JP2018145054A - ロッド集合体および光ファイバの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】楕円形のコアを有する光ファイバを容易に製造可能なロッド集合体を提供する。【解決手段】ロッド集合体１Ｒは、コアロッド１０Ｒ及びコアロッドを被覆するクラッド層２０Ｒを有するコア被覆ロッド２と、コア被覆ロッドに当接するようにコア被覆ロッドの周りに配された複数の第１充填ロッド４ａと、コア被覆ロッドを挟んで対向しコア被覆ロッドから離れて配されて、コア被覆ロッドとの間にそれぞれ第１空隙Ｓ１を形成する２つの第２充填ロッド４ｂと、を含む。コア被覆ロッドの横断面において、第１空隙の面積は、２つの第２充填ロッドの対向方向に垂直な方向においてコア被覆ロッドの両側にそれぞれ隣接する第２空隙Ｓ２の面積よりも大きい。【選択図】図２

Description

本発明は、ロッド集合体および光ファイバの製造方法に関する。

近年、ネットワークの通信量が急増しており、伝送容量を拡大するために１つのコアに１つのモードだけでなく、２つや３つなど複数のモードを伝搬させるヒューモードファイバ（ＦＭＦ）が注目を集めている。ＦＭＦは、下記特許文献１に開示されるように、コア被覆ロッドおよび充填ロッドを束ねたロッド集合体を用いて製造することができる。
ＦＭＦでは、１つのコアで複数のモードを伝搬するため、信号を取り出す際に、ＭＩＭＯ（Multiple-input and Multiple-output）処理を行って多重化された信号を分離する場合がある。
一方、このようなＭＩＭＯ処理は、コスト低減や装置の簡略化の観点から省略することが求められている。この点に関して、下記非特許文献１では、コアの形状を楕円形とすることで、ＭＩＭＯ処理を省略することが開示されている。

特開２０１５−１７８４４４号公報 特許第４６５２６１３号公報

Giovanni Milione1 et al., "1.2-Tb/s MIMO-less Transmission Over 1 km of Four-Core Elliptical-Core Few-Mode Fiber with 125-μm Diameter Cladding", OECC/PS2016

しかしながら、特許文献１には、断面が楕円形状のコアを意図的に形成する方法は開示されていない。
一方、特許文献２には、光ファイバプリフォームのクラッド部の一部を、長手方向に沿って外削することで、断面が楕円形状のコアを有する光ファイバを製造することが開示されている。しかしながら、光ファイバプリフォームを長手方向に沿って外削することは容易ではなく、光ファイバの品質の安定性、製造効率、および製造コストなどが十分でないおそれがある。

本発明はこのような事情を考慮してなされたもので、楕円形のコアを有する光ファイバを容易に製造可能なロッド集合体および光ファイバの製造方法を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、本発明の第１態様に係るロッド集合体は、コアロッド及び前記コアロッドを被覆するクラッド層を有するコア被覆ロッドと、前記コア被覆ロッドに当接するように前記コア被覆ロッドの周りに配された複数の第１充填ロッドと、前記コア被覆ロッドを挟んで対向し前記コア被覆ロッドから離れて配されて、前記コア被覆ロッドとの間にそれぞれ第１空隙を形成する２つの第２充填ロッドと、含むロッド集合体であって、前記コア被覆ロッドの横断面において、前記第１空隙の面積は、前記２つの第２充填ロッドの対向方向に垂直な方向において前記コア被覆ロッドの両側にそれぞれ隣接する第２空隙の面積よりも大きい。

上記態様に係るロッド集合体によれば、横断面において、コア被覆ロッドを径方向で挟む一対の第１空隙および一対の第２空隙が形成されており、第１空隙の面積が第２空隙の面積よりも大きい。このため、光ファイバの製造工程において、このロッド集合体を焼結若しくは線引きする際に、一対の第１空隙の対向方向よりも、これと垂直な一対の第２空隙の対向方向において、コアロッドに大きな圧縮力が作用する。そして、この圧縮力の差によって、コアロッドは第１空隙に向かって逃げるように変形する。
以上より、横断面視で、一対の第１空隙が互いに対向する方向が長軸となり、一対の第２空隙が互いに対向する方向が短軸となるように、光ファイバのコアを容易に楕円形にすることができる。

ここで、上記態様に係るロッド集合体は、４つの前記第１充填ロッドを含み、前記第１充填ロッドは前記コア被覆ロッドよりも大径であり、前記第２充填ロッドは前記第１充填ロッドよりも小径であり、前記第１空隙は、前記コア被覆ロッド、２つの前記第１充填ロッド、および前記第２充填ロッドの各外周面によって形成されていてもよい。

この場合、ロッド集合体の断面形状が全体として略円形になるため、このロッド集合体を用いて光ファイバ母材を作成した際に、光ファイバ母材を容易に略円柱形状とすることができる。さらに、第１空隙が４つのロッドの外周面によって形成されているため、この第１空隙の面積を安定させて、コアを所望の楕円形とすることができる。

また、上記態様に係るロッド集合体は、前記第１充填ロッドおよび前記第２充填ロッドよりも小径の２つの第３充填ロッドを含み、前記第３充填ロッドは、２つの前記第１充填ロッドに径方向外側から当接していてもよい。

この場合、２つの第３充填ロッドによって、ロッド集合体の断面形状をさらに円形に近づけることができる。

また、上記課題を解決するために、本発明の第２態様に係るロッド集合体は、第４充填ロッドと、コアロッド及び前記コアロッドを被覆するクラッド層を有し、前記第４充填ロッドに当接するように前記第４充填ロッドの周りに配された複数のコア被覆ロッドと、含むロッド集合体であって、周方向において、前記複数のコア被覆ロッド同士の間に第３空隙が形成されている。

上記第２態様のロッド集合体によれば、複数のコア被覆ロッドが第４充填ロッドの周りに配されるとともに、各コア被覆ロッド同士の間に、第３空隙が形成されている。このため、光ファイバの製造工程において、このロッド集合体を焼結若しくは線引きする際に、コアロッドが第４充填ロッドからの圧縮力を受けつつ、周方向の第３空隙に向けて逃げるように変形する。従って、横断面視で、周方向が長軸となり、第４充填ロッドに対向する方向が短軸となるような複数のコアを備えた光ファイバを、容易に形成することが可能となる。

ここで、上記第２態様のロッド集合体は、前記コア被覆ロッドおよび前記第４充填ロッドよりも小径の第５充填ロッドが、周方向で隣り合う一対の前記コア被覆ロッド同士の間に配されていてもよい。

この場合、第５充填ロッドによって、周方向で隣り合う一対のコア被覆ロッド同士の間の距離が安定する。これにより、第３空隙の大きさを安定させて、光ファイバのコアを容易に所望の楕円形とすることができる。

また、上記課題を解決するために、本発明の第３態様に係る光ファイバの製造方法は、上記ロッド集合体の周囲にスートを堆積させる工程と、前記スートが堆積された前記ロッド集合体を焼結させて光ファイバ母材とする工程と、前記光ファイバ母材を線引きする工程と、を有する。

上記第３態様の光ファイバの製造方法によれば、ロッド集合体を焼結する際、若しくは光ファイバ母材を線引きする際に、コアロッドが空隙に向けて逃げるように変形するため、楕円形のコアを有する光ファイバを容易に製造することができる。

本発明の上記態様によれば、楕円形のコアを有する光ファイバを高品質安定性、高効率、及び低コストで製造可能なロッド集合体および光ファイバの製造方法を提供することができる。

第１実施形態に係る光ファイバの製造方法によって作製される光ファイバの断面図である。 （ａ）は第１実施形態のロッド集合体の断面図であり、（ｂ）はその外周にスートを堆積させた状態の断面図である。 第１実施形態の光ファイバの製造工程を説明する図である。 第２実施形態の光ファイバの断面図である。 （ａ）は第２実施形態のロッド集合体の断面図であり、（ｂ）はその外周にスートを堆積させた状態の断面図である。

（第１実施形態）
以下、第１実施形態に係る光ファイバの製造方法及びロッド集合体を、図１〜図３を参照しながら説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材の形状を認識可能な大きさとするため縮尺を適宜変更している。

まず、本実施形態によって作製可能な光ファイバの構成について説明する。
図１に示すように、本実施形態に係る製造方法によって作製される光ファイバ１は、コア１０と、コア１０を囲うクラッド２０と、クラッド２０を被覆するプライマリ層３１と、プライマリ層３１を被覆するセカンダリ層３２と、を備えている。コア１０は、横断面視において楕円形に形成されている。

ここで本実施形態では、光ファイバ１の長手方向を単に長手方向という。また、長手方向に直交する横断面視において、光ファイバ１の中心軸線Ｏに直交する方向を径方向といい、中心軸線Ｏ回りに周回する方向を周方向という。
なお、後述するロッド集合体１Ｒの構成について説明する場合は、ロッド集合体１Ｒの長手方向を単に長手方向という。また、長手方向に直交する横断面視において、ロッド集合体１Ｒの中心軸線Ｏに直交する方向を径方向といい、中心軸線Ｏ回りに周回する方向を周方向という。

次に、このような構成の光ファイバ１を製造するための本実施形態に係る製造方法について具体的に説明する。

（結束工程）
まず、図２（ａ）に示すコア被覆ロッド２、第１充填ロッド４ａ、第２充填ロッド４ｂ、および第３充填ロッド４ｃを用意する。
コア被覆ロッド２は、光ファイバ１のコア１０となるコアロッド１０Ｒと、コアロッド１０Ｒを被覆するクラッド層２０Ｒと、を備えている。コアロッド１０Ｒは、横断面視において円形状に形成されている。クラッド層２０Ｒは、光ファイバ１のクラッド２０の一部となる。

第１充填ロッド４ａ、第２充填ロッド４ｂ、および第３充填ロッド４ｃは、光ファイバ１のクラッド２０の一部となる。第２充填ロッド４ｂは、コア被覆ロッド２と略同径である。第１充填ロッド４ａは、第２充填ロッド４ｂおよびコア被覆ロッド２より大径である。第３充填ロッド４ｃは、第１充填ロッド４ａ、第２充填ロッド４ｂ、およびコア被覆ロッド２よりも小径である。

本実施形態では、これらのロッド２、４ａ〜４ｃを、図２（ａ）に示すように配して結束バンド５１で束ね、ロッド集合体１Ｒとする。具体的には、ロッド集合体１Ｒは、中心部に配されたコア被覆ロッド２と、コア被覆ロッド２の径方向外側に配された４つの第１充填ロッド４ａ、２つの第２充填ロッド４ｂ、および２つの第３充填ロッド４ｃを備えている。

４つの第１充填ロッド４ａは、それぞれがコア被覆ロッド２に径方向外側から当接若しくは近接するように、コア被覆ロッド２の周りに配されている。第１充填ロッド４ａは、周方向で隣り合う両側の第１充填ロッド４ａのうち、一方に対して周方向で当接若しくは近接しており、他方に対して周方向で間隔を空けて配されている。周方向で間隔を空けて隣り合う一対の第１充填ロッド４ａ同士の間に、後述する第１空隙Ｓ１が形成されている。
なお、図２（ａ）において４つの第１充填ロッド４ａはすべてコア被覆ロッド２に当接しているが、コア被覆ロッド２に対して十分に近くに配されていれば接していなくてもよい。同様に、互いに当接する第１充填ロッド４ａ同士も、互いに十分に近くに配されていれば接していなくてもよい。

２つの第２充填ロッド４ｂは、コア被覆ロッド２を径方向で挟んで互いに対向するように配されている。以降、ロッド集合体１Ｒの横断面視において、２つの第２充填ロッド４ｂが互いに対向する方向を対向方向Ｆという。また、ロッド集合体１Ｒの横断面視において、対向方向Ｆに垂直な方向を垂直方向Ｐという。
各第２充填ロッド４ｂは、コア被覆ロッド２と対向方向Ｆで間隔を空けて配されている。すなわち、各第２充填ロッド４ｂは、コア被覆ロッド２から離されて配されている。各第２充填ロッド４ｂは、周方向で間隔を空けて隣り合う一対の第１充填ロッド４ａのそれぞれに対して、周方向から当接若しくは近接するように配されている。
なお、図２（ａ）において第２充填ロッド４ｂと第１充填ロッド４ａとは当接しているが、それぞれが十分に近くに配されていれば接していなくてもよい。

以上の構成により、ロッド集合体１Ｒには、横断面視において、コア被覆ロッド２を対向方向Ｆで挟む一対の第１空隙Ｓ１と、コア被覆ロッド２を垂直方向Ｐで挟む一対の第２空間Ｓ２と、が形成されている。一対の第１空隙Ｓ１は、コア被覆ロッド２の対向方向Ｆにおける両側に位置し、コア被覆ロッド２にそれぞれ隣接している。一対の第２空間Ｓ２は、コア被覆ロッド２の垂直方向Ｐにおける両側に位置し、コア被覆ロッド２にそれぞれ隣接している。

第１空隙Ｓ１は、コア被覆ロッド２、周方向で間隔を空けて配された一対の第１充填ロッド４ａ、および第２充填ロッド４ｂの各外周面によって形成されている。
第２空間Ｓ２は、コア被覆ロッド２、および周方向で互いに当接若しくは近接する一対の第１充填ロッド４ａの各外周面によって形成されている。
コア被覆ロッド２の横断面において、第１空隙Ｓ１の面積は、第２空隙Ｓ２の面積よりも大きい。

２つの第３充填ロッド４ｃは、周方向で互いに当接若しくは近接する一対の第１充填ロッド４ａのそれぞれに対して、周方向から当接若しくは近接するように配されている。２つの第３充填ロッド４ｃは、コア被覆ロッド２を垂直方向Ｐで挟む両側に配されている。第３充填ロッド４ｃの中心は、第１充填ロッド４ａの中心よりも径方向外側に位置している。

図３（ａ）に示すように、結束バンド５１は、上記したように束ねられた各ロッド２、４ａ〜４ｃを一体に束ねている。結束バンド５１は、樹脂製であっても金属製であってもよい。結束バンド５１は、各ロッド２、４ａ〜４ｃの外周面に傷がつくのを防止する観点では樹脂製であることが好ましく、耐熱性の観点では金属製であることが好ましい。
このようにして本実施形態に係るロッド集合体１Ｒが得られる。

（溶着工程）
溶着工程では、図３（ｂ）に示すように、ロッド集合体１Ｒの長手方向における両端部に、ロッド集合体１Ｒを回転させるためのダミーロッド５２を固定する。不純物がロッド集合体１Ｒなどに付着することを防止する観点から、ダミーロッド５２は、ロッド集合体１Ｒに対して溶着によって固定されるのが好ましい。

（外付工程）
外付工程では、ＯＶＤ（Outside vaper deposition method)法などによって、ロッド集合体１Ｒの周囲にスート３を堆積させる。スート３は、光ファイバ１のクラッド２０の一部となる。
ＯＶＤ法を用いる場合、気化されたＳｉＣｌ_４を酸水素バーナ５３の火炎中に導入しながら、この火炎をロッド集合体１Ｒの外周に当てる。この際、ダミーロッド５２を旋盤などに固定し、ロッド集合体１Ｒを中心軸線Ｏ回りに回転させつつ、酸水素バーナ５３を長手方向に往復運動させる（図３（ｃ）参照）。これにより、図２（ｂ）に示すように、ロッド集合体１Ｒの周囲にスート３が堆積する。

（焼結工程）
焼結工程では、スート３が堆積したロッド集合体１Ｒを炉内で焼結させる。これにより、コア被覆ロッド２、各充填ロッド４ａ〜４ｃ、およびスート３が互いに焼結されるとともに、スート３が透明なガラス体となる。焼結工程により、図３（ｄ）に示す光ファイバ母材１Ｐが得られる。

（線引き工程）
次に、図３（ｅ）に示すように、光ファイバ母材１Ｐの一方の端部を細く加工するとともに、他方の端部に石英管５４を取り付ける。この石英管５４を介して、真空ポンプなどで光ファイバ母材１Ｐ内の空隙を減圧し、光ファイバ母材１Ｐを加熱により溶融させた状態で引っ張る。これにより、繊維状の細いガラス（光ファイバ裸線）を引き出すことができる。引き出された光ファイバ裸線は、線引き工程の間、空中で徐々に冷却されてから、プライマリ層３１およびセカンダリ層３２で被覆され、ボビン等に巻き取られる。このようにして光ファイバ１が得られる。
なお、プライマリ層３１およびセカンダリ層３２は両方形成する必要はなく、１層のみであってもよい。また線引き工程とは別の工程でプライマリ層３１およびセカンダリ層３２を形成してもよい。

上記のロッド集合体１Ｒによれば、ロッド集合体１Ｒの横断面視において、コア被覆ロッド２を対向方向Ｆで挟む一対の第１空隙Ｓ１と、対向方向Ｆに直交する垂直方向Ｐでコア被覆ロッド２を挟む一対の第２空隙Ｓ２と、が形成されている。さらに、横断面視において、第１空隙Ｓ１の面積が第２空隙Ｓ２の面積よりも大きい。このため、焼結工程若しくは線引き工程の際に、コアロッド１０Ｒには、対向方向Ｆよりも垂直方向Ｐに大きな圧縮力が作用する。この圧縮力の差によって、コアロッド１０Ｒは第１空隙Ｓ１に向かって逃げるように変形する。従って、対向方向Ｆで長軸となり、垂直方向Ｐで短軸となる楕円形のコア１０を有する光ファイバ１を、容易に製造することができる。

また、第１空隙Ｓ１は、コア被覆ロッド２、２つの第１充填ロッド４ａ、および第２充填ロッド４ｂの各外周面によって形成されている。そして、ロッド集合体１Ｒは、４つの第１充填ロッド４ａを含み、これら第１充填ロッド４ａはコア被覆ロッド２より大径であり、第２充填ロッド４ｂは第１充填ロッド４ａより小径である。この構成により、ロッド集合体１Ｒの断面形状が全体として略円形になるため、このロッド集合体１Ｒを用いて光ファイバ母材１Ｐを作成した際に、光ファイバ母材１Ｐを容易に略円柱形状とすることができる。さらに、第１空隙Ｓ１が４つのロッドの外周面によって形成されているため、この第１空隙Ｓ１の断面積を安定させて、コア１０を所望の楕円形とすることができる。

また、ロッド集合体１Ｒが第１充填ロッド４ａおよび第２充填ロッド４ｂよりも小径の２つの第３充填ロッド４ｃを含み、第３充填ロッド４ｃは、２つの第１充填ロッド４ａに径方向外側から当接している。この構成により、ロッド集合体１Ｒの断面形状をさらに円形に近づけることが可能となる。

（第２実施形態）
次に、本発明に係る第２実施形態について説明するが、第１実施形態と基本的な構成は同様である。このため、同様の構成には同一の符号を付してその説明は省略し、異なる点についてのみ説明する。
本実施形態では、ロッド集合体の構成及びそれを用いて製造される光ファイバの断面形状が第１実施形態と異なる。

図４に示すように、本実施形態に係る製造方法によって作製される光ファイバ１Ａは、４つのコア１０を有している。各コア１０は、周方向に等間隔を空けて配されている。各コア１０は、横断面視において、周方向が長軸となり、径方向が短軸となる楕円形に形成されている。

図５（ａ）に示すように、本実施形態のロッド集合体１ＡＲは、４つのコア被覆ロッド２と、１つの第４充填ロッド４ｄと、４つの第５充填ロッド４ｅと、を含んでいる。第４充填ロッド４ｄは、ロッド集合体１ＡＲの中心部に配されている。各コア被覆ロッド２は、第４充填ロッド４ｄに径方向外側から当接するように、第４充填ロッド４ｄの周りに配されている。各コア被覆ロッド２は、周方向に間隔を空けて配されている。このため、周方向で隣り合うコア被覆ロッド２同士の間には、周方向の第３隙間Ｓ３が形成されている。

周方向で隣り合う一対のコア被覆ロッド２同士の間には、第５充填ロッド４ｅが配されている。第５充填ロッド４ｅは、コア被覆ロッド２および第４充填ロッド４ｄよりも小径である。第４充填ロッド４ｄは、コア被覆ロッド２よりも小径である。

本実施形態のロッド集合体１ＡＲでは、第３隙間Ｓ３が径方向外側に向けて開口している。このため、外付け工程では、第３隙間Ｓ３がスート３によって埋まらないように、スート３の厚みを調整するのが好ましい。例えば、スート３の厚みは、コア被覆ロッド２の外径から第５充填ロッド４ｅの外径を引いた差分の値より小さくなるようにするとよい。
なお、スート３の厚みは、外付け工程において酸水素バーナ５３を往復運動させる回数などを変更することで調整することができる。

以上説明したように、本実施形態のロッド集合体１ＡＲには、周方向で隣り合うコア被覆ロッド２同士の間に第３空隙Ｓ３が形成されている。また、各コア被覆ロッド２は、第４充填ロッド４ｄに径方向外側から当接している。本実施形態によれば、焼結工程若しくは線引き工程の際に、コアロッド１０Ｒが第４充填ロッド４ｄからの圧縮力を受けつつ、周方向の第３空隙Ｓ３に向けて逃げるように変形する。従って、横断面視で、周方向が長軸となり、第４充填ロッドに対向する方向（径方向）が短軸となるような複数のコア１０を備えた光ファイバ１を、容易に形成することが可能となる。

また、周方向で隣り合うコア被覆ロッド２同士の間に配された第５充填ロッド４ｅによって、第３空隙Ｓ３の横断面積を安定させることができる。これにより、光ファイバ１のコア１０をより容易に所望の楕円形とすることができる。

なお、本発明の技術的範囲は前記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。

例えば、第１実施形態において、第３充填ロッド４ｃの径は第２充填ロッド４ｂの径と同等若しくはそれより大きくても良い。あるいは、第３充填ロッド４ｃを含まないロッド集合体１Ｒを採用してもよい。

また、図２（ａ）では、２つの第１充填ロッド４ａがコア被覆ロッド２の垂直方向Ｐにおける一方側に配され、残り２つの第１充填ロッド４ａがコア被覆ロッド２の垂直方向Ｐにおける他方側に配されているが、他の構成を採用してもよい。例えば、図示の例よりも小径の３つ以上の第１充填ロッド４ａを周方向で並べて１つの充填ロッド列とし、一対の充填ロッド列が、コア被覆ロッド２を垂直方向Ｐで挟んで互いに対向するように配されていてもよい。

また、図５（ａ）のロッド集合体１ＡＲは４つのコア被覆ロッド２を含んでいたが、２つ、３つ、または５つ以上のコア被覆ロッド２を含むロッド集合体１ＡＲを採用してもよい。この場合、ロッド集合体１ＡＲが含む第５充填ロッド４ｅの数は、コア被覆ロッド２の数と同じであってもよい。

また、ロッド集合体１Ｒ、１ＡＲにおけるコア被覆ロッド２および充填ロッド４ａ〜４ｅの径、配置、数量などを変更してもよく、充填ロッド４ａ〜４ｅに加えて、他の充填ロッドを適宜配置してもよい。

また、図２（ａ）および図５（ａ）について、ロッド集合体１Ｒ、１ＡＲに含まれる隣り合うロッド同士は互いに当接するように配されているが、これらの一部は当接ではなく近接していてもよい。ロッド集合体１Ｒ、１ＡＲの状態で隣り合うロッド同士が近接していれば、焼結工程や線引き工程などにおいて、これら近接するロッド同士の間の隙間が埋められ、ロッド集合体１Ｒ、１ＡＲの段階で当接していたのとほぼ同様になるからである。

その他、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上記した実施の形態における構成要素を周知の構成要素に置き換えることは適宜可能であり、また、上記した実施形態や変形例を適宜組み合わせてもよい。

１、１Ａ…光ファイバ １Ｐ…光ファイバ母材 １Ｒ、１ＡＲ…ロッド集合体 ２…コア被覆ロッド ４ａ…第１充填ロッド ４ｂ…第２充填ロッド ４ｃ…第３充填ロッド ４ｄ…第４充填ロッド ４ｅ…第５充填ロッド １０…コア １０Ｒ…コアロッド ２０…クラッド ２０Ｒ…クラッド層 Ｓ１…第１空隙 Ｓ２…第２空隙 Ｓ３…第３空隙 Ｆ…対向方向 Ｐ…垂直方向

Claims (6)

1. コアロッド及び前記コアロッドを被覆するクラッド層を有するコア被覆ロッドと、
   前記コア被覆ロッドに当接するように前記コア被覆ロッドの周りに配された複数の第１充填ロッドと、
   前記コア被覆ロッドを挟んで対向し前記コア被覆ロッドから離れて配されて、前記コア被覆ロッドとの間にそれぞれ第１空隙を形成する２つの第２充填ロッドと、
   を含むロッド集合体であって、
   前記コア被覆ロッドの横断面において、前記第１空隙の面積は、前記２つの第２充填ロッドの対向方向に垂直な方向において前記コア被覆ロッドの両側にそれぞれ隣接する第２空隙の面積よりも大きい、ロッド集合体。
2. ４つの前記第１充填ロッドを含み、
   前記第１充填ロッドは前記コア被覆ロッドよりも大径であり、
   前記第２充填ロッドは前記第１充填ロッドよりも小径であり、
   前記第１空隙は、前記コア被覆ロッド、２つの前記第１充填ロッド、および前記第２充填ロッドの各外周面によって形成されている、請求項１に記載のロッド集合体。
3. 前記第１充填ロッドおよび前記第２充填ロッドよりも小径の２つの第３充填ロッドを含み、
   前記第３充填ロッドは、２つの前記第１充填ロッドに径方向外側から当接している、請求項２に記載のロッド集合体。
4. 第４充填ロッドと、
   コアロッド及び前記コアロッドを被覆するクラッド層を有し、前記第４充填ロッドに当接するように前記第４充填ロッドの周りに配された複数のコア被覆ロッドと、
   を含むロッド集合体であって、
   周方向において、前記複数のコア被覆ロッド同士の間に第３空隙が形成されている、ロッド集合体。
5. 前記コア被覆ロッドおよび前記第４充填ロッドよりも小径の第５充填ロッドが、周方向で隣り合う一対の前記コア被覆ロッド同士の間に配されている、請求項４に記載のロッド集合体。
6. 請求項１から請求項５のいずれか１項に記載のロッド集合体の周囲にスートを堆積させる工程と、
   前記スートが堆積された前記ロッド集合体を焼結させて光ファイバ母材とする工程と、
   前記光ファイバ母材を線引きする工程と、
   を有する光ファイバの製造方法。

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