JP2018030366A

JP2018030366A - スクライブヘッド及びスクライブ方法

Info

Publication number: JP2018030366A
Application number: JP2017118098A
Authority: JP
Inventors: 坂東　和明; Kazuaki Bando; 和明坂東
Original assignee: Bando Kiko Co Ltd
Current assignee: Bando Kiko Co Ltd
Priority date: 2016-08-23
Filing date: 2017-06-15
Publication date: 2018-03-01
Also published as: TW201806720A; TW202005767A

Abstract

【課題】スクライブ時又はスクライブ後の分断時に発生し、ガラス面に飛び散り、ガラス板に付着するカレットの発生を抑止することができるスクライブヘッド及びスクライブ方法を提供する。
【解決手段】スクライブ装置Ａは、超音波発振機スプレーノズル装置１５によるミスト９によって、カッタホイール１３、スクライブポイント２２、カッタホイール進行直前の加工面１８及び直後の加工面２３に形成されたスクライブ溝１２をウェット状態とすることにより、また、ミスト９の噴霧内でのスクライブ溝加工により、発生切り粉の飛散を抑制させるようになっている。
【選択図】図１

Description

本発明は、ガラス板、ガラス基板又はシリコン基板等の脆性材料板を分断するためのスクラブ溝を形成するスクライブ装置に取付けられるスクライブヘッド及びスクライブ方法に関する。

従来、ガラス板等の脆性材料板に対するスクライブ溝の形成にあたっては、脆性材料板の表面にカッタホイールをドライで圧接転動させる方法と、カッター専用オイルや白灯油などをカッタホイールに供給しながら当該カッタホイールを脆性材料板の表面に圧接転動させる方法とがある。

特開２０１２−２３２８８１号公報

ところで、上記のいずれの方法においても、スクライブ時又はスクライブ後の分断時において、カレット（ガラス微細破片）が発生し、この発生で飛散したカレットがガラス表面に付着し、ガラス表面に付着したカレットが後工程において不具合をもたらすことが多い。

本発明は、上記不具合に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、スクライブ時又はスクライブ後の分断時に発生し、ガラス面に飛び散り、ガラス板に付着するカレット（ガラス微細破片）の発生を抑止することができるスクライブヘッド及びスクライブ方法を提供することにある。

また、本発明は、カレットの飛び散り、ガラス板への付着を抑制できるスクライブヘッド及びスクライブ方法を提供することにある。

本発明のスクライブ方法は、カッタホイールの軌道面をウェット状態にすべく、ミスト（液体微粒子）、好ましくは、超音波発振機により発生させたミストをスクライブ成形中のカッタホイールに向って噴霧することにある。

本発明のスクライブヘッドは、超音波発振機スプレーノズル装置を備えており、この超音波発振機スプレーノズル装置により発生されたミストがスクライブ溝形成中のカッタホイールに噴霧されるよう超音波発振機スプレーノズル装置が当該スクライブヘッドに取付けられている。

本発明によれば、超音波発振機スプレーノズル装置により発生した噴霧ミストによって、カッタホイール、スクライブポイント、カッタホイール進行直前の加工面及び形成されたスクライブ溝等からなる軌道面をウェット状態（ミスト膜形成状態）にすることができるために、ミスト噴霧内で発生するカレットの飛散を抑制することができる。

図１は、本発明に係るスクライブヘッドを取付けたスクライブ装置の一具体例を示す正面説明図である。図２は、図１に示す例のスクライブヘッドの拡大正面説明図である。図３は、図１に示す例のスクライブヘッドの拡大底面説明図である。図４は、図１に示す例の超音波発振機スプレーノズル装置の取付け位置を変化させたスクライブヘッドの説明図である。

以下、本発明の好ましい一具体例を図面を参照して説明する。本発明は、これらの具体例に限定されない。

図１から図４において、スクライブ装置Ａは、脆性材料板としてのガラス基板Ｗを上面で平面支持するテーブル１と、スクライブヘッド２とを備えている。

スクライブヘッド２は、カッタホイール装置３と、下端にカッタホイール装置３を備えていると共にガラス基板Ｗの上面に対して垂直方向（上下方向）Ｖに直動する上下直動体４と、上下直動体４を保持していると共に当該上下直動体４を上下方向Ｖに直動させるスクライブヘッド本体５と、スクライブヘッド本体５を走行ブリッヂ６に取付けるブラケット７とを備える。

走行ブリッヂ６は、テーブル１の上面に平面支持されたガラス基板Ｗの上方をＸ方向に直動する。即ち、スクライブ装置Ａの走行ブリッヂ６は、図１において、当該図１の紙面に垂直な方向であるＸ方向に直動する。走行ブリッヂ６のＸ方向の直動は、Ｘ方向移動装置３１により行われる。ブラケット７は、ガラス基板Ｗの上方を水平面内においてＸ方向に対して直交するＹ方向に直動する。ブラケット７のＹ方向の直動は、Ｙ方向移動装置３２により行われる。

上下直動体４の下端部に取付けられたカッタホイール装置３は、上下直動体４の下端に着脱自在に取付けられるホルダー１０と、ホルダー１０の下部に水平面内、即ちＸ―Ｙ平面内で回転自在に取付けられたカッタホイール取付け体１１と、カッタホイール１３を両側から挟むようにしたカッタホイール取付け体１１の部位に支持された軸部材８と、軸部材８に回転自在に取付けられたカッタホイール１３とを具備している。

スクライブヘッド２は、ガラス基板Ｗへのスクライブ溝１２の形成加工時、スクライブヘッド本体５の作動で上下直動体４を降下させ、下端のカッタホイール装置３のカッタホイール１３を、ガラス基板Ｗの上面に圧接させた状態で、走行ブリッヂ６及びブラケット７のＸ方向及びＹ方向の走行により、移動させる。カッタホイール１３は、この走行で、刃先をスクライブ方向に向けられて、転動、走行する。

スクライブヘッド２には、超音波発振機１６とスプレーノズル１７とからなる超音波発振機スプレーノズル装置１５が複数機備えられており、超音波発振機スプレーノズル装置１５の夫々は、超音波発振機１６により発生させたミスト９（液体微粒子としての水の微粒子）をスプレーノズル１７から噴霧させるようになっている。各超音波発振機スプレーノズル装置１５は、そのスプレーノズル１７からのミスト９がカッタホイール１３に向けて噴霧されるように、ブラケット７に配設されている。

超音波発振機スプレーノズル装置１５は、スクライブ溝１２を形成中のカッタホイール１３の回り及びカッタホイール１３の前後のガラス基板Ｗの加工面１８に、ミスト９の噴射、噴霧を行い、スクライブ溝１２の形成中のカッタホイール１３及びカッタホイール１３の直近直後の軌道面２０をミスト９によりウェット状態とする。超音波発振機スプレーノズル装置１５は、スクライブヘッド２のブラケット７にブラケット２１を介して取付けられ、図２に示すように、カッタホイール１３の両面において、カッタホイール１３及びスクライブポイント２２に向けてミスト９を噴霧するように、カッタホイール１３及びスクライブポイント２２を間にして対向して複数機配置されても、また、図３に示すように、カッタホイール１３及びカッタホイール１３直前のスクライブ予定面１９に向けて複数機配置されても、さらには、図４に示すように、カッタホイール１３の直前のスクライブ予定面１９に向けて一機配置されてもよい。

以上の超音波発振機スプレーノズル装置１５の例は、カッタホイール１３がＸ方向のみに移動される場合に好適であるが、カッタホイール１３がＸ方向及びＹ方向に移動される場合には、その移動方向のカッタホイール１３及びカッタホイール１３直前のスクライブ予定面１９に向けてミスト９が噴射されるように、ブラケット２１をカッタホイール１３の移動方向に対応して回転させるようにしてもよい。

スクライブ装置Ａは、超音波発振機スプレーノズル装置１５によるミスト９によって、カッタホイール１３、スクライブポイント２２、カッタホイール進行直前の加工面１８及び直後の加工面２３に形成されたスクライブ溝１２をウェット状態（ミスト９による膜形成）とすることにより、また、ミスト９の噴霧内でのスクライブ溝加工により、発生切り粉の飛散を抑制させるようになっている。

走行ブリッヂ６のＹ方向の両端の夫々には、支持板４１が取付けられており、支持板４１の夫々には、テーブル１のＹ方向の両側面に取付けられていると共にＸ方向に伸びたＸ方向案内軌条４２にＸ方向に移動自在に嵌合した滑り部材４３が取付けられており、テーブル１の下面のＹ方向の両端の夫々には、Ｘ方向に伸びたラックバー４４が取付けられており、ブラケット７の下面には、走行ブリッヂ６の上面に取付けられていると共にＹ方向に伸びた一対のＹ方向案内軌条４５の夫々にＹ方向に移動自在に嵌合した滑り部材４６が取付けられており、走行ブリッヂ６のＸ方向の一方の側面には、Ｙ方向に伸びたラックバー４７が取付けられている。

Ｘ方向移動装置３１は、各支持板４１に同一の回転軸をもって回転自在に支持された駆動プーリ５１と、各支持板４１に各回転軸をもって回転自在に支持された従動プーリ５２と、駆動プーリ５１及び従動プーリ５２に掛け回された無端ベルト５３と、従動プーリ５２の回転軸をもって各支持板４１に回転自在に支持されていると共にラックバー４４に噛合ったピニオン歯車５４と、駆動プーリ５１の共通の回転軸に連結された出力回転軸を有すると共に支持板４１に取付けられた電動モータ５５とを具備しており、Ｘ方向移動装置３１は、電動モータ５５の作動によるその出力回転軸の回転で、一対の駆動プーリ５１の回転、一対の無端ベルト５３の走行、一対の従動プーリ５２の回転及び一対のピニオン歯車５４の回転で、一対のラックバー４４に沿って且つ一対の滑り部材４３の夫々がＸ方向に移動自在に嵌合した一対のＸ方向案内軌条４２に案内されて走行ブリッヂ６をＸ方向に直動走行させるようになっている。

Ｙ方向移動装置３２は、ブラケット７に取付けられた電動モータ６１と、電動モータ６１の出力回転軸に取付けられていると共にラックバー４７に噛合ったピニオン歯車６２とを具備しており、Ｙ方向移動装置３２は、電動モータ６１の作動によるその出力回転軸の回転を介するピニオン歯車６２の回転で、ラックバー４７に沿って且つ一対の滑り部材４６の夫々がＹ方向に移動自在に嵌合した一対のＹ方向案内軌条４５に案内されてブラケット７をＹ方向に直動走行させるようになっている。

Ｘ方向移動装置３１及びＹ方向移動装置３２による走行ブリッヂ６のＸ方向の直動走行とブラケット７のＹ方向の直動走行とで、スクライブヘッド２は、Ｘ方向及びＹ方向に走行され、この走行において、スクライブ装置Ａは、カッタホイール１３を介してスクライブ溝１２をガラス基板Ｗの加工面１８に形成するようになっている。スクライブ溝１２のガラス基板Ｗの加工面１８への形成において、超音波発振機スプレーノズル装置１５は、スクライブ溝１２を形成中のカッタホイール１３の回り及びカッタホイール１３の前後のガラス基板Ｗの加工面１８に、ミスト９の噴射、噴霧を行うようになっている。

１テーブル
２スクライブヘッド
３カッタホイール装置
４上下直動体
５スクライブヘッド本体

Claims

ミスト（液体微粒子）を、スクライブ形成中のカッタホイールに向って噴霧し、カッタホイールの軌道面をウェット状態にするスクライブ方法。
超音波発振機により発生させたミスト（液体微粒子）を、スクライブ形成中のカッタホイールに向って噴霧し、カッタホイールの軌道面をウェット状態とするスクライブ方法。
超音波発振機スプレーノズル装置を備えており、この超音波発振機スプレーノズル装置により発生されたミスト（液体微粒子）がスクライブ溝形成中のカッタホイールに噴霧されるよう超音波発振機スプレーノズル装置が取付けられたスクライブヘッド。