JP2017519326A5 - - Google Patents
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Description
（第６実施形態）
本実施形態においては、例示的に、図１６に示すように、光透過性導電体の他の製造方法を示す。本実施形態の光透過性導電体６００の製造方法は、一つの導電性物質のコーティング上に導電層６２０と端子層６３０とを共に形成するものである。このため、まず、基板６１０上に導電性物質をコーティングする。この時、導電性物質は導電層６２０が形成される領域と端子層６３０が形成される領域の両方を含むように形成される。次に、感光性物質をコーティングする前に、導電性物質上に端子層６３０をパターニングする。端子層６３０は、導電性物質上の導電層６２０が形成される部分以外の部分に形成される。端子層６３０は、フォトリソグラフィによって形成されてもよいが、これに限定されない。端子層６３０は、端子部６３１を含むように形成され、さらに導電層６２０との電気的流れが円滑に行われるように接続部６３２を含むように形成することが望ましい。端子層６３０が形成された後には、端子層６３０がパターニングされた部分が含まれるように導電性物質上に感光性物質をコーティングする。以後、端子層６３０に対応する部分が除外されるように選択された。
本実施形態においては、例示的に、図１６に示すように、光透過性導電体の他の製造方法を示す。本実施形態の光透過性導電体６００の製造方法は、一つの導電性物質のコーティング上に導電層６２０と端子層６３０とを共に形成するものである。このため、まず、基板６１０上に導電性物質をコーティングする。この時、導電性物質は導電層６２０が形成される領域と端子層６３０が形成される領域の両方を含むように形成される。次に、感光性物質をコーティングする前に、導電性物質上に端子層６３０をパターニングする。端子層６３０は、導電性物質上の導電層６２０が形成される部分以外の部分に形成される。端子層６３０は、フォトリソグラフィによって形成されてもよいが、これに限定されない。端子層６３０は、端子部６３１を含むように形成され、さらに導電層６２０との電気的流れが円滑に行われるように接続部６３２を含むように形成することが望ましい。端子層６３０が形成された後には、端子層６３０がパターニングされた部分が含まれるように導電性物質上に感光性物質をコーティングする。以後、端子層６３０に対応する部分が除外されるように選択された。
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