JP2018124501A5 - - Google Patents
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Claims (20)
- 基板と、
前記基板の一表面に設けられ、トランジスタと配線と絶縁層とを含む回路層と、
前記回路層の上層に配列された複数の画素とを備え、
前記基板の上には、前記複数の画素が位置する表示領域と、前記表示領域の囲う周辺領域とが位置し、
前記回路層は、前記表示領域と前記周辺領域とに跨って位置し、
前記回路層の前記周辺領域には、前記回路層を貫通する貫通孔が位置し、
前記貫通孔は、前記基板の前記一表面に設けられた有底孔と重畳することを特徴とする表示装置。 - 前記貫通孔は、前記表示領域を囲む周状であることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 前記トランジスタは半導体層を有し、
前記絶縁層は、
前記半導体層の下層に設けられた第1無機絶縁層及び
前記半導体層の上層に設けられた第2無機絶縁層を有する請求項1に記載の表示装置。 - 前記複数の画素の各々に含まれる複数の発光素子と、
前記複数の発光素子発光素子を覆う封止層と、を更に備え、
前記貫通孔は、前記封止層を更に貫通することを特徴とする請求項1に記載の表示装置。 - 前記封止層は、第3無機絶縁層、第1有機絶縁層及び第4無機絶縁層を有し、
前記第3無機絶縁層は、端部が前記貫通孔の外側に配置され、
前記第1有機絶縁層は、前記第3無機絶縁層の上層に設けられ、且つ前記複数の画素に重畳し、
前記第4無機絶縁層は、前記第1有機絶縁層の上層に設けられ、且つ端部が前記貫通孔の外側に配置されることを特徴とする請求項4に記載の表示装置。 - 前記第1有機絶縁層は、端部が前記貫通孔の内側に配置されることを特徴とする請求項5に記載の表示装置。
- 前記第1有機絶縁層は、端部が前記貫通孔の外側に配置されることを特徴とする請求項5に記載の表示装置。
- 前記封止層の上層に設けられた保護層を更に備え、
前記貫通孔は、前記保護層を更に貫通することを特徴とする請求項4に記載の表示装置。 - 前記回路層には、
前記複数の画素の各々に設けられ、且つ前記複数の画素を制御する画素回路と、
前記周辺領域に設けられ、且つ前記画素回路と接続する周辺回路とを有する請求項1に記載の表示装置。 - 前記基板は、第1の辺と、前記第1の辺に交差する第2の辺とを有し、
前記基板の上には、前記第1の辺に沿って複数の端子が位置し、
前記貫通孔は、前記第2の辺に沿って延びると共に、前記第1の辺と交差する請求項1に記載の表示装置。 - 前記基板は、第1の辺と対向する第3の辺と、前記第2の辺と対向し前記第1の辺と交差する第4の辺と、を有し、
前記貫通孔は、前記第2の辺と前記第3の辺と前記第4の辺とに沿って、且つ連続して延びる請求項10に記載の表示装置。 - 基板と、
前記基板の一表面に設けられ、トランジスタと配線と絶縁層とを含む回路層と、
前記回路層の上層に配列された複数の発光素子と、
前記発光素子を覆う封止膜を備え、
前記基板の上には、前記複数の発光素子が位置する表示領域と、前記表示領域の囲う周辺領域とが位置し、
前記回路層は、前記表示領域と前記周辺領域とに跨って位置し、
前記回路層の前記周辺領域には、前記回路層と前記封止層を貫通する貫通孔を有することを特徴とする表示装置。 - 前記貫通孔は、前記表示領域を囲む周状であることを特徴とする請求項12に記載の表示装置。
- 前記トランジスタは半導体層を有し、
前記絶縁層は、
前記半導体層の下層に設けられた第1無機絶縁層及び、
前記半導体層の上層に設けられた第2無機絶縁層を有する請求項12に記載の表示装置。 - 前記貫通孔は、前記基板の前記一表面に有底孔を有することを特徴とする請求項12に記載の表示装置。
- 前記封止層は、第3無機絶縁層、第1有機絶縁層及び第4無機絶縁層を有し、
前記第3無機絶縁層は、端部が前記貫通孔の外側に配置され、
前記第1有機絶縁層は、前記第3無機絶縁層の上層に設けられ、且つ前記複数の発光素子に重畳し、
前記第4無機絶縁層は、前記第1有機絶縁層の上層に設けられ、且つ端部が前記貫通孔の外側に配置されることを特徴とする請求項12に記載の表示装置。 - 前記第1有機絶縁層は、端部が前記貫通孔の内側に配置されることを特徴とする請求項12に記載の表示装置。
- 前記第1有機絶縁層は、端部が前記貫通孔の外側に配置されることを特徴とする請求項12に記載の表示装置。
- 前記封止層の上層に設けられた保護層を更に備え、
前記貫通孔は、前記保護層を更に貫通することを特徴とする請求項12に記載の表示装置。 - 前記回路層には、
前記複数の発光素子の各々の発光を制御する画素回路と、
前記周辺領域に設けられ、且つ前記画素回路と接続する周辺回路とを有する請求項12に記載の表示装置。
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