JP2018503743A - ニッケルを含む耐食性および耐湿性銅系ボンディングワイヤ - Google Patents
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Abstract
(a)0.005〜5wt.%の範囲の量のニッケルと、(a)任意に、0.005〜1wt.%の範囲の量の銀と、(c)94wt.%〜99.98wt.%の範囲の量の銅と、(d)0〜100wt.ppmのさらなる成分とを含むかまたはこれらからなる芯を備えたワイヤであって、wt.%およびwt.ppmでの量はすべて芯の総重量を基準にし、芯は、1.5〜30μmの範囲の平均結晶粒径を有し、平均粒径はラインインターセプト法に従って決定され、ワイヤは、8〜80μmの範囲の平均直径を有する、ワイヤ。【選択図】図1
Description
本発明は、銅、0.005〜5wt.%(重量%、重量基準の%)の範囲の量のニッケル、および任意に、0.005〜1wt.%の範囲の量の銀を含む銅芯を備えた8〜80μm厚のワイヤに関し、wt.%での量はすべて芯の全重量を基準とし、銅芯は、1.5〜30μmの範囲の平均結晶粒径を有する。本発明はさらに、このようなワイヤを製造するプロセスに関する。
エレクトロニクスおよびマイクロエレクトロニクス用途におけるボンディングワイヤの使用は周知の現況技術である。ボンディングワイヤは最初は金から製造されていたが、今日では銅等のより安価な材料が使用されている。銅ワイヤは非常に良好な導電性および熱伝導性を提供するが、銅ワイヤのボンディングは困難である。さらに、銅ワイヤは腐食および酸化を受けやすい。
ワイヤの幾何形状については、最も一般的なのは円形断面のボンディングワイヤおよびおおよそ矩形断面を有するボンディングリボンである。両方の種類のワイヤ幾何形状はその利点を有するため、これらは特定の用途に有用になっている。
一部の最近の開発は、銅芯を有するボンディングワイヤを対象とするものであった。芯材料としては、その高い導電性故に銅が選択される。銅材料に対するさまざまなドーパントが、ボンディング特性を最適化するために探されてきた。例えば、特許文献1は、多数の異なるドーパントおよび濃度のいくつかの異なる銅系試験ワイヤについて記述している。
それでもやはり、ボンディングワイヤそれ自体およびボンディングプロセスに関してボンディングワイヤ技術をさらに改善する必要性が現在もある。
したがって、本発明の目的は、改善されたボンディングワイヤを提供することである。
本発明のさらなる目的は、ステッチボンディングに関して優れたボンディング性を示すボンディングワイヤを提供することである。
本発明の別の目的は、改善された信頼性ならびに改善された耐食性および耐湿性を有するボンディングワイヤを提供することである。
本発明のさらなる目的は、ボールボンディングに関して改善された信頼性およびボンディング性を示すボンディングワイヤを提供することである。
本発明のさらなる目的は、ボールウェッジボンディングに関して改善されたボンディングされるボールの真円性および同心性を示すボンディングワイヤを提供することである。
本発明のワイヤは、改善された耐食性および耐湿性という課題を少なくとも解決することが見出された。さらに、これらのワイヤを製造するプロセスが発見された。
上記課題の解決策に対する貢献は、カテゴリーを成す請求項の主題によりなされる。カテゴリーを成す請求項の従属下位請求項は、本発明の好ましい実施形態を提示し、その主題もまた上述の課題の解決に貢献する。
本発明の第一の態様は、
(a)0.005〜5wt.%、好ましくは、0.1〜0.6wt.%、またはさらには0.45〜0.55wt.%の範囲の量のニッケルと、
(b)任意に、0.005〜1wt.%、好ましくは、0.1〜0.6wt.%、またはさらには0.45〜0.55wt.%の範囲の量の銀と、
(c)94wt.%〜99.98wt.%、好ましくは、98.5〜99.6wt.%、またはさらには99.4〜99.6wt.%の範囲の量の銅と、
(d)0〜100wt.ppm(重量ppm、重量基準のppm)のさらなる成分とを含むかまたはこれらからなる芯を備えたワイヤであって、
wt.%およびwt.ppmでの量はすべて芯の総重量を基準にし、
芯は、1.5〜30μmの範囲の平均結晶粒径を有し、平均粒径はラインインターセプト法に従って決定され、
ワイヤは、8〜80μmまたはさらには12〜55μmの範囲の平均直径を有する、ワイヤである。
(a)0.005〜5wt.%、好ましくは、0.1〜0.6wt.%、またはさらには0.45〜0.55wt.%の範囲の量のニッケルと、
(b)任意に、0.005〜1wt.%、好ましくは、0.1〜0.6wt.%、またはさらには0.45〜0.55wt.%の範囲の量の銀と、
(c)94wt.%〜99.98wt.%、好ましくは、98.5〜99.6wt.%、またはさらには99.4〜99.6wt.%の範囲の量の銅と、
(d)0〜100wt.ppm(重量ppm、重量基準のppm)のさらなる成分とを含むかまたはこれらからなる芯を備えたワイヤであって、
wt.%およびwt.ppmでの量はすべて芯の総重量を基準にし、
芯は、1.5〜30μmの範囲の平均結晶粒径を有し、平均粒径はラインインターセプト法に従って決定され、
ワイヤは、8〜80μmまたはさらには12〜55μmの範囲の平均直径を有する、ワイヤである。
ワイヤは、好ましくは、マイクロエレクトロニクスにおけるボンディングのためのボンディングワイヤである。ワイヤは、好ましくは、一体化された物体である。多数の形状が公知であり、本発明のワイヤに有用であると思われる。好ましい形状は、断面が円形、楕円、および矩形である。
平均直径は「サイジング法」により得られる。この方法に従って、規定された長さに対するワイヤの物理的重量が決定される。この重量に基づいて、ワイヤの直径は、ワイヤ材料の密度を使用して計算される(銅の密度:ρCu=8.92g/cm3)。平均直径は、特定のワイヤの5つの切断部の5つの測定値の相加平均として計算する。
本発明については、用語「ボンディングワイヤ」は、あらゆる形状の断面およびあらゆる通常のワイヤ直径を含むが、円形断面および細い直径のボンディングワイヤが好ましい。
平均結晶粒径を決定するラインインターセプト法は、標準的な金属組織学的慣行である。ここで、ワイヤはワイヤの方向に垂直に切断され、それにより作り出される断面はエッチングされる。本文脈中で結晶粒径は、粒を通過可能な直線のすべてのセクションのうち最も長いセクションとして定義される。平均結晶粒径は、芯/バルク材料中の結晶粒の少なくとも7つの測定値の相加平均である。試験は、ASTM E112−96規格、セクション16.3、13ページに従って実行される。
既に述べたように、ワイヤの芯は、(a)0.005〜5wt.%のニッケルおよび(c)94〜99.98wt.%の銅を含む。ワイヤの芯は、成分(b)、すなわち、銀を含んでいても含んでいなくてもよい。ワイヤの芯が銀を含む場合、銀の量は0.005〜1wt.%の範囲である。
本発明のワイヤの芯は、(d)0〜100wt.ppmのさらなる成分を含む。少量のこれらのさらなる成分によりワイヤ特性の良好な再現性を保証する。本文脈においては、多くの場合「不可避不純物」とも呼ばれるさらなる成分は、使用原材料中に存在する不純物由来の、またはワイヤ製造プロセス由来の少量の化学元素および/または化合物である。このようなさらなる成分の例は、Mn、Pt、Cr、Ca、Ce、Mg、La、Al、B、Zr、Ti、S、Feである。
換言すると、芯は
(a)0.005〜5wt.%、好ましくは、0.1〜0.6wt.%、またはさらには0.45〜0.55wt.%の範囲の量のニッケル、
(b)0.005〜1wt.%、好ましくは、0.1〜0.6wt.%、またはさらには0.45〜0.55wt.%の範囲の量の銀、
(c)94〜99.98wt.%、好ましくは、98.5〜99.6wt.%、またはさらには99.4〜99.6wt.%の範囲の量の銅、および
(d)0〜100wt.ppmのさらなる成分
または
(a)0.005〜5wt.%、好ましくは、0.1〜0.6wt.%、またはさらには0.45〜0.55wt.%の範囲の量のニッケル、
(b)0wt.%の銀、
(c)94〜99.98wt.%、好ましくは、98.5〜99.6wt.%、またはさらには99.4〜99.6wt.%の範囲の量の銅、および
(d)0〜100wt.ppmのさらなる成分
を含むかまたはこれらからなり、
wt.%およびwt.ppmでの量はすべて芯の総重量を基準にしている。
(a)0.005〜5wt.%、好ましくは、0.1〜0.6wt.%、またはさらには0.45〜0.55wt.%の範囲の量のニッケル、
(b)0.005〜1wt.%、好ましくは、0.1〜0.6wt.%、またはさらには0.45〜0.55wt.%の範囲の量の銀、
(c)94〜99.98wt.%、好ましくは、98.5〜99.6wt.%、またはさらには99.4〜99.6wt.%の範囲の量の銅、および
(d)0〜100wt.ppmのさらなる成分
または
(a)0.005〜5wt.%、好ましくは、0.1〜0.6wt.%、またはさらには0.45〜0.55wt.%の範囲の量のニッケル、
(b)0wt.%の銀、
(c)94〜99.98wt.%、好ましくは、98.5〜99.6wt.%、またはさらには99.4〜99.6wt.%の範囲の量の銅、および
(d)0〜100wt.ppmのさらなる成分
を含むかまたはこれらからなり、
wt.%およびwt.ppmでの量はすべて芯の総重量を基準にしている。
上の記述に沿って、本発明の実施形態は、上記で開示したように、(a)ニッケル、(b)任意に、銀、および(c)銅を含むワイヤである。芯中に存在するさらなる成分は通常、別途添加されない。さらなる成分の存在は、ニッケル、銀、および銅の1つ以上に存在する不純物に由来する。
一実施形態において、本発明のワイヤの芯は、以下の量未満のさらなる成分を含む。
(i)15wt.ppm未満のMn、
(ii)それぞれ2wt.ppm未満のPt、Cr、Ca、Ce、Mg、La、Al、B、Zr、Tiのいずれか1つ、
(iii)それぞれ10wt.ppm未満のS、Feのいずれか1つ。
(i)15wt.ppm未満のMn、
(ii)それぞれ2wt.ppm未満のPt、Cr、Ca、Ce、Mg、La、Al、B、Zr、Tiのいずれか1つ、
(iii)それぞれ10wt.ppm未満のS、Feのいずれか1つ。
前述の制限のうちさらに好ましい少なくとも2つは、芯を形成する材料により満たされ、最も好ましい制限はすべて芯を形成する材料により満たされる。
一実施形態において、ワイヤの芯は、ドーパントとして、芯の総重量を基準として40〜80wt.ppmの範囲の量のリン元素を含む。
本文脈中において、ワイヤの芯はバルク材料の均質領域として定義される。どんなバルク材料でもある程度異なる特性を示し得る表面領域を常に有するため、ワイヤの芯の特性は、バルク材料の均質領域の特性と理解される。バルク材料領域の表面は、形態、組成(例えば、酸素含有量)、およびその他の特性が異なり得る。表面は、ワイヤの芯の外側表面であることができる。代替として、表面は、ワイヤの芯とワイヤの芯に重ね合わせられたコーティング層との間の界面領域であることができる。
本発明との関係において用語「〜に重ね合わせられた」とは、第2の物品、例えば、コーティング層に対する第1の物品、例えば、銅芯の相対位置を説明するために使用される。「〜に重ね合わせられた」は、さらなる物品、例えば、中間層が、第1の物品と第2の物品との間に配置できるがそうする必要はないということを特徴とする。好ましくは、第2の物品は、第1の物品上に少なくとも部分的に、例えば、第1の物品の全表面に対してそれぞれ少なくとも30%、50%、70%、または少なくとも90%重ね合わせられる。最も好ましくは、第2の物品は第1の物品に完全に重ね合わせられる。
本発明との関係においては、用語「中間層」とは、芯とコーティング層との間のワイヤの領域を指す。この領域においては、芯およびコーティング層の両方の材料の組み合わせが存在する。
本発明との関係においては、用語「厚さ」を使用して、芯の長手軸に対して垂直方向における層のサイズを定義し、この層は芯の表面上に少なくとも部分的に重ね合わせられる。
一実施形態において、芯の直径と芯の平均結晶粒径との比は、2〜14または2〜7の範囲である。
一実施形態において、ワイヤの平均直径は15〜28μmの範囲内である。この場合、芯の平均結晶粒径は、好ましくは、1.5〜6μmの範囲内である。
別の実施形態において、ワイヤの平均直径は28超〜38μmの範囲内である。この場合、芯の平均結晶粒径は、好ましくは、2〜10μmの範囲内である。
別の実施形態において、ワイヤの平均直径は38超〜50μmの範囲内である。この場合、芯の平均結晶粒径は、好ましくは、5〜15μmの範囲内である。
別の実施形態において、ワイヤの平均直径は50超〜80μmの範囲内である。この場合、芯の平均結晶粒径は、好ましくは、7〜30μmの範囲内である。
一実施形態において、芯は表面を有し、コーティング層は芯の表面上に重ね合わせられる。
一実施形態において、コーティング層の質量は、それぞれ芯の総質量に対して、2.5wt.%以下、好ましくは、2wt.%以下である。コーティング層が存在する場合、これは多くの場合、それぞれ芯の総質量に対して、0.1wt.%以上または0.5wt.%以上の最小質量を有する。コーティング層として少量の材料を塗布することは、ワイヤの芯の材料により規定される特徴を保存する。他方では、コーティング層は、特定の特徴、例えば、環境に対して不活性であること、耐食性、改善されたボンディング性等をワイヤ表面に付与する。例えば、平均直径18μmのワイヤに対してコーティング層の厚さは60〜70nmの範囲内である。平均直径25μmを有するワイヤに対して、コーティング層は、例えば90〜100nmの範囲内の厚さを有してよい。
一実施形態において、コーティング層は、パラジウム、プラチナ、および銀からなる群から選択される元素で作製される。コーティング層は、当該元素のうち1つの単層であることができる。別の実施形態において、コーティング層は、複数の重ね合わせられた隣接する層からなる多層であることができ、各層は、パラジウム、プラチナ、および銀からなる群から選択される1つの元素で作製される。コーティング層の一部である各層は、前述の純金属元素のうち1つが個々に堆積される。芯にこれら元素を堆積する一般的な技術は、めっき、例えば、電気めっきおよび無電解めっき、気相からの材料の堆積、例えば、スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、および物理蒸着、ならびに溶融物からの材料の堆積である。
一実施形態において、さらなるコーティング層はコーティング層に重ね合わせられる。一実施形態において、さらなるコーティング層の質量は、それぞれ芯の総質量に対して、0.2wt.%以下、好ましくは、0.1wt.%以下である。
例えば、平均直径18μmを有するワイヤに対して、さらなるコーティング層の厚さは2〜4nmの範囲内である。平均直径25μmを有するワイヤに対して、さらなるコーティング層は、例えば3.5〜5.5nmの厚さを有してよい。
一実施形態では、さらなる コーティング層は金層である。
一実施形態において、本発明のワイヤは、以下の特性の1つを少なくとも特徴とする。
α)耐食性は、多くとも0%のボンディングボールリフトの値を有する(後述の「試験方法G」参照)。
β)耐湿性は、多くとも0%のボンディングボールリフトの値を有する(後述の「試験方法I」参照)。
γ)ワイヤの芯の硬度は、120HV以下、好ましくは、115HV以下、または110HV以下である(後述の「試験方法J」参照)。
δ)ステッチボンディングのプロセスウィンドウ領域は、それぞれワイヤが18μmの平均直径を有する場合、少なくとも40μm・g、または少なくとも90μm・g、または少なくとも120μm・gの値を有する(後述のセクション「試験方法C」参照)。
ε)ワイヤの抵抗は、1.80μΩ・cm以下である。
ζ)平均ボンディングボール真円性は、それぞれワイヤが18μmの平均直径を有する場合、最大0.0025μm、または最大0.002μm、または最大0.0018μmの値を有する(後述のセクション「試験方法E」参照)。
η)平均ボンディングボール同心性は、それぞれワイヤが18μmの平均直径を有する場合、最大0.00056μm、または最大0.0005μm、または最大0.0004μmの値を有する(後述のセクション「試験方法E」参照)。
α)耐食性は、多くとも0%のボンディングボールリフトの値を有する(後述の「試験方法G」参照)。
β)耐湿性は、多くとも0%のボンディングボールリフトの値を有する(後述の「試験方法I」参照)。
γ)ワイヤの芯の硬度は、120HV以下、好ましくは、115HV以下、または110HV以下である(後述の「試験方法J」参照)。
δ)ステッチボンディングのプロセスウィンドウ領域は、それぞれワイヤが18μmの平均直径を有する場合、少なくとも40μm・g、または少なくとも90μm・g、または少なくとも120μm・gの値を有する(後述のセクション「試験方法C」参照)。
ε)ワイヤの抵抗は、1.80μΩ・cm以下である。
ζ)平均ボンディングボール真円性は、それぞれワイヤが18μmの平均直径を有する場合、最大0.0025μm、または最大0.002μm、または最大0.0018μmの値を有する(後述のセクション「試験方法E」参照)。
η)平均ボンディングボール同心性は、それぞれワイヤが18μmの平均直径を有する場合、最大0.00056μm、または最大0.0005μm、または最大0.0004μmの値を有する(後述のセクション「試験方法E」参照)。
本発明の第2の態様は、上記で開示された実施形態のいずれかにおけるワイヤを製造するプロセスである。その最も一般的な実施形態において、プロセスは、
(1)
(a)0.005〜5wt.%、好ましくは、0.1〜0.6wt.%、またはさらには0.45〜0.55wt.%の範囲の量のニッケルと、
(b)任意に、0.005〜1wt.%、好ましくは、0.1〜0.6wt.%、またはさらには0.45〜0.55wt.%の範囲の量の銀と、
(c)94〜99.98wt.%、好ましくは、98.5〜99.6wt.%、またはさらには99.4〜99.6wt.%の範囲の量の銅と、
(d)0〜100wt.ppmのさらなる成分と
を含むかまたはこれらからなる前駆体物品を提供するステップであって、
wt.%およびwt.ppmでの量はすべて前駆体物品の総重量を基準にしている、ステップと、
(2)ワイヤの芯の所望の直径が得られるまで、前駆体物品を伸長してワイヤ前駆体を形成するステップと、
(3)ステップ(2)の完了後に得られた、伸長されたワイヤ前駆体をアニールするステップと
を少なくとも含む。
(1)
(a)0.005〜5wt.%、好ましくは、0.1〜0.6wt.%、またはさらには0.45〜0.55wt.%の範囲の量のニッケルと、
(b)任意に、0.005〜1wt.%、好ましくは、0.1〜0.6wt.%、またはさらには0.45〜0.55wt.%の範囲の量の銀と、
(c)94〜99.98wt.%、好ましくは、98.5〜99.6wt.%、またはさらには99.4〜99.6wt.%の範囲の量の銅と、
(d)0〜100wt.ppmのさらなる成分と
を含むかまたはこれらからなる前駆体物品を提供するステップであって、
wt.%およびwt.ppmでの量はすべて前駆体物品の総重量を基準にしている、ステップと、
(2)ワイヤの芯の所望の直径が得られるまで、前駆体物品を伸長してワイヤ前駆体を形成するステップと、
(3)ステップ(2)の完了後に得られた、伸長されたワイヤ前駆体をアニールするステップと
を少なくとも含む。
プロセスステップ(1)で提供されるような前駆体物品は、銅を所望の量のニッケルおよび任意に、銀を用いて合金化および/またはドーピングすることによって得ることができる。合金化およびドーピングは、当該成分および銅の溶融物を生成して、溶融物を冷却して銅系前駆体物品の均質部品を形成することによって実現される。典型的には、このような前駆体物品は、例えば、2〜25mmの直径および例えば、5〜100mの長さを有するロッドの形態である。このようなロッドは、(a)0.005〜5wt.%の範囲の量のニッケルと、(b)任意に、0.005〜1wt.%の範囲の量の銀と、(c)94〜99.98wt.%の範囲の量の銅と、(d)0〜100wt.ppmのさらなる成分とを含むかまたはこれらからなる銅合金溶融物を、室温の適切なモールドで鋳造し、次いで、冷却および凝固させることによって作成でき、wt.%およびwt.ppmでの量はすべて銅合金溶融物の総重量を基準にしている。銅合金それ自体は、金属合金分野の当業者に既知の従来のプロセスにより、例えば、銅、ニッケル、および任意に、銀を所望の比で溶融することによって調製することができる。そうする場合、従来の銅−ニッケルマスター合金および銅−銀マスター合金を利用することが可能である。溶融プロセスは、例えば、誘導炉を使用して実行することが可能であり、減圧下にてまたは不活性ガス雰囲気下にて作業することが好都合である。使用する材料は、例えば、99.99wt.%以上の純度グレードを有することができる。
1つ以上のコーティング層が、本発明の第1の態様の実施形態のいくつかで開示されたように、ワイヤに存在する場合、これらのコーティング層は好ましくは、ワイヤ前駆体に塗布される。当業者は、どのようにして前駆体物品におけるこのようなコーティング層の厚さを計算し、ワイヤの実施形態で開示された厚さのコーティング層を得る、すなわち、1つ以上のコーティング層を有する前駆体物品を伸長してワイヤ前駆体にすることを知っている。既に上記で開示されたように、銅または銅合金表面に実施形態に係る材料のコーティング層を形成する多数の技術が公知である。好ましい技術は、めっき、例えば、電気めっきおよび無電解めっき、気相からの材料の堆積、例えば、スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、および物理蒸着、ならびに溶融物からの材料の堆積である。
本発明の第1の態様の実施形態のいくつかに開示されたように、ワイヤの芯に単層または多層金属コーティングを重ね合わせるために、例えば、80〜200μmの範囲の特定の前駆体の直径に達したらすぐにプロセスステップ(2)を中断することが好都合である。その後、単層または多層金属コーティングは、例えば、1つ以上の電気めっきプロセスにより塗布してよい。その後、プロセスステップ(2)は、ワイヤの芯の所望の最終直径が得られるまで続けられる。
プロセスステップ(2)では、ワイヤの芯の所望の直径が得られるまで、前駆体物品を伸長してワイヤ前駆体を形成する。前駆体物品を伸長してワイヤ前駆体を形成する多数の技術が公知であり、本発明との関係において有用であると思われる。好ましい技術は、圧延加工、スエージング、ダイ延伸等であり、このうちダイ延伸が特に好ましい。後者の場合、ワイヤの芯の所望の最終直径が得られるまで、前駆体物品はいくつかのプロセスステップで延伸される。
ワイヤの芯の所望の最終直径は、8〜80μmの範囲、または好ましくは、12〜55μmの範囲であってよい。このようなワイヤダイ延伸プロセスは、当業者に周知である。
従来の炭化タングステンおよびダイヤモンドの延伸ダイを利用してもよく、従来の延伸潤滑剤は、延伸を補助するために使用されてよい。例えば、前駆体物品は、各段階が15〜25のプロセスステップを有する主要な8つの段階で延伸されてよく、延伸プロセスステップの度に、6〜18%の範囲の前駆体物品の長さの伸長が行われる。伸長の%は、各延伸プロセスステップで同じであっても異なっていてもよい。
プロセスステップ(3)において、プロセスステップ(2)の完了後に得られる、伸長されたワイヤ前駆体を、好ましくは管状炉においてアニールする。好ましくは、アニールは、ストランドアニール(最終アニール)であり、これは、高い再現性でワイヤの高速製造を可能にする連続プロセスである。ストランドアニールとは、アニールが、ワイヤ前駆体が好ましくは管状アニール炉を通って移動し、炉を離れてからリールに巻き取られながら、動的に実行されることを意味する。アニールは、例えば、0.1〜0.4秒間440〜700℃、好ましくは、0.1〜0.3秒間470〜650℃の対象温度で行われ、これらの温度/時間条件により、ワイヤの芯の所望の平均結晶粒径を達成または調整できる。
アニールは、典型的には、所定の長さの、かつ例えば4〜30メートル/分または14〜16メートル/分の範囲で選択されてよい所与のアニール速度で所定の温度特性を有する円筒形チューブの形態である従来のアニール炉により伸長されたワイヤ前駆体を引張することによって行われる。そうすることで、アニール時間/対象温度パラメータを規定し、設定できる。
本発明の実施形態については、最大伸長の温度未満の温度におけるアニールは、ワイヤ形態が良い意味で影響を受け得るため、有益なワイヤ特性をもたらすことができるということが判明した。さらに、アニール時間を一定で維持しながら、最大伸長の温度よりも高くなるようにアニール温度を選択することがさらに有利であることが判明した。例えば、この製造原理を使用して、ワイヤの平均結晶粒径を、例えばより大きな平均結晶粒径となるように調節できる。この調節によって、ワイヤ硬度、ボールボンディング挙動等のようなその他の特性が良い意味で影響を受け得る。
したがって、一実施形態において、アニールは、最大伸長の温度を超える温度で行われ、アニール後のワイヤの伸長値は、最大伸長値の98%以下である。例えば、プロセスステップ(3)は、最大伸長の温度TΔL(max)よりも少なくとも10℃、好ましくは少なくとも50℃、または少なくとも80℃高い温度で行われてもよい。多くの場合、プロセスステップ(3)の温度は、TΔL(max)よりも200℃高い温度以下である。最大伸長の温度TΔL(max)は、異なった温度で検体(ワイヤ)の破断点伸長を試験することによって決定される。データポイントはグラフに収集され、温度(℃)の関数としての伸長(%)を示している。得られるグラフは、多くの場合、「アニール曲線」と呼ばれる。銅系ワイヤについて言えば、伸長(%)が最大に達する温度が観察される。これは、最大伸長の温度TΔL(max)である。一例が図1に示されており、これは、試料3(表1)に係るニッケル合金18μm銅ワイヤの例示的なアニール曲線を示す。アニール温度は、x軸の変数パラメータである。グラフは、ワイヤの破断負荷(BL、グラム)および伸長(EL、%)の測定値を示す。伸長は引張試験により測定された。伸長の測定は、示される例において約10%の典型的な局所的最大値を示したが、これは、約470℃のアニール温度で達成された。試料3に係るワイヤがこの最大伸長の温度ではなく、最大伸長の温度よりも90℃高い560℃でアニールされる場合、その結果は、最大伸長値よりも2%超低い約9.8%の伸長値である。
アニールは、不活性雰囲気または還元性雰囲気において行われてよい。多くの種類の不活性雰囲気および還元性雰囲気は、当技術分野において既知であり、通常、管状アニール炉であるアニール炉をパージするために使用される。公知の不活性雰囲気のうちでは、窒素が好ましい。公知の還元性雰囲気のうちでは、水素が好ましい。別の好ましい還元性雰囲気は、水素および窒素の混合物である。水素および窒素の好ましい混合物は、90〜98vol.%が窒素、したがって、2〜10vol.%が水素であり、vol.%は合計して100vol.%となる。好ましい窒素/水素の混合物は、それぞれ混合物の全体積を基準にして、93vol.%/7vol.%、95vol.%/5vol.%、および97vol.%/3vol.%に等しい。ワイヤの表面の一部分が空気中の酸素により酸化しやすい場合、例えば、ワイヤの銅がその表面に露出されている場合、アニールにおいて還元性雰囲気を適用することが特に好ましい。当該種類の不活性または還元性ガスによるパージは、好ましくは、43〜125分−1、より好ましくは、43〜75分−1、最も好ましくは、50〜63分−1の範囲内のガス交換速度(ガス流量[リットル/分]:オーブン内容積[リットル])で行われる。
前駆体物品材料の組成の一意の組み合わせ(完成品のワイヤの芯と同じ)およびプロセスステップ(3)の間有効なプロセスパラメータは、本発明のワイヤを得るのに必須であると考えられる。当該プロセスパラメータの好ましい組み合わせは、好ましくは、50〜63分−1の範囲内のガス交換速度でパージガスとして90〜98vol.%窒素/2〜10vol.%水素混合物を用いたさらなる組み合わせでの、0.1〜0.3秒間500〜650℃の対象温度である。
プロセスステップ(3)の完了後、本発明のワイヤが完成する。その特性から完全に利益を得るには、ワイヤボンディング用途に直ちに、すなわち、遅滞なく、例えば、プロセスステップ(3)の完了後7日間以内に使用することが好都合である。あるいは、ワイヤの広いワイヤボンディングプロセスウィンドウ特性を維持し、またその酸化またはその他化学的腐食を防止するために、完成品のワイヤは、典型的には、巻き取られ、プロセスステップ(3)の完了直後に、すなわち、遅滞なく、例えば、プロセスステップ(3)の完了後に1〜5時間未満以内に真空密封され、ボンディングワイヤとしてさらに使用するために保管される。真空密封された状態における保管は6か月を超えるべきではない。真空密封を開放した後は、ワイヤは7日間以内にワイヤボンディングのために使用されるべきである。
プロセスステップ(1)〜(3)すべてならびに巻取りおよび真空密封は、クリーンルーム条件(米国連邦規格209Eクリーンルーム標準規格、1k標準規格)下で実行されることが好ましい。
本発明の第3の態様は、本発明の第2の態様またはその実施形態に係るプロセスによって得られるワイヤである。当該ワイヤは、ワイヤボンディング用途でボンディングワイヤとして使用するのに適していることが見出された。ワイヤボンディング技術は当業者に周知である。ワイヤボンディングの途中で、ボールボンディング(1回目のボンディング)およびステッチボンディング(2回目のボンディング、ウェッジボンディング)が形成されることが典型的である。ボンド形成の間、スクラブ振幅(通常μm単位で測定される)の印加により支持される特定の力(グラム単位で通常測定される)が印加される。ワイヤボンディングプロセスにおいて、印加された力の上限値と下限値との差と、印加されたスクラブ振幅の上限値と下限値との差との数学的積は、ワイヤボンディングプロセスウィンドウを規定する:
(印加された力の上限値−印加された力の下限値)・(印加されたスクラブ振幅の上限値−印加されたスクラブ振幅の下限値)=ワイヤボンディングプロセスウィンドウ
(印加された力の上限値−印加された力の下限値)・(印加されたスクラブ振幅の上限値−印加されたスクラブ振幅の下限値)=ワイヤボンディングプロセスウィンドウ
ワイヤボンディングプロセスウィンドウは、指定条件を満たす、すなわち、ほんのいくつか挙げると従来の引張試験、ボール剪断試験、およびボール引張試験のような従来の試験に合格するワイヤボンドの形成を可能にする、力/スクラブ振幅を組み合わせた領域を定義する。
工業用途については、ワイヤボンディングプロセスの頑強性のため、広いワイヤボンディングプロセスウィンドウ(g単位の力対μm単位のスクラブ振幅)を有することが望ましい。本発明のワイヤは、かなり広いワイヤボンディングプロセスウィンドウを示す。例えば、直径18μmの本発明のワイヤは、ステッチボンディングのために例えば40〜120μm・gの範囲のワイヤボンディングプロセスウィンドウを示す。
以下の非限定的実施例は本発明を示す。
試験方法A〜J
試験および測定はすべて、T=20℃および相対湿度RH=50%で行った。
試験および測定はすべて、T=20℃および相対湿度RH=50%で行った。
A.ラインインターセプト法による平均結晶粒径:
結晶粒径は、標準的な金属組織学的技術、ASTM E112−96、セクション16.3、13ページを使用して決定した。ワイヤの芯の試料は、分割された後エッチングした。この場合、2gのFeCl3および6mlの濃HClの200ml脱イオン水溶液をエッチングに使用した。結晶粒径はインターセプトの原理に従って決した。本文脈中で結晶粒径は、粒を通過する直線のすべてのセクションのうち最も長いセクションとして定義した。測定された平均結晶粒径は、芯材料中の結晶粒の少なくとも7つの測定値の相加平均であった。
結晶粒径は、標準的な金属組織学的技術、ASTM E112−96、セクション16.3、13ページを使用して決定した。ワイヤの芯の試料は、分割された後エッチングした。この場合、2gのFeCl3および6mlの濃HClの200ml脱イオン水溶液をエッチングに使用した。結晶粒径はインターセプトの原理に従って決した。本文脈中で結晶粒径は、粒を通過する直線のすべてのセクションのうち最も長いセクションとして定義した。測定された平均結晶粒径は、芯材料中の結晶粒の少なくとも7つの測定値の相加平均であった。
B.伸長(EL):
ワイヤの引張特性は、器具Instron−5300を使用して試験した。ワイヤは、10インチゲージ長に対して1インチ/分の速度で試験した。亀裂(破断)に対する荷重および伸長は、ASTM標準規格F219−96に従って得た。伸長は、引張試験前後のワイヤの長さの差(ΔL/L)であり、記録された荷重対伸長引張プロットから計算された。
ワイヤの引張特性は、器具Instron−5300を使用して試験した。ワイヤは、10インチゲージ長に対して1インチ/分の速度で試験した。亀裂(破断)に対する荷重および伸長は、ASTM標準規格F219−96に従って得た。伸長は、引張試験前後のワイヤの長さの差(ΔL/L)であり、記録された荷重対伸長引張プロットから計算された。
C.ステッチボンディングプロセスウィンドウ領域:
ボンディングプロセスウィンドウ領域の測定は、標準的な手順により行った。試験ワイヤは、KNS−iConnボンダーツール(米国ペンシルベニア州フォートワシントン、Kulicke & Soffa Industries Inc)を使用してボンディングした。2回目のボンディング(ステッチボンディング)プロセスウィンドウ領域は、ボンディングに使用される力の上限値と下限値との差と、印加されたスクラブ振幅の上限値と下限値との差との積であり、得られるボンディングは、特定の引張試験の指定条件、例えば、2.5グラムの引張力、不着が発生する不良がないこと等を満たさなければならない。プロセスウィンドウ値は、18μmの平均直径を有するワイヤに基づき、ワイヤがボンディングされたリードフィンガは銀からなっていた。
ボンディングプロセスウィンドウ領域の測定は、標準的な手順により行った。試験ワイヤは、KNS−iConnボンダーツール(米国ペンシルベニア州フォートワシントン、Kulicke & Soffa Industries Inc)を使用してボンディングした。2回目のボンディング(ステッチボンディング)プロセスウィンドウ領域は、ボンディングに使用される力の上限値と下限値との差と、印加されたスクラブ振幅の上限値と下限値との差との積であり、得られるボンディングは、特定の引張試験の指定条件、例えば、2.5グラムの引張力、不着が発生する不良がないこと等を満たさなければならない。プロセスウィンドウ値は、18μmの平均直径を有するワイヤに基づき、ワイヤがボンディングされたリードフィンガは銀からなっていた。
プロセスウィンドウの4つの角は、以下の2つの主な不良モードを克服することによって導かれた。
(1)小さすぎる力およびスクラブ振幅を与えることが、ワイヤの不着が発生する不良(NSOL)をもたらすこと、および
(2)大きすぎる力およびスクラブ振幅を与えることが、ショートテール(SHTL)をもたらすこと。
(1)小さすぎる力およびスクラブ振幅を与えることが、ワイヤの不着が発生する不良(NSOL)をもたらすこと、および
(2)大きすぎる力およびスクラブ振幅を与えることが、ショートテール(SHTL)をもたらすこと。
D.フリーエアボール(FAB):
FABは、2つの異なるモード;(a)標準焼成である単一のステップおよび(b)高度な焼成である2つのステップでの従来の電気的フレームオフ(EFO)焼成を行うことによって評価した(以下の表を参照)。
FABは、2つの異なるモード;(a)標準焼成である単一のステップおよび(b)高度な焼成である2つのステップでの従来の電気的フレームオフ(EFO)焼成を行うことによって評価した(以下の表を参照)。
これは、KNS Process User Guide for Free Air Ball(Kulicke & Soffa Industries Inc、米国ペンシルベニア州フォートワシントン、2002年、2009年5月31日)に記載の手順に従って作業した。FAB直径は、μm目盛りで200×〜500×の倍率の光学顕微鏡を使用して測定した。FABの形態は、走査型電子顕微鏡(SEM)を使用して観察した。ステッチボンディング前のワイヤ端部にぶらさがるワイヤ材料の溶融滴の形状および対称性を評価した。
FAB形成の性能の評価:
+、ワイヤの溶融滴が凝固するが、ボールサイズは規格よりも小さく、かつ/または先が尖っている
++、ワイヤの溶融滴が球形状で凝固するが、ボールサイズは規格から外れ、かつ/または傾斜している
+++、ワイヤの溶融滴が球形状で規格内で凝固するがわずかに傾斜している
++++、ワイヤの溶融滴が球形状かつ線対称ボール形状で凝固する
+、ワイヤの溶融滴が凝固するが、ボールサイズは規格よりも小さく、かつ/または先が尖っている
++、ワイヤの溶融滴が球形状で凝固するが、ボールサイズは規格から外れ、かつ/または傾斜している
+++、ワイヤの溶融滴が球形状で規格内で凝固するがわずかに傾斜している
++++、ワイヤの溶融滴が球形状かつ線対称ボール形状で凝固する
E.平均的なボンディングボールの真円性および同心性:
ボンディングボール(1回目のボンディング)の形態は、平均的な真円性および同心性を測定して定量化した。ワイヤは標準焼成モードまたは高度焼成モードを使用してボンディングした。4N裸銅ワイヤおよびニッケル合金銅ワイヤは、標準焼成モードを使用してボンディングしたが、銀−ニッケル合金銅ワイヤは高度焼成モードを使用してボンディングした。
ボンディングボール(1回目のボンディング)の形態は、平均的な真円性および同心性を測定して定量化した。ワイヤは標準焼成モードまたは高度焼成モードを使用してボンディングした。4N裸銅ワイヤおよびニッケル合金銅ワイヤは、標準焼成モードを使用してボンディングしたが、銀−ニッケル合金銅ワイヤは高度焼成モードを使用してボンディングした。
ボンディングボールは、500×の倍率で高性能Nikon顕微鏡MM40で観察した。顕微鏡と相互接続したE−maxソフトウェアバージョン5.3は、16の測定エッジ点について最小2乗法により理論上の円を予測した。理論上の円の半径に対する各エッジの偏差が見出された。最大偏差値および最小偏差値の差は、ボンディングボールの平均真円性であるDevEとして定義した。良好な真円性のボールは、0.001μmを示し、最悪のボールは平均して0.003μmの真円性を示した。
平均ボンディングボール同心性について言えば、12のエッジが外円に沿ってマークされた。E−maxソフトウェアは、最小2乗法により理論上の円を予測し、外円の中心を見つけた。同様に、これは内円およびその中心を予測した。X方向およびY方向両方についての外円と内円の中心の差が計算され、これにより同心性を
F.連続鋳造ロッドの食塩水浸漬試験:
連続鋳造された8mmロッドは、10mm長に分割し、85℃で4日間食塩水に浸漬し、DI水、後にアセトンを用いて洗浄した。食塩水は、脱イオン(DI)水に溶解させた20wt.%NaClを含んでいた。ロッドの表面変色は、10〜100×の倍率で低出力スコープ(ステレオスコープ−SZX16)を使用して観察した。元の銅の淡紅色から暗黒色へと変化したロッド表面は、深刻なすきま腐食を示した。暗黒表面におけるSEM−EDXは、塩素、酸素、および銅のピークを示した。
連続鋳造された8mmロッドは、10mm長に分割し、85℃で4日間食塩水に浸漬し、DI水、後にアセトンを用いて洗浄した。食塩水は、脱イオン(DI)水に溶解させた20wt.%NaClを含んでいた。ロッドの表面変色は、10〜100×の倍率で低出力スコープ(ステレオスコープ−SZX16)を使用して観察した。元の銅の淡紅色から暗黒色へと変化したロッド表面は、深刻なすきま腐食を示した。暗黒表面におけるSEM−EDXは、塩素、酸素、および銅のピークを示した。
評価:
+、100%の鋳造ロッド表面が元の銅の淡紅色から暗黒色へと変化し、深刻なすきま腐食を示した
++、70%未満の鋳造ロッド表面が元の銅の淡紅色から黒色へと変化し、すきま腐食を示した
+++、40%未満の鋳造ロッド表面が元の銅の淡紅色から黒色へと変化し、軽度のすきま腐食を示した
++++、10%未満の鋳造ロッド表面が元の銅の淡紅色から暗黒色へと変化し、深刻ではないすきま腐食またはすきま腐食の不在を示した
+、100%の鋳造ロッド表面が元の銅の淡紅色から暗黒色へと変化し、深刻なすきま腐食を示した
++、70%未満の鋳造ロッド表面が元の銅の淡紅色から黒色へと変化し、すきま腐食を示した
+++、40%未満の鋳造ロッド表面が元の銅の淡紅色から黒色へと変化し、軽度のすきま腐食を示した
++++、10%未満の鋳造ロッド表面が元の銅の淡紅色から暗黒色へと変化し、深刻ではないすきま腐食またはすきま腐食の不在を示した
G.ボンディングボールの食塩水浸漬試験:
ワイヤは、Al−0.5wt.%Cuボンドパッドにボールボンディングした。このようにボンディングされたワイヤを用いる試験デバイスは、25℃で2、4、6、8、および10分間食塩水に浸漬し、DI水、後にアセトンを用いて洗浄した。食塩水は、脱イオン(DI)水に溶解させた30wt.ppmのNaClを含んでいた。リフトされたボールの数は、10〜100×の倍率の低出力スコープ(ステレオスコープ−SZX16)を使用して検査した。より多い数のリフトされたボールの観察により、深刻な界面電食が示された。
ワイヤは、Al−0.5wt.%Cuボンドパッドにボールボンディングした。このようにボンディングされたワイヤを用いる試験デバイスは、25℃で2、4、6、8、および10分間食塩水に浸漬し、DI水、後にアセトンを用いて洗浄した。食塩水は、脱イオン(DI)水に溶解させた30wt.ppmのNaClを含んでいた。リフトされたボールの数は、10〜100×の倍率の低出力スコープ(ステレオスコープ−SZX16)を使用して検査した。より多い数のリフトされたボールの観察により、深刻な界面電食が示された。
H.連続鋳造ロッドの耐湿性試験:
連続鋳造された8mmロッドは、10mm長に分割し、130℃の温度、85%相対湿度(RH)で4日間、高加速ストレス試験(HAST)チャンバで保管した。HASTの試験片は、10〜100×の倍率の低出力スコープ(ステレオスコープ−SZX16)で表面変色について検査した。食塩水浸漬試験と同様に、元の銅の淡紅色から暗黒色へと変化したロッド表面は、深刻なすきま腐食を示した。暗黒表面におけるSEM−EDXは、酸素および銅のピークを示した。
連続鋳造された8mmロッドは、10mm長に分割し、130℃の温度、85%相対湿度(RH)で4日間、高加速ストレス試験(HAST)チャンバで保管した。HASTの試験片は、10〜100×の倍率の低出力スコープ(ステレオスコープ−SZX16)で表面変色について検査した。食塩水浸漬試験と同様に、元の銅の淡紅色から暗黒色へと変化したロッド表面は、深刻なすきま腐食を示した。暗黒表面におけるSEM−EDXは、酸素および銅のピークを示した。
評価:
+、100%の鋳造ロッド表面が元の銅の淡紅色から暗黒色へと変化し、深刻なすきま腐食を示した
++、70%未満の鋳造ロッド表面が元の銅の淡紅色から黒色へと変化し、すきま腐食を示した
+++、40%未満の鋳造ロッド表面が元の銅の淡紅色から黒色へと変化し、軽度のすきま腐食を示した
++++、10%未満の鋳造ロッド表面が元の銅の淡紅色から暗黒色へと変化し、深刻ではないすきま腐食またはすきま腐食の不在を示した
+、100%の鋳造ロッド表面が元の銅の淡紅色から暗黒色へと変化し、深刻なすきま腐食を示した
++、70%未満の鋳造ロッド表面が元の銅の淡紅色から黒色へと変化し、すきま腐食を示した
+++、40%未満の鋳造ロッド表面が元の銅の淡紅色から黒色へと変化し、軽度のすきま腐食を示した
++++、10%未満の鋳造ロッド表面が元の銅の淡紅色から暗黒色へと変化し、深刻ではないすきま腐食またはすきま腐食の不在を示した
I.ボンディングボールの耐湿性試験:
ワイヤは、Al−0.5wt.%Cuボンドパッドにボールボンディングした。このようにボンディングしたワイヤを有する試験デバイスは、130℃の温度、85%相対湿度(RH)で20時間、高加速ストレス試験(HAST)チャンバで保管し、次に10〜100×の倍率の低出力スコープ(ステレオスコープ−SZX16)でリフトされたボールの数について検査した。より多い数のリフトされたボールの観察により、深刻な界面電食が示された。
ワイヤは、Al−0.5wt.%Cuボンドパッドにボールボンディングした。このようにボンディングしたワイヤを有する試験デバイスは、130℃の温度、85%相対湿度(RH)で20時間、高加速ストレス試験(HAST)チャンバで保管し、次に10〜100×の倍率の低出力スコープ(ステレオスコープ−SZX16)でリフトされたボールの数について検査した。より多い数のリフトされたボールの観察により、深刻な界面電食が示された。
J.ビッカース硬度:
硬度は、ビッカース圧子を用いたFischerスコープH110C試験器具を使用して測定した。10mNの力を、滞留時間5秒間ワイヤの試験片に印加した。試験は、アニールされたワイヤの芯の中心に対して行った。
硬度は、ビッカース圧子を用いたFischerスコープH110C試験器具を使用して測定した。10mNの力を、滞留時間5秒間ワイヤの試験片に印加した。試験は、アニールされたワイヤの芯の中心に対して行った。
実施例1〜10
少なくとも99.99%純度の銅材料(「4N銅」)の量を、るつぼで溶融した。少量のマスター合金を、銅溶融物に添加し、添加成分の均一な分布が撹拌により確認された。以下のマスター合金を使用した。
少なくとも99.99%純度の銅材料(「4N銅」)の量を、るつぼで溶融した。少量のマスター合金を、銅溶融物に添加し、添加成分の均一な分布が撹拌により確認された。以下のマスター合金を使用した。
表1および表2の合金については、マスター合金Cu−5wt.%Ni、Cu−15wt.%Ag、およびCu−0.5wt.%Pの対応する組み合わせを追加した。すると、8mmロッドの形態のワイヤ前駆体は、溶融物から連続鋳造した。
8mmロッドは、各段階が22プロセスステップの6つの主な延伸段階で伸長され、18μmの平均直径を有する円形形状のワイヤを形成し、前駆体の長さ6〜18%の伸長が各プロセスステップで実施された。本明細書にて提案される実施例では、17%の伸長が段階1で実践され、11%の伸長が段階2〜段階5で実践され、8%の伸長が段階6で実践された。延伸中、滑動剤が用いられた。
この手順により、銅−ニッケル合金ワイヤおよび銅−ニッケル−銀合金ワイヤならびに1つの比較ワイヤ(Ref)の試料を製造した。
銅ワイヤ、銅−ニッケルワイヤ、および銅−ニッケル−銀合金ワイヤの化学的組成は、Perkin Elmer ICP−OES 7100DVモデルを使用してICP(誘導結合プラズマ)分析により制御した。ワイヤは、濃硝酸中に溶解させ、この溶液はICP分析に用いた。
表1は、平均直径18μmの本発明の銅−ニッケル合金ワイヤの試料1〜6の組成を示す。ワイヤのニッケル含有量はリンの量と同様に、示されているようにさまざまであった。比較ワイヤ(Ref)は4N銅からなっていた。
表2は、それぞれ平均直径18μmを有する試料ワイヤ7〜10の組成を示す。ワイヤの銀、ニッケル、およびリンの含有量は示されているようにさまざまであった。比較ワイヤ(Ref)は4N銅からなっていた。
ワイヤを、最終アニールプロセスステップでアニールした。アニールは、ワイヤを、560℃(ワイヤ1〜6)または650℃(ワイヤ7〜10)のアニール温度、1m/秒の速度で30cm長の管状アニール炉に通すことによって、ストランドアニールにより動的に行った。オーブンを出た後、包装するためにワイヤをリールに巻き取った。
本実施例では、アニール時間は、加熱炉内で移動するワイヤの所与の部品の暴露時間であり、これは0.3秒であった。炉領域内では、一定温度が調節された。
ワイヤ試料1〜10の平均結晶粒径を測定した。その結果は、試料1〜6については3μm〜6μmの範囲、試料7〜10については1.5μm〜6μmの範囲であった。
下表3は、8mmロッドおよび試料1〜6のボンディングワイヤを用いて得られた試験結果を示す。
下表4は、8mmロッドおよび試料7〜10のボンディングワイヤを用いて得られた試験結果を示す。
ワイヤ1〜6および7〜10は、工業用途に適しているプロセスウィンドウをもたらした。少なくとも、0.5wt.%〜5wt.%の範囲のニッケル含有量、または0.1wt.%〜0.5wt.%の範囲の銀と0.1wt.%〜0.5wt.%の範囲のニッケルとの組み合わせを用いた場合、鋳造ロッドおよびボンディングボールの耐食性および耐湿性の顕著な改善が観察された。
Claims (15)
- (a)0.005〜5wt.%の範囲の量のニッケルと、
(b)任意に、0.005〜1wt.%の範囲の量の銀と、
(c)94wt.%〜99.98wt.%の範囲の量の銅と、
(d)0〜100wt.ppmのさらなる成分と
を含むかまたはこれらからなる芯を備えたワイヤであって、
wt.%およびwt.ppmでの量はすべて前記芯の総重量を基準にし、
前記芯は、1.5〜30μmの範囲の平均結晶粒径を有し、前記平均粒径はラインインターセプト法に従って決定され、
前記ワイヤは、8〜80μmの範囲の平均直径を有する、ワイヤ。 - 前記平均直径は12〜55μmの範囲である、請求項1に記載のワイヤ。
- 前記芯は、外側表面であるか、またはコーティング層が前記芯の表面上に重ね合わせられる表面を有する、請求項1または2に記載のワイヤ。
- 前記コーティング層の質量は、前記芯の総質量に対して、2.5wt.%以下である、請求項3に記載のワイヤ。
- 前記コーティング層は、パラジウム、プラチナ、もしくは銀の単層、または複数の重ね合わせられた隣接する層からなる多層であり、各層は、パラジウム、プラチナ、および銀からなる群から選択される1つの元素で作製される、請求項3または4に記載のワイヤ。
- さらなるコーティング層が前記コーティング層に重ね合わせられる、請求項3、4、または5に記載のワイヤ。
- 前記さらなるコーティング層は金層である、請求項6に記載のワイヤ。
- 前記ワイヤの芯は、ドーパントとして、前記芯の総重量を基準として40〜80wt.ppmの範囲の量のリン元素を含む、請求項1〜7のいずれか一項に記載のワイヤ。
- 前記芯の直径と前記芯の平均結晶粒径との比は、2〜14の範囲である、請求項1〜8のいずれか一項に記載のワイヤ。
- α)耐食性は、多くとも0%のボンディングボールリフトの値を有する、
β)耐湿性は、多くとも0%のボンディングボールリフトの値を有する、
γ)前記ワイヤの芯の硬度は、120HV以下である、
δ)ステッチボンディングのプロセスウィンドウ領域は、前記ワイヤが18μmの平均直径を有する場合、少なくとも40μm・gの値を有する、
ε)前記ワイヤの抵抗は、1.80μΩ・cm以下である、
ζ)平均ボンディングボール真円性は、前記ワイヤが18μmの平均直径を有する場合、最大0.0025μmの値を有する、
η)平均ボンディングボール同心性は、前記ワイヤが18μmの平均直径を有する場合、最大0.00056μmの値を有する
という特性の1つを少なくとも特徴とする、請求項1〜9のいずれか一項に記載のワイヤ。 - (1)
(a)0.005〜5wt.%の範囲の量のニッケルと、
(b)任意に、0.005〜1wt.%の範囲の量の銀と、
(c)94〜99.98wt.%の範囲の量の銅と、
(d)0〜100wt.ppmのさらなる成分と
を含むかまたはこれらからなる前駆体物品を提供するステップであって、
wt.%およびwt.ppmでの量はすべて前記前駆体物品の総重量を基準にしている、ステップと、
(2)前記ワイヤの芯の所望の直径が得られるまで、前記前駆体物品を伸長してワイヤ前駆体を形成するステップと、
(3)ステップ(2)の完了後に得られた、前記伸長されたワイヤ前駆体をアニールするステップと
を少なくとも含む、請求項1〜10のいずれか一項に記載のワイヤの製造プロセス。 - 前記アニールするステップは、ストランドアニールである、請求項11に記載のプロセス。
- 前記アニールするステップは、0.1〜0.4秒の間、440〜700℃の対象温度で行われる、請求項11または12に記載のプロセス。
- 前記アニールするステップは、最大伸長の温度を超える温度で行われ、前記アニールするステップ後の前記ワイヤの伸長値は、最大伸長値の98%以下である、請求項11、12、または13に記載のプロセス。
- 前記アニールするステップは、不活性雰囲気または還元性雰囲気において行われる、請求項11〜14のいずれか一項に記載のプロセス。
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