JP2018119173A - 円筒形スパッタリングターゲット、バッキングチューブ、および円筒形スパッタリングターゲットの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】円筒形セラミックス焼結体からなるターゲット材110と、ターゲット材110の中空部に、ターゲット材110と同軸に配置されるバッキングチューブ120と、ターゲット材110とバッキングチューブ120との間隙を接合する接合層130とを備え、接合層130と接しているバッキングチューブ120の外周面には、外周面に沿って円周方向に形成される少なくとも1本の螺旋溝121が設けられる。
【選択図】図1
Description
まず、本実施の形態に係る円筒形スパッタリングターゲットについて図面を用いて説明する。
次に、円筒形スパッタリングターゲットの製造方法について図面を用いて説明する。図2は、本発明の一実施形態に係る円筒形スパッタリングターゲットの製造方法の概略を示すフロー図である。本発明の一実施形態に係る円筒形スパッタリングターゲットの製造方法は、図2に示すように、切削工程S1と配置工程S2と充填工程S3と接合工程S4とを有する。以下、各工程S1〜S4をそれぞれ説明する。なお、各工程S1〜S4以外、具体的には、CIPにより円筒形セラミックス成形体を成形する工程や、円筒形セラミックス成形体を焼成する工程などは、従来技術と同様であるため、その説明は割愛する。また、上述した円筒形スパッタリングターゲットと重複する記載も割愛する。
充填工程S3は、ターゲット材とバッキングチューブとの間隙に接合材を充填する工程である。
接合工程S4は、ターゲット材とバッキングチューブとを放冷させることにより接合材を冷却し、ターゲット材とバッキングチューブとを接合する工程である。
本実施形態に係る円筒形スパッタリングターゲットおよび円筒形スパッタリングターゲットの製造方法では、バッキングチューブに螺旋溝の加工が施してあるため、接合材を注入する時、溶融した接合材はこの溝に従い流動し、封止した端部より螺旋溝の方向に周りながら徐々に充填されるため気泡の発生を抑制できる。これにより、円筒形スパッタリングターゲットの接合部の接合率を高めることができる。当然接合率が向上したことにより接合強度も向上する。
実施例1では、ターゲット材として、外径100mm、内径81mm、全長200mmのITO製の円筒形セラミックス焼結体を5個用意した。全ての円筒形セラミックス焼結体について、接合面となる内周面以外の部分に余分な接合材が付着することを防止するため、耐熱性のマスキングテープでマスキングを行った。その後、円筒形セラミックス焼結体がバッキングチューブと接合する接合面となる内周面をインジウムで濡らすとともに、全長が1002mmとなるように、5個の円筒形セラミックス焼結体を厚み0.5mmのシリコンパッキンで挟んで一定間隔で配列し、外周面を耐熱テープで固定することにより、ターゲット材を得た。
θ:リード角
実施例2〜18及び比較例1〜3は、表1に示した、バッキングチューブに形成された螺旋溝の深さ、幅、および溝間ピッチとなるよう、バッキングチューブに螺旋溝を加工したこと以外は実施例1と同様にして円筒形スパッタリングターゲットを作製した。また、表1に、接合率、接合強度、放電試験の結果を示した。なお、比較例1〜3では、ターゲット材がバッキングチューブから脱落し、接合強度を評価できなかったため、放電試験も実施することができなかった。
Claims (6)
- 円筒形セラミックス焼結体からなるターゲット材と、
前記ターゲット材の中空部に、該ターゲット材と同軸に配置されるバッキングチューブと、
前記ターゲット材と前記バッキングチューブとの間隙を接合する接合層とを備え、
前記接合層と接している前記バッキングチューブの外周面には、該外周面に沿って円周方向に形成される少なくとも1本の螺旋溝が設けられる、円筒形スパッタリングターゲット。 - 前記螺旋溝は、深さが少なくとも0.5mm以上である、請求項1記載の円筒形スパッタリングターゲット。
- 前記螺旋溝は、幅が1.0mm以上10mm以下、溝間ピッチが5mm以上20mm以下である、請求項2記載の円筒形スパッタリングターゲット。
- 前記バッキングチューブは、外径が100mm以上200mm以下であり、内径が80mm以上180mm以下であり、
前記ターゲット材と前記バッキングチューブとの間隙は、0.5mm以上1.5mm以下である、請求項2または請求項3記載の円筒形スパッタリングターゲット。 - 円筒形スパッタリングターゲットに用いるバッキングチューブであって、
外周面に沿って円周方向に形成される少なくとも1本の螺旋溝が設けられる、バッキングチューブ。 - バッキングチューブの外周面を切削加工して、該バッキングチューブの外周面の円周方向に少なくとも1本の螺旋溝を形成する切削工程と、
円筒形セラミックス焼結体からなるターゲット材の中空部に前記バッキングチューブを同軸に配置する配置工程と、
前記ターゲット材と前記バッキングチューブとの間隙に接合材を充填する充填工程と、
前記ターゲット材と前記バッキングチューブとを放冷させることにより前記接合材を冷却し、該ターゲット材と該バッキングチューブとを接合する接合工程とを有する、円筒形スパッタリングターゲットの製造方法。
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