JP2018020511A - スクリーンマスクおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
なお、図1の矢印Uで示す方向を上方とし、矢印Rで示す方向を右方とし、以下で述べる各部の位置や方向等はこの上方と右方を基準とするものである。
図3(a)に示す印刷パターン層4Aは、前述の印刷パターン層4の被印刷物6側の表面に、シリコン系乳剤から成る硬質層18を設けて構成されるものであり、スクリーンマスク1Aの耐久性向上を図ったものである。
まず、図4(a)に示すように、フレーム2を枠平面が略水平となるように設置して洗浄した後、スクリーンメッシュ3の外周縁3aを、所定の張力をかけながら接着剤によりフレーム2に固定する。これにより、スクリーンメッシュ3をフレーム2内に張設し、スクリーンマスク1の基礎部を形成することができる。
続いて、図4(b)に示すように、スクリーンメッシュ3をメッシュ面が略鉛直となるように立設した上で、液状の感光性乳剤21を入れたバケット20の先部20aを、スクリーンメッシュ3の印刷側下端に当接し、その後、図4(c)に示すように、バケット20を下方から上方に向かって移動させる。これにより、スクリーンメッシュ3に、メッシュ側パターン層5となる感光性乳剤21から成る第1乳剤層21aを設ける。
その後、図5(a)に示すように、塗布過程S2aで設けた感光性乳剤21から成る第1乳剤層21aに、メッシュ側パターン層5用の第1フォトマスク22を重ね、その上方に配置した照明23から光線を照射することにより、メッシュ側パターン孔9となる未硬化領域24を有するメッシュ側パターン層5を設ける。これにより、メッシュ側パターン孔9に従ったメッシュ側パターンを、メッシュ側パターン層5に形成することができる。なお、光線とは、紫外線のみならず可視光も含む。
続いて、塗布過程S2aと同様、図5(c)に示すように、露光過程S2bでメッシュ側パターン層5を設けたスクリーンメッシュ3を略鉛直となるように立設した上で、液状の感光性乳剤26を入れたバケット20の先部20aを、メッシュ側パターン層5の印刷側下端に当接し、その後、図5(d)に示すように、バケット20を下方から上方に向かって移動させる。これにより、メッシュ側パターン層5に、印刷パターン層4となる感光性乳剤26による第2乳剤層26aを設ける。
その後、露光過程S2bと同様、図6(a)に示すように、塗布過程S2cで設けた感光性乳剤26による第2乳剤層26aに、印刷パターン層4用の第2フォトマスク27を重ね、その上方に配置した照明23から光線を照射することにより、メッシュ側パターン孔9に対応する印刷パターン孔8となる未硬化領域28を有する印刷パターン層4を設ける。これにより、印刷パターン孔8に従った印刷パターンを、被印刷物6に転写可能な印刷パターン層4に形成することができる。
続いて、露光過程S2dまでで形成されたメッシュ側パターン層5、印刷パターン層4を洗浄し、各層に形成された未硬化領域24、28を洗い流す。これにより、前述したような印刷パターン孔8よりも幅広のメッシュ側パターン孔9を形成することができる。
また、本発明を適用したスクリーンマスクの製造方法は、現像作業中における印刷パターン孔の閉塞を確実に防止可能なものとなっている。
2 フレーム(枠体)
3 スクリーンメッシュ
3b 線径
4、4A、4B 印刷パターン層
4a 対向面(被印刷物と対向する面)
4b 反対面(反対側の面)
5 メッシュ側パターン層
6 被印刷物
8 印刷パターン孔
9 メッシュ側パターン孔
9a1 上テーパ部(テーパ部)
9a2 下テーパ部(テーパ部)
15 幅(メッシュ側パターン孔の幅)
15a 幅(メッシュ側パターン孔の未硬化領域の幅)
16 幅(印刷パターン孔の幅)
16a 幅(印刷パターン孔の未硬化領域の幅)
17 厚み(印刷パターン層の厚み)
18 硬質層
19 硬質域
21、26 感光性乳剤
21a 第1乳剤層
24 未硬化領域(メッシュ側パターン孔となる未硬化領域)
26a 第2乳剤層
28 未硬化領域(印刷パターン孔となる未硬化領域)
S1 第1工程
S2 第2工程
S3 第3工程
Claims (13)
- 被印刷物に転写する印刷パターン孔が形成された印刷パターン層と、
該印刷パターン層で前記被印刷物と対向する面とは反対側の面に設けられ、内部にスクリーンメッシュの少なくとも一部が張設されると共に、前記印刷パターン孔に対応する位置で該印刷パターン孔よりも幅広のメッシュ側パターン孔が形成されたメッシュ側パターン層とを備えた
スクリーンマスク。 - 前記メッシュ側パターン孔の幅は、
前記印刷パターン孔の2倍以上に設定する
請求項1に記載のスクリーンマスク。 - 前記メッシュ側パターン孔は、
前記印刷パターン層側に向かって縮幅するテーパ部を有する
請求項1または請求項2に記載のスクリーンマスク。 - 前記印刷パターン孔の幅は30〜80μmで、
前記スクリーンメッシュの線径は20μm以上に設定する
請求項1から請求項3のいずれか一項に記載のスクリーンマスク。 - 前記印刷パターン層の厚みは、
前記印刷パターン孔の幅のうちの最小幅の0.5倍以上に設定する
請求項1から請求項4のいずれか一項に記載のスクリーンマスク。 - 前記印刷パターン層は、
前記メッシュ側パターン層よりも軟質である
請求項1から請求項5のいずれか一項に記載のスクリーンマスク。 - 前記印刷パターン層は、
前記被印刷物側に、シリコン系乳剤から成る硬質層を有する
請求項1から請求項6のいずれか一項に記載のスクリーンマスク。 - 前記印刷パターン層は、
前記被印刷物側に、該印刷パターン層のアセタール化合物から成る硬質域を有する
請求項1から請求項7のいずれか一項に記載のスクリーンマスク。 - 枠体内にスクリーンメッシュを張設する第1工程と、
前記スクリーンメッシュに、メッシュ側パターン層となる感光性乳剤から成る第1乳剤層を設け、該メッシュ側パターン層に、前記印刷パターン層となる感光性乳剤から成る第2乳剤層を設け、所定の露光作業によって、前記第1乳剤層を、メッシュ側パターン孔となる未硬化領域を有するメッシュ側パターン層に形成し、前記第2乳剤層を、前記メッシュ側パターン孔に対応する印刷パターン孔となる未硬化領域を有する印刷パターン層に形成する第2工程と、
前記メッシュ側パターン孔となる未硬化領域が印刷パターン孔となる未硬化領域よりも幅広に形成された状態で、前記メッシュ側パターン層、印刷パターン層を洗浄して両未硬化領域を洗い流すことにより、前記印刷パターン孔よりも幅広のメッシュ側パターン孔を形成する第3工程とを備える
スクリーンマスクの製造方法。 - 前記メッシュ側パターン孔の幅は、
前記印刷パターン孔の2倍以上に設定する
請求項9に記載のスクリーンマスクの製造方法。 - 前記メッシュ側パターン孔は、
前記印刷パターン層側に向かって縮幅するテーパ部を有する
請求項9または請求項10に記載のスクリーンマスクの製造方法。 - 前記印刷パターン孔の幅は30〜80μmで、
前記スクリーンメッシュの線径は20μm以上に設定する
請求項9から請求項11のいずれか一項に記載のスクリーンマスクの製造方法。 - 前記印刷パターン層の厚みは、
前記印刷パターン孔の幅のうちの最小幅の0.5倍以上に設定する
請求項9から請求項12のいずれか一項に記載のスクリーンマスクの製造方法。
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