することと、
前記多層化物品を焼結して、前記剥離表面被覆基材を形成することと、を含む方法によって製造される、剥離表面被覆基材。
前記改質剤が、カップリング剤、活性化剤、及びこれらの組み合わせから選択される、請求項１に記載の剥離表面被覆基材。
前記活性化剤が、塩基、アミン含有化合物、ヒドロキシル含有化合物、及びこれらの組み合わせから選択される、請求項２に記載の剥離表面被覆基材。
前記水性フルオロポリマー分散体が、前記フッ素化ポリマーに対して０．１〜５０％の前記改質剤を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の剥離表面被覆基材。
剥離表面被覆基材であって、
ケイ素化合物を含む粒子を、少なくとも１つの流体噴射口から金属表面に対して送達して、前記金属表面に前記ケイ素化合物を埋め込んで、ケイ素化合物層を形成することと、
前記ケイ素化合物層を、カップリング剤を含むコーティングで被覆して、カップリング剤層を形成することと、
前記カップリング剤層を水性フルオロポリマー分散体で被覆して、フルオロポリマー層を形成し、それにより多層化物品を形成することであって、前記水性フルオロポリマー分散体が、フッ素化ポリマーを含み、前記フッ素化ポリマーが、（ａ）炭素−炭素二重結合を形成可能である部分フッ素化ポリマー、（ｂ）官能化フッ素化ポリマー、及び（ｃ）これらの組み合わせのうちの少なくとも１つを含む、形成することと、
前記多層化物品を焼結して、前記剥離表面被覆基材を形成することと、を含む方法によって製造される、剥離表面被覆基材。
前記カップリング剤が、シラン、チタネート、ジルコネート、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、テトラメチルジビニルシラザン、３−アミノプロピルトリ−メトキシシラン、及びこれらの組み合わせのうちの少なくとも１つを含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の剥離表面被覆基材。
前記水性分散体が、バインダーを実質的に含まない、請求項１〜６のいずれか一項に記載の剥離表面被覆基材。
前記ケイ素化合物が、非晶質シリカ、ケイ酸、二酸化ケイ素、及びこれらの組み合わせのうちの少なくとも１つを含む、請求項１又は５に記載の剥離表面被覆基材。
前記水性フルオロポリマー分散体が、前記フッ素化ポリマーのシェルと全フッ素化ポリマーのコアとを有する、フルオロポリマーのコア−シェル粒子を含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の剥離表面被覆基材。
前記官能化フッ素化ポリマーが、（ａ）−ＣＯＸ基（式中、ＸはＯＨ、ＯＮａ、ＯＫ、ＮＨ_２、Ｆ、又はＣｌである）、（ｂ）−ＳＯ_２Ｘ（式中、ＸはＯＨ、ＯＮａ、ＯＫ、ＮＨ_２、Ｆ、又はＣｌである）、（ｃ）−ＣＨ_２ＯＳＯ_２Ｙ（式中、Ｙ＝ＯＨ、ＯＮａ、又はＯＫである）、（ｄ）−ＣＨ_２ＯＨ、（ｅ）リン酸基、（ｆ）−ＣＮ、（ｇ）Ｂｒ、Ｉ、及びＣｌから選択されるハロゲン、並びに（ｈ）これらの組み合わせのうちの少なくとも１つを含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載の剥離表面被覆基材。
前記粒子が、前記ケイ素化合物を含む外面を有する研磨粒子を含む、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の剥離表面被覆基材。