JP2017538154A - 液晶表示パネル及びそのカラーフィルタ配列基板 - Google Patents

液晶表示パネル及びそのカラーフィルタ配列基板 Download PDF

Info

Publication number
JP2017538154A
JP2017538154A JP2017525617A JP2017525617A JP2017538154A JP 2017538154 A JP2017538154 A JP 2017538154A JP 2017525617 A JP2017525617 A JP 2017525617A JP 2017525617 A JP2017525617 A JP 2017525617A JP 2017538154 A JP2017538154 A JP 2017538154A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
color filter
region
thin film
film transistor
black matrix
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2017525617A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6441479B2 (ja
Inventor
許勇
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd, TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Publication of JP2017538154A publication Critical patent/JP2017538154A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6441479B2 publication Critical patent/JP6441479B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136209—Light shielding layers, e.g. black matrix, incorporated in the active matrix substrate, e.g. structurally associated with the switching element
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136222—Colour filters incorporated in the active matrix substrate
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136227—Through-hole connection of the pixel electrode to the active element through an insulation layer
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/1368—Active matrix addressed cells in which the switching element is a three-electrode device
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/12—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode
    • G02F2201/123—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode pixel

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)

Abstract

【課題】本発明は、液晶表示パネル及びそのカラーフィルタ配列基板を提供することを目的とする。【解決手段】前記カラーフィルタ配列基板は、主基板に形成されるブラックマトリクスと、薄膜トランジスタアレイと、カラーフィルタと、画素電極と、からなり、画素電極は、カラーフィルタに設けられ、薄膜トランジスタアレイは、ブラックマトリクスに設けられ、且つ画素電極に接続される。上記の方式により、本発明カラーフィルタにビアホールを開ける必要がなく、ビアホールに収容された気体が液晶層にまで漏れ出し、泡が生じるのを防ぐことができ、良好な表示効果を保証することができるとともに、封止精度及び画素開口率を高めることができる。【選択図】図１

Description

本発明は、液晶ディスプレイの技術領域に関し、特に、カラーフィルタ配列基板及び前記カラーフィルタ配列基板を備えた液晶表示パネルに関する。
業界の液晶表示パネルの封止精度に対する要求がますます高くなって来たことに伴い、従来の封止技術では、すでに高精度の要求を満たすことができないため、配列基板にカラーフィルタ及びブラックマトリクスを設けてなるカラーフィルタ配列基板が開発されてきている。
既存のカラーフィルタ配列基板は、薄膜トランジスタアレイにカラーフィルタと画素電極とブラックマトリクスとが順番に重ねて設けられ、且つ、カラーフィルタにビアホール（ＣＦ Ｏｐｅｎ）が設けられ、それにより、画素電極及び金属質の信号線の間の電気接続を可能にしている。しかしながら、良好な電気接続を保証するには、サイズの大きなビアホールが必要であり、これにより確実に画素の開口率が低下し、且つ、ビアホールに容置された気体が、封止工程の後、振動のために漏れやすく、液晶層にまで拡散され、その結果、泡（Ｂｕｂｂｌｅ）及び黒い塊状のものが形成され、表示効果に影響を与える。
本発明は、封止精度を確保するとともに、画素の開口率を上げ、良好な表示効果を保証できる、液晶表示パネル及びそのカラーフィルタ配列基板を提供することを目的とする。
前記の技術上の問題を解決するため、本発明が採用する技術考案は、主基板と、主基板に形成されるブラックマトリクスと、薄膜トランジスタアレイと、カラーフィルタと、画素電極と、からなるカラーフィルタ配列基板を提供する。その内、画素電極は、カラーフィルタに重ねて設けられ、薄膜トランジスタアレイは、ブラックマトリクスに重ねて設けられ、且つ画素電極に接続される。その内、カラーフィルタは、第一領域及び第二領域からなり、第一領域のカラーフィルタ及びブラックマトリクスは、隣接して主基板に設けられ、第二領域のカラーフィルタは、薄膜トランジスタアレイに設けられる。ブラックマトリクスの厚さは、第一領域のカラーフィルタの厚さより薄く、且つ第二領域のカラーフィルタの厚さより厚い。カラーフィルタ配列基板は、さらに、絶縁層及び共通電極を備え、絶縁層は、画素電極に重ねて設けられ、共通電極は、絶縁層に重ねて設けられる。
その内、カラーフィルタ配列基板は、さらに、薄膜トランジスタアレイに重ねて設けられたパッシベーション層を備え、画素電極は、第二領域のカラーフィルタ及びパッシベーション層を貫通する開口部によって、薄膜トランジスタアレイのドレイン電極に対応して接続される。
その内、ドライエッチングの方式によって開口部を形成する。
その内、ブラックマトリクス及び第二領域のカラーフィルタの厚さの差は、０．５マイクロメートルである。
上記の技術問題を解決するため、本発明が採用するもう一つの技術考案は、以下のとおりである。主基板と、主基板に設けられるブラックマトリクスと、薄膜トランジスタアレイと、カラーフィルタと、画素電極と、からなるカラーフィルタ配列基板であって、その内、画素電極は、カラーフィルタに重ねて設けられ、薄膜トランジスタアレイは、ブラックマトリクスに重ねて設けられ、且つ画素電極に接続される。
その内、カラーフィルタは、第一領域及び第二領域からなり、第一領域のカラーフィルタ及びブラックマトリクスは、隣接して主基板に設けられ、第二領域のカラーフィルタは、薄膜トランジスタアレイに設けられ、ブラックマトリクスの厚さは、第一領域のカラーフィルタの厚さより薄く、且つ第二領域のカラーフィルタの厚さより厚い。
その内、カラーフィルタ配列基板は、さらに、薄膜トランジスタアレイに設けられたパッシベーション層を備え、画素電極は、第二領域のカラーフィルタ及びパッシベーション層を貫通する開口部によって、薄膜トランジスタアレイのドレイン電極に対応して接続される。
その内、ドライエッチングの方式によって開口部を形成する。
その内、ブラックマトリクス及び第二領域のカラーフィルタの厚さの差は、０．５マイクロメートルである。
その内、カラーフィルタ及びブラックマトリクスは、隣接して主基板に設けられ、且つブラックマトリクスの厚さ及びカラーフィルタの厚さは同じである。
その内、カラーフィルタ配列基板は、さらに、薄膜トランジスタアレイに設けられたパッシベーション層を備え、画素電極は、パッシベーション層を貫通する開口部によって、薄膜トランジスタアレイのドレイン電極に対応して接続される。
その内、カラーフィルタ配列基板は、さらに、絶縁層及び共通電極を備え、絶縁層は、画素電極に重ねて設けられ、共通電極は、絶縁層に重ねて設けられる。
上記の技術上の問題を解決するため、本発明が採用するさらに別の技術考案は以下のものからなる。液晶表示パネルは、封止したカラーフィルタ配列基板と、共通基板と、その二つの間に挟んで設けられた液晶層と、からなる。カラーフィルタ配列基板は、主基板と、主基板に設けられたブラックマトリクスと、薄膜トランジスタアレイと、カラーフィルタと、画素電極と、からなり、画素電極はカラーフィルタに重ねて設けられ、薄膜トランジスタアレイは、ブラックマトリクスに重ねて設けられ且つ画素電極に接続される。
その内、共通基板におけるカラーフィルタ配列基板向きの表面には、共通電極が設けられる。
その内、カラーフィルタは、第一領域及び第二領域からなり、第一領域のカラーフィルタ及びブラックマトリクスは、隣接して主基板に設けられ、第二領域のカラーフィルタは、薄膜トランジスタアレイに設けられ、ブラックマトリクスの厚さは、第一領域のカラーフィルタの厚さより薄く、且つ第二領域のカラーフィルタの厚さより厚い。
その内、カラーフィルタ配列基板は、さらに、薄膜トランジスタアレイに重ねて設けられたパッシベーション層を備え、画素電極は、第二領域のカラーフィルタ及びパッシベーション層を貫通する開口部によって、薄膜トランジスタアレイのドレイン電極に対応して接続される。
その内、ドライエッチングの方式によって開口部を形成する。
その内、ブラックマトリクス及び第二領域のカラーフィルタの厚さの差は、０．５マイクロメートルである。
その内、カラーフィルタ及びブラックマトリクスは隣接して主基板に設けられ、且つブラックマトリクスの厚さ及びカラーフィルタの厚さは同じである。
その内、カラーフィルタ配列基板は、さらに、薄膜トランジスタアレイに重ねて設けられたパッシベーション層を備え、画素電極は、パッシベーション層を貫通する開口部によって、薄膜トランジスタアレイのドレイン電極に接続される。
上記の技術考案と、本発明実施例によって得られる効果は以下のとおりである。本発明実施例によるカラーフィルタ配列基板の薄膜トランジスタアレイは、ブラックマトリクスに重ねて設けられ、且つ画素電極に接続され、ブラックマトリクスの高さを嵩上げすることで、薄膜トランジスタアレイの高さが、カラーフィルタに設けられた画素電極の高さと近くなるようにすることによって、カラーフィルタにビアホールを開ける必要がなく、それによりビアホールに収容された気体が液晶層に漏れて泡が生じることを防ぐことができ、良好な表示効果を保証し、さらに、封止精度及び画素の開口率を高めることができる。
本発明における実施例１のカラーフィルタ配列基板の構造断面図である。 本発明における実施例２のカラーフィルタ配列基板の構造断面図である。
本発明の実施例の技術考案について、以下では、本発明の実施例の図を示して、詳しく説明する。本発明が以下において説明する実施例は、本発明の実施例の一つに過ぎず、実施例のすべてではない。本発明の実施例に基づいて、本領域の一般的な技術者が、創作によらない前提で得たすべてのその他の実施例は、すべて本発明の保護範囲に含まれるものとする。
(実施例１)
図１は、本発明の実施例１におけるカラーフィルタ配列基板の構造断面図である。図１を参照する。カラーフィルタ配列基板１０は、主基板１１と、主基板１１に形成されるブラックマトリクス１２と、薄膜トランジスタアレイ１３と、カラーフィルタ１４と、画素電極１５と、からなる。画素電極１５は、カラーフィルタ１４に重ねて設けられ、薄膜トランジスタアレイ１３は、ブラックマトリクス１２に重ねて設けられ且つ画素電極１５に接続（電気接続）される。
カラーフィルタ１４は、第一領域Ａ及び第二領域Ｂからなり、第一領域Ａに位置するカラーフィルタ１４及びブラックマトリクス１２は、隣接して主基板１１に設けられ、第二領域Ｂに位置するカラーフィルタ１４は、薄膜トランジスタアレイ１３に設けられる。ブラックマトリクス１２の厚さは、第一領域Ａに位置するカラーフィルタ１４の厚さより薄く、且つ、第二領域Ｂに位置するカラーフィルタ１４の厚さよりも厚い。本実施例で、ブラックマトリクス１２及び第二領域Ｂに位置するカラーフィルタ１４の厚さの差は、０．５マイクロメートルで、カラーフィルタ１４の第一領域Ａ及び第二領域Ｂにおける表面から主基板１１の間の距離は等しいのが最適である。
薄膜トランジスタアレイ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、ＴＦＴ）１３は、主基板１１に形成されるゲート電極１３１と、ゲート電極１３１に形成されるゲート絶縁層１３２と、ゲート絶縁層１３２に形成される半導体層１３３と、半導体層１３３に形成される接触層１３４と、接触層１３４に形成され且つソース電極１３５及びドレイン電極１３６を備えるソースドレイン電極層と、からなる。本実施例のカラーフィルタ配列基板１０は、さらに、薄膜トランジスタアレイ１３に重ねて設けられるソースドレイン電極層にあるパッシベーション層１３７を備える。
画素電極１５は、パッシベーション層１３７に形成されるとともに、薄膜トランジスタアレイ１３のドレイン電極１３６に対応して電気接続される。具体的に、画素電極１５は、第二領域Ｂのカラーフィルタ１４及びパッシベーション層１３７を貫通する開口部によって、ドレイン電極１３６に対応して電気接続される。その内、ドライエッチングの方式によって開口部を形成するのが最適である。
さらに、薄膜トランジスタアレイ１３のゲート電極１３１は、カラーフィルタ配列基板１０に形成される走査線に対応して電気接続され、薄膜トランジスタアレイ１３のソース電極１３５は、カラーフィルタ配列基板１０に形成されるデータ線に対応して電気接続される。走査線及びデータ線は垂直に交差して画素電極１５のある画素表示領域を形成する。
本実施例においては、薄膜トランジスタアレイ１３をブラックマトリクス１２に重ねて設けられ、ブラックマトリクス１２が薄膜トランジスタアレイ１３の高さを嵩上げすることで、薄膜トランジスタアレイ１３の高さがカラーフィルタ１４に設けられた画素電極１５の高さと近くなるようにして、薄膜トランジスタアレイ１３及び画素電極１５の間に大きな段差がないようにする。既存の技術と違う点は、カラーフィルタ１４にビアホールを開ける必要がなく、薄膜トランジスタアレイ１３及び画素電極１５の電気接続ができ、それにより、ビアホールに収容された気体が液晶層に漏れて泡が生じることを防ぐことができ、良好な表示効果を保障し、さらに、封止精度及び画素の開口率を高めることができる。
(実施例２)
図２は、本発明の実施例２のカラーフィルタ配列基板の構造断面図である。図２を参照する。カラーフィルタ配列基板２０は、主基板２１と、主基板２１に形成されたブラックマトリクス２２と、薄膜トランジスタアレイ２３と、カラーフィルタ２４と、画素電極２５とからなる。画素電極２５は、カラーフィルタ２４に重ねて設けられ、薄膜トランジスタアレイ２３は、ブラックマトリクス２２に重ねて設けられ且つ画素電極２５に接続（電気接続）される。
カラーフィルタ２４及びブラックマトリクス２２は、隣接して主基板２１に設置され、且つ、ブラックマトリクス２２の厚さ及びカラーフィルタ２４の厚さは、同じである。
薄膜トランジスタアレイ２３の構造と図１が示す薄膜トランジスタアレイ１３の構造は、同じである。カラーフィルタ配列基板２０は、さらに、薄膜トランジスタアレイ２３に重ねて設けられたパッシベーション層２３７を備える。画素電極２５は、パッシベーション層２３７に形成されるとともに、薄膜トランジスタアレイ２３のドレイン電極２３６に対応して電気接続される。具体的に、画素電極２５は、パッシベーション層２３７を貫通する開口部によって、薄膜トランジスタアレイ２３のドレイン電極２３６に対応して電気接続される。
本実施例は、直接ブラックマトリクス２２によって薄膜トランジスタアレイ２３及び画素電極２５の間に大きな段差がないようにしているため、第二領域Ｂのカラーフィルタ１４を設ける必要がないことにおいて、図１が示す第一実施例と異なる。
本発明の実施例の主な目的は以下の通りである。薄膜トランジスタアレイをブラックマトリクスに重ねて設けるとともに画素電極と接続し、ブラックマトリクスで薄膜トランジスタアレイの高さを嵩上げすることで、薄膜トランジスタアレイの高さとカラーフィルタに設けられた画素電極と高さが同じになるようにするし、しいてはカラーフィルタにビアホールを設ける必要がなくなり、ビアホールに収容された気体が液晶層に漏れて泡が生じることを防ぎ、良好な表示効果を保証し、さらに、封止精度及び画素の開口率を高めることができる。
上述した主な発明の目的に基づき、本発明のその他の実施例では、その他の構造を備えたカラーフィルタ配列基板を設置することができる（（例えば、カラーフィルタ配列基板（カラーフィルタ配列基板１０、２０）に絶縁層及び共通電極をさらに備えさせ、絶縁層を画素電極（画素電極１５、２５）に重ねて設け、共通電極を絶縁層に重ねて設ける）。説明しておきたいのは、この時、前記カラーフィルタ配列基板を備えた液晶表示パネルのもう一つの基板には、共通電極を設ける必要がないことである。
本発明の実施例は、さらに、封止した共通基板と、前記実施例のカラーフィルタ配列基板と、前記二枚の基板の間に挟んで設けられる液晶層からなる液晶表示パネルを提供する。注意が必要なのは、カラーフィルタ配列基板に共通電極が設置されていない時、カラーフィルタ配列基板における共通基板向きの表面には共通電極が設置される、という点である。
以上は、本発明の実施例に過ぎず、本発明の特許範囲を限定するものではない。本発明の明細書及び図の内容に基づきなされる、同じ効果を有する構造または同じ効果を有するプロセスの変更、例えば、各実施例の技術的特徴の組み合わせ、あるいは、その他関連技術領域において、直接的または間接的に使用することは、いずれも同様に本発明の特許保護範囲内に含まれるものとする。
１０ カラーフィルタ配列基板
１１ 主基板
１２ ブラックマトリクス
１３ 薄膜トランジスタアレイ
１４ カラーフィルタ
１５ 画素電極
１３１ ゲート電極
１３２ ゲート絶縁層
１３３ 半導体層
１３４ 接触層
１３５ ソース電極
１３６ ドレイン電極
１３７ パッシベーション層
２０ カラーフィルタ配列基板
２１ 主基板
２２ ブラックマトリクス
２３ 薄膜トランジスタアレイ
２４ カラーフィルタ
２５ 画素電極
２３６ ドレイン電極
２３７ パッシベーション層

Claims (20)

  1. 主基板と、前記主基板に形成されるブラックマトリクスと、薄膜トランジスタアレイと、カラーフィルタと、画素電極と、からなり、
    その内、前記画素電極は、前記カラーフィルタに重ねて設けられ、前記薄膜トランジスタアレイは、前記ブラックマトリクスに重ねて設けられるとともに前記画素電極に接続され、
    その内、前記カラーフィルタは、第一領域及び第二領域からなり、前記第一領域のカラーフィルタ及び前記ブラックマトリクスは、隣接して前記主基板に設けられ、前記第二領域のカラーフィルタは、前記薄膜トランジスタアレイに設けられ、
    前記ブラックマトリクスの厚さは、前記第一領域のカラーフィルタの厚さより薄く、且つ前記第二領域のカラーフィルタの厚さより厚く、
    さらに、絶縁層及び共通電極を備え、前記絶縁層は、前記画素電極に重ねて設けられ、前記共通電極は、前記絶縁層に重ねて設けられることを特徴とする、カラーフィルタ配列基板。
  2. 前記カラーフィルタ配列基板は、前記薄膜トランジスタアレイに重ねて設けられたパッシベーション層を備え、前記画素電極は、前記第二領域のカラーフィルタ及び前記パッシベーション層を貫通する開口部によって、前記薄膜トランジスタアレイのドレイン電極に対応して接続されることを特徴とする、請求項１に記載のカラーフィルタ配列基板。
  3. ドライエッチングの方式によって前記開口部を形成することを特徴とする、請求項２に記載のカラーフィルタ配列基板。
  4. 前記ブラックマトリクス及び前記第二領域のカラーフィルタの厚さの差は、０．５マイクロメートルであることを特徴とする、請求項１に記載のカラーフィルタ配列基板。
  5. 主基板と、前記主基板に設けられるブラックマトリクスと、薄膜トランジスタアレイと、カラーフィルタと、画素電極と、からなるカラーフィルタ配列基板であって、その内、前記画素電極は、前記カラーフィルタに重ねて設けられ、前記薄膜トランジスタアレイは、前記ブラックマトリクスに重ねて設けられ、且つ前記画素電極に接続されることを特徴とする、カラーフィルタ配列基板。
  6. 前記カラーフィルタは、第一領域及び第二領域からなり、前記第一領域のカラーフィルタ及び前記ブラックマトリクスは、隣接して前記主基板に設けられ、前記第二領域のカラーフィルタは、前記薄膜トランジスタアレイに設けられ、前記ブラックマトリクスの厚さは、前記第一領域のカラーフィルタの厚さより薄く、且つ前記第二領域のカラーフィルタの厚さより厚いことを特徴とする、請求項５に記載のカラーフィルタ配列基板。
  7. 前記カラーフィルタ配列基板は、前記薄膜トランジスタアレイに設けられたパッシベーション層を備え、前記画素電極は、前記第二領域のカラーフィルタ及び前記パッシベーション層を貫通する開口部によって、前記薄膜トランジスタアレイのドレイン電極に対応して接続されることを特徴とする、請求項６に記載のカラーフィルタ配列基板。
  8. ドライエッチングの方式によって前記開口部を形成することを特徴とする、請求項７に記載のカラーフィルタ配列基板。
  9. 前記ブラックマトリクス及び前記第二領域のカラーフィルタの厚さの差は、０．５マイクロメートルであることを特徴とする、請求項６に記載のカラーフィルタ配列基板。
  10. 前記カラーフィルタ及び前記ブラックマトリクスは、隣接して前記主基板に設けられ、且つ前記ブラックマトリクスの厚さ及び前記カラーフィルタの厚さは同じであることを特徴とする、請求項５に記載のカラーフィルタ配列基板。
  11. 前記カラーフィルタ配列基板は、前記薄膜トランジスタアレイに設けられたパッシベーション層を備え、前記画素電極は、前記パッシベーション層を貫通する開口部によって、前記薄膜トランジスタアレイのドレイン電極に対応して接続されることを特徴とする、請求項１０に記載のカラーフィルタ配列基板。
  12. 前記カラーフィルタ配列基板は、絶縁層及び共通電極を備え、前記絶縁層は、前記画素電極に重ねて設けられ、前記共通電極は、前記絶縁層に重ねて設けられることを特徴とする、請求項５に記載のカラーフィルタ配列基板。
  13. 封止したカラーフィルタ配列基板と、共通基板と、その二つの間に挟んで設けられた液晶層と、からなる、液晶表示パネルであって、
    その内、前記カラーフィルタ配列基板は、主基板と、前記主基板に設けられたブラックマトリクスと、薄膜トランジスタアレイと、カラーフィルタと、画素電極と、からなり、
    前記画素電極は前記カラーフィルタに重ねて設けられ、前記薄膜トランジスタアレイは、前記ブラックマトリクスに重ねて設けられ且つ前記画素電極に接続されることを特徴とする、液晶表示パネル。
  14. 共通基板におけるカラーフィルタ配列基板向きの表面には、共通電極が設けられることを特徴とする、請求項１３に記載の液晶表示パネル。
  15. 前記カラーフィルタは、第一領域及び第二領域からなり、前記第一領域のカラーフィルタ及び前記ブラックマトリクスは、隣接して前記主基板に設けられ、前記第二領域のカラーフィルタは、前記薄膜トランジスタアレイに設けられ、前記ブラックマトリクスの厚さは、前記第一領域のカラーフィルタの厚さより薄く、且つ前記第二領域のカラーフィルタの厚さより厚いことを特徴とする、請求項１３に記載の液晶表示パネル。
  16. 前記カラーフィルタ配列基板は、前記薄膜トランジスタアレイに重ねて設けられたパッシベーション層を備え、前記画素電極は、前記第二領域のカラーフィルタ及び前記パッシベーション層を貫通する開口部によって、前記薄膜トランジスタアレイのドレイン電極に対応して接続されることを特徴とする、請求項１５に記載の液晶表示パネル。
  17. ドライエッチングの方式によって前記開口部を形成することを特徴とする、請求項１６に記載の液晶表示パネル。
  18. 前記ブラックマトリクス及び前記第二領域のカラーフィルタの厚さの差は、０．５マイクロメートルであることを特徴とする、請求項１５に記載の液晶表示パネル。
  19. 前記カラーフィルタ及び前記ブラックマトリクスは、隣接して前記主基板に設けられ、且つ前記ブラックマトリクスの厚さ及び前記カラーフィルタの厚さは同じであることを特徴とする、請求項１４に記載の液晶表示パネル。
  20. 前記カラーフィルタ配列基板は、前記薄膜トランジスタアレイに重ねて設けられたパッシベーション層を備え、前記画素電極は、前記パッシベーション層を貫通する開口部によって、前記薄膜トランジスタアレイのドレイン電極に接続されることを特徴とする、請求項１９に記載の液晶表示パネル。
JP2017525617A 2014-11-21 2014-12-02 液晶表示パネル及びそのカラーフィルタ配列基板 Expired - Fee Related JP6441479B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410677401.0 2014-11-21
CN201410677401.0A CN104375344B (zh) 2014-11-21 2014-11-21 液晶显示面板及其彩膜阵列基板
PCT/CN2014/092774 WO2016078133A1 (zh) 2014-11-21 2014-12-02 液晶显示面板及其彩膜阵列基板

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017538154A true JP2017538154A (ja) 2017-12-21
JP6441479B2 JP6441479B2 (ja) 2018-12-19

Family

ID=52554362

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017525617A Expired - Fee Related JP6441479B2 (ja) 2014-11-21 2014-12-02 液晶表示パネル及びそのカラーフィルタ配列基板

Country Status (8)

Country Link
US (1) US20160349582A1 (ja)
JP (1) JP6441479B2 (ja)
KR (1) KR101963058B1 (ja)
CN (1) CN104375344B (ja)
DE (1) DE112014007074T5 (ja)
GB (1) GB2546664B (ja)
RU (1) RU2678778C2 (ja)
WO (1) WO2016078133A1 (ja)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104765186A (zh) * 2015-03-24 2015-07-08 深圳市华星光电技术有限公司 显示面板及显示装置
CN104965366B (zh) * 2015-07-15 2018-11-20 深圳市华星光电技术有限公司 阵列彩膜集成式液晶显示面板的制作方法及其结构
CN106597769A (zh) * 2016-12-28 2017-04-26 深圳市华星光电技术有限公司 一种阵列基板及其制造方法
CN106842744B (zh) * 2017-02-14 2019-10-25 深圳市华星光电技术有限公司 一种阵列基板及其制作方法
CN106773271A (zh) * 2017-03-02 2017-05-31 武汉华星光电技术有限公司 Coa阵列基板以及液晶显示面板
CN110412803A (zh) * 2018-04-28 2019-11-05 咸阳彩虹光电科技有限公司 一种coa阵列基板及其制备方法和液晶显示面板
CN108873517B (zh) * 2018-06-25 2023-10-20 厦门天马微电子有限公司 一种阵列基板、显示面板以及显示装置
CN109755285B (zh) 2019-02-01 2022-12-06 合肥鑫晟光电科技有限公司 显示面板及其制造方法和显示装置
JP7226156B2 (ja) 2019-07-11 2023-02-21 オムロン株式会社 無人搬送車
CN111048559B (zh) * 2019-11-25 2022-11-22 信利（惠州）智能显示有限公司 显示屏、盖板及盖板的制作方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000347215A (ja) * 1999-06-04 2000-12-15 Nec Corp アクティブマトリクス型液晶表示装置およびその製造方法
JP2004191972A (ja) * 2002-12-09 2004-07-08 Lg Philips Lcd Co Ltd 液晶表示装置用アレイ基板とその製造方法
JP2005321784A (ja) * 2004-04-30 2005-11-17 Lg Philips Lcd Co Ltd Ｃｏｔ構造の液晶表示装置及びその製造方法
JP2006189763A (ja) * 2004-12-31 2006-07-20 Lg Phillips Lcd Co Ltd 液晶表示装置及びその製造方法
US20130169901A1 (en) * 2012-01-04 2013-07-04 Samsung Display Co., Ltd. Display substrate, method of manufacturing the same and display apparatus having the same
JP2014074734A (ja) * 2012-10-02 2014-04-24 Japan Display Inc 液晶表示装置

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69635239T2 (de) * 1995-11-21 2006-07-06 Samsung Electronics Co., Ltd., Suwon Verfahren zur Herstellung einer Flüssigkristall-Anzeige
JP3566028B2 (ja) * 1997-05-15 2004-09-15 シャープ株式会社 液晶表示装置及びその製造方法
US6759281B1 (en) * 1999-04-26 2004-07-06 Samsung Electronics Co., Ltd. Method of making a display switch having a contact hole through a passivation layer and a color filter
KR100808466B1 (ko) * 2001-07-30 2008-03-03 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 표시 장치용 어레이 기판 및 그의 제조 방법
KR20070001505A (ko) * 2005-06-29 2007-01-04 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정패널 및 그 제조방법
CN100582899C (zh) * 2006-09-22 2010-01-20 北京京东方光电科技有限公司 一种彩色滤光层在薄膜晶体管之上的液晶显示器件及其制造方法
CN100587571C (zh) * 2006-09-22 2010-02-03 北京京东方光电科技有限公司 一种薄膜晶体管在彩膜之上的液晶显示器件及其制造方法
CN100514609C (zh) * 2006-10-19 2009-07-15 中华映管股份有限公司 彩色滤光片及其制造方法
JP5245801B2 (ja) * 2008-01-10 2013-07-24 大日本印刷株式会社 カラーフィルタ
KR101615926B1 (ko) * 2009-07-28 2016-04-28 삼성디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 이의 제조방법
CN102023435B (zh) * 2009-09-23 2013-01-02 北京京东方光电科技有限公司 液晶显示器及其制造方法
KR101607636B1 (ko) * 2009-11-23 2016-04-12 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
JP5707960B2 (ja) * 2011-01-20 2015-04-30 凸版印刷株式会社 カラーフィルタ層の欠陥修正方法および、カラー液晶表示素子
CN102681276B (zh) * 2012-02-28 2014-07-09 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及其制造方法以及包括该阵列基板的显示装置
US9201276B2 (en) * 2012-10-17 2015-12-01 Apple Inc. Process architecture for color filter array in active matrix liquid crystal display
CN103309081B (zh) * 2013-05-30 2016-12-28 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及其制造方法、显示装置
CN103353683B (zh) * 2013-06-26 2016-02-10 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板以及包括该阵列基板的显示装置
US20150116640A1 (en) * 2013-10-30 2015-04-30 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Liquid crystal component, method for fabricating the same, and liquid crystal display having the same
KR102150033B1 (ko) * 2014-01-14 2020-10-15 삼성디스플레이 주식회사 표시 패널 및 이의 제조 방법

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000347215A (ja) * 1999-06-04 2000-12-15 Nec Corp アクティブマトリクス型液晶表示装置およびその製造方法
JP2004191972A (ja) * 2002-12-09 2004-07-08 Lg Philips Lcd Co Ltd 液晶表示装置用アレイ基板とその製造方法
JP2005321784A (ja) * 2004-04-30 2005-11-17 Lg Philips Lcd Co Ltd Ｃｏｔ構造の液晶表示装置及びその製造方法
JP2006189763A (ja) * 2004-12-31 2006-07-20 Lg Phillips Lcd Co Ltd 液晶表示装置及びその製造方法
US20130169901A1 (en) * 2012-01-04 2013-07-04 Samsung Display Co., Ltd. Display substrate, method of manufacturing the same and display apparatus having the same
JP2014074734A (ja) * 2012-10-02 2014-04-24 Japan Display Inc 液晶表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20160349582A1 (en) 2016-12-01
GB2546664A (en) 2017-07-26
KR101963058B1 (ko) 2019-03-27
JP6441479B2 (ja) 2018-12-19
DE112014007074T5 (de) 2017-08-24
RU2678778C2 (ru) 2019-02-01
CN104375344B (zh) 2017-09-15
RU2017121355A (ru) 2018-12-19
RU2017121355A3 (ja) 2018-12-19
KR20170072304A (ko) 2017-06-26
GB2546664B (en) 2021-07-07
WO2016078133A1 (zh) 2016-05-26
GB201705938D0 (en) 2017-05-31
CN104375344A (zh) 2015-02-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6441479B2 (ja) 液晶表示パネル及びそのカラーフィルタ配列基板
US10553814B2 (en) Array substrate, display panel, display device, method for manufacturing array substrate and method for manufacturing display panel
TWI553386B (zh) 顯示面板
CN105068373A (zh) Tft基板结构的制作方法
US9897877B2 (en) Thin film transistor array substrate and liquid crystal display panel using same
CN105304649A (zh) 阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置
US10978493B2 (en) Display substrate and manufacturing method thereof, and display device
TWI518382B (zh) 畫素結構及具有此畫素結構的顯示面板
WO2018166133A1 (zh) 显示基板和显示面板
US10147744B2 (en) Array substrate, method of manufacturing the same, and display device
US11755133B2 (en) Array substrate and method for manufacturing same, and display device
US11022848B2 (en) Sealing structure, manufacturing method of the same, and display device
JP6828175B2 (ja) アレイ基板及びアレイ基板の製造方法
US20210080791A1 (en) Display device and display panel thereof, and manufacturing method for display device
WO2014146349A1 (zh) 阵列基板及显示装置
US20160254284A1 (en) Array substrate, method of preparing the same, and display device
US10290660B2 (en) Array substrate, manufacturing method thereof, display panel and display device
US20170040251A1 (en) Display substrate, manufacturing method thereof and display device
CN105093754B (zh) 一种tft-lcd阵列基板及其制作方法、显示装置
US9841639B2 (en) Touch display panel and fabrication method thereof, and display device
WO2016023303A1 (zh) 阵列基板及其制造方法、显示装置
CN108535925B (zh) 显示面板和显示装置
US9165949B1 (en) Array substrate, its manufacturing method, and display device
US10437122B2 (en) Display device, array substrate, pixel structure, and manufacturing method thereof
CN108108059A (zh) 一种显示面板及其制备方法和显示装置

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180412

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180424

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180723

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180803

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20181019

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20181113

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20181121

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6441479

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees