JP2018192480A - 金属表面の粗面化方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1〜図22は、本発明に係る金属表面の粗面化方法の第1の実施形態を示している。ここで、図1は、本実施形態の金属表面の粗面化方法を示す平面図である。
まず、厚さ2mm×幅25mm×長さ60mmのアルミニウム板の一方の表面に対して、図2の表に示す条件(パルス幅、パルス繰り返し周波数、ビーム直径、走査速度、ピッチ及び繰り返し回数)でパルス発振のレーザー光を照射することにより、アルミニウム板の表面を粗面化した。ここで、レーザー装置は、IPG製のパルス発振−ファイバーレーザ(YLP−1/100/20)を用いた。なお、YLP−1/100/20は、動作モードがパルス発振であり、1パルス当たりのエネルギーが1mJであり、偏光がランダムであり、中心波長が1060nm〜1070nmであり、パルス波長幅が3nm以内であり、パルス(時間)幅が100nsecであり、パルス繰り返し周波数が20kHz〜50kHzであり、平均出力が20Wであり、出力調整が10%〜100%であり、長期出力安定性が5%以内であり、ビーム品質M2が1.6である。また、粗面化したアルミニウム板の表面をオリンパス株式会社製の3D測定レーザー顕微鏡(LEXT OLS4100)を用いて、10倍レンズの線粗さ解析モードで表面粗さを解析することにより、算術平均粗さRa、粗さ曲線要素の平均粗さRc、最大高さ粗さRz、粗さ曲線のスキューネスRsk及び粗さ曲線要素の平均長さRsmを求めた。なお、上述した粗さデータは、レーザー光の走査方向(X方向)に直交するY方向に沿う粗さデータを3ライン分測定し、3ライン分を平均したものである。
まず、厚さ2mm×幅25mm×長さ60mmのアルミニウム板の一方の表面に対して、図11の表に示す条件(ビーム直径(30μm)、走査速度、ピッチ及び繰り返し回数)で連続発振のレーザー光を照射することにより、アルミニウム板の表面を粗面化した。ここで、レーザー装置は、IPG製の連続発振−ファイバーレーザ(YLR−200AC)を用いた。また、粗面化したアルミニウム板の表面について、実施例1〜6と同様に、粗算術平均粗さRa、粗さ曲線要素の平均粗さRc、最大高さ粗さRz、粗さ曲線のスキューネスRsk及び粗さ曲線要素の平均長さRsmを求めた。
まず、厚さ2mm×幅25mm×長さ60mmのアルミニウム板の一方の表面に対して、図17の表に示す条件(出力、波長、ビーム直径(11μm)、走査速度、ピッチ及び繰り返し回数)で連続発振のレーザー光を照射することにより、アルミニウム板の表面を粗面化した。ここで、レーザー装置は、IPG製の連続発振−シングルモードファイバーレーザ(YLR300−SM(CW))を用いた。また、粗面化したアルミニウム板の表面について、実施例1〜6と同様に、粗算術平均粗さRa、粗さ曲線要素の平均粗さRc、最大高さ粗さRz、粗さ曲線のスキューネスRsk及び粗さ曲線要素の平均長さRsmを求めた。
図23〜図32は、本発明に係る金属表面の粗面化方法の第2の実施形態を示している。なお、以下の実施形態において、図1〜図22と同じ部分については同じ符号を付して、その詳細な説明を省略する。
まず、厚さ2mm×幅25mm×長さ60mmのアルミニウム板の一方の表面に対して、図23の表に示す条件(平均出力、ピーク出力、パルス幅、ビーム直径(20μm)、走査速度、ピッチ及び繰り返し回数)でパルス発振のレーザー光を照射することにより、アルミニウム板の表面を粗面化した。ここで、レーザー装置は、IPG製のシングルモード準連続発振イッテルビウムファイバーレーザ(YLMP−150/1500−QCW)を用いた。なお、YLMP−150/1500−QCWは、波長が1070±5nmであり、動作モードがパルス発振/連続発振であり、変調周波数が0kHz〜50kHzであり、最大平均出力(CW/QCW)が250W/150Wであり、最大ピーク出力が1500Wであり、最大パルスエネルギーが15Jであり、パルス幅が0.05msec〜50msecであり、出力調整が10%〜100%であり、出力安定性が±0.1%以内であり、ビーム品質M2が1.05である。また、粗面化したアルミニウム板の表面について、実施例1〜6と同様に、粗算術平均粗さRa、粗さ曲線要素の平均粗さRc、最大高さ粗さRz、粗さ曲線のスキューネスRsk及び粗さ曲線要素の平均長さRsmを求めた。
上記各実施形態では、フッ素ゴムと接着する金属表面の粗面化方法を例示したが、本発明は、例えば、アクリロニトリル−ブタジエン−ゴム等のその他のゴムと接着する金属表面の粗面化方法にも適用することができる。
P ピッチ
S 金属材料の表面
X 第1の方向
Y 第2の方向
10 金属材料
Claims (4)
- 金属材料の表面にパルス発振のレーザー光を該金属材料の表面に沿う第1の方向に走査しながら照射して、上記金属材料の表面を上記第1の方向に交差する上記金属材料の表面に沿う第2の方向に所定ピッチで1走査単位ずつ粗面化する金属表面の粗面化方法であって、
パルス幅が80nsec〜120nsecであり、パルス繰り返し周波数が20kHz〜50kHzであり、ビーム直径が20μm〜30μmであり、上記第1の方向に走査する速度が50mm/sec〜200mm/secであり、上記所定ピッチが30μm〜100μmであり、上記1走査単位における走査回数が1回〜20回であるように、上記レーザー光を照射して、上記金属材料の表面における上記第2の方向に沿う粗さ曲線要素の平均粗さRcを20μm〜200μmにすることを特徴とする金属表面の粗面化方法。 - 請求項1に記載された金属表面の粗面化方法において、
上記金属材料の表面における上記第2の方向に沿う粗さ曲線のスキューネスRskを−2〜0にすることを特徴とする金属表面の粗面化方法。 - 金属材料の表面にパルス発振のレーザー光を該金属材料の表面に沿う第1の方向に走査しながら照射して、上記金属材料の表面を上記第1の方向に交差する上記金属材料の表面に沿う第2の方向に所定ピッチで1走査単位ずつ粗面化する金属表面の粗面化方法であって、
パルス繰り返し周波数が10Hz〜1000Hzであり、平均出力が100W〜200Wであり、ピーク出力が1050W〜1500Wであり、パルスエネルギーが10J〜15Jであり、ビーム直径が15μm〜25μmであり、上記第1の方向に走査する速度が0.2m/sec〜10m/secであり、上記所定ピッチが30μm〜100μmであるように、上記レーザー光を照射して、上記金属材料の表面における上記第2の方向に沿う粗さ曲線要素の平均粗さRcを100μm〜500μmにすることを特徴とする金属表面の粗面化方法。 - 請求項3に記載された金属表面の粗面化方法において、
上記金属材料の表面における上記第2の方向に沿う粗さ曲線のスキューネスRskを0〜+2にすることを特徴とする金属表面の粗面化方法。
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JP2020125240A (ja) * | 2018-09-27 | 2020-08-20 | ダイセルポリマー株式会社 | 表面に粗面化構造を有する炭化物系の非磁性セラミックス成形体の製造方法 |
JPWO2020067248A1 (ja) * | 2018-09-27 | 2021-02-15 | ダイセルポリマー株式会社 | 表面に粗面化構造を有する炭化物系の非磁性セラミックス成形体とその製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014166693A (ja) * | 2013-02-28 | 2014-09-11 | Daicel Polymer Ltd | 複合成形体とその製造方法 |
JP2015213961A (ja) * | 2013-07-18 | 2015-12-03 | ダイセルポリマー株式会社 | 複合成形体の製造方法 |
JP2016505390A (ja) * | 2012-12-20 | 2016-02-25 | エレクトロ サイエンティフィック インダストリーズ インコーポレーテッド | レーザ微細加工によりイメージを形成する方法 |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016505390A (ja) * | 2012-12-20 | 2016-02-25 | エレクトロ サイエンティフィック インダストリーズ インコーポレーテッド | レーザ微細加工によりイメージを形成する方法 |
JP2014166693A (ja) * | 2013-02-28 | 2014-09-11 | Daicel Polymer Ltd | 複合成形体とその製造方法 |
JP2015213961A (ja) * | 2013-07-18 | 2015-12-03 | ダイセルポリマー株式会社 | 複合成形体の製造方法 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020125240A (ja) * | 2018-09-27 | 2020-08-20 | ダイセルポリマー株式会社 | 表面に粗面化構造を有する炭化物系の非磁性セラミックス成形体の製造方法 |
JP2020128336A (ja) * | 2018-09-27 | 2020-08-27 | ダイセルポリマー株式会社 | 複合成形体 |
JPWO2020067249A1 (ja) * | 2018-09-27 | 2021-02-15 | ダイセルポリマー株式会社 | 表面に粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体とその製造方法 |
JPWO2020067248A1 (ja) * | 2018-09-27 | 2021-02-15 | ダイセルポリマー株式会社 | 表面に粗面化構造を有する炭化物系の非磁性セラミックス成形体とその製造方法 |
JP7444693B2 (ja) | 2018-09-27 | 2024-03-06 | ダイセルミライズ株式会社 | 表面に粗面化構造を有する炭化物系の非磁性セラミックス成形体の製造方法 |
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