JP2018065700A - 酸化ニッケル微粉末の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 好適には硫黄含有量が200質量ppm以下であって、レーザー散乱法で測定したD50が1μm以下である酸化ニッケル微粉末の製造方法であって、硫酸ニッケル水溶液を塩基性水溶液で中和してニッケル塩の中間体粒子を晶析する工程と、得られた水酸化ニッケル等の中間体粒子の焼成処理により酸化ニッケル粉末を生成する工程と、得られた酸化ニッケル粉末を解砕して微粒子にする工程とを含み、前記焼成処理を温度550〜950℃の範囲内で且つ酸素分圧5kPa以下の例えば窒素、二酸化炭素、水蒸気、アルゴン、及びヘリウムからなる群から選ばれる1種を主成分とする非還元性雰囲気下で行う。
【選択図】 なし
Description
粒径=6/(密度×比表面積)
先ず中和工程では、原料としての硫酸ニッケルの水溶液に対して、中和剤としての塩基性水溶液を添加して中和反応を生じさせ、水酸化ニッケル等のニッケル塩の中間体粒子を晶析させる。原料として用いる硫酸ニッケルは、例えば硫酸ニッケル六水和物等を用いるのが好ましく、これを水で希釈して水溶液とする。なお、最終的に得られる酸化ニッケル微粉末は電子部品用材料や電池用材料として主に用いられるため、それらの腐食を防止するため、原料や中和剤中に含まれる不純物が100質量ppm未満であることが望ましい。
次に焼成工程では、上記の中和工程で得た中間体粒子を熱処理して酸化ニッケル粉末の生成、即ち焼成が行われる。この熱処理は、温度が550〜950℃の範囲内で且つ酸素分圧が5kPa以下の非還元性雰囲気下で行われる。上記にて説明した通り、中間体粒子は硫黄を含有している。この硫黄は主に原料に由来する硫酸の形態を有しており、大部分は硫酸ニッケルのままで中間体粒子内若しくはその表面に存在している。この硫酸ニッケルは焼成により下記式1の通り分解、揮発して酸化ニッケルとなる。この式1に示す反応における分解反応を促進するため、焼成時の雰囲気を上記したように非還元性で且つ低酸素分圧にするのが良いと考えられる。
2NiSO4 → 2NiO + 2SO2 + O2
次に解砕工程では、上記焼成により得た酸化ニッケル粉末の焼結体を物理的に分離、破壊して酸化ニッケル微粉末を形成する。上記焼成工程では中間体粒子が熱分解されて酸化ニッケル粉末が生成されるが、その際、粒径の微細化が起こると共に、高温の熱処理の影響で酸化ニッケル粉末同士の焼結がある程度進行する。この焼結体を破壊するため、この工程では焼成後の酸化ニッケル粉末に対して解砕処理を行い、これにより酸化ニッケル微粉末を得るものである。解砕に用いられる装置は特に限定はなく、公知のものを用いることができる。例えば、ビーズミルやボールミル等の解砕メディアを用いた解砕装置や、ジェットミル等の解砕メディアを用いずに流体エネルギーを利用した解砕装置などを用いることができる。
上記した本発明の一具体例の製造方法により得られる酸化ニッケル微粉末は、ニッケル鍍金等に広く用いられる硫酸ニッケルを原料に用いても、レーザー散乱法で測定した中心粒径(粒度分布上で体積積算50%となるD50)が1μm以下でありながら低硫黄含有量を実現することができる。従って、この酸化ニッケル微粉末は、電子部品用材料や電池用材料として特に好適である。
(2)酸化ニッケル微粉末の比表面積の測定:比表面積測定装置(NOVA 1000e、ユアサアイオニクス社製)を用いて、BET法で行なった。
(3)酸化ニッケル微粉末又はその中間体粒子の硫黄分析:ICP発光分光分析法で行なった。
硫酸ニッケルの水溶液を撹拌しながら、水酸化ナトリウムによりpH8.0、液温60℃の条件下で中和し、得られた水酸化ニッケル沈殿物を水洗、脱水、乾燥して水酸化ニッケル粒子とした。得られた水酸化ニッケル粒子の硫黄含有量は、2.0質量%であった。この粒子10gをアルミナの試料皿に充填し、長尺石英管にヒーターを付設した管状炉に装填した。
焼成時の温度を800℃に代えて850℃にした以外は上記実施例1と同様にして酸化ニッケル微粉末を作製した。得られた酸化ニッケル微粉末は、硫黄含有量が60質量ppm、D50が0.39μm、比表面積が4.3m2/gであった。
焼成時の温度を800℃に代えて900℃にした以外は上記実施例1と同様にして酸化ニッケル微粉末を作製した。得られた酸化ニッケル微粉末は、硫黄含有量が30質量ppm、D50が0.43μm、比表面積が3.8m2/gであった。
焼成時の温度を800℃に代えて700℃にした以外は上記実施例1と同様にして酸化ニッケル微粉末を作製した。得られた酸化ニッケル微粉末は、硫黄含有量が150質量ppm、D50が0.61μm、比表面積が15m2/gであった。
焼成時の温度を800℃に代えて600℃にした以外は上記実施例1と同様にして酸化ニッケル微粉末を作製した。得られた酸化ニッケル微粉末は、硫黄含有量が170質量ppm、D50が0.87μm、比表面積が28m2/gであった。
中和時のpHを8.0に代えて8.5にした以外は上記実施例1と同様にして水酸化ニッケル粒子を生成したところ、その硫黄含有量は1.8質量%になった。この粒子100gを小型転動炉に充填し、窒素濃度99.99vol%で且つ酸素分圧0.1kPa未満の非還元性ガスを毎分10Lで導入し、この気流雰囲気の下、上記の水酸化ニッケル粒子を850℃で2時間の条件で焼成した。これにより得た酸化ニッケル粉末を乳鉢により解砕して微粉末状にした。得られた酸化ニッケル微粉末は、硫黄含有量が120ppm質量、D50が0.33μm、比表面積が4.6m2/gであった。
焼成時の温度を850℃に代えて900℃にした以外は上記実施例6と同様にして酸化ニッケル微粉末を作製した。得られた酸化ニッケル微粉末は、硫黄含有量が80質量ppm、D50が0.40μm、比表面積が4.3m2/gであった。
焼成時の温度を850℃に代えて600℃にした以外は上記実施例6と同様にして酸化ニッケル微粉末を作製した。得られた酸化ニッケル微粉末は、硫黄含有量が190質量ppm、D50が0.88μm、比表面積が31m2/gであった。
上記実施例6と同様にして水酸化ニッケル粒子を作製し、その粒子20gをアルミナの匣鉢に充填してから小型減圧加熱炉内に載置し、排気量と吸気量とを調整して炉内の圧力が20kPa以下、炉内の酸素分圧が4kPa以下の非還元性雰囲気において、850℃で2時間の条件で焼成した。これにより得た酸化ニッケル粉末を乳鉢により解砕して微粉末状にした。得られた酸化ニッケル微粉末は、硫黄含有量が100質量ppm、D50が0.40μm、比表面積が4.4m2/gであった。
上記実施例1と同様にして水酸化ニッケル粒子を管状炉に装填した後、長尺石英管の端部から酸素濃度5vol%の酸素と窒素の混合ガスを毎分1Lで導入し、酸素分圧が5kPaの非還元性ガスの気流雰囲気の下、900℃で5時間の条件で焼成した。これにより得た酸化ニッケル粉末を乳鉢により解砕して微粉末にした。得られた酸化ニッケル微粉末は、硫黄含有量が190質量ppm、D50が0.38μm、比表面積が4.0m2/gであった。
長尺石英管の端部から酸素濃度3vol%の酸素と窒素の混合ガスを毎分1Lで導入し、酸素分圧3kPaの非還元性ガスの気流雰囲気の下で焼成した以外は上記実施例10と同様にして酸化ニッケル微粉末を作製した。得られた酸化ニッケル微粉末は、硫黄含有量が150質量ppm、D50が0.39μm、比表面積が4.0m2/gであった。
長尺石英管の端部から酸素濃度1vol%の酸素と窒素の混合ガスを毎分1Lで導入し、酸素分圧1kPaの非還元性ガスの気流雰囲気の下で焼成した以外は上記実施例10と同様にして酸化ニッケル微粉末を作製した。得られた酸化ニッケル微粉末は、硫黄含有量が90質量ppm、D50が0.42μm、比表面積が3.9m2/gであった。
長尺石英管の端部から空気を毎分1Lで導入し、酸素分圧が21kPaの大気の気流雰囲気の下で焼成した以外は上記実施例1と同様にして酸化ニッケル微粉末を作製した。得られた酸化ニッケル微粉末は、硫黄含有量が340質量ppm、D50が0.30μm、比表面積が5.3m2/gであった。
長尺石英管の端部から空気を毎分1Lで導入し、酸素分圧21kPaの大気の気流雰囲気の下、850℃で5時間の条件で焼成した以外は上記実施例1と同様にして酸化ニッケル微粉末を作製した。得られた酸化ニッケル微粉末は、硫黄含有量が230質量ppm、D50が0.35μm、比表面積が4.4m2/gであった。
上記実施例6と同様にして水酸化ニッケル粒子を作製し、これを上記実施例1と同様にして管状炉に装填した後、長尺石英管の端部から空気を毎分1Lで導入し、酸素分圧21kPaの大気の気流雰囲気の下、850℃で2時間の条件で焼成した。これにより得た酸化ニッケル粉末を乳鉢により解砕して微粉末にした。得られた酸化ニッケル粉末は、硫黄含有量が270質量ppm、D50が0.31μm、比表面積が4.8m2/gであった。
長尺石英管の端部から空気を毎分1Lで導入し、酸素分圧21kPaの大気の気流雰囲気の下、600℃で5時間の条件で焼成した以外は上記実施例1と同様にして酸化ニッケル微粉末を作製した。得られた酸化ニッケル微粉末は、硫黄含有量が470質量ppm、D50が0.90μm、比表面積が29m2/gであった。
焼成時の温度を800℃に代えて1000℃にした以外は上記実施例1と同様にして酸化ニッケル微粉末を作製した。得られた酸化ニッケル微粉末は、硫黄含有量が50質量ppm、D50が1.6μm、比表面積が1.7m2/gであった。
焼成時の温度を800℃に代えて500℃にした以外は上記実施例1と同様にして酸化ニッケル微粉末を作製した。得られた酸化ニッケル微粉末は、硫黄含有量が270質量ppm、D50が1.1μm、比表面積が65m2/gであった。
長尺石英管の端部から酸素濃度10vol%の酸素と窒素の混合ガスを毎分1Lで導入し、酸素分圧10kPaの気流雰囲気の下、焼成した以外は上記実施例10と同様にして酸化ニッケル微粉末を作製した。得られた酸化ニッケル微粉末は、硫黄含有量が210質量ppm、D50が0.38μm、比表面積が4.1m2/gであった。上記した実施例及び比較例の結果を下記表1にまとめて示す。
Claims (7)
- 硫酸ニッケル水溶液を塩基性水溶液で中和してニッケル塩の中間体粒子を晶析する工程と、得られた中間体粒子の焼成処理により酸化ニッケル粉末を生成する工程と、得られた酸化ニッケル粉末を解砕して微粉末にする工程とを含み、前記焼成処理を温度550〜950℃の範囲内で且つ酸素分圧5kPa以下の非還元性雰囲気下で行うことを特徴とする酸化ニッケル微粉末の製造方法。
- 前記非還元性雰囲気は、窒素、二酸化炭素、水蒸気、アルゴン、及びヘリウムからなる群から選ばれる1種を主成分とする雰囲気であることを特徴とする、請求項1に記載の酸化ニッケル微粉末の製造方法。
- 前記中間体粒子は、水酸化ニッケル、炭酸ニッケル、及び硝酸ニッケルからなる群から選ばれる少なくとも1種の粒子であることを特徴とする、請求項1又は請求項2に記載の酸化ニッケル微粉末の製造方法。
- 前記酸素分圧が3kPa以下であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに1項に記載の酸化ニッケル微粉末の製造方法。
- 前記酸素分圧が1kPa以下であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに1項に記載の酸化ニッケル微粉末の製造方法。
- 前記微粉末の硫黄含有量が200質量ppm以下であって、レーザー散乱法で測定したD50が1μm以下であることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載の酸化ニッケル微粉末の製造方法。
- 前記硫黄含有量が100質量ppm以下であることを特徴とする、請求項6に記載の酸化ニッケル微粉末の製造方法。
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