JP2018002489A - ガラスの製造方法 - Google Patents

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俣野 高宏
Takahiro Matano
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Abstract

【課題】ガラス中にブツが析出しにくいスズリン酸塩系ガラスの製造方法の提供。【解決手段】原料を加熱溶融した後、成形することにより、組成としてSnO及びP2O5を含有するガラスを製造するための方法であって、原料の少なくとも一部に、Sn2P2O7、SnPO3、SnCl2及びSnF2から選ばれる1種以上のSn化合物を使用し、前記Sn化合物に含まれるR2O(RはLi、Na又Kから選ばれる1種以上)が0.01〜0.5質量%未満であるスズリン酸塩系ガラスの製造方法。Sn化合物に含まれるCl及びSが各々0.5質量%未満であSn化合物の含有量が10質量%以上であり、SnO2が1質量%以下であり、H2Oが1質量%以下であることが、好ましい、珪化バリウムバルク多結晶体【選択図】なし

Description

本発明は、光学レンズ用ガラス等に用いられるスズリン酸塩系ガラスの製造方法に関するものである。
スズリン酸塩系ガラスは、低屈伏点かつ異常分散性を有するため、光学レンズ用ガラス等への適用が検討されている。(例えば、特許文献1参照)
スズリン酸塩系ガラスは次のようにして作製される。まず、所望の組成となるように原料を調整し、加熱溶融する。溶融ガラスをノズルの先端から滴下して、液滴状ガラスを作製し、必要に応じて、研削、研磨、洗浄してプリフォームガラスを作製する。または、溶融ガラスをカーボン型等に鋳込み成形し、必要に応じて、研削、研磨、洗浄してプリフォームガラスを作製する。あるいは、溶融ガラスをフィルム成形した後、粉砕して粉末ガラスを作製する。
特開2012−193065号公報
スズリン酸塩系ガラスは、ガラス中にSnO、または、Pを含むブツが析出しやすいという問題がある。
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、ガラス中にブツが析出しにくいスズリン酸塩系ガラスの製造方法を提供することを目的とする。
本発明のガラスの製造方法は、原料を加熱溶融した後、成形することにより、組成としてSnO及びPを含有するガラスを製造するための方法であって、原料の少なくとも一部に、Sn(ピロリン酸第一錫)、SnPO(ピロリン酸第二錫)、SnCl及びSnFから選ばれる1種以上のSn化合物を使用し、前記Sn化合物に含まれるRO(RはLi、Na及びKから選ばれる1種以上)が0.01〜0.5質量%未満であることを特徴とする。なお、以降の説明において特に断りがない限り、「Sn化合物」とは、Sn、SnPO、SnCl及びSnFの総称を指す。
本発明のガラスの製造方法は、無機金属化合物に含まれるCl及びSが0.5質量%未満であることが好ましい。Cl及びSは溶融時に揮発しやすいため、バッチの吹き上がりによる分離を起こしやすい。そこで、無機金属化合物中のCl及びSの含有量を上記にように少なく規制することにより、バッチの吹き上がりによる分離を抑制できる。
本発明のガラスの製造方法は、原料中における無機金属化合物の含有量が10質量%以上であることが好ましい。このようにすれば、バッチの分離が起こり難く、ガラス中のブツの発生を抑制できる。
本発明のガラスの製造方法は、原料中に含まれるSnO(二酸化錫)が1質量%以下であることが好ましい。このようにすれば、溶解性が良くなり、ガラス中のブツの発生を抑制しやすくなる。
本発明のガラスの製造方法は、原料中に含まれるHOが1質量%以下であることが好ましい。このようにすれば、SnOが析出し難くなり、ガラス中のブツの発生を抑制しやすくなる。
本発明のガラスの製造方法は、組成として、モル%で、SnO 10〜90%、P 1〜70%を含有するガラスとなるように原料を調合することが好ましい。
本発明のガラスの製造方法は、還元雰囲気中または不活性雰囲気中で溶融を行うことが好ましい。このようにすれば、ガラスの酸化が原因となって生じるSnOの析出を抑制することができる。
本発明によれば、ガラス中にブツが析出しにくいスズリン酸塩系ガラスの製造方法を提供することができる。
本発明のガラスの製造方法は、原料の少なくとも一部に、Sn、SnPO、SnCl及びSnFから選ばれる1種以上のSn化合物を使用し、そのSn化合物に含まれるRO(RはLi、Na及びKから選ばれる1種以上)が0.01〜0.5質量%未満であることを特徴とする。
Sn、SnPO、SnCl及びSnFは、溶解性に優れておりバッチの分離が起こりにくいため、均質なガラスが得られやすく、また、低温溶融が可能であり、ガラス中のブツの発生や着色を抑制できる。しかし、これらのSn化合物を用いてもブツが発生する場合がある。それは、これらのSn化合物中に反応助剤として添加されるRO(RはLi、Na及びKから選ばれる1種以上)が原因である。これらのSn化合物に含まれるROの量が上記範囲内であれば、SnOまたはPを含むブツの析出を抑制し、バッチの吹き上がりによる分離を抑制できる。Sn化合物に含まれるROの含有量は、0.01〜0.5質量%未満、0.02〜0.4質量%、特に0.03〜0.3質量%であることが好ましい。Sn化合物に含まれるROの含有量が少なすぎると、Sn化合物の生成が困難になる。一方、ROの含有量が多すぎると、SnOまたはPを含むブツが析出しやすくなり、また、バッチの吹き上がりによる分離が起りやすくなる。なお、分級や洗浄によりROの量を低減することは可能である。
Sn化合物に含まれるCl及びSの含有量は、各々0.5質量%未満、0.4質量%以下、特に0.3質量%以下であることが好ましい。無機金属化合物に含まれるCl及びSの含有量が多すぎると、バッチの吹き上がりによる分離が発生しやすくなる。
原料中におけるSn化合物の含有量が、10質量%以上であることが好ましい。このようにすれば、バッチの分離が起こり難く、ガラス中のブツの発生を抑制できる。原料中におけるSn化合物の含有量は、10質量%以上、30質量%以上、50質量%以上、70質量%以上、特に90質量%以上であることが好ましい。原料中におけるSn化合物の含有量が少なすぎると、バッチの分離が起ってガラス中のブツが発生しやすくなる。
原料中に含まれるSnOの含有量は、1質量%以下、0.9質量%以下、特に0.8質量%以下であることが好ましい。原料中に含まれるSnOの含有量が多すぎると、溶解性に劣り、ガラス中のブツが発生しやすくなる。
原料中に含まれるHOの含有量は、1質量%以下、0.9質量%以下、特に0.8質量%以下であることが好ましい。原料中に含まれるHOの含有量が多すぎると、SnOが析出しやすくなり、ガラス中のブツが発生しやすくなる。
本発明においては、組成として、モル%で、SnO 10〜90%、P 1〜70%を含有するガラスとなるように原料を調合することが好ましい。このように組成を限定した理由を以下に説明する。なお、以下の説明において、「%」はモル%を表す。
SnOは高屈折率かつ高分散の光学特性を達成し、化学耐久性を向上させ、かつ、部分分散比を低下させる効果がある。SnOの含有量は10〜90%、20〜85%、30〜80%、40〜75%、特に50〜74%であることが好ましい。SnOの含有量が少なすぎると、高屈折率特性を達成しにくくなり、また、耐侯性や化学耐久性が低下する傾向がある。一方、SnOの含有量が多すぎると、ガラス化しにくく、耐失透性が低下し、焼結する際に失透する傾向がある。なお、SnOの含有量は、SnO以外のSn成分(金属Sn、SnO等)もSnOに換算して合算したものを指す。
はガラス骨格の構成成分である。また、光透過率を高める効果を有し、特に紫外域付近の光透過率低下を抑制する効果が高い。特に、高屈折率のガラスの場合は、Pによる光透過率向上の効果が得られやすい。また、失透を抑制する効果も有する。Pの含有量は、1〜70%、5〜65%、10〜60%、15〜55%、特に20〜50%であることが好ましい。Pの含有量が少なすぎると、上記効果が得られにくくなる。また、耐失透性が低下し、焼結する際に失透する傾向がある。一方、Pの含有量が多すぎると、SnOの含有量が相対的に少なくなって、屈折率が低下しやすく、化学耐久性が低下しやすくなる。
上記成分以外にも、B 0〜40%、SiO 0〜20%、MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO 0〜40%、Al 0〜10%、ZrO 0〜10%を含有させることができる。
光透過率を低下させる成分であるFe、NiO及びCoOの含有量はそれぞれ0.1%未満であることが好ましい。Ce、Pr、Nd、Eu、Tb及びEr等の希土類成分も光透過率を低下させるおそれがあるため、これらの成分の含有量は酸化物換算でそれぞれ0.1%未満であることが好ましい。In及びGaは光透過率を低下させるおそれがあり、また高価であるため、酸化物換算でそれぞれ0.1%未満であることが好ましい。なお、環境上の理由から、鉛成分(例えばPbO)及びヒ素成分(例えばAs)はそれぞれ0.1%未満であることが好ましい。
本発明のガラスの製造方法の各工程を以下に説明する。
まず、組成としてSnO及びPを含有する所望の組成になるように原料を調合する。ここで、原料の少なくとも一部に、アルカリ含有量が上記の通り規制されたSn(ピロリン酸第一錫)、SnPO(ピロリン酸第二錫)、SnCl及び/またはSnFを用いることにより、均質なガラスが得られやすくなる。
次に、ガラス溶融炉中で溶融を行う。ここで、還元雰囲気中または不活性雰囲気中で溶融を行うことが好ましい。たとえば、窒素やアルゴン等の不活性雰囲気中で溶融することで、ガラスの酸化が原因となって生じるSnOの析出を抑制することができる。また、溶融温度は、800〜1200℃、特に900〜1100℃が好ましい。溶融温度が高いと、溶融容器のコンタミ等の着色が強まり、透明なガラスが得られ難い。ガラス溶融容器としては、耐火物、石英ガラス、白金、金、グラッシーカーボン等が使用できる。
次に、溶融ガラスを成形する。成形の方法としては、例えば、ノズルの先端から滴下して液滴状ガラスを作製し、プリフォームガラスを得る。または、溶融ガラスを急冷鋳造して、一旦ガラスブロックを作製し、研削、研磨、洗浄してプリフォームガラスを得るといった方法を採用することができる。
本発明の方法によりガラスを製造すれば、ブツの発生を抑制でき均質なガラスを得ることができる。また、着色を抑制しやすいため、近紫外〜可視域における光透過率に優れたガラスが得られる。具体的には、着色度(λ70)が420nm以下、410nm以下、特に400nm以下のガラスが得られやすい。着色度λ70が大きすぎると、可視域または近紫外域における光透過率に劣り、各種光学レンズ等に使用することが困難となる。なお、着色度(λ70)は厚み10mmにおいて、光透過率が70%となる最短波長を指す。
以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
表1は本発明の実施例(No.1、2、4、6)及び比較例(No.3、5、7)を示している。
表1に記載の各ガラス組成となるように原料を調合した。用いたピロリン酸第一錫Aの不純物は、NaO 0.1質量%、Cl 0.1質量%、ピロリン酸第一錫Bの不純物は、NaO 0.5質量%、Cl 0.5質量%であった。この調合原料を石英坩堝を用い、表1に記載の溶融温度で10分保持し、得られた溶融ガラスを、予熱した金属板上に流し出し、アニールすることにより試料を作製した。
得られた試料について、ブツの個数を評価した。具体的には、10mm□×10mmtにおけるブツの個数を調べた。また、屈折率(nd)、アッベ数(νd)と着色度について評価した。屈折率は、ヘリウムランプのd線(587.6nm)に対する測定値で示した。アッベ数は、上記d線の屈折率と水素ランプのF線(486.1nm)、同じく水素ランプのC線(656.3nm)の屈折率の値を用い、アッベ数(νd)=(nd−1)/(nF−nC)の式から算出した。着色度は、厚さ10mm±0.1mmの光学研磨された試料について、分光光度計を用いて、200〜800nmの波長域での光透過率を0.5nm間隔で測定し、光透過率70%を示す最短波長により評価した。
実施例であるNo.1、2、4及び6の試料はブツの個数が30ヶ以下と少なかった。一方、比較例であるNo.3、5及び7は、ブツの個数が170ヶ以上と多かった。
本発明のガラスの製造方法は、蛍光材料用ホストガラス、リチウムイオン非水二次電池用負極材料等に使用されるスズリン酸塩系ガラスの製造にも好適である。

Claims (7)

  1. 原料を加熱溶融した後、成形することにより、組成としてSnO及びPを含有するガラスを製造するための方法であって、
    原料の少なくとも一部に、Sn、SnPO、SnCl及びSnFから選ばれる1種以上のSn化合物を使用し、前記Sn化合物に含まれるRO(RはLi、Na及びKから選ばれる1種以上)が0.01〜0.5質量%未満であることを特徴とするガラスの製造方法。
  2. Sn化合物に含まれるCl及びSが各々0.5質量%未満であることを特徴とする請求項1に記載のガラスの製造方法。
  3. 原料中におけるSn化合物の含有量が10質量%以上であることを特徴とする請求項1〜2のいずれか一項に記載のガラスの製造方法。
  4. 原料中に含まれるSnOが1質量%以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のガラスの製造方法。
  5. 原料中に含まれるHOが1質量%以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載のガラスの製造方法。
  6. 組成として、モル%で、SnO 10〜90%、P 1〜70%を含有するガラスとなるように原料を調合することを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載のガラスの製造方法。
  7. 還元雰囲気中または不活性雰囲気中で溶融を行うことを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載のガラスの製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2003012328A (ja) * 2001-06-29 2003-01-15 Asahi Techno Glass Corp 封着材料用ガラスの製造方法
JP2015224149A (ja) * 2014-05-27 2015-12-14 日本電気硝子株式会社 温度補償用部材及びそれを用いた光通信用光学デバイス

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