JP2018033818A - X線透視撮影装置、x線照射野設定方法、及びx線条件制御方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Radiology)や非血管IVRでは、透視時間が長くなるため、被検体及び術者の被曝量低減を図る必要がある。その1つの方法は、X線絞りを用いてX線照射野を制限し検査・診断に不要な領域に対するX線照射を削減するものである。しかしX線絞りを調整する作業は術者の清潔を保つためにアシスタントによる補助が必要であり、またアシスタントが手動でX線絞りを調整する場合は、術者の所望の位置に正確に絞り位置を変更できない等、コミュニケーションエラーが発生することがあった。また別の方法は、照射X線量の低減である。線量低減は、画質にも影響するため、大幅な低減は難しい。X線照射間隔(照射レート)を低下させると被曝線量を低下させることが可能であるが、動きのある部位を追視することが困難になる。そのため、検査中に照射レートを変更したい場合は、術者がアシスタントにその都度変更を要請する必要があり、検査効率を妨げる恐れがあった。
まず、図1を参照しながら、本発明に係るX線透視撮影装置1の構成について説明する。
システム制御部120は、検査の開始時に設定される検査情報を取得する(ステップS101)。検査情報には、検査名等が含まれる。上述したように、記憶部123のデバイス特徴量DB31に記憶されている各デバイスの画像特徴量データは検査名と対応付けて記憶されている。システム制御部120は、ステップS101で取得した検査情報(検査名)に基づいて検査で使用すると想定される人工デバイスについてのデバイス特徴量データをデバイス特徴量DB31から取得し、デバイス検出部21に設定する(ステップS102)。
次に図10〜図13を参照して、本発明の第2の実施の形態について説明する。
図10は、本発明の第2の実施の形態のX線透視撮影装置1Aの構成を示す図である。図10に示すように、X線透視撮影装置1Aは、高電圧発生部101及びX線管球102からなるX線源、X線絞り装置103、被検体3を寝載するテーブル105、X線検出器106、システム制御部120、X線制御部121、画像処理部122A、記憶部123A、表示部130、及び操作部131を備える。なお、高電圧発生部101及びX線管球102、X線絞り装置103、テーブル105、X線検出器106、システム制御部120、X線制御部121、表示部130、及び操作部131の構成については、第1の実施の形態と同様である。以下の説明において、第1の実施の形態と同様の各部は同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
検査段階(iii)は、目的も病変部位のある管(枝)を見つけるため、造影剤を注入する段階である。検査段階(iii)では、内視鏡がX線透視像内に写り込むことが想定される。
検査段階(v)は、管が狭窄している場合、バルーンで一時的な管の拡張処理を施した後、ステントを挿入し、管の拡張処理を保つ段階である。検査段階(v)では、内視鏡とガイドワイヤとバルーンまたはステントがX線透視像内に写り込むことが想定される。
検査段階(vii)は、管内からガイドワイヤを引き抜いた後、内視鏡を消化管から引き抜く段階である。検査段階(vii)では、内視鏡とステントがX線透視像内に写り込むことが想定される。
ステップS301〜ステップS304の処理は第1の実施の形態のX線透視撮影装置1が実行するステップS101〜ステップS104の処理(図2参照)と同様である。すなわち、システム制御部120は、検査の開始時に設定される検査情報を取得する(ステップS301)。システム制御部120はステップS301で取得した検査情報(検査名)に基づいて検査で使用すると想定される人工デバイスについてのデバイス特徴量データをデバイス特徴量DB31から取得し、デバイス検出部21に設定する(ステップS302)。
101・・・・・・・・高電圧発生部
102・・・・・・・・X線管球
103・・・・・・・・X線絞り装置
105・・・・・・・・テーブル
106・・・・・・・・X線検出器
120・・・・・・・・システム制御部
121・・・・・・・・X線制御部
122、122A・・・画像処理部
21・・・・・・・・・デバイス検出部
22・・・・・・・・・X線絞り位置算出部
23・・・・・・・・・X線絞り制御部
24・・・・・・・・・被曝量低減率算出部
26・・・・・・・・・検査段階推定部
27・・・・・・・・・X線条件算出部
123、123A・・・記憶部
31・・・・・・・・・デバイス特徴量DB
32・・・・・・・・・デバイス情報記憶部
33・・・・・・・・・検査段階別X線条件情報記憶部
3・・・・・・・・・・被検体
130・・・・・・・・表示部
131・・・・・・・・操作部
40・・・・・・・・・算出した推奨X線絞り位置を示す枠
41、42、43、45・・・X線透視像
46・・・・・・・・・推奨X線絞り位置を示す枠
47・・・・・・・・・被曝量低減率
51・・・・・・・・・デバイスA(内視鏡プローブ)
52・・・・・・・・・デバイスA(内視鏡先端部)
53・・・・・・・・・デバイスB(ガイドワイヤ)
54・・・・・・・・・デバイスC(ステントグラフト)
6・・・・・・・・・・X線絞り位置算出テーブル
Claims (15)
- 被検体にX線を照射するX線源と、
前記X線源と対向配置され前記被検体を透過した透過X線を検出するX線検出器と、
前記X線検出器により検出された透過X線に基づいてX線投影像を生成する画像処理部と、
前記X線投影像の各フレームから人工デバイスを検出する検出部と、
検出された人工デバイスの位置、個数、または種類に応じて前記被検体に照射されるX線量を制御する制御部と、
を備えることを特徴とするX線透視撮影装置。 - 前記制御部は、前記検出部により検出された人工デバイスの位置に追従するようにX線照射野を設定することを特徴とする請求項1に記載のX線透視撮影装置。
- 前記制御部は、前記検出部により検出された人工デバイスの個数に応じて異なる算出方法で前記X線照射野を算出することを特徴とする請求項2に記載のX線透視撮影装置。
- 前記制御部は、前記検出部により前記人工デバイスが複数検出された場合は、各デバイスの位置の中点を前記X線照射野の中心とし、各デバイスの位置とX線絞り量の最大値及び最小値との比較結果に基づいて前記X線照射野を決定することを特徴とする請求項2または請求項3に記載のX線透視撮影装置。
- 前記X線照射野を前記検出された人工デバイスに追従させるか否かの選択を受け付ける選択部を更に備えることを特徴とする請求項2から請求項4のいずれか一項に記載のX線透視撮影装置。
- 前記X線照射野の前記人工デバイスへの追従を行わない場合に、追従を行った場合との比較値である被曝量低減率を算出し、表示部に表示する被曝量低減率算出部を更に備えることを特徴とする請求項2から請求項5のいずれかに一項に記載のX線透視撮影装置。
- 前記制御部は、前記検出部により検出された人工デバイスに応じてX線条件を変更することを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか一項に記載のX線透視撮影装置。
- 前記検出部により検出された人工デバイスの種類、個数、及び位置のうち少なくともいずれか一つを含む条件に基づいて検査段階を推定する推定部と、
検査段階に応じたX線条件が定義された検査段階別X線条件情報を記憶するX線条件情報記憶部と、を備え、
前記制御部は、前記推定部により推定された検査段階に応じたX線条件情報を前記X線条件情報記憶部から取得し、検査の進行に伴ってX線条件を順次変更することを特徴とする請求項7に記載のX線透視撮影装置。 - 前記制御部は、透視撮影中において前記検出部により検出された人工デバイスの状態を検査の種類毎に定義された条件判定処理によって判定することにより適切なX線条件を導出し、検査の進行に伴ってX線条件を順次変更することを特徴とする請求項7に記載のX線透視撮影装置。
- X線投影像を撮影するステップと、
前記X線投影像の各フレームから人工デバイスを検出するステップと、
検出された人工デバイスの位置、個数、または種類に応じてX線照射野を決定し、X線絞りを制御するステップと、
を含むことを特徴とするX線照射野設定方法。 - 検出された人工デバイスの個数に応じて異なる算出方法で前記X線照射野を決定することを特徴とする請求項10に記載のX線照射野設定方法。
- 前記人工デバイスが複数検出された場合は、各デバイスの位置の中点を前記X線照射野の中心とし、各デバイスの位置とX線絞り量の最大値及び最小値との比較結果に基づいてX線照射野を決定することを特徴とする請求項10または請求項11に記載のX線照射野設定方法。
- X線投影像を撮影するステップと、
前記X線投影像の各フレームから人工デバイスを検出するステップと、
検出された人工デバイスの状態に応じてX線条件を変更するステップと、
を含むことを特徴とするX線条件制御方法。 - 検出された人工デバイスの種類、個数、及び位置のうち少なくともいずれか一つを含む条件に基づいて検査段階を推定し、推定された検査段階に応じたX線条件情報を、記憶部に記憶されている検査段階別X線条件情報から取得し、検査の進行に伴ってX線条件を順次変更することを特徴とする請求項13に記載のX線条件制御方法。
- 透視撮影中において、検出された人工デバイスの状態を検査の種類毎に定義された条件判定処理によって判定することにより適切なX線条件を導出し、検査の進行に伴ってX線条件を順次変更することを特徴とする請求項13に記載のX線条件制御方法。
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