JP2018081282A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2018081282A5
JP2018081282A5 JP2016225374A JP2016225374A JP2018081282A5 JP 2018081282 A5 JP2018081282 A5 JP 2018081282A5 JP 2016225374 A JP2016225374 A JP 2016225374A JP 2016225374 A JP2016225374 A JP 2016225374A JP 2018081282 A5 JP2018081282 A5 JP 2018081282A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
oxygen concentration
flow path
gas
space
exposure apparatus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016225374A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2018081282A (ja
JP6343326B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2016225374A priority Critical patent/JP6343326B2/ja
Priority claimed from JP2016225374A external-priority patent/JP6343326B2/ja
Priority to US15/805,167 priority patent/US10534278B2/en
Priority to KR1020170149282A priority patent/KR102216863B1/ko
Publication of JP2018081282A publication Critical patent/JP2018081282A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6343326B2 publication Critical patent/JP6343326B2/ja
Publication of JP2018081282A5 publication Critical patent/JP2018081282A5/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2016225374A 2016-11-18 2016-11-18 露光装置、および物品の製造方法 Active JP6343326B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016225374A JP6343326B2 (ja) 2016-11-18 2016-11-18 露光装置、および物品の製造方法
US15/805,167 US10534278B2 (en) 2016-11-18 2017-11-07 Exposure apparatus and method of manufacturing article
KR1020170149282A KR102216863B1 (ko) 2016-11-18 2017-11-10 노광 장치 및 물품의 제조 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016225374A JP6343326B2 (ja) 2016-11-18 2016-11-18 露光装置、および物品の製造方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018096502A Division JP6603751B2 (ja) 2018-05-18 2018-05-18 露光装置、露光方法、および物品の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2018081282A JP2018081282A (ja) 2018-05-24
JP6343326B2 JP6343326B2 (ja) 2018-06-13
JP2018081282A5 true JP2018081282A5 (enExample) 2018-07-05

Family

ID=62146895

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016225374A Active JP6343326B2 (ja) 2016-11-18 2016-11-18 露光装置、および物品の製造方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US10534278B2 (enExample)
JP (1) JP6343326B2 (enExample)
KR (1) KR102216863B1 (enExample)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6343326B2 (ja) 2016-11-18 2018-06-13 キヤノン株式会社 露光装置、および物品の製造方法
JP6603751B2 (ja) * 2018-05-18 2019-11-06 キヤノン株式会社 露光装置、露光方法、および物品の製造方法
CN112805625B (zh) * 2018-10-05 2024-05-07 Asml荷兰有限公司 用于对冷却罩的快速温度控制的气体混合

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0092132B1 (en) 1982-04-12 1988-12-14 Hitachi, Ltd. Oxygen concentration control system
JP2001118783A (ja) * 1999-10-21 2001-04-27 Nikon Corp 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
US20050175497A1 (en) * 2002-08-29 2005-08-11 Nikon Corporation Temperature control method and apparatus and exposure method and apparatus
JP2005274714A (ja) * 2004-03-23 2005-10-06 Sumitomo Electric Ind Ltd 孔構造体の製造方法及び孔構造体
JP2006085029A (ja) * 2004-09-17 2006-03-30 Az Electronic Materials Kk 感光性ポリシラザン膜を用いたパターン形成方法
JP2009267200A (ja) * 2008-04-28 2009-11-12 Canon Inc 露光装置及びデバイス製造方法
JP5448724B2 (ja) * 2009-10-29 2014-03-19 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイスの製造方法
JP5936328B2 (ja) * 2010-10-22 2016-06-22 キヤノン株式会社 露光装置およびデバイス製造方法
JP6099970B2 (ja) * 2012-12-27 2017-03-22 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイスの製造方法
JP6238580B2 (ja) * 2013-06-07 2017-11-29 キヤノン株式会社 露光装置、露光方法、それらを用いたデバイスの製造方法
JP6343326B2 (ja) 2016-11-18 2018-06-13 キヤノン株式会社 露光装置、および物品の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2018156096A5 (enExample)
JP2018081282A5 (enExample)
JP6391362B2 (ja) 減圧乾燥装置、基板処理装置および減圧乾燥方法
JP2015212827A5 (enExample)
JP2014165395A5 (enExample)
JP2018166142A5 (enExample)
TW200745774A (en) Exposure apparatus, pressure control method for the same, and device manufacturing method
TWI704631B (zh) 磊晶處理腔室、溫度控制系統及溫度控制方法
JP2015181161A5 (ja) 酸化物半導体膜の作製方法
KR102690379B1 (ko) 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치
JP2014036216A5 (enExample)
JP2007142366A5 (enExample)
JP2016092208A5 (enExample)
JP2015502036A5 (enExample)
JP2014127620A5 (enExample)
JP2015149450A5 (enExample)
JP2018045147A5 (enExample)
JP2020184553A5 (enExample)
JP2018526608A5 (enExample)
JP2007250686A5 (enExample)
KR102216863B1 (ko) 노광 장치 및 물품의 제조 방법
JP2012058440A5 (enExample)
JP2016095412A5 (enExample)
WO2015115166A1 (ja) 基板処理システム、基板処理方法及びコンピュータ記憶媒体
TWI706850B (zh) 曝光裝置、壓印裝置及物品之製造方法