JP2018098506A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2018098506A5
JP2018098506A5 JP2017236264A JP2017236264A JP2018098506A5 JP 2018098506 A5 JP2018098506 A5 JP 2018098506A5 JP 2017236264 A JP2017236264 A JP 2017236264A JP 2017236264 A JP2017236264 A JP 2017236264A JP 2018098506 A5 JP2018098506 A5 JP 2018098506A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
fluid discharge
discharge port
pass
moldable material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2017236264A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP7079085B2 (ja
JP2018098506A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from US15/375,966 external-priority patent/US10634993B2/en
Priority claimed from US15/375,912 external-priority patent/US10481491B2/en
Application filed filed Critical
Publication of JP2018098506A publication Critical patent/JP2018098506A/ja
Publication of JP2018098506A5 publication Critical patent/JP2018098506A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7079085B2 publication Critical patent/JP7079085B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2017236264A 2016-12-12 2017-12-08 インプリントリソグラフィのための液滴法および装置 Active JP7079085B2 (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US15/375,912 2016-12-12
US15/375,966 US10634993B2 (en) 2016-12-12 2016-12-12 Fluid droplet methodology and apparatus for imprint lithography
US15/375,966 2016-12-12
US15/375,912 US10481491B2 (en) 2016-12-12 2016-12-12 Fluid droplet methodology and apparatus for imprint lithography

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2018098506A JP2018098506A (ja) 2018-06-21
JP2018098506A5 true JP2018098506A5 (de) 2021-01-21
JP7079085B2 JP7079085B2 (ja) 2022-06-01

Family

ID=62634796

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017236264A Active JP7079085B2 (ja) 2016-12-12 2017-12-08 インプリントリソグラフィのための液滴法および装置

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP7079085B2 (de)
KR (1) KR102205141B1 (de)
CN (1) CN108227373B (de)
SG (1) SG10201709153VA (de)
TW (1) TWI715815B (de)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10468247B2 (en) * 2016-12-12 2019-11-05 Canon Kabushiki Kaisha Fluid droplet methodology and apparatus for imprint lithography
US11209730B2 (en) * 2019-03-14 2021-12-28 Canon Kabushiki Kaisha Methods of generating drop patterns, systems for shaping films with the drop pattern, and methods of manufacturing an article with the drop pattern
US11762295B2 (en) 2020-10-28 2023-09-19 Canon Kabushiki Kaisha Fluid droplet methodology and apparatus for imprint lithography

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69221410T2 (de) * 1991-09-19 1997-12-11 Canon Kk Serienaufzeichnungsverfahren mit Möglichkeit zur Änderung der Auflösung
US6536883B2 (en) 2001-02-16 2003-03-25 Eastman Kodak Company Continuous ink-jet printer having two dimensional nozzle array and method of increasing ink drop density
JP3922177B2 (ja) * 2002-02-12 2007-05-30 セイコーエプソン株式会社 成膜方法、成膜装置、液滴吐出装置、カラーフィルタの製造方法、表示装置の製造方法
US7559619B2 (en) * 2002-08-20 2009-07-14 Palo Alto Research Center Incorporated Digital lithography using real time quality control
JP4168788B2 (ja) 2003-03-06 2008-10-22 セイコーエプソン株式会社 成膜方法、カラーフィルタ基板の製造方法、エレクトロルミネッセンス装置用基板の製造方法、表示装置の製造方法
JP4337586B2 (ja) 2004-03-10 2009-09-30 セイコーエプソン株式会社 光学被膜の形成方法及びその方法で製造された光学物品
US8001924B2 (en) 2006-03-31 2011-08-23 Asml Netherlands B.V. Imprint lithography
US8707890B2 (en) * 2006-07-18 2014-04-29 Asml Netherlands B.V. Imprint lithography
JP4908369B2 (ja) 2007-10-02 2012-04-04 株式会社東芝 インプリント方法及びインプリントシステム
US8187515B2 (en) * 2008-04-01 2012-05-29 Molecular Imprints, Inc. Large area roll-to-roll imprint lithography
US8586126B2 (en) * 2008-10-21 2013-11-19 Molecular Imprints, Inc. Robust optimization to generate drop patterns in imprint lithography which are tolerant of variations in drop volume and drop placement
NL2003875A (en) * 2009-02-04 2010-08-05 Asml Netherlands Bv Imprint lithography method and apparatus.
JP5495767B2 (ja) 2009-12-21 2014-05-21 キヤノン株式会社 インプリント装置及び方法、並びに物品の製造方法
JP2012015324A (ja) 2010-06-30 2012-01-19 Fujifilm Corp 液体塗布装置及び液体塗布方法並びにナノインプリントシステム
NL2007633A (en) * 2010-11-22 2012-05-23 Asml Netherlands Bv A positioning system, a lithographic apparatus and a method for positional control.
JP5748291B2 (ja) 2012-02-29 2015-07-15 富士フイルム株式会社 液体吐出装置、ナノインプリントシステム及び液体吐出方法
JP6135119B2 (ja) 2012-12-19 2017-05-31 大日本印刷株式会社 インプリント方法、インプリント樹脂滴下位置決定方法及びインプリント装置
JP6329425B2 (ja) * 2014-05-02 2018-05-23 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法
US10620532B2 (en) * 2014-11-11 2020-04-14 Canon Kabushiki Kaisha Imprint method, imprint apparatus, mold, and article manufacturing method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102130284B1 (ko) 3d 프린팅을 위한 가열을 제어하는 기법
JP2020121571A (ja) 取り外し可能な支持構造体を伴う三次元物体を製造する方法
US11097472B2 (en) Generating three-dimensional objects
JP6162565B2 (ja) 三次元造形装置及び三次元造形対象物の成形方法
JP2015213130A5 (de)
JP2018098506A5 (de)
JP6294659B2 (ja) 造形物の製造方法及び制御装置
JP6384826B2 (ja) 三次元積層造形装置、三次元積層造形方法および三次元積層造形プログラム
JP2017056724A (ja) 高速３次元物体印刷用の均一な材料堆積及び硬化を生じさせるための温度管理方法及び装置
JP6957159B2 (ja) 異なる特性を有する異なる材料で三次元の印刷物を製作するためのシステムおよび方法
JP6604995B2 (ja) ３ｄプリンティング装置及びそのインクジェット着色方法
EP3338250B1 (de) Informationsverarbeitungsvorrichtung, bilderzeugungsvorrichtung, verfahren zur herstellung eines ausgabeobjekts und computerlesbares aufzeichnungsmedium
US20170173870A1 (en) System and method for compensating for dissimilar shrinkage rates in different materials used to form a three-dimensional printed object during additive manufacturing
TWI239896B (en) Liquid droplet discharging method, and liquid droplet discharging apparatus
US20170274586A1 (en) Three-dimensional object forming device and three-dimensional object forming method
US10569524B2 (en) System and method for protection of printed images formed on surfaces of three-dimensional printed objects
JP2015233101A5 (de)
JP6688708B2 (ja) ３次元オブジェクトプリンタ
JP6701300B2 (ja) ナノインプリントシステムのスループットを改善するためのシステムおよび方法
JP7079085B2 (ja) インプリントリソグラフィのための液滴法および装置
WO2015159936A1 (ja) 三次元造形物の製造方法及び三次元造形物
US10000020B2 (en) Method and device for producing areas in a printed object having different coefficients of friction
JP2016043512A (ja) ３次元造形物の製造方法
JP6533457B2 (ja) 射出成形金型におけるシボ模様転写面の製造方法
JP2015202689A (ja) ３次元造形物の製造方法及び３次元造形物の製造装置