JP2018109401A - 真空ポンプ - Google Patents

Abstract

【課題】本発明は、簡単に洗浄することが可能であり、特に、粒子、流体かすのような堆積を、真空ポンプの予真空領域から簡単に取り除くことが可能な真空ポンプを提供する。【解決手段】真空ポンプ、特にターボ分子ポンプであって、レシーバーが接続可能である、流体、特にプロセスガス、又は空気の為の少なくとも一つのインレット１４と、流体の為の少なくとも一つのアウトレット７４を有するハウジング１６，９０を有し、そして、特にレシーバーからの流体を真空ポンプ１０を通してインレットからアウトレットへ搬送するための、ハウジング内に設けられた少なくとも一つのポンプ段を有し、その際、ハウジング内に、チャンバーが形成されている真空ポンプにおいて、チャンバー内に、堆積の収容の為の少なくとも一つの中敷きが設けられており、これが、チャンバーを画成するチャンバーの少なくとも一つの面を覆っている。【選択図】図１

Description

本発明は、真空ポンプ、特にターボ分子ポンプであって、流体、特にプロセスガス又は空気の為の少なくとも一つのインレットを有し、このインレットにレシーバーが接続可能であり、そして流体の為の少なくとも一つのアウトレットを有するハウジングを有し、そして、ハウジング内に設けられた、流体、特にレシーバーからの流体を真空ポンプを通してインレットからアウトレットへと搬送するためのポンプ段を有し、その際、ハウジング内に、特にアウトレット内に開口する好ましくは真空ポンプの吐出領域を形成するチャンバーが形成されているものに関する。

真空ポンプは、ターボ分子ポンプのようなものであり、様々な技術領域で使用される。各プロセスに必要な真空を達成するためである。その際、ポンプによってポンピングされる真空ポンプ内の流体からの、例えばプロセス汚染、粒子、及び／又は流体かすのような堆積が、そこに、特にその予真空領域に集中する、又は堆積する、又は堆積するという問題が生じ得る。これら、場合によっては腐食性の、及び毒性の堆積は、メンテナンスの際に、特に機械的、物理的、及び／又は化学的な洗浄によって部分的に高コストでもって、又は高い労力を払って除去される必要がある。真空ポンプのハウジングと、ハウジングの予真空領域を取り囲む下部分は、場合によっては、そこに場合によっては配置される構成グループ（電気的構成グループ、精密部品構成グループ、シール等）とともに洗浄を困難とする。というのは、例えば高温上記、洗浄媒体などが有害作用を有する可能性があるからである。

欧州特許出願公開第 ３ ０７０ ３３５ Ａ１号 欧州特許出願公開第 ２ ７４０ ９５６ Ａ２号 欧州特許出願公開第 ２ ０６０ ７９４ Ａ２号 欧州特許出願公開第 ２ ８０１ ７２５ Ａ２号 欧州特許出願公開第 １ ８４３ ０４３ Ａ２号

このような背景から、本発明は、簡単に洗浄されることが可能である真空ポンプを提供することを課題とする。特に、堆積は、真空ポンプの予真空領域から簡単に取り除かれることが可能である。

この課題は、請求項１に記載の特徴を有する真空ポンプによって解決される。本発明の好ましい実施形及び発展形は、従属請求項に記載される。

発明に係る真空ポンプ、特にターボ分子ポンプは、流体、特にプロセスガス、又は空気の為の少なくとも一つのインレット及びアウトレットを有し、その際インレットにはレシーバーが接続可能である。発明に係る真空ポンプは、その上、ハウジング内に配置された、特にレシーバーから真空ポンプのインレットからアウトレットへの流体の搬送の為の少なくとも一つのポンプ段を有する。その際、ハウジング内には、更に一つのチャンバーが形成されている。そしてその際、チャンバー内には、チャンバーを画成する少なくとも一つの面を覆う堆積の受け入れ・摂取の為の少なくとも一つの中敷きが形成されている。

チャンバーは、好ましくはアウトレット内へと開口しており、そして好ましくは真空ポンプの吐出領域を形成する。チャンバーは、よって、好ましくはポンプの予真空領域に位置している。チャンバーは、好ましくは、ポンプ方向で見てハウジング内の予真空に最も近いポンプ段に対して後配置されている。真空ポンプを通って推移するポンプチャネル（これを通って流体がポンプ内を流れる）は、チャンバーを通って推移している。ポンプによって吸引される、流体内に含まれる堆積は、よって中敷きの上に堆積する。ポンプから中敷きを取り出すことによって、堆積が取り出されることが可能である。中敷きは、好ましくは、例えばポンプのメンテナンスの枠内でチャンバーから取り出されることが可能であるようにチャンバー内に配置されていることが可能である。取り出された中敷きは、ポンプの外で洗浄され、引き続いて再びポンプ内に挿入されることが可能である。代替として、汚染した中敷きは、新しい中敷きと交換されることが可能である。チャンバーの体積の洗浄の労力・コストは、中敷きの使用によって抑えられ、又は理想的な場合、完全に切りつめられることが可能である。これによって、予真空領域における敏感な構成グループの損傷のリスクも抑えられることが可能である。

「堆積」の概念は、広く解され、そして真空ポンプによって搬送される流体中に含まれ、そして真空ポンプ内で、例えば付着、凝縮、再昇華、凝固、又は化学反応によって「鎮座」することが可能である例えば粒子、流体、ガス、又は、プラズマや原子状のガスのエキゾチックな状態のようなあらゆる種類の物質を含み得る。

中敷きが少なくとも部分的に覆うチャンバーを画成する面は、チャンバーの側方の壁部、及び／又は底部であることが可能である。中敷きは、チャンバーの、又はチャンバー壁部の可能な限り大きな面積を覆うよう形成されていることが可能である。よって、できる限り多くの堆積が、中敷き上に堆積し、チャンバー表面には堆積しない。

中敷きは、シェル状、円筒状、又は容器状に形成されていることが可能である。よって中敷きは、外からアクセス可能な容積を有する、又は定義することが可能である。この中に堆積が堆積し、そして溜まることが可能である。

中敷きは、チャンバーの底部、及び／又は、チャンバーを半径方向外側に向かって画成する側壁部、及び／又は、チャンバーを半径方向内側に向かって画成する側壁部を、特に、少なくともほぼ完全に覆うよう形成されていることが可能である。

好ましくは、中敷きは、特にその底部及び側壁部が、ある容積を取り囲む。その際、中敷きの少なくとも一つの面、特に中敷きの上面には、少なくとも一つの開口部が設けられているので、開口部を通して容積内へと堆積が集められることが可能である。開口部は、中敷きが、相応する面において壁部を有さないように形成されていることが可能である。開口部は代替として、壁部内に、一又は複数の突破部、例えばスリットが設けられるように形成されていることが可能である。よって中敷きは、その、底部から引き離されて位置する上面において、完全に、又は少なくとも部分的に開かれていることが可能であるので、積層は、上から容積内へと集中可能である。

好ましくは、中敷きは、少なくとも一つの開口部が、チャンバーの前に配置されたポンプ段の方に向けられているよう形成されている、及び／又はチャンバー内に組み込まれることが可能である。ポンプ段によって吸引され、そしてアウトレットの方へと搬送される堆積は、よって、直接中敷きの容積内へと至り、そしてそこで集められることが可能である。堆積によるチャンバー壁部の可能なコンタミネーションは、これによって大幅に減少されることが可能である。

中敷きは、好ましくはシェルとして形成されている。その形状は、特にチャンバーの形状に合わせられている。シェル形状によって、プロセス汚染、堆積、および他の物質及び粒子が、特に良好に補足され、そしてシェルによって定義される容積内に蓄えられることが可能である。シェルは、好ましくは、一方の面で少なくとも部分的に開かれており、特に、意図される組込み位置で、前に設置されるポンプ段の方向に向けられている面において少なくとも部分的に開かれている。堆積は、よって特別良好に、シェルによって形成される容積内に集められることが可能である。

チャンバーは、特にポンプ段の下に、真空ポンプの中央の軸、特にポンプ段のローターの回転軸を中心としてリング状に延在していることが可能である。チャンバーは、ポンプ段の下でリング空間の形式を形成する。この事は、特にポンプ段の吸引能力に有利に作用する。

チャンバーは、好ましくは、少なくとも近似的に長方形の断面を有する。この断面形状は、製造技術的に、特に簡単に実現されることが可能である。

中敷きは、チャンバーに対応して形成された、その上面において少なくとも部分的に開かれた、好ましくはリング形状のシェルとして形成されていることが可能である。このシェルは、底部を有し、そして好ましくは底部に対して、特に上に向かって推移する、半径方向内側に位置する、又は半径方向外側に位置する側壁部を有し形成されていることが可能である。よって中敷きは、リング形状に形成されたチャンバー内に、特にちょうどこれに合うように挿入されることが可能である。その際、好ましくはシェルは（チャンバーも）、少なくとも近似的に長方形の断面を有することができる。

中敷きは、少なくとも一つの固定部によってチャンバー内に固定されている、又は固定可能であることが可能である。固定部は、例えば少なくとも一つのスクリューを有することができる。スクリューは、例えば上から、中敷きの底部内へ、そしてその下に位置するチャンバー底部内へとねじ込まれることが可能である、又はねじ込まれていることが可能である。好ましくは、その際、大型のヘッドを有するスクリュー、例えばレンズヘッドスクリュー（独語：Ｌｉｎｓｅｎｋｏｐｆｓｃｈｒａｕｂｅ）、又はヘキサゴンスクリューが使用される。といのは、そのようなスクリューは、堆積によって覆われた底部においても簡単に場所を特定されることができ、そしてツールで解除されることが可能だからである。

中敷きは、これが、結束状態でチャンバーの上に位置するポンプ段のステーターパケットとチャンバー内で固定されることが可能であるようにも形成されている、及び／又は構成されていることが可能である。つまり、上述したステーターパケットは、中敷きに対する固定部の形式で使用されることが可能である。

中敷きは、特に中敷きへの押圧によって、第一の形状から第二の形状へと変更可能であることが可能である。その際、中敷きは、第二の形状において第一の形状に対してより大きな外直径、及び／又はより小さな内直径を有し、及び／又は、その際、中敷きは第二の形状において第一の形状に対して可塑的な、及び／又は弾性的な形状変化を有する。中敷きは、よって第一の形状でチャンバー内に挿入されることが可能である。そして特に中敷きへの押圧によって、又は、中敷きをチャンバー内へと挿入することによって、これは特に第二の形状とされることができる。これによって中敷きの外直径、及び／又は内直径は、すくなくともわずかに変化し、又はこれによって中敷きの可塑的形状変化、及び／又は弾性的形状変化が生じる。形状変化によって、中敷きはチャンバー内でいわば「締め付け」られることが可能であるので、中敷きはチャンバー内で固定されることができる。

中敷きの形状変化は、可逆的であることが可能である。中敷きの取り出しのため、又は中敷きの取り出しの後、よって、これらは再び第一の形状とされることが可能である。

形状変化は、中敷きの少なくとも一つの面、特に中敷きの半径方向外側の側壁部が、例えば中敷きの押圧によって当該面の形状幾何、特にその半径方向のサイズが変更可能であるよう形成されていることによって可能とされることができる。形状変化は、中敷きの少なくとも一つの面、特に中敷きの半径方向外側の側壁部が、例えば中敷きの押圧によって、当該面の形状幾何、特にその軸方向のサイズが変更可能であるよう形成されていることによっても可能とされることができる。これは、例えば、側壁部が、（複数の）変形要素と空所部を有し、周回する少なくとも一つの変形領域によって軸方向において接続されている少なくとも二つの部分領域から成り、そして、中敷きの押圧によって少なくとも一つの変形要素が弾性的に、又は可塑的に変形され、その際、少なくとも一つの空所部が縮小され、そして側壁部の軸方向のサイズがこれによって同様に縮小されることによって実現されることが可能である。

中敷きが、特に中敷きへの押圧によって第一の形状から第二の形状へと変化可能であり、この第二の形状において中敷きが、特に半径方向外側の側壁部が、第一の形状に対してより高い、又はより低い軸方向の高さを有することも意図され得る。中敷きの軸方向のサイズは、よって調整可能であることができる。

好ましくは、中敷きの外側面とチャンバーの側壁部の間に少なくとも一つのシールが設けられている。中敷きの外側面の後ろに位置するチャンバー壁部は、これによって効果的に堆積から保護されることが可能である。シールは、更に、中敷きのチャンバー内での挟み込みを実施することができ、よって固定部として作用可能である。シールは、好ましくは中敷きの上方の縁部と、その下に位置するチャンバーの側壁部の間にはめ込まれているが、更に、圧力分配機構として作用することができ、そして場合によっては存在する公差、又は発生する力、特に軸方向公差、又は軸方向力を、一方では中実機がチャンバー内でしっかりと固定されているように、そして他方ではチャンバーの前に置かれるステーターパケットが確実に挟まれているように分配する。

中敷きは、特に真空ポンプのハウジングにおけるアウトレットと位置合わせ可能であるアウトレット開口部を有する。流体は、よって、中敷きの容積を通って中敷きのアウトレット開口部へと至り、そして更に真空ポンプのアウトレットへと至る。アウトレット開口部が、少なくとも基本的に、真空ポンプのアウトレットの直径に相当する直径を有することが可能である。アウトレット開口部は、例えば、中敷きからの材料の除去、特に切り出しによって形成されることが可能である。

真空ポンプのアウトレットは、予真空短管を有することが可能である。この中に、チャンバーが開口している。そして中敷きは、開口部部分を有する。これは、予真空短管の中に持ち込むことが可能であり、又は持ち込まれている。開口部部分は、少なくとも部分的に、予真空短管の内壁を覆い、よってこれを堆積から保護することができる。

開口部部分は、好ましくは中敷き材料の部分により形成されており、これは、アウトレット開口部の形成の為に中敷きから除去される、又は切り出される。その際、開口部部分は、好ましくは中敷きと一体に接続されている。よって、開口部部分のために追加的な材料が必要とされない。むしろ、アウトレット開口部の形成によって「リリースされた（独語：ｆｒｅｉｇｅｗｏｒｄｅｎ）」中敷きの材料のみが使用される。

開口部部分は、特にシェル状の中敷きに対して独立した部材として形成されていることが可能である。開口部部分は、予真空短管内に挿入可能であることが可能である。開口部部分は、その際、予真空短管に合わせて形成されていることが可能である。開口部部分の外直径は、よって基本的に、予真空短管の内直径に相当し得る。更に、開口部部分の軸方向の長さは、予真空短管の軸方向の長さに合わせられていることが可能である。予真空短管内に挿入され、合わせられた開口部部分は、よって予真空短管を効果的に堆積から保護することができる。

中敷きは、金属から、特に薄板又はフィルムとして、又は好ましくは不活性のプラスチック、例えばＰＴＦＥとして形成されていることが可能である。ＰＴＦＥは、その際、ポリテトラフルオロエチレン（独語：Ｐｏｌｙｔｅｔｒａｆｌｕｏｒｅｔｈｙｌｅｎ）である。

中敷きは、少なくとも一つのコーティングを有する。これは特に、例えばニッケル又はＰＴＦＥによる付着防止層、及び／又はフィルム状の層である。中敷きの表面は、これによって例えば腐食性の堆積から保護されることが可能である。コーティングは、これが、洗浄剤によって、特に堆積と共に除去され、そして特にチャンバーから外へと洗い出されることが可能であるように形成されていることが可能である。

中敷きは、スプレーフィルム等の少なくとも一つの層の、覆うべき面へのスプレー又は塗布によって形成されている、又は作られることが可能である。層は、特にこの上に集められる堆積とともに、チャンバー壁部から引きはがされることが可能である。層は、これが、洗浄剤によって、特に堆積とともに除去され、特にチャンバーから外へと洗い出されることが可能であるように形成されていることが可能である。よって、新たなスプレー、又は塗布によって、新しい層が形成されることが可能である。

中敷きは、一部材式、又は多部材式に形成されていることが可能である。ハウジングのアウトレットには、予真空ポンプ、例えばロータリーベーンポンプが接続されることが可能である。

本発明は、更に、真空ポンプ、特にターボ分子ポンプであって、流体、特にプロセスガス、又は空気の為の少なくとも一つのインレットを有するハウジングを有するものに関する。インレットにはレシーバーが接続可能である。真空ポンプは、更に、流体の為の少なくとも一つのアウトレットと、流体を特にレシーバーから真空ポンプを通してインレットからアウトレットへと搬送するための、ハウジング内に配置されるポンプ段を有している。その際、ハウジング内には、特にアウトレット内へと開口する、好ましくは真空ポンプの吐出領域を形成するチャンバーが形成されている。そして、その際、チャンバーは、少なくとも一つの加熱装置によって加熱可能である。チャンバーは、よって堆積をチャンバーから除去するために加熱されることが可能である。

以下に本発明を添付の図面を参照しつつ例示的に説明する。

真空ポンプの斜視図 図１の真空ポンプの断面図 真空ポンプ内に配置された中敷きを有する図２の断面図 中敷きの一つのバリエーションの一部が断面図として見て取れる図３の断面図の一部 中敷きの別のバリエーションの一部が断面図として見て取れる図３の断面図の一部 中敷きの別のバリエーションの一部が断面図として見て取れる図３の断面図の一部 中敷きの別のバリエーションの一部が断面図として見て取れる図３の断面図の一部 中敷きの一つのバリエーションの一部が断面図として見て取れる図３の断面図の一部 中敷きの一つのバリエーションの一部が断面図として見て取れる図３の断面図の一部

図１及び２に示された真空ポンプ１０は、インレットフランジ１２によって取り囲まれたポンプインレット１４を有するハウジング１６を有しており、ハウジング１６内には、ポンプインレット１４に及ぶガスをハウジングの下部分９０に設けられるポンプアウトレット７４へと搬送する為の複数のポンプ段を有する。下部分９０とハウジング１６の間にはシール８１が設けられている。真空ポンプ１０は、ハウジング１６内、又は下部分９０内に、ステーターとローターを有する。ローターは回転軸１８を中心として回転可能に支承されたローターシャフト２０を有している。

真空ポンプ１０は、ターボ分子ポンプとして形成されており、ポンプ効果を奏するよう互いに直列に接続された複数のターボ分子ポンプ段を有している。これらポンプ段は、ローターシャフト２０と接続される複数のターボ分子ローターディスク２２を有し、かつ、ローターディスク２２の間に配置され、そしてハウジング１６内に固定された複数のターボ分子ステーターディスク２４を有する。これらは、スペーサーリング２６によって互いに所望の軸方向間隔に保持されている。ターボ分子ポンプ段によって実現されるポンプ効果を発するシステムは、よって、ローターディスク２２とステーターディスク２４の周期的な交互関係により構築される。その際、視認上の理由から、示された構成部材のいくつかのみに符号が付されている。ローターディスク２２とステーターディスク２４は、吸込み領域２８において、矢印３０の方向に向けられた軸方向のポンプ作用を提供する。

真空ポンプ３０は、オプションとして、ターボ分子ポンプ段の後ろに配置される一又は複数のホルベックポンプ段を有する。ホルベックポンプ段自体は公知であり、図示されていない。例えば、半径方向に互いに入れ子式に配置され、そしてポンプ効果を奏するよう互いにシリアルに接続された三つのホルベックポンプ段が設けられていることが可能である。ホルベックポンプ段のローター側の部分は、その際、ローターシャフト２０と接続される一つのローターハブと、ローターハブに固定され、そしてこれによって担持されるシリンダー側面形状のホルベックロータースリーブを有する。これらは、ローター軸１８と同軸に向けられており、そして半径方向において互いに入れ子式に接続されている。更に、一、二、又は三のシリンダー側面形状のホルベックステータースリーブが設けられていることが可能である。これらは、同様に、回転軸１８と同軸に向けられており、そして半径方向において入れ子式に接続されている。ホルベックポンプ段のポンプ効果を発する表面は、狭い半径方向のホルベック間隙を形成しつつ互いに向き合っている、変形方向の側面（各ホルベックロータースリーブとホルベックステータースリーブの側面）によって形成されている。その際、其々、ポンプ効果を発する側面の一方、特にホルベックロータースリーブの側面と、向かい合ったポンプ効果を発する表面、特にホルベックステータースリーブの側面が、回転軸１８の周りをねじ線形状に回って軸方向に推移する溝を有する構造化部を有している。溝の中では、ローターの回転によってガスが駆動促進され、これによってポンピングが行われる。ただし、表された真空ポンプ１０においては、ホルベックポンプ段は設けられていない。

シール領域３４は、特別な、この場合では非対称に形成されたステーターディスク２４によって形成される。このステーターディスクは、ローターディスク２２に対し残される中間空間を最小に保ち、第一及び第二のポンプ段の間での望まれない逆流に対するより良好なシール性を得ることを図る。

予負荷兼シールリング３２は、ハウジング１６の内壁と、ターボ分子ポンプ段の間、特に二つのスペーサーリング２６の間に設けられている。予負荷兼シールリング３２は、複数のスペーサーリング２６からなる公差を有する積層部が、ハウジング１６と下部分９０の間で確実に予負荷を与えられることに供する。更に、これは、スペーサーリング２６の積層部とハウジング１６の壁部の間の間隙を、予真空領域／排出領域から高真空領域／吸引領域への望まれない逆流に対しても追加的にシールを行う。

ハウジング１６には、フラッドガスインレット（独語：Ｆｌｕｔｇａｓｅｉｎｌａｓｓ）３６が設けられている。フラッドガスインレット３６は、好ましくは、ポンプ流下流、又は予負荷兼シールリング３２の下に位置している。接続部の高さに位置するスペーサーリング２６は、好ましくは、その側面上に、全周にわたってチャネル、又は切欠き部を設けられているので、フラッドガス（独語：Ｆｌｕｔｇａｓ）は、まず全リングチャネルに良好なコンダクタンス（独語：Ｌｅｉｔｗｅｒｔ）で分配され、そしてその後、周囲にわたって可能な限り均等にステーター積層部内の間隙へと、又は空所部へとより低いコンダクタンスで侵入し、そして真空近くのフラッド（氾濫、注気、独語：Ｆｌｕｔｅｎ）に対して機械的に安定した予真空近傍のポンプ段に達する。

下部分９０には、冷却媒体インレット３８と冷却媒体アウトレット４０が設けられている。これらの間には、少なくとも一つの冷却媒体管７６によって形成される冷却媒体配管が推移している。これは、下部分９０の周りを周回して案内されている。冷却媒体インレット３８と、冷却媒体アウトレット４０には、冷却媒体ポンプが接続されることが可能である。これによって冷却流体が冷却媒体配管を通してポンピングされることが可能である。真空ポンプ１０が冷却する為である。

冷却媒体管７６は、下部分９０の、予形成された空所部内へと例えば、特許文献１に従い圧入されていることが可能である。管端部は、例えばカット・クランプ・スクリュー、又は特別な差込み接続部によって、インレット３８又はアウトレット４０に接続されるために、各管部分として任意の角度でポンプ１０の輪郭から突き出していることが可能である。

管端部は、接続ブロック内に収容されることが可能である。接続ブロックは、インレット３８またはアウトレット４０を形成し、そしてそれらの側で下部分９０に形成されている。その際、管７６と接続ブロック３８，４０の密な接続は、種々の方法で形成されることが可能である。これは例えば、ロウ付け、はんだ付け、クランプ／プレス／ストレッチ又はエクスパンド（独語：Ｄｅｈｎｅｎ）により、又は独立したしいーる要素、例えば（カッティング）シールリング、またはシールバンド、又は統合されたシールシステムを有する特別な差込み接続による。

冷却媒体配管が表されている。これは、インレット３８から始まって、完全ならせん形状に三周して設けられる下部分９０の巻き付け部（独語：Ｕｍｓｃｈｌｉｎｇｕｎｇｅｎ）を有し、その後アウトレット４０で終了している。代替として、任意の数量、又は部材の巻き付け部が、一又は複数の異なる半径で、及び／又は、回転軸１８の異なる軸方向高さで交差していることが可能であり、
または、その周回方向において、一回又は複数回逆戻りすることが可能である。これは、例えばＵ字形状の曲折部、又は、設けられた転向ブロックによって行われる。曲折部、又は転向ブロックは、接続ブロック同様、二つの管部分端部を収容し、そしてそれらの間の接続を形成する。そのような接続ブロック、及び転向ブロックは、一つのバルブも含むことが可能である。このバルブは、冷却媒体流を制御し、又は必要に応じて中断することができる。代替として、任意のブロックが、別の一つの接続部を有することが可能である。これに、例えば、追加的な、特に平行な冷却媒体ストランド、又は、一若しくは複数のバルブ（冷却媒体流の転向又は分配の為のもの）が、必要とされる場合に応じて、冷却媒体管システムの異なる分岐に存在している。これらは、バイパスとして、又は迂回路として使用されることが可能である。

ローターシャフト３０の回転可能な支承は、ポンプアウトレット７４の領域のローラー支承部４２と、ポンプインレット４４の領域の永久磁石支承部４４によって行われる。

永久磁石支承部４４は、永久磁石支承部４４は、ローター側の支承半部４６とステーター側の支承半部４８を有する。これらは、其々、リング積層部を有する。リング積層部は、軸方向に互いに積層された永久磁石の複数のリング５０，５２から成っている。その際、マグネットリング５０，５２は、半径方向の支承間隙５４を形成しつつ互いに向かい合っている。

永久磁石支承部４４の内部には、緊急用、又は案税用支承部５６が設けられている。これは潤滑されていないローラー支承部として形成されており、そして真空ポンプの通常の運転では非接触で空転し、そしてローターが半径方向に過剰に偏向した際に初めてステーターと係合・介入・接触するに至る。ローターの半径方向のストッパーを形成するためである。ストッパーは、ローター側の構造がステーター側の構造と衝突するのを防止する。緊急用、又は安全用支承部５６は、インサートを介して独立して保持されており、よって永久磁石支承部４４と独立して交換されることが可能である。

ローラー支承部４２は、リングホルダーによって保持される。リングホルダーは、自身の側ではエラストマー要素によって軸方向も半径方向もローラー支承部ホルダー又はローラー支承部懸架部６４に連結されている。これは、下部部分９０に確実に固定されている。機械的なストッパーは、リングホルダーとローラー支承部懸架部８４の間の可能な相対動作を制限する。

ローラー支承部４２の領域内には、ローターシャフト２０に円すい形のスプラッシュナット５８が設けられている。これは、ローラー支承部４２の方に向かって増大する外直径を有している。スプラッシュナットは、潤滑剤チャネル６０によって供給される作動媒体、特に潤滑剤を収容し、そしてローラー支承部へと供給することができる。スプラッシュナット５８は、好ましくは特許文献２に従い形成されていることが可能である。

作動媒体は、潤滑剤ポンプ７８によって循環させられる。潤滑剤ポンプ７８は、好ましくは特許文献３に従い構成されている。これは、特に潤滑剤搬送チャネルを提供することができる。これは、少なくとも、特許文献４に記載のセグメント内に、Ｏ−Ｒｉｎｇシールされた円形チャネルとして構成されている。

潤滑剤ポンプ７８によって、能動的に制御される作動媒体きょうくうが実現されることが可能である。

真空ポンプ１０は、ローターの回転駆動の為の駆動モーター６２を有する。その回転子は、ローターシャフト２０によって形成されている。制御ユニット６４は、駆動モーター６２を駆動・制御する。電気的な接続部６６を介して、真空ポンプ１０と、特に制御ユニット６４及び駆動モーター６２は電流を供給されることが可能である。制御ユニット７４は、ハウジングの下側の領域を形成し、そしてカバー８０によって封されている。制御ユニット６４は、カバー８０により下部分を封する。実施形に応じて、制御ユニット６４、カバー８９及び／又は下部分９０の間には、一又は複数のシール７７が周回して設けられる、又は他のシール媒体、例えば流体シール媒体、接着剤、又は特に適合可能なモールドシールによって、相応する移行部が封されることが可能である。メディア、及び／又は汚染物が侵入することに対する安全性を獲得する為である。少なくとも一つの電気的な展開部６８によって、電流がカバー８０を通ってハウジング内へと案内され、そして特に駆動モーター６２へと供給されることが可能である。

真空展開部８６は、特許文献５に従い形成されていることが可能である。その際、ここで記載されている例においては、基板は複数のシールリングによって分離され、異なる電圧電位及び信号を互いに分離してポンプ内部から、つまり真空領域から、外へと、つまり「大気中（独語：Ａｔｍｏｓｐｈａｅｒｅ）」へと、そして特に制御ユニット６４へと案内する。

適用ケースに応じて、制御ユニット６４によっても、駆動モーター６２によっても、又はポンプ効果を発する構成要素によっても、ハウジング１６を介して主として望まれない熱がポンプ内へと運ばれることが可能である。制御ユニット６４は最も低い温度に保持される必要があるので、冷却媒体、例えば水が、好ましくはインレット３８からアウトレット４０へと流れる。

下部分９０の半径方向外側には、被覆８８が設けられていることが可能である。被覆８８（この被覆は、側面形状に、ポンプ１０の回転軸１８に沿ってスリット形成された薄板スリーブとして形成されていることが可能である）は、ポンプ１０の外側面では、好ましくは、表されていない。その下に位置する解決策へのより良好な視認性を得るためである。被覆８８は、一又は複数の覗き窓又は切り取り部を有する。下部分９０の任意の接続部、例えばシールガスインレット６８を外に向かって貫通案内するため、又はポンプ１０の形式データ（形式表示、又は刻印）（これらは下部分に取外し不能に取り付けられている）を見ることを可能とするためである。

シールガスインレット６８は、洗浄ガス接続部とも称される。シールガスインレット６８を介して、モーター６２の保護の為の洗浄ガスが、モーター室（この中にモーター６２が収納されている）内へと搬送されることが可能である。シールガスインレット６８を介してモーターの領域に導入されたガスは、下部分９０内に存在する構成要素を腐食から保護し、及び／又は、堆積するメディア（これらは、適用ケースに応じてポンプシステム中に発生する可能性がある）から保護する。モーターキャリア８２と下部分９０間には、シール８３が設けられるので、ラビリンスシール７２は、唯一残された通路として一方ではその低いコンダクタンスでもって、モーター領域およびローラー支承部領域内へと流れ込むメディアに対する遮断部を意味、そして更に、ローラー支承部領域、及びモーター領域のシールガス／不活性ガスにより高められた飽和状態を防止する。

モーター室を上に向かって画成するモーターキャリア８２と、下側のローターディスク２２の間には、ラビリンスシール７２が設けられている。電気的な駆動モーター６２は、有利には注入要素（独語：Ｖｅｒｇｕｓｓｍａｓｓｅ）によって腐食に対して保護されている。表された実施形においては、モーターキャリア８２は、駆動モーターと共に統合的に共通して鋳出されているので、モーターキャリアと一体に形成されるラビリンスシール７２のスターター側を含む全ユニットは、一つのステップで下部分９０と理想的に整向され、又は中心出しされて接続されることが可能である。

ラビリンスシール７２の半径方向外側、かつターボ分子ポンプ段の下側には、予真空領域が存在している。この中に、特に、回転軸１８を中心としてリング形状に周回するチャンバー７０が形成されている。これは、図２及び３に見て取ることができるように、基本的に長方形の断面を有している。ただしこの断面形状は、例として見られるのみであるので、他の断面形状、例えば正方形、又は円形の断面も実現されていることが可能である。チャンバー７０は、ハウジング１６内、又は下部分９０内の他の箇所に設けられていることも可能である。好ましくは、チャンバー７０は、ほとんどの堆積が発生する箇所、つまり典型的には予真空領域内に位置している。特に好ましくは、チャンバー７０は、よって最後のポンプ段とポンプインレット７４の間に一している。

表されているバリエーションでは、チャンバー７０はポンプアウトレット７４へと開口している。チャンバー７０は、よって真空ポンプ１０によってインレットから搬送されるガスの為の吐出領域を形成する。これは、ポンプインレット７４を介して、これに接続される予真空ポンプ（図示せず）へと至ることができる。予真空ポンプは、ガスを更に、例えば排ガスの為の配管（通常圧下にある）内へと搬送することができる。

図３の断面図は、図２の断面図に相当する。その際、図３に従いチャンバー７０内に、中敷き（又は封入物、独語：Ｅｉｎｌａｇｅ）９２が設けられている。この上に堆積が堆積する、又は蓄積することが可能である。堆積は、ポンプ１０によって吸引されるガスを介してポンプ１０内へと至り、そして経験に従い主としてチャンバー７０内に堆積する。中敷き９２によって、堆積（例えば素材、粒子、及び／又は流体滴のようなもの）は、中敷き９２によってカバーされる、又は覆われるチャンバー７０の壁部上に直接堆積せず、中敷き９２上に堆積する。中敷き９２は、例えば、ポンプ１０のメンテナンスの際にチャンバー７０から外にとり出され、そして洗浄され、又は新しい中敷き９２と交換されることが可能である。堆積は、よって簡単にポンプ１０から取り除かれることが可能である。

表された実施例においては、中敷き９２は基本的にチャンバー７０の形状に合わせて形成されている。中敷き９２は、よってぴったりとチャンバー７０内に入れられることが可能である。中敷き９２は、その際、カバーすべきチャンバー編基部の直前に位置することが可能である。中敷き９２は、チャンバー７０のように、半径方向でみて基本的に長方形の断面を有する円形状である。

中敷き９２は、このましくは金属薄板から形成されている。但しこれは、他の材料、例えばプラスチック、特にＰＴＦＥから形成されいてることも可能である。

中敷き９２は、底部９４、半径方向内側に位置する側壁部９６、及び半径方向外側に位置する側壁部９８を有する。これらは、近似的に、又は完全に垂直方向へ底部９４から離れる方向へ上に向かって推移している。例えば中敷き９２が少なくとも部分的に変形されて、又は予成形されて製造されるとき、一、又は複数の要素が、好ましくはテーパーを有することが可能である。底部９４と側壁部９６，９８は、上に開かれた容積１００を取り囲む。中敷き９２は、よって円環形状のシェル、又は一般的に表すと円環状の容器の形状を有する。

図３の中敷き９２は、前配置されたポンプ段の方に向けられた上側の面が開いている。ポンプ段によって吐き出されるガスは、よって、壁部等によってブロックされること無しに、容積１００内へと至ることが可能であるので、堆積は、特別良く容積１００内に集積する可能性がある。

中敷き９２は、更にアウトレット開口部１０２を有する（図４及び５参照）。その断面は好ましくは、ポンプアウトレット７４の断面に相当する。中敷き９２は、その際、アウトレット開口部１０２がポンプアウトレット７４と整列するよう、チャンバー７０内に設けられる。ガスは、よって、アウトレット開口部１０２を通ってポンプアウトレット７４内屁と、そしてひいてはポンプ１０から外へと流れることが可能である。アウトレット開口部１０２は、特に、中敷き９２から切り出される、又は他の方法で分離摘出されることによって形成されることが可能である。

中敷き９２は、チャンバー７０内に固定されており、より詳細には、好ましくは少なくとも一つの固定部によって固定されている。中敷き９２は、例えば複数のステーターディスク２４の一群に挟まれた状態で固定されることが可能である。図３に示されているように、半径方向外側に位置する側壁部９８は、はるかに上へと向かって推移しているので、その上側の端部は、最も下のステーターディスク２４に当接する。中敷き９２は、よって最も下のステーターディスク２４によってチャンバー７０内に固定されることが可能である。

図３に示すように、半径方向内側に位置する側壁部９６の上側の端部は、半径方向内側に向けられていることが可能である。しかし好ましくは（図と反対に）、側壁部９６の上側の端部と、そこに位置する下側のローターディスク２２の間に狭い間隙が存在する結果、ローターディスク２２が側壁部９６における駆動部無しに回転軸１８の周りを回転することが可能である。

図４は、図３の断面図の部分図を示す。この中に、中敷き９２の一つのバリエーションの一部分が断面で見て取ることができる。中敷き９２の当該部分は、その際、ポンプアウトレット７４の領域に存在し、そして既に上述したアウトレット開口部１０２を有する。

図４は更に、ポンプアウトレット７４を有するポンプ１０の予真空短管１０４内に開口部部分１０６が延在することを示す。開口部部分１０６は、基本的に、予真空短管１０４の内直径に相当する独立した部分、特に管形状の部分として形成されていることが可能である。開口部部分１０６は、予真空短管１０４内に導入されていることが可能である。開口部部分１０６によって形成されるチャネル１０８は、その際、中敷き９２のアウトレット開口部１０２へと接続することができる。開口部部分１０６は、中敷き９２と一体に形成されていることも可能である。

図５は、図３の断面図の部分図を示す。この中に再び、中敷き９２の部分が断面で見て取ることができる。この部分は、ポンプアウトレット７４の領域に存在し、そしてアウトレット開口部１０２を有する。図５に示された中敷き９２は、変化バリエーションを示す。このバリエーションにおいて、開口部部分１０６は、アウトレット開口部１０２の切り取りによって獲得される材料によって形成される。

表されているように、開口部部分１０６は、三角形の材料編１１０により形成されることが可能である。これらは、アウトレット開口部の星形の開口、又は切り出しによって形成される。材料片１１０は、中敷き９２と接続されたままである。材料片１１０は、予真空短管１０４内へと押圧され、そして特に予真空短管１０４の内壁部と当接させられる。短管１０４のカバーされる内壁部領域は、よって堆積から保護されている。

図６は、図３の断面図の一部を示す。この中で、中敷き９２の更に別のバリエーションの一部が断面図として見て取ることができる。表されているように、中敷き９２の底部９４内の孔内に、及びその下に位置する、チャンバー７０の底部の孔内に、ディスク１１２がねじ込まれていることが可能である。中敷き９２を固定するためである。ねじ１１２は、表されているように、好ましくはレンズヘッドネジであるので、底部９４が堆積によって覆われると、容易に見つけ出すことが可能である。回転軸１８の回転方向（図３参照）で見て、中敷き９２を固定するための複数のネジ１１２は、互いにずらされて中敷き９２の底部９４内に、又はチャンバー底部内にねじ込まれていることが可能である。

図７は、図３の断面図の一部を示す。この中では、中敷き９２の更に別のバリエーションの一部が断面図として見て取ることができる。これは、図６のバリエーションと比較して、固定の為のねじ１１２を有さない。このバリエーションでは、中敷き９２は、その上側面１１４においてここでも開放している。しかも側壁部９８内では、側壁部９８の周囲方向に沿って互いにずらされて位置する、長さ方向の連続した複数の開口部１１６、特にスリット又は突破部が設けられている。複数の開口部１１６は、図７に表されているように、側壁部９８の上側の縁部の領域に設けられている。側壁部９８の上側の縁部は、複数の開口部１１６に基づいて一つの波形状の構造を有する。

中敷き９２は、特に側壁部９８への上からの押圧によって、第一の形状から第二の形状へと移行させられることが可能である。その際、中敷き９２は第二の形状において軸方向で見て縮小されている、又は圧縮されている。複数の開口部１１６を有する側壁部９８の上側の縁部は、その際、周回する変形領域を形成している。側壁部９８への押圧によって、開口部１１６は、可塑的に、又は弾性的に変形し、及び縮小されることが可能であるので、側壁部の軸方向のサイズは縮小され、そして中敷き９２はこれにより軸方向において、圧縮される。開口部１１４は、よって、全高の変更の為、側壁部９８の軸方向の短縮変形（独語：Ｅｉｎｆｅｄｅｒｎ）を許す。中敷き９２は、その際、渦巻きばねの形式のもののようにふるまい、よって最も下のステーターディスク２４とチャンバー底部の間に挟み込まれることが可能である。

中敷き９２の「ねじ込み」によって少なくともわずかに外側の側壁部９８が半径方向外側に向かって動かされ、及び／又は内側の側壁部９６が半径方向内側に向かって動かされることが可能であり、その結果、これらが内側又は外側のチャンバー壁部と当接する、というように中敷き９２が形成されていることが可能である。中敷き９２は、これによって同様にチャンバー７０内において固定され、又はテンションがけされることが可能である。これは、例えば、側壁部９８が、周囲方向に互いにずらされて位置する、連続する複数の開口部１１６を有し、これが、側壁部の上方の縁部から出発して、少なくとも基本的に軸方向で下に向かって推移する（図示せず）ことによって可能であることができる。側壁部９８は、これによってその上方の縁部に、周囲方向に互いにずらされて位置する複数の連結部を有する。これらは、例えば、半径方向外側に向かって傾斜していることが可能である。中敷き９８をチャンバー７０内で挟み込むためである。

図７に更に示されるように、半径方向外側に位置するチャンバー７０の壁部内には、側壁部９８の周囲方向、又は回転軸１８の回転方向に周回する溝１１８が形成されていることが可能である。溝１１８内には、半径方向外側に向けられた、側壁部９８の上方の端部が介入することができる。これによって、中敷き９２の固定がチャンバー７０内で更に改善されることが可能である。溝１１８は、好ましくは、最も下のステーターディスク２４の直下を推移する。半径方向外側の側壁部９８は、このため更に、軽くエルボー状に持ち上げられた（独語：ｇｅｋｒｏｅｐｆｔ）縁部を有する。これは、軸方向で第一の、又は最も下のステーターディスク２４にあたっており、そして軸方向の圧力下にある（圧力を受ける）。

図８は、図３の断面図の一部を示す。この中に、中敷き９２のバリエーションの一部が見て取ることができる。その際、中敷き９２の半径方向外側の側壁部９８と、チャンバー７０の外側の壁部の間には、回転軸１８を中心として周回するシール１２０が設けられている。シール１２０は、好ましくは、周回する溝１１８内に埋め込まれている。この溝は、外側の側壁部９８内に設けられている。チャンバー７０の半径方向内側の壁部と、半径方向内側の側壁部９６の間には、回転軸１８の周りを周回するシール１２２が挿入されている。シール１２０と１２２は、圧力分配器の形式として作用し、チャンバー７０内での中敷き９２の固定を行う。その上、これらは、中敷き９２の各側壁部９６、９８と、その後ろに位置する各チャンバー壁部の間のシール作用を提供する。

図９は、図３の断面図の更に（別の）一部を示す。この中に、中敷き９２の一つのバリエーションの一部が断面図で見て取ることができる。側壁部９８の外側かつ上方の端部と、チャンバー７０又は最も下のステーターディスク２４の間には、回転軸１８の周囲を周回するシール１２４が挿入されている。これによって中敷き９２がチャンバー７０内で固定される。

図８及び９に示されるシール１２０、１２２及び１２４は、好ましくはＯリングシールとして形成されている。

１０ 真空ポンプ
１２ インレットフランジ
１４ ポンプインレット
１６ ハウジング
１８ 回転軸
２０ ローターシャフト
２２ ローターディスク
２４ ステーターディスク
２６ スペーサーリング
２８ 吸込み領域
３０ 矢印
３２ 予負荷兼シールリング
３４ シーリング領域
３６ フラッドガスインレット
３８ 冷却媒体インレット
４０ 冷却媒体アウトレット
４２ ローラー支承部
４４ 永久磁石支承部
４６ ローター側の支承半部
４８ ステーター側の支承半部
５０ 永久磁石のリング
５２ 永久磁石のリング
５４ 半径方向の支承間隙
５６ 緊急用、又は安全用支承部
５８ 円すい形のスプラッシュナット
６０ 潤滑剤チャネル
６２ 駆動モーター
６４ 制御ユニット
６６ 電気接続部
６８ シールガスインレット
７０ 吐出領域、チャンバー
７２ ラビリンスシール
７４ ポンプアウトレット
７６ 冷却媒体管
７７ シール
７８ 潤滑剤ポンプ
８０ カバー
８１ シール
８２ モーターキャリア
８３ シール
８４ ローラー支承部懸架部
８６ 電気展開部
８８ 被覆
９０ 下部分
９２ 中敷き
９４ 底部
９６ 側壁部
９８ 側壁部
１００ 容積
１０２ アウトレット開口部
１０４ 予真空短管
１０６ 開口部部分
１０８ チャネル
１１０ 材料片
１１２ ねじ
１１４ 上側
１１６ 開口部
１１８ 溝
１２０ シール
１２２ シール
１２４ シール

Claims (15)

1. 真空ポンプ、特にターボ分子ポンプであって、
   レシーバーが接続可能である、流体、特にプロセスガス、又は空気の為の少なくとも一つのインレット（１４）と、流体の為の少なくとも一つのアウトレット（７４）を有するハウジング（１６，９０）を有し、そして、
   特にレシーバーからの流体を真空ポンプ（１０）を通してインレット（１４）からアウトレット（７４）へ搬送するための、ハウジング（１６，９０）内に設けられた少なくとも一つのポンプ段を有し、
   その際、ハウジング（１６，９０）内に、チャンバー（７０）が形成されている真空ポンプにおいて、
   チャンバー（７０）内に、堆積の収容の為の少なくとも一つの中敷き（９２）が設けられており、これが、チャンバーを画成するチャンバーの少なくとも一つの面を覆っていることと特徴とする真空ポンプ。
2. 中敷き（９２）が、チャンバー（７０）の底部、及び／又はチャンバー（７０）を半径方向外側に向かって画成するチャンバー（７０）の側壁部、及び／又は、チャンバー（７０）を半径方向内側に向かって画成するチャンバー（７０）の側壁部を、特に少なくとも略全体的に覆うことを特徴とする請求項１に記載の真空ポンプ。
3. 中敷き（９２）が、容積（１００）を少なくとも部分的に取り囲んでおり、そして少なくとも一方の側、特に上側（１１４）に、少なくとも一つの開口部を有し、又は当該側において完全に開かれていることを特徴とする請求項１または２に記載の真空ポンプ。
4. 中敷き（９２）が、当該側、特に上側（１１４）が、ポンプ段の方に向けられているようチャンバー内に設置可能であることを特徴とする請求項３に記載の真空ポンプ。
5. 特にシェルとして形成される中敷き（９２）の形状が、少なくとも基本的にチャンバー（７０）の形状に合わせられていることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の真空ポンプ。
6. チャンバー（７０）が、特にポンプ段の下側において、真空ポンプの中央の軸を中心としてリング形状に延在し、特に、ポンプ（１０）のローターシャフト（２０）の回転軸（１８）を中心としてリング形状に延在し、その際好ましくは、チャンバー（７０）が、少なくとも近似的に長方形の断面を有することを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の真空ポンプ。
7. 中敷き（９２）が、チャンバー（７０）に対応して形成され、上が少なくとも部分的に開かれ、好ましくはリング形状のシェルであって、底部（９４）と、底部（９４）に対して好ましくは垂直に推移する、半径方向内側、または半径方向外側に位置する側壁部（９６，９８）を有するシェルとして形成されていることを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の真空ポンプ。
8. 中敷き（９２）が、少なくとも一つの固定部（１１２，１２０，１２２，１２４）によってチャンバー（７０）内に固定され、及び／又は固定可能であることを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の真空ポンプ。
9. 中敷き（９２）が、特に中敷き（９２）への押圧によって、第一の形状から第二の形状へと変化可能であり、この形状において、中敷き（９２）が、第一の形状に対して、より大きな外直径、及び／又はより小さな内直径を有し、及び／又は、この形状において、中敷き（９２）が、可塑的、及び／又は弾性的な形状変化を有し、及び／又は、中敷き（９２）が、第一の形状に対してより高い軸方向高さ、又はより低い軸方向高さを有することを特徴とする請求項１から８のいずれか一項に記載の真空ポンプ。
10. 少なくとも一つのシール（１２０，１２２，１２４）が、中敷き（９２）の一つの壁部（９４，９６，９８）と、チャンバー（７０）の一つの壁部の間に設けられていることを特徴とする請求項１から９のいずれか一項に記載の真空ポンプ。
11. 中敷き（９２）が、特に、真空ポンプ（１０）のハウジング（１６，９０）におけるアウトレット（７４）と位置合わせ可能であるアウトレット開口部（１０２）を有することを特徴とする請求項１から１０のいずれか一項に記載の特徴。
12. ポンプ（１０）のアウトレット（７４）が、予真空短管（１０４）を有し、この中にチャンバー（７０）が開口しており、そして、中敷き（９２）が、少なくとも一つの開口部部分（１０６）を有し、これが、予真空短管（１０４）内に設置可能、又は設けられていることを特徴とする請求項１１に記載の真空ポンプ。
13. 開口部部分（１０６）が、特に専ら、アウトレット開口部（１０２）の形成のため、中敷き（９２）から摘出分離された中敷き（９２）の材料の部材によって形成されていることを特徴とする請求項１２に記載の真空ポンプ。
14. 中敷き（９２）が、特に、薄板、又はフィルムの形式で金属から形成され、又は、例えばＰＴＦＥのような好ましくは不活性のプラスチックから形成されていることを特徴とする請求項１から１３のいずれか一項に記載の真空ポンプ。
15. 中敷き（９２）が、少なくとも一つのコーティングを有し、特に、例えばニッケル又はＰＴＦＥを有する付着防止層、フィルム状の層、又はスプレーフィルムによって形成される層を有することを特徴とする請求項１から１４のいずれか一項に記載の真空ポンプ。

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