JP2018508040A - 調整可能な磁気浮力式重力補償装置 - Google Patents
調整可能な磁気浮力式重力補償装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018508040A JP2018508040A JP2017545334A JP2017545334A JP2018508040A JP 2018508040 A JP2018508040 A JP 2018508040A JP 2017545334 A JP2017545334 A JP 2017545334A JP 2017545334 A JP2017545334 A JP 2017545334A JP 2018508040 A JP2018508040 A JP 2018508040A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- base
- magnet
- gravity compensator
- followers
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000005484 gravity Effects 0.000 title claims abstract description 44
- 238000005339 levitation Methods 0.000 claims abstract description 14
- 229910001172 neodymium magnet Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 abstract 1
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 5
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C29/00—Bearings for parts moving only linearly
- F16C29/02—Sliding-contact bearings
- F16C29/025—Hydrostatic or aerostatic
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C32/00—Bearings not otherwise provided for
- F16C32/06—Bearings not otherwise provided for with moving member supported by a fluid cushion formed, at least to a large extent, otherwise than by movement of the shaft, e.g. hydrostatic air-cushion bearings
- F16C32/0603—Bearings not otherwise provided for with moving member supported by a fluid cushion formed, at least to a large extent, otherwise than by movement of the shaft, e.g. hydrostatic air-cushion bearings supported by a gas cushion, e.g. an air cushion
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70758—Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70816—Bearings
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
- H02K1/00—Details of the magnetic circuit
- H02K1/06—Details of the magnetic circuit characterised by the shape, form or construction
- H02K1/22—Rotating parts of the magnetic circuit
- H02K1/27—Rotor cores with permanent magnets
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
- H02K33/00—Motors with reciprocating, oscillating or vibrating magnet, armature or coil system
- H02K33/18—Motors with reciprocating, oscillating or vibrating magnet, armature or coil system with coil systems moving upon intermittent or reversed energisation thereof by interaction with a fixed field system, e.g. permanent magnets
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
- H02K41/00—Propulsion systems in which a rigid body is moved along a path due to dynamo-electric interaction between the body and a magnetic field travelling along the path
- H02K41/02—Linear motors; Sectional motors
- H02K41/03—Synchronous motors; Motors moving step by step; Reluctance motors
- H02K41/031—Synchronous motors; Motors moving step by step; Reluctance motors of the permanent magnet type
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Reciprocating, Oscillating Or Vibrating Motors (AREA)
- Connection Of Motors, Electrical Generators, Mechanical Devices, And The Like (AREA)
- Magnetic Bearings And Hydrostatic Bearings (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Audible-Bandwidth Dynamoelectric Transducers Other Than Pickups (AREA)
- Toys (AREA)
Abstract
Description
図3に示すように、本実施形態に係る調整可能な磁気式重力補償装置は、ステータ1と、ロータ2と、ベース4と、調整機構6とを備えている。ステータはベース4上に配置され、ロータ2はステータ1に対して磁気的に浮上する。ステータ1は、ボイスコイルモータのコイル12と中央部円筒形磁石11とを含む。コイル12は、コイル枠5によってベース4に固定されており、中央部円筒形磁石11は、中央部円筒形磁石11の軸に沿って着磁された少なくとも2つのアーク磁石111からなる。アーク磁石は、ロータ2と協働して、安定でより剛性の低い基本浮上力をもたらす。調整機構6は、底部のベース4に固定されており、アーク磁石111を同心円状に、すなわち、中央部円筒形磁石11の中心に対して半径方向に、内側および外側に移動することができるように、アーク磁石111の上部に固着されている。ロータ2は半径方向に磁化されている。調整機構6によって駆動されるアーク磁石111における、中央部円筒形磁石11を中心とする同心運動は、中央部円筒形磁石11の内径および外径の変化を可能にし、それゆえ、中央部円筒形磁石11とロータとの間の磁気回路を変化させる。これにより、基本浮上力は調整可能であり、磁気式重力補償装置における磁気重力補償のある範囲内での機械的調節を可能にする。浮上力によるパッシブな補償と、ボイスコイルモータによるアクティブな補償との組み合わせは、磁気式重力補償装置のより広い範囲の調整を可能にする。
図9に示すように、本実施形態は、本実施形態に係る調整機構6において、駆動部601が円錐台であり、フォロワー602が円錐台に対応するくさび形のブロックである点が異なる。アジャスター603は、ベース4上に配置され、回転すると、円錐台が上下に移動し、フォロワー602およびアーク磁石111を内側の方および外側の方に同心円状に移動させる。切頭円錐とくさびとの間の密接な適合は、より高い調整精度を可能にする。
本実施形態は、図10に示すように、本実施形態に係る調整機構6において、駆動部601が中心突起を有する円筒形ベースであり、フォロワー602がスライドブロックである点が実施形態1および2と異なる。それらは、可動ヒンジ604と連結されている。アジャスター603は、調整ナット6031と、調整ナット6031に螺合するスクリューロッド6032とを備えている。スクリューロッド6032は、円筒形ベースの内部に設けられ、上下に可動ヒンジ604とベース4にそれぞれ接続されている。調整ナット6031とスクリューロッド6032との間の係合は、より柔軟性の高い調節を可能にする。
Claims (12)
- ステータと、ロータと、ベースと、調整機構とを備え、前記ステータは、前記ベースに配置されて前記ステータに対して浮上し、前記ステータは、前記調整機構により前記ベースに固定され少なくとも2つのアーク磁石からなる中央部円筒形磁石を備え、前記調整機構は、前記ベースに接続された第1の端部と、前記少なくとも2つのアーク磁石に確実に接続された第2の端部と、を有し、前記調整機構は、前記中央部円筒形磁石と前記ロータとの間の磁気回路を変化させ、それによって前記ステータと前記ロータとの間の磁気浮上力を調整するために、前記少なくとも2つのアーク磁石を前記中央部円筒形磁石の中心軸に対して放射状に同期移動させるように構成される、磁気式重力補償装置。
- 前記ロータは、内側磁石リングおよび外側磁石リングを備え、前記ステータは、ボイスコイルモータのコイルをさらに備え、前記中央部円筒形磁石、前記内側磁石リング、前記ボイスコイルモータのコイルおよび前記外側磁石リングは、最も内側から最も外側に同心円状に配置されている、請求項1に記載の磁気式重力補償装置。
- 前記内側磁石リング及び前記外側磁石リングは、ロータフレームによって固定されている、請求項2に記載の磁気式重力補償装置。
- 前記ボイスコイルモータのコイルは、コイルフレームによって前記ベースに固定されている、請求項2に記載の磁気式重力補償装置。
- 前記調整機構は、駆動部と、前記駆動部に接続された少なくとも2つのフォロワーと、アジャスターとを備え、前記駆動部は前記ベースに接続され、前記少なくとも2つのフォロワーは前記少なくとも2つのアーク磁石に固定接続され、前記アジャスターは前記少なくとも2つのフォロワーおよび前記少なくとも2つのアーク磁石の位置を調整するように前記駆動部を作動させるように構成される、請求項1に記載の磁気式重力補償装置。
- 前記少なくとも2つのフォロワーの数は、前記少なくとも2つのアーク磁石の数に対応する、請求項5に記載の磁気式重力補償装置。
- 前記駆動部は、前記少なくとも2つのフォロワーがねじ螺合されるスレッデッドディスクであり、前記アジャスターは、前記アジャスターと共に前記スレッデッドディスクを回転させ、それにより、前記少なくとも2つのフォロワーおよび前記少なくとも2つのアーク磁石が前記中央部円筒形磁石の中心軸に対して半径方向に同期して移動するように前記ベース上に配置されている、請求項5に記載の磁気式重力補償装置。
- 前記駆動部は、円錐台であり、前記少なくとも2つのフォロワーは、前記円錐台に対応するくさび形ブロックであり、前記アジャスターは、前記アジャスターの回転により、前記円錐台が垂直に移動し、前記少なくとも2つのフォロワーと、前記少なくとも2つのアーク磁石とを前記中央部円筒形磁石の中心軸に対して半径方向に同期移動させるように前記ベース上に配置されている、請求項5に記載の磁気式重力補償装置。
- 前記駆動部は、中心突起を有する円筒形ベースであってもよく、前記少なくとも2つのフォロワーは、可動ヒンジによって前記駆動部に接続されたスライドブロックであり、前記アジャスターは、調整ナットと、調整ナットと係合するスクリューロッドを備え、前記スクリューロッドは、前記円筒形ベースの内部に配置され、その端部が前記可動ヒンジと前記ベースとにそれぞれ接続されている、請求項5に記載の磁気式重力補償装置。
- 前記中央部円筒形磁石は、6または8個のアーク磁石からなる、請求項1に記載の磁気式重力補償装置。
- 前記中央部円筒形磁石は、その中心軸に沿って磁化されている、請求項1に記載の磁気式重力補償装置。
- 前記少なくとも2つのアーク磁石、前記内側磁石リング及び前記外側磁石リングのそれぞれは、NdFeBからなる、請求項2に記載の磁気式重力補償装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201510091980.5A CN105988304B (zh) | 2015-02-28 | 2015-02-28 | 一种可调磁浮力重力补偿器 |
CN201510091980.5 | 2015-02-28 | ||
PCT/CN2016/074395 WO2016134652A1 (zh) | 2015-02-28 | 2016-02-24 | 一种可调磁浮力重力补偿器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018508040A true JP2018508040A (ja) | 2018-03-22 |
JP6475356B2 JP6475356B2 (ja) | 2019-02-27 |
Family
ID=56787872
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017545334A Active JP6475356B2 (ja) | 2015-02-28 | 2016-02-24 | 調整可能な磁気浮力式重力補償装置 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10415639B2 (ja) |
EP (1) | EP3264177B1 (ja) |
JP (1) | JP6475356B2 (ja) |
KR (1) | KR102012782B1 (ja) |
CN (1) | CN105988304B (ja) |
SG (1) | SG11201706916VA (ja) |
TW (1) | TWI591449B (ja) |
WO (1) | WO2016134652A1 (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107885039B (zh) * | 2016-09-30 | 2019-07-23 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 可变磁浮力重力补偿器 |
AT520991B1 (de) * | 2018-03-01 | 2023-05-15 | Anton Paar Gmbh | Rheometer |
CN108266457A (zh) * | 2018-03-16 | 2018-07-10 | 无锡源晟动力科技有限公司 | 磁悬浮轴承转子偏磁减重力装置 |
DE102018207949A1 (de) * | 2018-05-22 | 2019-05-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Baugruppe in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanalge |
EP3670958A1 (en) * | 2018-12-21 | 2020-06-24 | ASML Netherlands B.V. | Positioning device, stiffness reduction device and electron beam apparatus |
US11915863B2 (en) | 2019-02-01 | 2024-02-27 | Zaber Technologies Inc. | Adjustable magnetic counterbalance |
CN110153971B (zh) * | 2019-04-30 | 2024-01-30 | 上海隐冠半导体技术有限公司 | 工作台及其磁浮重力补偿装置 |
CN110587554A (zh) * | 2019-10-24 | 2019-12-20 | 上海隐冠半导体技术有限公司 | 一种微动台及具有该微动台的运动装置 |
CN111313763B (zh) * | 2020-03-30 | 2022-08-05 | 重庆大学 | 一种低刚度及大悬浮力的重力补偿器 |
CN111614226A (zh) * | 2020-06-24 | 2020-09-01 | 雅科贝思精密机电(南通)有限公司 | 一种可变刚性的磁性重力补偿器的音圈电机 |
CN112201611B (zh) * | 2020-12-01 | 2021-03-02 | 上海隐冠半导体技术有限公司 | 磁浮重力补偿装置以及包括该装置的运动台 |
CN113471112B (zh) * | 2021-07-16 | 2024-02-20 | 上海隐冠半导体技术有限公司 | 磁浮重力补偿装置和微动台 |
CN113745138B (zh) * | 2021-09-03 | 2024-03-22 | 上海隐冠半导体技术有限公司 | 磁浮装置和微动台 |
CN115342158B (zh) * | 2022-08-01 | 2023-04-28 | 哈尔滨工业大学 | 一种出力可调节的磁浮重力补偿器及工作方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000201471A (ja) * | 1998-11-10 | 2000-07-18 | Asm Lithography Bv | アクチュエ―タおよび変換器 |
JP2006040927A (ja) * | 2004-07-22 | 2006-02-09 | Nikon Corp | 支持装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイスの製造方法 |
JP2014507786A (ja) * | 2010-12-20 | 2014-03-27 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 光学素子を取り付ける配置構成 |
Family Cites Families (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5216308A (en) * | 1989-05-25 | 1993-06-01 | Avcon-Advanced Controls Technology, Inc. | Magnetic bearing structure providing radial, axial and moment load bearing support for a rotatable shaft |
CN1088719A (zh) * | 1992-12-25 | 1994-06-29 | 张居平 | 导磁差动(转)子磁力驱动装置 |
JPH10521A (ja) * | 1996-06-07 | 1998-01-06 | Nikon Corp | 支持装置 |
KR100403857B1 (ko) * | 2000-01-05 | 2003-11-01 | 가부시기가이샤 산교세이기 세이사꾸쇼 | 자기부상모터 |
EP1321822A1 (en) * | 2001-12-21 | 2003-06-25 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
TWI265380B (en) * | 2003-05-06 | 2006-11-01 | Asml Netherlands Bv | Lithographic projection apparatus |
EP1524556A1 (en) * | 2003-10-17 | 2005-04-20 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and positioning system |
GB0414672D0 (en) | 2004-06-03 | 2004-08-04 | Pii Ltd | In-line pipe inspection tool |
WO2006007167A2 (en) | 2004-06-17 | 2006-01-19 | Nikon Corporation | Magnetic levitation lithography apparatus and method |
US7385679B2 (en) | 2004-12-29 | 2008-06-10 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and actuator |
TW200729673A (en) | 2006-01-27 | 2007-08-01 | Min-Fu Xie | Synchronized motion control system for dual parallel linear motors |
JP4814011B2 (ja) | 2006-08-15 | 2011-11-09 | 日清フーズ株式会社 | ピザ生地の成形装置及びこの成形装置を使用したピザ生地の成形方法 |
KR100950250B1 (ko) | 2008-02-15 | 2010-03-31 | 주식회사 탑 엔지니어링 | 이젝터의 칩 지지장치 |
TW201108478A (en) * | 2009-08-25 | 2011-03-01 | Largan Precision Co Ltd | Actuator |
CN102200689B (zh) | 2010-03-23 | 2013-03-06 | 上海微电子装备有限公司 | 一种混合磁浮式的重力补偿装置 |
CN101846131B (zh) * | 2010-06-10 | 2012-02-08 | 北京前沿科学研究所 | 磁悬浮轴承 |
CN102722088B (zh) * | 2011-06-28 | 2014-06-18 | 清华大学 | 一种无接触式粗精动叠层定位系统及其运动控制方法 |
CN103034065B (zh) * | 2011-09-29 | 2014-12-17 | 上海微电子装备有限公司 | 磁浮重力补偿器及光刻装置 |
NL2009902A (en) * | 2011-12-27 | 2013-07-01 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method. |
DE102012202553A1 (de) * | 2012-02-20 | 2013-08-22 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Lithographievorrichtung mit dämpfungsvorrichtung |
CN103293860B (zh) | 2012-02-22 | 2015-04-15 | 上海微电子装备有限公司 | 磁铁块固定装置及磁浮重力补偿器中磁铁块的安装方法 |
KR101701866B1 (ko) * | 2012-07-18 | 2017-02-02 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 자기 디바이스 및 리소그래피 장치 |
CN102866596B (zh) | 2012-09-26 | 2014-07-16 | 哈尔滨工业大学 | 一种配装波纹管垂向解耦重力补偿器的微动台 |
JP5872744B2 (ja) * | 2012-10-05 | 2016-03-01 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. | 回転ポジショニング装置 |
CN102944980A (zh) * | 2012-11-02 | 2013-02-27 | 清华大学 | 一种具有永磁重力支撑结构的微动台 |
CN103048891B (zh) | 2012-12-19 | 2014-10-29 | 哈尔滨工业大学 | 一种六自由度磁浮微动台 |
JP5541398B1 (ja) | 2013-07-02 | 2014-07-09 | 日本精工株式会社 | テーブル装置、及び搬送装置 |
-
2015
- 2015-02-28 CN CN201510091980.5A patent/CN105988304B/zh active Active
-
2016
- 2016-02-24 EP EP16754761.1A patent/EP3264177B1/en active Active
- 2016-02-24 JP JP2017545334A patent/JP6475356B2/ja active Active
- 2016-02-24 US US15/553,724 patent/US10415639B2/en active Active
- 2016-02-24 KR KR1020177027078A patent/KR102012782B1/ko active IP Right Grant
- 2016-02-24 SG SG11201706916VA patent/SG11201706916VA/en unknown
- 2016-02-24 WO PCT/CN2016/074395 patent/WO2016134652A1/zh active Application Filing
- 2016-02-26 TW TW105105840A patent/TWI591449B/zh active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000201471A (ja) * | 1998-11-10 | 2000-07-18 | Asm Lithography Bv | アクチュエ―タおよび変換器 |
JP2006040927A (ja) * | 2004-07-22 | 2006-02-09 | Nikon Corp | 支持装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイスの製造方法 |
JP2014507786A (ja) * | 2010-12-20 | 2014-03-27 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 光学素子を取り付ける配置構成 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3264177B1 (en) | 2020-02-19 |
JP6475356B2 (ja) | 2019-02-27 |
KR102012782B1 (ko) | 2019-08-21 |
KR20170121252A (ko) | 2017-11-01 |
US20180010633A1 (en) | 2018-01-11 |
SG11201706916VA (en) | 2017-09-28 |
EP3264177A4 (en) | 2018-10-31 |
TWI591449B (zh) | 2017-07-11 |
CN105988304A (zh) | 2016-10-05 |
CN105988304B (zh) | 2018-10-16 |
US10415639B2 (en) | 2019-09-17 |
TW201643552A (zh) | 2016-12-16 |
WO2016134652A1 (zh) | 2016-09-01 |
EP3264177A1 (en) | 2018-01-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6475356B2 (ja) | 調整可能な磁気浮力式重力補償装置 | |
CN104781715B (zh) | 用于致动光学系统中的至少一个光学元件的装置 | |
US6327024B1 (en) | Vibration isolation apparatus for stage | |
CN103034065B (zh) | 磁浮重力补偿器及光刻装置 | |
US6408767B1 (en) | Low stiffness suspension for a stage | |
JP6898464B2 (ja) | ベアリングデバイス、磁気重力補償器、振動絶縁システム、リソグラフィ装置 | |
JP2014529043A (ja) | 減衰装置 | |
JP2006121069A (ja) | 位置決めデバイス及びリソグラフィ装置 | |
KR20020092224A (ko) | 리소그래피장치, 디바이스제조방법, 및 이것에 의하여제조된 디바이스 | |
CN201436604U (zh) | 重力补偿器 | |
US20210389681A1 (en) | Actuator device and method for aligning an optical element, optical assembly and projection exposure apparatus | |
KR20160131080A (ko) | 진동 보상 광학 시스템, 리소그래피 장치 및 방법 | |
US6885117B2 (en) | Magnetic actuator under piezoelectric control | |
CN106547063A (zh) | 一种可动镜片调整机构 | |
US20060158707A1 (en) | Mount for an optical element, method for fitting an optical element on a mount and method for manipulating an optical device | |
JP2006040927A (ja) | 支持装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイスの製造方法 | |
CN104070518A (zh) | 一种基于偏心结构的三自由度精密调节装置 | |
WO2020043401A1 (en) | Electromagnetic actuator, position control system and lithographic apparatus | |
TW201843706A (zh) | 移動體裝置、曝光裝置、平板顯示器的製造方法、元件製造方法以及移動體的驅動方法 | |
JP2005038926A (ja) | 除振支持装置及び露光装置 | |
JPH0996338A (ja) | 動吸振型制振装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180824 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180904 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181101 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190122 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190131 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6475356 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |