JP2018110045A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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磁性層13は、磁性体粒子と結合剤とを含むものである。上記磁性体粒子としてはε型酸化鉄粒子が好ましい。
図1には示していないが、磁性層13の摩擦係数を低減し、磁性層13の耐久性をより向上させるため、磁性層13の上には、フッ素系潤滑剤又はシリコーン系潤滑剤を含む潤滑剤層を設けることが好ましい。上記フッ素系潤滑剤として、トリクロロフルオロエチレン、パーフルオロポリエーテル、パーフルオロアルキルポリエーテル、パーフルオロアルキルカルボン酸等が挙げられる。上記シリコーン系潤滑剤として、シリコーンオイル、変性シリコーンオイル等が挙げられる。これらの潤滑剤は、単独で使用してもよく、また、複数を併用してもよい。より具体的には、上記フッ素系潤滑剤としては、例えば、3M社製の“Novec7100”、“Novec1720”(商品名)を用いることができ、上記シリコーン系潤滑剤としては、例えば、信越化学工業株式会社製の“KF−96L”、“KF−96A”、“KF−96”、“KF−96H”、“KF−99”、“KF−50”、“KF−54”、“KF−965”、“KF−968”、“HIVAC F−4”、“HIVAC F−5”、“KF−56A”、“KF995”、“KF−69”、“KF−410”、“KF−412”、“KF−414”、“FL”(商品名)、東レダウコーニング株式会社製の“BY16−846”、“SF8416”、“SH200”、“SH203”、“SH230”、“SF8419”、“FS1265”、“SH510”、“SH550”、“SH710”、“FZ−2110”、“FZ−2203”(商品名)を用いることができる。
磁性層13の下には、潤滑剤の保持機能と、外部応力(例えば、磁気ヘッドによる加圧力)の緩衝機能とを有する下塗層12を設けることが好ましい。また、下塗層12を設けることにより、磁気記録媒体10の強度が高まるため、磁気記録媒体10を形成する際に、カレンダ処理を可能とし、磁性層13の充填性を向上できる。下塗層12は、非磁性粉末と結合剤と潤滑剤とを含むものである。
非磁性支持体11としては、従来から使用されている磁気記録媒体用の非磁性支持体を使用できる。具体的には、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルローストリアセテート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、アラミド等からなるフィルム等が挙げられる。
非磁性支持体11の下塗層12が形成されている主面とは反対側の主面(ここでは、下面)には、走行性の向上等を目的としてバックコート層14を設けることが好ましい。バックコート層14の厚さは、好ましくは0.2〜0.8μmであり、より好ましくは0.3〜0.8μmである。バックコート層14の厚さが薄すぎると、走行性向上効果が不十分となり、厚すぎると磁気記録媒体10の全厚が厚くなり、例えば、磁気テープ1巻当たりの記録容量が小さくなる。
[磁性塗料の調製]
表1に示す磁性塗料成分(1)を高速攪拌混合機で高速混合して混合物を調製した。次に、得られた混合物をサンドミルで250分間分散処理した後、表2に示す磁性塗料成分(2)を加えて分散液を調製した。次に、得られた分散液と、表3に示す磁性塗料成分(3)とをディスパを用いて撹拌し、これをフィルタでろ過して、磁性塗料を調製した。上記磁性塗料の固形分濃度S/Sは、23質量%である。
表4に示す下塗塗料成分(1)を回分式ニーダで混練することにより混練物を調製した。次に、得られた混練物と、表5に示す下塗塗料成分(2)とをディスパを用いて撹拌して、混合液を調製した。次に、得られた混合液をサンドミルで100分間分散して分散液を調製した後、この分散液と、表6に示す下塗塗料成分(3)とをディスパを用いて撹拌し、これをフィルタでろ過して、下塗塗料を調製した。
表7に示すバックコート層用塗料成分を混合した混合液を、サンドミルで50分間分散して分散液を調製した。得られた分散液にポリイソシアネートを15部加えて撹拌し、これをフィルタでろ過して、バックコート層用塗料を調製した。
非磁性支持体(ポリエチレンナフタレートフィルム、厚さ:5μm)の上に、上記下塗塗料をカレンダ処理後の下塗層の厚さが1.1μmとなるように塗布し、100℃で乾燥して下塗層を形成した。次に、上記下塗層の上に、上記磁性塗料をカレンダ処理後の磁性層の厚さが55nmとなるように、ダイコータを用いてコーター張力を4.5N/インチとして塗布し、100℃で乾燥して磁性層を形成した。その後、ソレノイド磁石を用いて配向磁界(450kA/m)を印加しながら、垂直配向処理を行った。
実施例1で作製した磁性塗料をカレンダ処理後の磁性層の厚さが135nmとなるように塗布した以外は、実施例1と同様にして評価用磁気テープを作製した。
表1に示す磁性塗料成分(1)のε−Fe2O3磁性粉末の平均粒子径を12nmに変更し、変更後の磁性塗料成分(1)を高速攪拌混合機で高速混合して混合物を調製した。次に、得られた混合物をサンドミルで250分間分散処理した後、更に衝突型分散機により再分散処理を行った。その後は実施例1と同様に表2に示す磁性塗料成分(2)を加えて分散液を調製した。次に、得られた分散液と、表3に示す磁性塗料成分(3)とをディスパを用いて撹拌し、これをフィルタでろ過して、磁性塗料を調製した。
実施例1で作製した磁性塗料をカレンダ処理後の磁性層の厚さが85nmとなるように塗布し、100℃で乾燥して磁性層を形成した後、ソレノイド磁石を用いて配向磁界(900kA/m)を印加しながら、垂直配向処理を行った以外は、実施例1と同様にして評価用磁気テープを作製した。
表1に示す磁性塗料成分(1)のε−Fe2O3磁性粉末の平均粒子径を16nmに変更した以外は、実施例1と同様にして磁性塗料を調製した。上記磁性塗料をカレンダ処理後の磁性層の厚さが85nmとなるように塗布した以外は、実施例1と同様にして評価用磁気テープを作製した。
実施例1で作製した磁性塗料をカレンダ処理後の磁性層の厚さが85nmとなるように塗布し、100℃で乾燥して磁性層を形成した後、ソレノイド磁石を用いて配向磁界(300kA/m)を印加しながら、垂直配向処理を行った以外は、実施例1と同様にして評価用磁気テープを作製した。
実施例1で作製した磁性塗料をカレンダ処理後の磁性層の厚さが85nmとなるように塗布し、非磁性支持体の上面側に下塗層及び磁性層が形成され、下面側にバックコート層が形成された原反ロールを、7段の金属ロールを有するカレンダ装置で温度90℃、線圧300kg/cmでカレンダ処理した以外は、実施例1と同様にして評価用磁気テープを作製した。
実施例1で作製した磁性塗料をカレンダ処理後の磁性層の厚さが43nmとなるように塗布した以外は、実施例1と同様にして評価用磁気テープを作製した。
実施例1で作製した磁性塗料をカレンダ処理後の磁性層の厚さが150nmとなるように塗布した以外は、実施例1と同様にして評価用磁気テープを作製した。
実施例1で作製した磁性塗料をカレンダ処理後の磁性層の厚さが85nmとなるように塗布し、100℃で乾燥して磁性層を形成した後、ソレノイド磁石を用いて配向磁界(100kA/m)を印加しながら、垂直配向処理を行った以外は、実施例1と同様にして評価用磁気テープを作製した。
表1に示す磁性塗料成分(1)のε−Fe2O3磁性粉末の平均粒子径を18nmに変更した以外は、実施例1と同様にして磁性塗料を調製した。上記磁性塗料をカレンダ処理後の磁性層の厚さが85nmとなるように塗布した以外は、実施例1と同様にして評価用磁気テープを作製した。
表2に示す磁性塗料成分(2)の溶剤成分であるシクロヘキサノン、メチルエチルケトン、トルエンの量を、各々100部に変更して、磁性塗料の固形分濃度S/Sを20質量%とし、ダイコータのコーター張力を2.5N/インチとして上記磁性塗料を塗布した以外は、実施例1と同様にして評価用磁気テープを作製した。
表1に示す磁性塗料成分(1)のε−Fe2O3磁性粉末の平均粒子径を12nmに変更し、表2に示す磁性塗料成分(2)の溶剤成分であるシクロヘキサノン、メチルエチルケトン、トルエンの量を、各々100部に変更して、磁性塗料の固形分濃度S/Sを20質量%とした以外は、実施例1と同様にして磁性塗料を調製した。上記磁性塗料をカレンダ処理後の磁性層の厚さが85nmとなるように、ダイコータのコーター張力を2.5N/インチとして塗布した以外は、実施例1と同様にして評価用磁気テープを作製した。なお、比較例6では、実施例3と同様にε−Fe2O3磁性粉末の平均粒子径を12nmと小さくしたが、実施例3と異なり衝突型分散機による再分散処理は行わなかった。
東英工業社製の振動試料型磁力計“VSM−P7型”(製品名)を用いて、評価用磁気テープのヒステリシス曲線を求めた。上記ヒステリシス曲線から磁性層の厚さ方向のMr・t、保磁力及び角形比を求めた。具体的には、評価用磁気テープを直径8mmの円形に切断して切断サンプルとし、その切断サンプルを、磁気テープの厚さ方向を外部磁場の印加方向に揃えて20枚積層して測定サンプルとした。振動試料型磁力計からのデータのプロットモードとしては、印加磁界を−16kOe〜16kOeとし、時定数TCを0.03sec、描画ステップを6ビット、ウエイトタイムを0.3secと設定した。
磁性層の表面を、日立製作所製の走査型電子顕微鏡(SEM)“S−4800”を用い、加速電圧:2kV、倍率:10000倍(10k倍)、観察条件:U−LA100で撮影した写真の上に、図2に示すように前述の直線W及び直線Lを表示して、前述の方法によりN1及びN2を求め、これらの値からN1/0.5及びN2/0.5を求めた。
Micro Physics社製のTSA(Tape Spacing Analyzer)を用いて、磁性層の表面をn−ヘキサンで洗浄した後のスペーシングを測定した。
LTOドライブを改造して作製したリニアテープ電磁変換特性測定装置を用いて、これに、書込みトラック幅5μm、読み出しトラック幅2.3μmの誘導型/GMR複合磁気ヘッドを取り付け、テープ速度1.5m/secで、記録波長200nm(G7×1.05倍の線記録密度)の信号を磁気テープに記録して評価した。
上記出力特性の測定時に磁性層に記録された信号の、幅方向の磁化の長さを次のようにして測定した。即ち、磁気力顕微鏡として、デジタルインスツルメント社製の“Nano Scope III”を用い、周波数検出法により、信号が記録された磁性層の幅方向の磁化の長さを測定した。測定プローブには、コバルトアロイコートを有するプローブ(先端曲率半径:25〜40nm、保磁力:約400〔Oe〕、磁気モーメント:約1×10-13emu)を用い、走査範囲は5μm四方、走査速度は5μm/secとした。
11 非磁性支持体
12 下塗層
13 磁性層
14 バックコート層
Claims (7)
- 非磁性支持体と、磁性体粒子を含む磁性層とを備える磁気記録媒体であって、
前記磁性層の厚さ方向の残留磁束密度をMr、前記磁性層の平均厚さをtとすると、0.0013μT・m<Mr・t<0.0032μT・mであり、
前記磁性層の厚さ方向の角形比が、0.65以上であり、
前記磁性層の表面を走査型電子顕微鏡により10k倍で観察した画像上において、前記磁性層の幅方向に平行に、長さ500nm、幅15nmの直線Wを表示し、前記磁性層の長手方向に平行に、長さ500nm、幅15nmの直線Lを表示し、
前記直線Wが、前記画像上の粒子径50nm以上の粒子及び最大幅50nm以上の空隙と交差せず、且つ、前記画像上において、前記直線Wが交差する磁性体粒子の数をN1とし、
前記直線Lが、前記画像上の粒子径50nm以上の粒子及び最大幅50nm以上の空隙と交差せず、且つ、前記画像上において、前記直線Lが交差する磁性体粒子の数をN2とした場合、
N1及びN2を0.5μmで除した単位μm当たりの磁性体粒子の数をN1/0.5及びN2/0.5とすると、N1/0.5>60、且つ、N2/0.5>60の関係が成立することを特徴とする磁気記録媒体。 - 前記磁性層に記録された信号の磁化の長さであって前記磁性層の幅方向の前記磁化の長さを1μm以下とした場合、TMRヘッドで再生される請求項1に記載の磁気記録媒体。
- 前記磁性体粒子は、ε型酸化鉄からなる請求項1又は2に記載の磁気記録媒体。
- 前記ε型酸化鉄からなる磁性体粒子の平均粒子径が、15nm以下である請求項3に記載の磁気記録媒体。
- 前記磁性層の厚さ方向の保磁力が、3000エルステッド〔Oe〕以上である請求項1〜4のいずれか1項に記載の磁気記録媒体。
- 前記磁性層の表面をn−ヘキサンで洗浄した後の前記磁性層の表面のスペーシングをTSA(Tape Spacing Analyzer)で測定したとき、前記スペーシングの値は、5nm以上12nm以下である請求項1〜5のいずれか1項に記載の磁気記録媒体。
- 前記磁性層の厚さが、30nm以上200nm以下である請求項1〜6のいずれか1項に記載の磁気記録媒体。
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