JP2018157011A - 半導体記憶装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】エリアペナルティを増加させることなく、多値セル方式を実現可能とした半導体記憶装置を提供する。【解決手段】この半導体記憶装置は、複数のグローバル第1配線と、複数のグローバル第1配線と交差する複数のグローバル第2配線と、複数のグローバル第1配線及び複数のグローバル第2配線の交差領域に対応して配置される複数のメモリブロックとを備える。メモリブロック内には、複数のローカル第1配線及び複数のローカル第2配線の交差領域に対応して複数のメモリセルが配列される。複数のメモリセルの各々は、可変抵抗素子の第1の面に配置される複数の第1電極と、第1の面とは異なる第2の面に配列される複数の第2電極とを備える。複数の第1電極は、それぞれ複数のローカル第1配線の1つに接続され、複数の第2電極は、それぞれ複数のローカル第2配線の1つに接続される。【選択図】図2
Description
以下に記載された実施の形態は、半導体記憶装置に関する。
近年、抵抗値を可逆的に変化させる可変抵抗素子をメモリセルとして用いた半導体記憶装置が提案されている。このような半導体記憶装置では、メモリセルに所定の電圧を印加することにより、メモリセル内の可変抵抗素子においてフィラメントを形成又は消滅させ、これによりメモリセルの抵抗値を可逆的に変化させてデータを記憶する。
このような半導体記憶装置において、1つのメモリセルに2ビット以上のデータを保持する多値セル方式を実行可能な半導体記憶装置も提案されている。例えば、1つのメモリセルに複数の電極を形成することで、1つのメモリセル内に複数種類のフィラメントパスを形成可能に構成された半導体記憶装置が提案されている。
しかし、そのような多値セル方式の半導体記憶装置では、多値セルを実現するためにメモリセルと周辺回路との配線接続が複雑となり、いわゆるエリアペナルティが増加するという問題がある。
以下に記載の実施の形態に係る半導体記憶装置は、エリアペナルティを増加させることなく、多値セル方式を実現可能とした半導体記憶装置を提供するものである。
一の実施の形態に係る半導体記憶装置は、複数のグローバル第1配線と、複数のグローバル第1配線と交差する複数のグローバル第2配線と、複数のグローバル第1配線及び複数のグローバル第2配線の交差領域に対応して配置される複数のメモリブロックとを備える。この半導体記憶装置は更に、複数のローカル第1配線と、複数のローカル第1配線と交差する複数のローカル第2配線と、メモリブロック内に配置され複数のローカル第1配線及び複数のローカル第2配線の交差領域に対応して配置される複数のメモリセルとを備える。複数のメモリセルの各々は、可変抵抗素子と、可変抵抗素子の第1の面に配置される複数の第1電極と、第1の面とは異なる第2の面に配列される複数の第2電極とを備える。複数の第1電極は、それぞれ複数のローカル第1配線の1つに接続され、複数の第2電極は、それぞれ複数のローカル第2配線の1つに接続される。
以下、図面を参照して、半導体記憶装置の実施の形態について説明する。
[第1の実施の形態]
先ず、第1の実施の形態に係る半導体記憶装置について説明する。
図1は、第1の実施の形態に係る半導体記憶装置の全体構成を示すブロック図である。この半導体記憶装置は、メモリセルアレイ10と、制御部11と、ロウデコーダ12と、カラムデコーダ13と、電圧発生回路14とから大略構成されている。
先ず、第1の実施の形態に係る半導体記憶装置について説明する。
図1は、第1の実施の形態に係る半導体記憶装置の全体構成を示すブロック図である。この半導体記憶装置は、メモリセルアレイ10と、制御部11と、ロウデコーダ12と、カラムデコーダ13と、電圧発生回路14とから大略構成されている。
メモリセルアレイ10は、メモリブロックMBを、例えばマトリクス状に配置して構成される。メモリブロックMBは、後述するように、複数のメモリセルMCを備えている。メモリセルアレイ10には、Y方向を長手方向としX方向に所定ピッチで配置される複数のグローバルビット線GBL(GBL1〜GBLj:グローバル第1配線)と、X方向を長手方向としY方向に所定ピッチで配置されてグローバルビット線GBLと交差するグローバルワード線GWL(GWL1〜GWLk:グローバル第2配線)が配置されている。複数のグローバルビット線GBLと複数のグローバルワード線GWLの交差領域に対応してメモリブロックMBがマトリクス状に配置されている。メモリブロックMBは、それぞれ複数のグローバルビット線GBLのいずれか、及び複数のグローバルワード線GWLのいずれかと接続されている。
なお、図1では図示を省略しているが、メモリセルアレイ10中には、ローカルビット線LBL(ローカル第1配線)、及びローカルワード線LWL(ローカル第2配線)も配列されている。後述するように、ローカルビット線LBL及びローカルワード線LWLは、それぞれ複数本ずつ1つのメモリセルMCにおいて交差し接続される(クロスポイント構造)。
制御部11は、メモリブロックMB、ロウデコーダ12、及びカラムデコーダ13、及び電圧発生回路14を制御して、メモリセルMCへの書き込み動作、読み出し動作、消去動作等を実行する。
ロウデコーダ12は、制御部11からの命令に従い、グローバルワード線GWLを選択する。また、カラムデコーダ13は、制御部11からの命令に従い、グローバルビット線GBLを選択する。
電圧発生回路14は、制御部11からの命令に従い、書き込み動作、読み出し動作、及び消去動作に必要な電圧を発生させる。
ロウデコーダ12は、制御部11からの命令に従い、グローバルワード線GWLを選択する。また、カラムデコーダ13は、制御部11からの命令に従い、グローバルビット線GBLを選択する。
電圧発生回路14は、制御部11からの命令に従い、書き込み動作、読み出し動作、及び消去動作に必要な電圧を発生させる。
続いて、図2を参照して、メモリブロックMBの構成を説明する。メモリブロックMBの各々は、複数のメモリセルMCと、ローカルビット線セレクタ15と、ローカルワード線セレクタ16とを備える。
メモリセルMCは、後述するように、可変抵抗素子と、複数の電極とから構成される。
メモリセルMCは、後述するように、可変抵抗素子と、複数の電極とから構成される。
メモリブロックMBには、それぞれ複数のローカルビット線LBL及びローカルワード線LWLが配列されている。ローカルビット線LBLは、X方向を長手方向としてY方向に所定ピッチで配列される。ローカルワード線LWLは、Y方向を長手方向としてX方向に所定ピッチで配列され、ローカルビット線LBLと交差する。1つのメモリセルMCに対し、それぞれ複数のローカルビット線LBL、及びローカルワード線LWLが接続される。換言すれば、1つのメモリセルMCの上面、及び下面において、ローカルビット線LBL及びローカルワード線LWLが互いに交差するように配置され、それぞれメモリセルMCに接続される。
図2は、1つのメモリブロックMB内に(n+1)行(n+1)列のメモリセルMCが配置され、1本のメモリセルMCに対し、それぞれ(m+1)本のローカルビット線LBL、及び(m+1)本のローカルワード線LWLが接続される例を示している。例えば、左上のメモリセルMCにおいては、その上方に(m+1)本のローカルビット線LBL00〜LBL0mが配置され、その下方に(m+1)本のローカルワード線LWL00〜LWL0mが配置される。
図2は、1つのメモリブロックMB内に(n+1)行(n+1)列のメモリセルMCが配置され、1本のメモリセルMCに対し、それぞれ(m+1)本のローカルビット線LBL、及び(m+1)本のローカルワード線LWLが接続される例を示している。例えば、左上のメモリセルMCにおいては、その上方に(m+1)本のローカルビット線LBL00〜LBL0mが配置され、その下方に(m+1)本のローカルワード線LWL00〜LWL0mが配置される。
ローカルビット線セレクタ15は、X方向に1列に並ぶメモリセルMC毎に配置され、図2の例では、1つのメモリブロックMB中に(n+1)個のローカルビット線セレクタ15が配置されている。ローカルビット線セレクタ15の各々は、1列のメモリセルMCに接続される複数本(図2の例ではm+1)本)のローカルビット線LBLに接続され、そのうちの1本を、グローバルビット線GBLの信号、及び制御部11からの選択信号に従い選択可能に構成される。
ローカルワード線セレクタ16は、Y方向に1行に並ぶメモリセルMC毎に配置され、図2の例では、1つのメモリブロックMB中に(n+1)個のローカルワード線セレクタ16が配置されている。ローカルワード線セレクタ16の各々は、1行のメモリセルMCに接続される複数本(図2の例ではm+1)本)のローカルワード線LWLに接続され、そのうちの1本を、グローバルワード線GWLの信号、及び制御部11からの選択信号に従い選択可能に構成される。
次に、1つのメモリセルMCの構造について、図3〜図5を参照して説明する。図3は、1つのメモリセルMCの構成を示す斜視図である。また、図4、及び図5は、それぞれ1つのメモリセルMCの平面図及び底面図である。
メモリセルMCは、可変抵抗素子VRと、複数の電極ECを備えている。この図3〜図5の例では、1つの面に2個ずつ、計4個の電極EC1〜4が配置される例を示している。可変抵抗素子VRは、電圧を印加されることによりその内部に電流経路としてのフィラメントを形成可能に構成される物質であり、例えば酸化ハフニウム(HfOx)などの遷移金属酸化物などにより構成され得る。
可変抵抗素子VRは、例えば図3に示すような矩形形状を有しており、対向する第1の面S1と第2の面S2とを有している。可変抵抗素子VRの矩形形状はあくまでも一例であり、独立した2つの面を有する形状であれば、形状は不問である。
そして、複数の電極ECのうちの2以上の電極は第1の面S1上に配置され、残りの2以上の電極は第2の面S2上に配置される。この例では、2つの電極EC1、EC3(第1電極)が第1の面S1上に配置され、2つの電極EC2、EC4(第2電極)が第2の面上に配置されている。
電極ECの形状は特定の形には限定されないが、1つの面において形成される複数の電極ECは、互いに電気的に絶縁されるように配置される。
そして、複数の電極ECのうちの2以上の電極は第1の面S1上に配置され、残りの2以上の電極は第2の面S2上に配置される。この例では、2つの電極EC1、EC3(第1電極)が第1の面S1上に配置され、2つの電極EC2、EC4(第2電極)が第2の面上に配置されている。
電極ECの形状は特定の形には限定されないが、1つの面において形成される複数の電極ECは、互いに電気的に絶縁されるように配置される。
また、可変抵抗素子VRを挟んで対向する電極ECの位置関係も、特定の位置関係には限定されないが、少なくともXY平面の一部において重複するのが好ましい。XY平面において(XY平面から見て)電極EC1、EC3が電極EC2、EC4と重複することで、所定の電圧が印加された場合において、可変抵抗素子VRにおいてフィラメントパスを最短距離で形成することができる。図3の例では、電極EC1〜EC4は、いずれもX方向を長手方向とし且つY方向に所定の幅を有し、所定の距離をあけて配置されている。そして、電極EC1、EC3のXY平面における位置は、電極EC2、EC4のXY平面における位置と一致している。
そして、図4に示すように、第1の面S1側の電極EC1、EC3上には、ローカルビット線LBL(LBL00、LBL01)が配線され、コンタクトC1、C2を介して電極EC1、EC3と接続されている。ローカルビット線LBL00、LBL01は、いずれもX方向を長手方向として配置され、それぞれ電極EC1、EC3のいずれかと接続される。
一方、図5に示すように、第2の面S2側の電極EC2、EC4上には、ローカルワード線LWL(LWL00、LWL01)が配線され、コンタクトC3、C4を介して電極EC2、EC4と接続されている。ローカルワード線LWL00、LWL01は、いずれもY方向を長手方向として配置され、それぞれ電極EC2、EC4のいずれかと接続される。ワード線LWL00、LWL01は、2つの電極EC2、EC4をまたぐように配線されるが、電極EC2、EC4のうちのどちらか一方とのみコンタクトC3又はC4を介して接続される。
このように、本実施の形態のメモリセルMCは、第1の面において、複数の電極及びコンタクトを介して複数のローカルビット線LBLと接続される一方、第1の面とは別の第2の面において、複数の電極及びコンタクトを介して複数のローカルワード線LWLと接続される。このような接続状態において、1つのメモリセルMCに接続された複数のローカルビット線LBLのうちの1つを選択するとともに、複数のローカルワード線LWLのうちの1つを選択することで、1つのメモリセルMCの中に複数種類のフィラメントパスを形成することができる。
図3〜図5に示したような両面に各2つの電極が形成される場合、図6に示すように、4種類のフィラメントパスP1〜P4を形成することができる。例えば、フィラメントパスP1を形成する場合には、ローカルビット線LBL00に電圧V1を印加する一方、ローカルワード線LWL00には0Vを印加する。他方、ローカルビット線LBL01、及びローカルワード線LWL01には、一例として電圧V1の半分の電圧V1/2を印加する。これにより、ローカルビット線LBL00とローカルワード線LWL00の間にのみ、書き込み動作に必要な電圧V1が印加され、電極EC1と電極EC2との間にフィラメントパスP1が形成され得る。
なお、図3〜図5の例では、電極EC1〜EC4を、ぞれぞれX方向を長手方向として配置し、Y方向に延びるローカルワード線LWLが複数の電極ECに跨るように配置しているが、これとは逆に、電極EC1〜EC4をY方向を長手方向として配置し、ローカルビット線LBLが複数の電極ECに跨るように配置することもできる(この場合、ローカルビット線LBLの各々は、1つのメモリセルMCにおいて跨る複数の電極ECのうちの1個のみとコンタクトを介して接続される)。
図3〜図5は、メモリセルMC(可変抵抗素子VR)の2つの面にそれぞれ2個の電極を形成した例を示している。1つの面に形成される電極の数はこれに限定されず、3以上の数とすることが可能であることは言うまでもない。図7は、第1の面S1に3個の電極EC1、EC3、EC5を配置するとともに、第2の面S2に3個の電極EC2、EC4、EC6を配置した例である。この図7の例でも、電極EC1〜EC6の形状、及び位置関係に制限はない点は、図3〜図5の場合と同様である。図8に示すように、第1の面S1においては、電極EC1、EC3、EC5がX方向を長手方向として延びるとともに、Y方向においては互いに分割され(互いに離れ)電気的に絶縁されるように配置されている。そして、このような電極EC1、EC3、EC5に対し、それぞれローカルビット線LBL01、LBL01、LBL02がコンタクトC5、C6、C7を介して接続される。
また、図9に示すように、第2の面S2においては、電極EC2、EC4、EC6がX方向を長手方向として延びるとともに、Y方向においては互いに分割され電気的に絶縁されるように配置されている。そして、このような電極EC2、EC4、EC6に跨るように3本のローカルワード線LWL00、LWL01、LWL02が配線される。これらのローカルワード線LWL00〜02は、それぞれコンタクトC8、C9又はC10を介して、電極EC2、EC4、EC6のうちのいずれか1つにのみ接続される。
以上説明したように、第1の実施の形態では、1つのメモリセルMC(可変抵抗素子VR)の2つの面のそれぞれにおいて、互いに交差する複数のローカルビット線LBL、複数のローカルワード線LWLが接続され、いずれかが選択されることにより、1つのメモリセルMCに多値データを記憶させることができる。換言すれば、1つのメモリセルMCにおいてクロスポイント型の構造を構成することにより、1つのセルに複数ビットのデータを記憶させることが可能になる。ローカルビット線LWL及びローカルワード線LWLはそれぞれ最小配線ピッチで配列することができるため、エリアペナルティも小さくすることができる。
[第2の実施の形態]
次に、第2の実施の形態に係る半導体記憶装置を、図10〜図12を参照して説明する。この第2の実施の形態の全体構成は、第1の実施の形態のそれ(図1〜図2)と同様である。ただし、この第2の実施の形態の半導体記憶装置は、メモリセルMCの構成が第1の実施の形態とは異なっている。図10は、第2の実施の形態のメモリセルMCの、第1の面S1側の平面図である。また、図11は、メモリセルMCの、第2の面S2側の平面図である。また、図12は、この第2の実施の形態において1つのメモリセルMCに形成可能なフィラメントパスを示している。なお、この第2の実施の形態でも、可変抵抗素子VRの1つの面に形成される電極ECの数が3の場合を例にとって説明するが、この数は3に限定されず、3を超える数であってもよいことは言うまでもない。この実施の形態の構成は、1つの面に形成される電極数が3以上となる場合に有効となる構成である。
次に、第2の実施の形態に係る半導体記憶装置を、図10〜図12を参照して説明する。この第2の実施の形態の全体構成は、第1の実施の形態のそれ(図1〜図2)と同様である。ただし、この第2の実施の形態の半導体記憶装置は、メモリセルMCの構成が第1の実施の形態とは異なっている。図10は、第2の実施の形態のメモリセルMCの、第1の面S1側の平面図である。また、図11は、メモリセルMCの、第2の面S2側の平面図である。また、図12は、この第2の実施の形態において1つのメモリセルMCに形成可能なフィラメントパスを示している。なお、この第2の実施の形態でも、可変抵抗素子VRの1つの面に形成される電極ECの数が3の場合を例にとって説明するが、この数は3に限定されず、3を超える数であってもよいことは言うまでもない。この実施の形態の構成は、1つの面に形成される電極数が3以上となる場合に有効となる構成である。
この第2の実施の形態のメモリセルMCは、可変抵抗素子VRの第1の面S1において、電極EC1、EC3、EC5の配置が第1の実施の形態と異なっている。第1の実施の形態では、電極EC1、EC3、EC5は、可変抵抗素子VRのX方向の第1の端部Ln1から第2の端部Ln2に達するように配置されている(図8)。
これに対し、第2の実施の形態では、図10に示すように、Y方向の両側にある電極EC1、EC5は第1の端部Ln1から伸びるが反対側の第2の端部Ln2には到達せず、X方向の途中の位置で途切れるように配置されている。一方、中央に位置する電極EC3については、逆にX方向の第2の端部Ln2から伸び、X方向の途中の位置で途切れるように配置されている。このように、1つの面S1に配置される複数の電極は、その端部の位置が異なるように配置されている。第2の実施の形態の半導体記憶装置は、第1の実施の形態に比べ、1つのメモリセルMCに形成可能なフィラメントパスの数を増加させ、これにより半導体記憶装置の記憶容量を増加させることができる。
具体的には、図12に示すように、この第2の実施の形態のメモリセルMCでは、電極EC1、EC3、EC5に接続される3つのローカルビット線LBLのうちのいずれかが選択され、電極EC2、EC4、EC6に接続される3つのローカルワード線LWLのうちのいずれかが選択されることにより、図12に示す9通りのフィラメントパスP1〜P9を形成することが可能になる。
第1の実施の形態のメモリセルMCの場合、電極EC3が第1の端部Ln1から第2の端部Ln2まで達するように形成されていることから、電極EC1からEC6に達するフィラメントパスP8、及び電極EC2からEC5に達するフィラメントパスP9を形成することは困難である。しかし、この第2の実施の形態では、電極EC3の端部の位置が、電極EC1、EC5の端部の位置と異なるようにされているため、この電極EC3の直下を避けるようにフィラメントパスP8及びP9を形成することが可能である。したがって、この第2の実施の形態によれば、1つのメモリセルMC中に形成可能なフィラメントパスの数を増加させ、半導体記憶装置の記憶容量を増加させることができる。
なお、第1の面S1に配置される電極EC1、EC3、EC5の端部の位置を異ならせる態様は、図10の配置に限定されるものではない。例えば図13に示すように、電極EC1、EC3、EC5の一方の端部の位置は、第2の端部Ln2側で揃っており、第2の端部Ln2から伸びる距離が異なるようにしてもよい。これによっても、フィラメントパスP8及びP9を形成することが可能となり、図10の構成の場合と同一の効果を得ることができる。
図14は、更に別の電極EC1、EC3、EC5の配置の例を示している。この図14では、電極EC3の端部の位置は、X方向において電極EC1、EC5の端部の位置に到達しておらず、両者は、X方向においての距離D1だけ離れている。この構成によっても、図10の構成と同一の効果を得ることができる。図15は、図14とは逆に、電極EC3の端部の位置は、X方向において電極EC1、EC5の端部の位置を超えて端部Ln1方向に伸びている。したがって、電極EC3と電極EC1、EC5とは、X方向において所定距離だけ重複している。この場合でも、電極EC1及びEC5と電極EC3とでは、X方向において重複しない位置が存在するため、その部分においてフィラメントパスP8及びP9を形成することが可能であるため、図10の構成と同一の効果を得ることが可能である。
[第3の実施の形態]
次に、第3の実施の形態に係る半導体記憶装置を、図16を参照して説明する。この第3の実施の形態の全体構成は、第1の実施の形態のそれ(図1〜図2)と同様である。ただし、この第3の実施の形態では、書き込み動作においてローカルビット線LBL及びローカルワード線LWLに印加する電圧の値(電位差)が異なっている。具体的には、この第3の実施の形態では、形成すべきフィラメントパスの長さに応じて、選択されるローカルビット線LBL及びローカルワード線LWLの間に印加される電圧の値が異なる。
次に、第3の実施の形態に係る半導体記憶装置を、図16を参照して説明する。この第3の実施の形態の全体構成は、第1の実施の形態のそれ(図1〜図2)と同様である。ただし、この第3の実施の形態では、書き込み動作においてローカルビット線LBL及びローカルワード線LWLに印加する電圧の値(電位差)が異なっている。具体的には、この第3の実施の形態では、形成すべきフィラメントパスの長さに応じて、選択されるローカルビット線LBL及びローカルワード線LWLの間に印加される電圧の値が異なる。
一例として、ローカルビット線LBLに関して、電極EC1に接続されるローカルビット線LBL00が選択される場合を考える。このとき、
電極EC2に接続されるローカルワード線LWL00が選択され、フィラメントパスP1が形成される場合には、ローカルビット線LBL00には電圧V1を印加し、ローカルビット線LWL00には0Vを印加する。その他の配線には、例えば電圧V1/2を印加し、他のフィラメントパスが形成されることを防止する。
電極EC2に接続されるローカルワード線LWL00が選択され、フィラメントパスP1が形成される場合には、ローカルビット線LBL00には電圧V1を印加し、ローカルビット線LWL00には0Vを印加する。その他の配線には、例えば電圧V1/2を印加し、他のフィラメントパスが形成されることを防止する。
一方、電極EC4に接続されるローカルワード線LWL01が選択され、フィラメントパスP5が形成される場合には、ローカルビット線LBL00には電圧V2(>V1)を印加し、ローカルワード線LWL01には0Vを印加する。その他の配線には、電圧V2/2などの電圧を印加し、他のフィラメントパスが形成されることを防止する。ローカルビット線LBL00に印加する電圧V2を、電圧V1よりも大きくするのは、フィラメントパスP5の長さが、フィラメントパスP1よりも長く、同一の電圧とした場合には、フィラメントパスP5が十分に形成されにくくなるか、又は書き込み時間が長くなるためである。
更に、電極EC6に接続されるローカルワード線LWL02が選択され、フィラメントパスP8が形成される場合には、ローカルビット線LBL00には電圧V3(>V2)を印加し、ローカルワード線LWL02には0Vを印加する。その他の配線には、電圧V3/2などの電圧を印加し、他のフィラメントパスが形成されることを防止する。
以上、ローカルビット線LBL00が選択された場合を例にとって説明したが、他のローカルビット線LBL01、02が選択される場合でも、同様の電圧調整を行うことができる。
以上、ローカルビット線LBL00が選択された場合を例にとって説明したが、他のローカルビット線LBL01、02が選択される場合でも、同様の電圧調整を行うことができる。
このように、この第3の実施の形態では、形成されるフィラメントパスの長さが長いほど、選択されるローカルビット線及びローカルワード線の間に印加される電圧を大きくする。換言すれば、第3の実施の形態では、選択されたローカルビット線LBL及びローカルワード線LWLの組合せに従って、印加する電圧の大きさを調整する。電圧の調整は、制御部11の制御信号に基づいて、電圧発生回路14において行われる。このような電圧調整がなされることにより、形成されるべきフィラメントパスの長さに関らず、均一なフィラメントパスの形成が可能となり、書き込み動作の高速化及び信頼性の向上を図ることができる。
以上、本発明のいくつかの実施の形態を説明したが、これらの実施の形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施の形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施の形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
10・・・メモリセルアレイ、 11・・・制御部、 12ロウデコーダ、 13・・・カラムデコーダ、 14・・・電圧発生回路、 GBL・・・グローバルビット線、 GWL・・・グローバルワード線、 LBL・・・ローカルビット線、 LWL・・・ローカルワード線、 MB・・・メモリブロック、 MC・・・メモリセル、 15・・・ローカルビット線セレクタ、 16・・・ローカルワード線セレクタ。
Claims (6)
- 複数のグローバル第1配線と、
前記複数のグローバル第1配線と交差する複数のグローバル第2配線と、
前記複数のグローバル第1配線及び前記複数のグローバル第2配線の交差領域に対応して配置される複数のメモリブロックと、
複数のローカル第1配線と、
前記複数のローカル第1配線と交差する複数のローカル第2配線と、
前記メモリブロック内に配置され前記複数のローカル第1配線及び前記複数のローカル第2配線の交差領域に対応して配置される複数のメモリセルと
を備え、
前記複数のメモリセルの各々は、
可変抵抗素子と、
可変抵抗素子の第1の面に配置される複数の第1電極と、
前記第1の面とは異なる第2の面に配列される複数の第2電極と
を備え、
前記複数の第1電極は、それぞれ前記複数のローカル第1配線の1つに接続され、
前記複数の第2電極は、それぞれ前記複数のローカル第2配線の1つに接続される
ことを特徴とする半導体記憶装置。 - 前記複数の第1電極は、前記ローカル第1配線の長手方向である第1方向と交差する第2方向に互いに離れて配置され、それぞれ前記複数のローカル第1配線の1つに接続され、
前記複数の第2電極は、前記第2方向に互いに離れて配置され、
前記複数のローカル第2配線の各々は、1つのメモリセル中の前記複数の第2電極に跨るように配置され、且つ前記1つのメモリセルに配置された前記複数の第2電極のうちの1つと接続される、請求項1記載の半導体記憶装置。 - 前記複数の第1電極は、前記第1方向における端部の位置が異なる、請求項2記載の半導体記憶装置。
- 前記ローカル第1配線及び前記ローカル第2配線に印加する電圧を制御する制御部を更に備え、
前記制御部は、選択された前記ローカル第1配線及び前記ローカル第2配線の組合せに従って、前記ローカル第1配線及び前記ローカル第2配線に印加する電圧を変化させる、請求項1記載の半導体記憶装置。 - 前記メモリブロックに配置され前記ローカル第1配線を選択する第1セレクタと、
前記メモリブロックに配置され前記ローカル第2配線を選択する第2セレクタと
を更に備えた請求項1記載の半導体記憶装置。 - 前記第1セレクタは、前記メモリブロック内の1列のメモリセル毎に配置され、
前記第2セレクタは、前記メモリブロック内の1行のメモリセル毎に配置される、請求項5記載の半導体記憶装置。
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---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
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JP2017051102A JP2018157011A (ja) | 2017-03-16 | 2017-03-16 | 半導体記憶装置 |
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JP2013041961A (ja) | 2011-08-15 | 2013-02-28 | Toshiba Corp | 抵抗変化メモリ及びその製造方法 |
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-
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- 2017-03-16 JP JP2017051102A patent/JP2018157011A/ja active Pending
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