JP2018060925A - 配線基板およびその製造方法 - Google Patents
配線基板およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018060925A JP2018060925A JP2016197653A JP2016197653A JP2018060925A JP 2018060925 A JP2018060925 A JP 2018060925A JP 2016197653 A JP2016197653 A JP 2016197653A JP 2016197653 A JP2016197653 A JP 2016197653A JP 2018060925 A JP2018060925 A JP 2018060925A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wiring conductor
- insulating resin
- layer
- metal foil
- resin layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
【課題】絶縁基体の表面から凹んで形成された配線導体を有する配線基板において、配線導体の電気的な接続検査を正確に行うことが容易な配線基板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】複数の絶縁樹脂層1a〜1dが上下に積層されて成る絶縁基体1と、最上層の絶縁樹脂層1aの上面側に埋設されており、上面が最上層の絶縁樹脂層1aの上面から凹んで露出する配線導体2と、この配線導体2上に形成されており、最上層の絶縁樹脂層1aの上面から突出する上面を有する電気検査用パッド7と、を具備して成る配線基板10である。
【選択図】図1
【解決手段】複数の絶縁樹脂層1a〜1dが上下に積層されて成る絶縁基体1と、最上層の絶縁樹脂層1aの上面側に埋設されており、上面が最上層の絶縁樹脂層1aの上面から凹んで露出する配線導体2と、この配線導体2上に形成されており、最上層の絶縁樹脂層1aの上面から突出する上面を有する電気検査用パッド7と、を具備して成る配線基板10である。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体素子を搭載するために用いられる配線基板およびその製造方法に関するものである。
図6(a),(b)に、半導体素子Sを搭載するための従来の配線基板20の例を概略断面図および概略上面図で示す。従来の配線基板20は、絶縁基体11と配線導体12とソルダーレジスト13とを備えている。
絶縁基体11は、複数の絶縁樹脂層11a〜11dが上下に積層されて成る。各絶縁樹脂層11a〜11dには、ビアホール14が形成されている。
配線導体12は、各絶縁樹脂層11a〜11dの表面およびビアホール14内に形成された複数の配線導体層12a〜12eから成る。上下の配線導体12同士は、ビアホール14を介して電気的に接続されている。
配線導体12の一部は、絶縁基体11の上面において、多数の半導体素子接続パッド15を形成している。半導体素子接続パッド15には、半導体素子Sの電極端子Tが接続される。
また、配線導体12の一部は、絶縁基体11の下面において、多数の外部接続パッド16を形成している。外部接続パッド16は、外部電気回路基板(不図示)の配線導体に接続される。
半導体素子接続パッド15と外部接続パッド16とは、所定のもの同士が各絶縁樹脂層11a〜11dに形成された配線導体12を介して互いに電気的に接続されている。
さらに、配線導体12の一部は、絶縁基体11の上面において、多数の電気検査用パッド17を形成している。電気検査用パッド17に電気検査装置のプローブを当接させて検査することにより、配線導体12の電気的な接続検査がなされる。
ソルダーレジスト13は、上面側のソルダーレジスト13aと下面側のソルダーレジスト13bとを有している。
上面側のソルダーレジスト13aは、最上層の絶縁樹脂層11aおよび配線導体層12aの上面側の表面に形成されている。上面側のソルダーレジスト13aは、半導体素子接続パッド15および電気検査用パッド17を含む配線導体層12aの一部を露出させている。
下面側のソルダーレジスト13bは、最下層の絶縁樹脂層11dおよび配線導体層12eの下面側の表面に形成されている。下面側のソルダーレジスト層13bは、外部接続パッド16を露出させている。
この配線基板20は、以下のようにして製造される。先ず、図7(a)に示すように、平坦な支持基板31上に金属箔32を支持させる。支持基板31と金属箔32とは、間に介在層33を挟んで積層されている。支持基板31と介在層33の間は、互いに固着している。金属箔32と介在層33との間は、図示しない粘着層を介して互いに剥離可能に密着している。支持基板31は、ガラスクロス入りの熱硬化性樹脂から成る。金属箔32は、銅箔から成る。介在層33は、銅箔や樹脂フィルムから成る。
次に、図7(b)に示すように、金属箔32上に最上層の配線導体層12aを形成する。配線導体層12aは、電解銅めっきから成る。
次に、図7(c)に示すように、金属箔32上および配線導体層12a上に、絶縁樹脂層11aを形成する。絶縁樹脂層11aには、配線導体層12aに接続するためのビアホール14を形成する。
次に、図7(d)に示すように、絶縁樹脂層11aの表面およびビアホール14内に配線導体層12bを形成する。
次に、図7(e)に示すように、絶縁樹脂層11b〜11dと配線導体層12c〜12eとを順次形成する。
次に、図8(f)に示すように、金属箔32と介在層33との間を剥離して金属箔32と支持基板31とを分離する。これにより、金属箔32が外部に露出する。
次に、図8(g)に示すように、露出した金属箔32をエッチング除去する。これにより絶縁樹脂層11aに埋設された配線導体層12aが外部に露出する。露出した配線導体層12aは、半導体素子接続パッド15と電気検査用パッド17とを含んでいる。このとき、配線導体層12aも、2〜20μm程度の厚みがエッチングされる。そのため、最上層の配線導体12の露出面は、絶縁樹脂層11aの表面から2〜20μm程度凹んだものとなる。
最後に、図8(h)に示すように、絶縁樹脂層11の上下面およびその表面の配線導体12上にソルダーレジスト13を形成する。これにより、図6に示した配線基板20が完成する。なお、図7および図8においては、図6に示したものと上下が逆になっている。
ここで、従来の配線基板20における上面の一部を図9に要部拡大斜視図で示す。上述したように、従来の配線基板20では、半導体素子接続パッド15および電気検査用パッド17を含む最上層の配線導体12は、最上層の絶縁樹脂層11aの表面から2〜20μm程度凹んだものとなる。そのため、配線導体12の電気的な接続検査においては、絶縁樹脂層11aの表面から2〜20μm凹んだ電気検査用パッド17上に電気的検査装置のプローブPを当接させて検査を行う必要がある。
ところが、従来の配線基板20においては、図10に示すように、プローブPの当接位置が少しずれると、プローブPが絶縁樹脂層11a上に乗り上げでしまい、プローブPが電気検査用パッド17に良好に当接しない危険性が高くなる。そのため、配線導体12の電気的な接続検査を正確に行うことが困難となる場合があった。
本発明が解決しようとする課題は、絶縁基体の表面から凹んで形成された配線導体を有する配線基板において、配線導体の電気的な接続検査を正確に行うことが容易な配線基板およびその製造方法を提供することにある。
本発明の配線基板は、複数の絶縁樹脂層が上下に積層されて成る絶縁基体と、最上層の前記絶縁樹脂層の上面側に埋設されており、上面が最上層の前記絶縁樹脂層の上面から凹んで露出する配線導体と、該配線導体上に形成されており、最上層の前記絶縁樹脂層の上面から突出する上面を有する電気検査用パッドと、を具備して成ることを特徴とするものである。
本発明の配線基板の製造方法は、平坦な支持面を有する支持基板の前記支持面上に金属箔を分離可能に支持する工程と、前記金属箔の露出表面上にめっき導体から成る最上層の配線導体層を形成する工程と、前記金属箔および前記最上層の配線導体層の露出表面上に最上層の絶縁樹脂層を積層する工程と、該最上層の絶縁樹脂層の露出表面上に次層の配線導体層を形成する工程と、前記最上層の絶縁樹脂層および前記次層の配線導体層の露出表面上に、次層の絶縁樹脂層の積層および次層の配線導体層の形成を必要に応じて複数回繰り返し行い、前記金属箔の表面上に複数の前記配線導体層および複数の前記絶縁樹脂層から成る配線基板用の積層体を形成する工程と、該積層体を前記金属箔とともに前記支持基板から分離する工程と、前記積層体における最上層の前記配線導体層上に前記金属箔の一部が電気検査用パッドとして残るように前記金属箔の残部をエッチング除去する工程と、を行うことを特徴とするものである。
本発明の配線基板によれば、電気検査用パッドは、その上面が最上層の絶縁樹脂層の上面から突出していることから、電気検査用パッドへの当接を確実に行うことができ、それにより配線導体の電気的な接続検査を正確に行うことが容易なものとなる。
また、本発明の配線基板の製造方法によれば、配線基板用の積層体における最上層の配線導体上に金属箔の一部が電気検査用パッドとして残るように金属箔の残部をエッチング除去することから、電気検査用パッドの上面が最上層の絶縁樹脂層の上面から突出したものとなる。これにより、電気検査用パッドへの当接を確実に行うことが可能であり、配線導体の電気的な接続検査を正確に行うことが容易な配線基板を提供することができる。
次に、本発明の配線基板の実施形態例について、図1を基に説明する。図1に示すように、配線基板10は、絶縁基体1と配線導体2とソルダーレジスト3とを備えている。
絶縁基体1は、複数の絶縁樹脂層1a〜1dが上下に積層されて成る。各絶縁樹脂層1a〜1dは、例えばガラスクロス基材に熱硬化性樹脂を含浸塗布させた電気絶縁材料から成る。熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂やビスマレイミドトリアジン樹脂、ポリイミド樹脂等が用いられる。各絶縁樹脂層1a〜1dの厚みは、それぞれ50〜200μm程度である。各絶縁樹脂層1a〜1dには、それぞれにビアホール4が形成されている。ビアホール4の直径は、30〜100μm程度である。
配線導体2は、各絶縁樹脂層1a〜1dの表面およびビアホール4内に形成された複数の配線導体層2a〜2eから成る。最上層の配線導体層2aは、絶縁樹脂層1aの上面側に埋設されており、その上面が絶縁樹脂層1aの上面から2〜20μm程度凹んでいる。他の配線導体層2b〜2eは、各絶縁層1a〜1dの下面側の表面に被着されている。絶縁樹脂層1a〜1dを挟んで上下に位置する配線導体2同士は、ビアホール4を介して互いに電気的に接続されている。配線導体2は、主として銅めっき層から成る。各配線導体層2a〜2eの厚みは、それぞれ5〜20μm程度である。
配線導体2の一部は、絶縁基体1の上面において、多数の半導体素子接続パッド5を形成している。半導体素子接続パッド5は、長方形状である。半導体素子接続パッド5は、幅が20〜30μm程度、長さが25〜60μm程度である。半導体素子接続パッド5の上面には、半導体素子Sの電極端子Tが接続される。
また、配線導体2の一部は、絶縁基体1の下面において、多数の外部接続パッド6を形成している。外部接続パッド6は、円形状である。外部接続パッド6の直径は、200〜800μm程度である。外部接続パッド6は、格子状に配列されている。外部接続パッド6は、外部の電気回路基板の配線導体に接続される。
半導体素子接続パッド5と外部接続パッド6とは、所定のもの同士が各絶縁層1a〜1dに形成された配線導体2を介して互いに電気的に接続されている。
さらに、絶縁基体1の上面における配線導体2上には、多数の電気検査用パッド7が形成されている。電気検査用パッド7は、その上端部が銅箔から成る。電気検査用パッド7を形成する銅箔の厚みは、3〜18μm程度である。電気検査用パッド7は、円形状である。電気検査用パッド7の直径は、25〜50μm程度である。電気検査用パッド7の上面は、絶縁樹脂層1aの上面から銅箔の厚み分だけ突出している。
ソルダーレジスト3は、上面側のソルダーレジスト3aと下面側のソルダーレジスト3bとを有している。ソルダーレジスト3は、感光性の熱硬化性樹脂から成る。感光性の熱硬化性樹脂としては、アクリル変性エポキシ樹脂等が用いられる。ソルダーレジスト層3の厚みは、10〜50μm程度である。
上面側のソルダーレジスト3aは、最上層の絶縁樹脂層1aおよび配線導体層2aの上面側の表面に形成されている。上面側のソルダーレジスト3aは、半導体素子接続パッド5および電気検査用パッド7を含む配線導体層2aの一部を露出させている。
下面側のソルダーレジスト3bは、最下層の絶縁樹脂層1dおよび配線導体層2eの下面側の表面に形成されている。下面側のソルダーレジスト層3bは、外部接続パッド6を露出させている。
ここで、本例の配線基板10における上面の一部を図2に要部拡大斜視図で示す。上述したように、本例の配線基板10においては、最上層の配線導体2は、最上層の絶縁樹脂層1aの上面側に埋設されており、その上面が絶縁樹脂層1aの上面から2〜20μm程度凹んでいる。
電気検査用パッド7は、最上層の配線導体2の上に形成されており、その上面が最上層の絶縁樹脂層1aの上面から突出している。そして、この電気検査用パッド7に電気検査装置のプローブPを当接させて配線導体2の電気的な接続検査が行われる。このとき、電気検査用パッド7の上面が最上層の絶縁樹脂層1aの上面から突出していることから、電気検査用パッド7へのプローブPの当接が容易となる。
さらに、図3に示すように、プローブPの当接位置が多少ずれたとしても、プローブPが最上層の絶縁樹脂層1a上に乗り上げることはなく、電気検査用パッド7に当接することができる。
したがって、本例の配線基板10によれば、電気検査用パッド7への当接を確実に行うことができ、それにより配線導体2の電気的な接続検査を正確に行うことが可能な配線基板を提供することができる。
次に、本発明の配線基板の製造方法の実施形態例を、上述の配線基板10を製造する場合を例にとって図4および図5を基に説明する。
先ず、図4(a)に示すように、平坦な支持面を有する支持基板21の支持面上に金属箔22を支持させる。支持基板21と金属箔22とは、間に介在層23を挟んで積層されている。支持基板21と介在層23の間は、互いに固着している。金属箔22と介在層23との間は、図示しない粘着層を介して互いに剥離可能に密着している。支持基板21は、ガラスクロス入りの熱硬化性樹脂から成る。支持基板21の厚みは、400〜800μm程度である。金属箔22は、銅箔から成る。金属箔22の厚みは、3〜18μm程度である。介在層23は、銅箔や樹脂フィルムから成る。介在層23の厚みは、3〜18μm程度である。なお、ここで示した厚みは、単なる例示であり、上述した厚みと異なる厚みであっても構わない。
次に、図4(b)に示すように、金属箔22上に最上層の配線導体層2aを所定のパターンに形成する。配線導体層2aは、電解銅めっきから成る。配線導体層2aの厚みは、5〜40μm程度である。配線導体層2aは、金属箔22上に最上層の配線導体2に対応する開口パターンを有するめっきマスクを形成した後、このめっきマスクの開口パターン内に露出する金属箔22上に電解銅めっき層を所望の厚みに析出させた後、めっきマスクを除去することによって形成される。
次に、図4(c)に示すように、金属箔22上および配線導体層2a上に、最上層の絶縁樹脂層1aを形成する。絶縁樹脂層1aには、最上層の配線導体層2aに接続するためのビアホール4を形成する。絶縁樹脂層1aは、ガラスクロス基材に未硬化の熱硬化性樹脂を含浸塗布して乾燥させたプリプレグを、配線導体層2aが形成された金属箔22上に載置するとともに加熱しながらプレスした後、熱硬化させることにより形成される。ビアホール4は、レーザー加工やブラスト加工等により形成される。
次に、図4(d)に示すように、絶縁樹脂層1aの表面およびビアホール4内に次層の配線導体層2bを形成する。配線導体層2bは、主として電解銅めっきから成る。配線導体層2bは、周知のセミアディティブ法により形成される。
次に、図2(e)に示すように、絶縁樹脂層1aおよび配線導体層2b上に、次層の絶縁樹脂層1bおよび配線導体層2c、さらに次層の絶縁樹脂層1cおよび配線導体層2d、絶縁樹脂層2dおよび配線導体2eの形成を順次行う。これにより、金属箔22上に複数の配線導体層2a〜2eおよび複数の絶縁樹脂層1a〜1dから成る配線基板用の積層体を形成する。
次に、図5(f)に示すように、金属箔22と介在層23との間を剥離して配線基板用の積層体を金属箔22と共に支持基板21から分離する。これにより金属箔22が外部に露出する。金属箔22と介在層23との間は、図示しない粘着層を介して互いに剥離可能に密着しているので、両者間を物理的に引き剥がすことで容易に分離することができる。
次に、図5(g)に示すように、露出した金属箔22の表面にエッチングレジスト24を形成する。エッチングレジスト24は、電気検査パッド7となる部分の金属箔22を被覆し、残部の金属箔22を露出させる。
次に、図5(h)に示すように、エッチングレジスト24から露出する金属箔22をエッチング除去する。このとき、エッチングされずに残った金属箔22が電気試験パッド7を形成する。また、エッチングレジスト24から露出する部分の配線導体層2aは絶縁樹脂層1aの表面から2〜20μm程度の厚みだけエッチングされる。
次に、図5(i)に示すように、エッチングレジスト24を除去するとともに、積層体の上下面にソルダーレジスト層3を形成することによって図1に示した配線基板10が完成する。
このように、本例の配線基板の製造方法によれば、配線基板用の積層体における最上層の配線導体層2a上に金属箔22の一部が電気検査用パッド7として残るように金属箔22の残部をエッチング除去することから、電気検査用パッド7の上面が最上層の絶縁樹脂層1aの上面から突出したものとなる。これにより、電気検査用パッド7への当接を確実に行うことが可能であり、配線導体2の電気的な接続検査を正確に行うことが容易な配線基板10を提供することができる。
1・・・・・・絶縁基体
1a〜1d・・絶縁樹脂層
2・・・・・・配線導体
2a〜2e・・配線導体層
7・・・・・・電気検査用パッド
21・・・・・・支持基板
22・・・・・・金属箔
1a〜1d・・絶縁樹脂層
2・・・・・・配線導体
2a〜2e・・配線導体層
7・・・・・・電気検査用パッド
21・・・・・・支持基板
22・・・・・・金属箔
Claims (2)
- 複数の絶縁樹脂層が上下に積層されて成る絶縁基体と、最上層の前記絶縁樹脂層の上面側に埋設されており、上面が最上層の前記絶縁樹脂層の上面から凹んで露出する配線導体と、該配線導体上に形成されており、最上層の前記絶縁樹脂層の上面から突出する上面を有する電気検査用パッドと、を具備して成ることを特徴とする配線基板。
- 平坦な支持面を有する支持基板の前記支持面上に金属箔を分離可能に支持する工程と、前記金属箔の露出表面上にめっき導体から成る最上層の配線導体層を形成する工程と、前記金属箔および前記最上層の配線導体層の露出表面上に最上層の絶縁樹脂層を積層する工程と、該最上層の絶縁樹脂層の露出表面上に次層の配線導体層を形成する工程と、前記最上層の絶縁樹脂層および前記次層の配線導体層の露出表面上に、次層の絶縁樹脂層の積層および次層の配線導体層の形成を必要に応じて複数回繰り返し行い、前記金属箔の表面上に複数の前記配線導体層および複数の前記絶縁樹脂層から成る配線基板用の積層体を形成する工程と、該積層体を前記金属箔とともに前記支持基板から分離する工程と、前記積層体における最上層の前記配線導体層上に前記金属箔の一部が電気検査用パッドとして残るように前記金属箔の残部をエッチング除去する工程と、を行うことを特徴とする配線基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016197653A JP2018060925A (ja) | 2016-10-06 | 2016-10-06 | 配線基板およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016197653A JP2018060925A (ja) | 2016-10-06 | 2016-10-06 | 配線基板およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018060925A true JP2018060925A (ja) | 2018-04-12 |
Family
ID=61910042
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016197653A Pending JP2018060925A (ja) | 2016-10-06 | 2016-10-06 | 配線基板およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2018060925A (ja) |
-
2016
- 2016-10-06 JP JP2016197653A patent/JP2018060925A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20140102767A1 (en) | Multi-layer type printed circuit board and method of manufacturing the same | |
JP2018032657A (ja) | プリント配線板およびプリント配線板の製造方法 | |
JP2018032660A (ja) | プリント配線板およびプリント配線板の製造方法 | |
JP2006073761A (ja) | 配線回路基板 | |
JP6084283B2 (ja) | 部品内蔵基板及びその製造方法 | |
JP2015198094A (ja) | インターポーザ、半導体装置、およびそれらの製造方法 | |
KR20140008923A (ko) | 코어리스 인쇄회로기판 및 그 제조 방법 | |
JP5047906B2 (ja) | 配線基板の製造方法 | |
JP5865769B2 (ja) | 多層配線基板の製造方法 | |
JP2015133342A (ja) | 配線基板の製造方法 | |
JP2018032661A (ja) | プリント配線板およびその製造方法 | |
JP2014049509A (ja) | 配線基板の製造方法 | |
JP6258810B2 (ja) | 配線基板の製造方法 | |
JP2018060925A (ja) | 配線基板およびその製造方法 | |
JP2017011251A (ja) | 配線基板およびその製造方法 | |
JP2015026774A (ja) | 配線基板の製造方法 | |
KR20120137300A (ko) | 다층 배선기판의 제조방법과 다층 배선기판 | |
JP2013131731A (ja) | 配線基板およびその製造方法 | |
JP5409480B2 (ja) | 配線基板の製造方法 | |
JP4635395B2 (ja) | 半導体回路検査治具の製造方法 | |
TWI496243B (zh) | 元件內埋式半導體封裝件的製作方法 | |
JP2016219762A (ja) | 配線基板およびその製造方法 | |
JP2016219705A (ja) | 配線基板およびその製造方法 | |
JP5997200B2 (ja) | 配線基板 | |
JP5409519B2 (ja) | 配線基板およびその製造方法 |