JP2018016760A - 封止用エポキシ樹脂組成物、及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
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まず、図1Aに示すように、組成物(X)の計量を行う。具体的には、粒子状の組成物(X)を、容器20内に供給して、容器20内の組成物(X)の量を公知の計量手段によって計量する。なお、圧縮成形機1が備える下型11に組成物(X)を直接供給する場合には、圧縮成形機1が備える計量ユニットによって組成物(X)を計量してもよい。本実施形態では、組成物(X)の粒子のブロッキングが抑制されているため、組成物(X)の計量を正確に行うことができる。
次に、図1Bに示す金型10を用意する。この金型10は、圧縮成形機1内に設けられている。金型10は、下型11と上型12とを備える。下型11は、組成物(X)を貯められるように構成されている。上型12は、下型11と対向して配置されている。上型12の下型11と対向する側の面には、基板13が取り付けられている。この基板13には、複数の半導体素子14が設けられている。基板13は、例えば、リードフレーム、配線板等であり、半導体素子14は、例えば、ICチップ等の半導体チップである。そして、配置工程では、図1Bに示すように、用意した金型10内に、組成物(X)を配置する。具体的には、組成物(X)を下型11上に配置する。本実施形態では、組成物(X)の粒子のブロッキングが抑制されているため、組成物(X)の粒子を下型11内に均一に撒くことができる。
次に、図1Cに示すように、下型11を加熱することで、金型10内に配置された組成物(X)を予備加熱する。予備加熱時の下型11の温度は、130〜200℃の範囲内であることがより好ましい。加熱時間は、2〜300秒の範囲内であることが好ましく、30〜40秒の範囲内であることがより好ましい。本実施形態では、組成物(X)がホスホニウム塩(C)を含有することによって、予備加熱工程における組成物(X)からのベンゼンの放出を抑制することができ、ベンゼンによる作業環境の悪化を抑制できる。
次に、図1Dに示すように、組成物(X)を圧縮成形法で成形することで封止材を作製する。具体的には、金型10を加熱しながら、下型11を上型12に向かって移動させる。この際、溶融した組成物(X)は、半導体素子14を覆うように流動する。その結果、組成物(X)で半導体素子14が封止される。本実施形態では、組成物(X)が成形時の優れた流動性を有するため、薄型の半導体装置30を製造する場合や、半導体素子14の厚みと封止材100の厚みとの間のクリアランスが小さい場合であっても、組成物(X)の未充填を抑制することができる。圧縮成形工程における下型11の温度は、130〜200℃の範囲内であることが好ましい。また、圧縮圧力は、5〜20MPaの範囲内であることが好ましい。また、圧縮時間は、10〜100秒の範囲内であることが好ましい。また本実施形態では、組成物(X)がホスホニウム塩(C)を含有することによって、圧縮成形工程における組成物(X)からのベンゼンの放出を抑制することができ、ベンゼンによる作業環境の悪化を抑制できる。
次に、図1Eに示すように、組成物(X)を硬化させる。具体的には、組成物(X)を金型10に入れた状態で加熱しながら所定時間保持することによって、組成物(X)を硬化させる。これにより、組成物(X)の硬化物である封止材100が形成され、この封止材100によって、複数の半導体素子14が封止される。後硬化工程における金型の温度は、130〜200℃の範囲内であることが好ましく、この温度で1〜10分の範囲内で保持することが好ましい。組成物(X)が硬化した後、半導体素子14及び基板13を金型10から取り外してもよい。
以下の方法で、実施例1〜18及び比較例1〜6の組成物を調製した。無機充填材をカップリング剤で表面処理した。処理後の無機充填材と、硬化促進剤と、エポキシ樹脂と、硬化剤と、離型剤と、をブレンダ―で30分間混合することにより、均一化した混合物を作製した。この混合物を、80℃に加熱した2本ロールで溶融混練し、冷却後、粉砕機で粉砕して、粒子状の組成物を得た。
・エポキシ化合物1:ジャパンエポキシレジン株式会社製、ビフェニル型エポキシ樹脂、品番YX4000H、エポキシ当量195。
・エポキシ化合物2:日本化薬株式会社製、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、品番NC3000、エポキシ当量276。
・エポキシ化合物3:ジャパンエポキシレジン株式会社製、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、品番YL6810、エポキシ当量173。
・硬化剤1:明和化成株式会社製、フェノールノボラック、品番DL−92、水酸基当量105。
・硬化剤2:日本化薬株式会社製、ビフェニルアラルキル型フェノール樹脂、品番NC3000。
・硬化剤3:本州化学株式会社製、ビスフェノールF、品番BPF。
・硬化促進剤1:サンアプロ株式会社製、MeTPP−5HIPA−THB PN樹脂MB 品番RP−701。
・硬化促進剤2:北興化学工業株式会社製、TPP−K。
・無機充填材1:デンカ株式会社製、シリカ、品番FB875XFC。
・無機充填材2:デンカ株式会社製、シリカ、品番FB5FDX。
・無機充填材3:デンカ株式会社製、シリカ、品番SFP10X。
・無機充填材4:マイクロン株式会社製、アルミナ、品番DAW45。
・カップリング剤:信越化学工業(株)製、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、品番KBM573。
・カルナバワックス:大日化学工業株式会社製、品番MB87。
・カーボンブラック:株式会社明成商会製、品番MA600MJ2。
第4級ホスホニウムのアルキル炭酸塩と有機カルボン酸との塩交換反応を含む方法で合成された下記式(5)に示すホスホニウム塩を、合成時に添加したフェノールノボラック樹脂でマスターバッチ化して得られ、フェノールノボラック樹脂の割合が15質量%である生成物を、目開き212μmのメッシュを通過させることで得られた粉体状の硬化促進剤である。
北興化学工業株式会社製の市販のテトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート(TPP−K)である。
実施例1〜18及び比較例1〜6の組成物について、以下の物性を測定した。
篩を用いて組成物の粒度分布(別名:パウダー粒径)を測定した。その結果、組成物の粒度分布は以下の基準で評価した。
1:粒径が0.2mm以下のものが7質量%以上、粒径が2.4mm以上のものが2質量%以下、粒径が5mm以上のものが1質量%以下。
2:粒径が0.2mm以下のものが5質量%以下、粒径が2.4mm以上のものが2%質量以下、粒径が5mm以上のものが1%質量以下。
3:粒径が0.2mm以下のものが5質量%以下、粒径が2.4mm以上のものが5質量%以上、粒径が5mm以上のものが1質量%以下。
4:粒径が0.2mm以下のものが5質量%以下、粒径が2.4mm以上5mm以下のものが5質量%以下、粒径が5mm以上のものが2質量%以上。
混練性の評価は、材料温度(すなわち、混練機中で混練されて得られた混練物自身の温度が、目標の温度値(80〜130℃の中での目標とする温度値、例えば90℃±5℃や、100℃±5℃等)で安定して生産されているかを評価した。一定の決められた混練条件において、目標の温度値からの差が大きい場合(5℃以上)を△、目標の温度値からの差が小さい場合(5℃未満)を〇とした。なお一定の決められた混練条件において、目標の温度値からの差が大きい場合、得られた混練物にバラツキ等が生じる場合が考えられる。
流動性は、ASTM D3213に準じたスパイラルフロー測定金型を用いて金型温度175℃、注入圧力6.9MPa(70Kgf/cm2)、成形時間120秒にて成形し、流動距離(単位はcm)を測定した。
組成物を、金型温度175℃、圧縮圧力10MPa、圧縮時間150秒、後硬化175度/6hの条件で、圧縮成形をおこない、試験片を作製した。この試験片について、IEC60695−11−10 B法で規定される20mm垂直燃焼試験(UL94V)をおこなった。そして、V−0判定基準を満たすものを「V−0パス」、V−0判定基準を満たさないものを「V−0未達」という基準で評価した。
モールドバリの評価は、社内のモールドバリ評価用金型(モールドバリ評価用の封止用エポキシ樹脂組成物の投入口となる中央部から、幅が5mmで深さだけが10μm、20μm、30μm、50μm、100μmと異なる直線状のスリット(または金型の隙間)を、複数本、放射状に形成したもの)を用いて評価した。なお評価は、金型温度170℃、注入圧力8.6KN、成形時間120秒で行い、幅が5mmで深さが20μmの直線状のスリット(または金型の隙間)における流動長5mm以上を×、流動長3mm以上5mm未満を△、流動長3mm未満を〇とした。
100gに計量した組成物を、容器に入れた状態で、25℃で湿度50%の環境下に2時間放置してから、組成物におけるブロッキングの有無を確認した。そして、多くのブロッキングがあった場合を「×」、わずかにブロッキングが確認された場合を「△」、ブロッキングが殆ど確認されなかった場合を「○」という基準で、ブロッキング性を評価しした。
まず、圧縮成形機の計量ユニットが5gの組成物を計量するように設定した後、この計量ユニットで組成物を計量した。次に、計量ユニットで計量された組成物の重量を、計量ユニットとは別の計量手段(市販の電子天秤)を用いて測定した。これらの工程を30回繰り返し行った。次に、30回の測定結果から、計量ユニットの設定値と、計量ユニットとは別の計量手段による重量の測定値との差の最大値を求めた。この最大値が0.1g以下のものを「○」、最大値が0.1gよりも大きいものを「×」という基準で、計量精度を評価した。
組成物を密封容器内で90℃で30分間加熱してから、密封容器内の気体を採取し、この気体中のベンゼン量(硬化前ベンゼン量という)をヘッドスペースGC/MS法で測定した。また、組成物を175℃で6時間加熱することにより、組成物を熱硬化させた。これにより得られた硬化物を密封容器内で90℃で30分加熱してから、密封容器内の気体を採取し、この気体中のベンゼン量(硬化後ベンゼン量という)をヘッドスペースGC/MS法で測定した。そして、硬化前または硬化後のいずれかでベンゼンが発生した場合を「有」、硬化前及び硬化後のいずれにおいてもベンゼンが発生しなかった場合を「無」と評価した。
基板の厚みが0.13mm、封止材を設けた領域の縦横の寸法が14mm、チップの縦横の寸法が8mm、チップの厚みが0.15mmであるPBGAパッケージを作製した。組成物を圧縮成形する際の金型温度は175℃、成形時間は120秒であった。このパッケージの常温における反り(コプラナリティー)を、AKROMETRIX社製のシャドウモアレ(PS200)を用いて測定した。そして、PKG反りが100μm〜−40μmであるものを「○」、−40〜−80μmであるものを「△」、−80μm未満であるものを「×」という基準で、パッケージの反り(PBGA反り)を評価した。
試験用サンプルの作製のため、便宜上、トランスファー成形によって、試験片を作製した。トランスファー成形の成形条件は、金型の直径は90mm、金型温度175℃、注入圧力6.9MPa、成形時間120秒であった。成形された試験片の直径を測定して、金型の直径に対する試験片の寸法により、収縮率を算出した。
14 半導体素子
30 半導体装置
100 封止材
Claims (8)
- エポキシ樹脂(A)と、
硬化剤(B)と、
ホスホニウム塩(C)と、
無機充填材(D)と、
を含有する粒子状の封止用エポキシ樹脂組成物であって、
前記ホスホニウム塩(C)は、下記式(1)で示される構造を有し、
R1〜R3は各々独立に炭素数6〜12のアリール基であり、
R4は炭素数1〜4のアルキル基であり、
R6及びR8は各々独立にカルボキシル基、又は水酸基であり、
R5及びR7は各々独立にH又は炭素数1〜4のアルキル基であり、
R9及びR11の各々はHであり、
R10はカルボキシル基、又は水酸基であり、
p、q及びrは、p≧1、q≧1、r≧1、及びq≧rの関係を満たす数であり、
前記封止用エポキシ樹脂組成物に対する前記無機充填材(D)の量は、70〜95質量%の範囲内である、
封止用エポキシ樹脂組成物。 - 前記封止用エポキシ樹脂組成物は、粒径5mm以上の粒子の割合が0〜1質量%の範囲内である粒度分布を有する、
請求項1に記載の封止用エポキシ樹脂組成物。 - 前記封止用エポキシ樹脂組成物は、粒径0.20mm以下の粒子の割合が0〜5質量%の範囲内であり、粒径2.4mm以上の粒子の割合が0〜2質量%の範囲内である粒度分布を有する、
請求項1又は2に記載の封止用エポキシ樹脂組成物。 - 前記エポキシ樹脂(A)は、ビフェニル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、及びビスフェノールA型エポキシ樹脂からなる群から選択される一種以上の成分を含有する、
請求項1から3のいずれか一項に記載の封止用エポキシ樹脂組成物。 - 前記硬化剤(B)が、フェノールノボラック、ビフェニルアラルキル型フェノール樹脂、及びモノマーフェノールからなる群から選択される一種以上の成分を含有する、
請求項1から4のいずれか一項に記載の封止用エポキシ樹脂組成物。 - 前記無機充填材(D)は、シリカとアルミナとのうち少なくとも一方を含有する、
請求項1から5のいずれか一項に記載の封止用エポキシ樹脂組成物。 - 半導体素子と、前記半導体素子を封止する封止材とを備える半導体装置の製造方法であり、
請求項1から6のいずれか一項に記載の封止用エポキシ樹脂組成物を圧縮成形法で成形することで前記封止材を作製する工程を含む、
半導体装置の製造方法。 - 前記封止用エポキシ樹脂組成物を2〜300秒の範囲内で予備加熱する工程を、更に含む、
請求項7に記載の半導体装置の製造方法。
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